JPH10188825A

JPH10188825A - プラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JPH10188825A
Application number: JP9298454A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Moriya; 豪守屋; Yuichiro Iguchi; 雄一朗井口; Yoshiki Masaki; 孝樹正木
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1996-10-30
Filing date: 1997-10-30
Publication date: 1998-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】剥がれのない高精細隔壁を有するプラズマディ
スプレイを提供する。【解決手段】線幅（Ｌ）１５〜６０μｍ、ピッチ（Ｐ）
１００〜２２０μｍ、高さ（Ｈ）８０〜１７０μｍの隔
壁が、ガラス基板上に設けられた緩衝層の上に形成され
ていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下ＰＤＰと略す）に関する。より詳細に
は、高精細の隔壁を焼成して形成する際の隔壁はがれを
防止するためにガラス基板と隔壁間に緩衝層を形成した
ＰＤＰに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大型ディスプレイとしてプラズマ
ディスプレイが注目されている。ＰＤＰは液晶パネルに
比べて高速の表示が可能であり、且つ大型化が容易であ
ることから、ＯＡ機器および広報表示装置などの分野に
浸透している。また高品位テレビジョンの分野などでの
進展が非常に期待されている。このような用途の拡大に
ともなって、微細で多数の表示セルを有するカラーＰＤ
Ｐが注目されている。

【０００３】ＡＣ型ＰＤＰの構造例を図２に示す。ＰＤ
Ｐは前面板と背面板をはり合わせて構成されている。前
面板では、ガラス基板の裏面にＩＴＯや酸化錫からなる
透明電極が形成されている。透明電極は帯状に複数本形
成されている。この隣り合う透明電極間に通常１０ｋＨ
ｚ〜数１０ｋＨｚのパルス状ＡＣ電圧を印加し、表示用
の放電を得るが、透明電極のシート抵抗は数１０Ω／ｃ
ｍ²と高いために、電極抵抗が数１０ｋΩ程度になり、
印加電圧パルスが十分に立ち上がらず駆動が困難にな
る。そこで、透明電極上に通常金属のバス電極を形成し
て抵抗値を下げる。

【０００４】次に、前面板上に形成した電極を誘電体層
によって被覆する。この誘電体層は低融点ガラスを用い
る。その後、保護層として、ＭｇＯを電子ビーム蒸着法
によって形成する。前面板に形成される誘電体は、放電
のための電荷を蓄積するコンデンサーとしての役割を有
している。

【０００５】一方背面板は、ガラス基板上に、表示デー
タを書き込む電極を感光性銀ペーストを用いて作製す
る。その上に放電空間の確保と電極間距離の規定および
誤放電防止の役割を果たす隔壁を形成する。次に、隔壁
側面と底部にスクリーン印刷法により、赤、緑、青の各
色に発光する蛍光体を塗布後、乾燥、焼成を行って蛍光
体層を形成する。

【０００６】背面板と前面板をシールガラスで封着した
後、排気し、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の不活性気体の混合ガ
スを充填し、駆動回路を実装してＰＤＰが作製される。

【０００７】隣り合う透明電極の間にパルス状の交流電
圧を印加するとガス放電が生じプラズマが形成される。
ここで生じた紫外線が蛍光体を励起して可視光を発光し
前面板を通して表示発光を得る。放電を生じる透明電極
は走査電極と維持電極からなっている。実際のパネル駆
動において、放電電極である透明電極には維持放電パル
スが印加されており、放電を生じさせるときには、背面
板上の書き込み電極との間に電圧を印加して対向放電を
生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間で
維持される。

【０００８】上記の構造を有するＰＤＰにおいて、大面
積化、高解像度化にともない、高アスペクト比、高精細
の隔壁の製造が技術的に困難となり、且つコスト的に不
利になってきている。

【０００９】通常は前面ガラス基板や背面ガラス基板に
ガラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印刷
・乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜２０回繰り返し
て所定の高さにした後、焼成して形成している。しかし
ながら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイ
ズが大型化した場合に、あらかじめ前面透明平面板上に
形成された放電電極と絶縁ガラスペーストの印刷場所と
の位置あわせが難しく、位置精度が得られ難い問題があ
る。しかも１０〜２０回のガラスペーストの重ね合わせ
印刷を行うことによって隔壁および壁体の側面エッジ部
の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないた
め、表示品質が悪くなり、また作業性が悪い、歩留まり
が低いという問題がある。特に、パターン幅が５０μ
ｍ、ピッチが２００μｍ以下になると隔壁底部がペース
トのチクソトロピー性により滲みやすく、シャープで残
渣のない隔壁形成が難しくなる問題がある。

【００１０】特開平８−５０８１１号公報では、感光性
ペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法
が提案されている。しかしながら、この方法では線幅を
細くしたパターンを形成すると、焼成して隔壁を得る際
に、隔壁の断線、はがれ、倒れが発生し、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体の塗り分けの際に、蛍光体の
塗布を精度よく行えず、混色が起こったり，蛍光体の剥
がれによって輝度ムラが起き歩留まりが低下する、問題
があった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高精細の隔
壁を形成する際、焼成時の隔壁の断線、はがれ、倒れを
防止し、歩留まりのよい高精細プラズマディスプレイを
提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明のＰＤＰは以下の構成からなり、すなわち本
発明は、線幅（Ｌ）２０〜６０μｍ、ピッチ（Ｐ）１０
０〜２２０μｍ、高さ（Ｈ）８０〜２００μｍの隔壁
が、ガラス基板上に設けられた緩衝層の上に形成されて
いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルであ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】高精細な隔壁をガラス基板上に直
接形成した際は、隔壁と基板との密着力不足により剥が
れが生じやすい。隔壁の剥がれが生じると剥がれた箇所
で色の混色、誤放電が起こり、また剥がれた隔壁がパネ
ル上に残り画素をつぶしてしまい歩留まりが低下する。

【００１４】本発明は高精細の隔壁を緩衝層上に設ける
ことによって、ガラス基板上に形成する場合に比べて隔
壁の密着性が増大してはがれが抑制されるため、歩留ま
りが向上することを見いだした。図１に本発明のＰＤＰ
の構造の１例を示す。

【００１５】本発明の隔壁各部の形状は、ピッチをＰ、
線幅をＬ、高さをＨとすると、次のような関係にあるの
が、パネルの輝度、放電寿命の点ですぐれていることか
ら好ましい。

【００１６】・Ｐ＝１００〜１４０μｍの時Ｌ＝１５〜
４０μｍ、Ｈ＝８０〜１４０μｍ・Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時Ｌ＝２０〜５０μｍ、Ｈ
＝８０〜１５０μｍ・Ｐ＝１６０〜２２０μｍの時Ｌ＝３０〜６０μｍ、Ｈ
＝１００〜１７０μｍ線幅については、上記下限より小さいと、パターン形成
時のはがれ、倒れ、また焼成後に断線、はがれが生じや
すくなる。上記上限より大きいと開口率が小さくなるこ
とによる輝度の低下が起こり、好ましくない。

【００１７】高さについては、上記下限より小さいと、
放電空間が狭くなり、プラズマ領域が蛍光体に近くな
り、蛍光体がスパッタされるため、寿命の点で好ましく
ない。上記上限より大きいと放電により発生した紫外線
が、蛍光体に届くまでに吸収されてしまうために輝度が
下がり、好ましくない。

【００１８】本発明のプラズマディスプレイ用隔壁は側
面にテーパー形状を有しているので、緩衝層との接着面
積が確保でき、はがれの抑制効果がさらに向上してい
る。

【００１９】従来のスクリーン印刷法によって形成した
隔壁および本発明の隔壁の断面形状の１例をそれぞれ図
３および図４に示す。本発明のプラズマディスプレイ用
隔壁は、下面幅をＬｂ、半値幅をＬｈ、上面幅をＬｔと
したとき、その上面幅、半値幅、下面幅の比が次式
（１）及び（２）を満足する範囲にあることが好まし
い。

【００２０】Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１（１）Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２（２）（ただしＬｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合を除く。）Ｌｔ／Ｌｈが１より大きいと、隔壁中央にくびれが生じ
る形状となり、隔壁のピッチに対する放電空間の割合、
すなわち開口率が小さくなるため、輝度が低下する。ま
た蛍光体は輝度向上のために、底部だけでなく、隔壁側
面にも塗布する方法がとられているが、その側面塗布が
難しくなり、好ましくない。また０．６５より小さいと
上面が細くなりすぎ、パネル形成時にかかる大気圧に耐
える強度が不足し、先端のつぶれが生じやすくなる。

【００２１】Ｌｂ／Ｌｈが１より小さいと緩衝層との密
着面積が確保できにくくなり、また隔壁の強度も落ちる
ため、パターン形成時の倒れや蛇行および焼成時のはが
れの原因になるため、好ましくない。また２より大きい
と放電空間が減少することにより輝度が低下する。

【００２２】より好ましくは、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．８〜
１、Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜１．５の範囲が、開口率の確保の
点からすぐれているため、好ましい。ただし、Ｌｔ＝Ｌ
ｈ＝Ｌｂの場合は、強度の面で弱くなり、倒れが生じや
すくなることから、好ましくない。形状としては、隔壁
下面にくびれなどない台形または矩形形状が強度の点か
ら好ましい。

【００２３】傾斜面は、平面構造に限定せず、曲面形状
をしていてもよい。特に、隔壁高さ中央部から底面にか
けて曲面形状を有すると、Ｌｂ／Ｌｈを大きくしても放
電空間を大きくとることができ、輝度が低下しないので
好ましい。曲面形状は、隔壁の曲面形状のアール部を
Ｒ、半値幅をＬｈとしたとき、Ｒ≦Ｌｈ／２の関係にあ
ることが、効果が高く特に好ましい。

【００２４】本発明で用いる緩衝層は、無機粉末および
有機成分からなる緩衝層用ペーストをガラス基板上に塗
布した後乾燥し、焼成を行って形成する。焼成は乾燥し
た塗布面に隔壁パターンを形成した後、隔壁パターンと
同時に焼成する方法と、ペースト塗布膜のみを焼成して
緩衝層を形成した上に、隔壁を形成する方法の二つがあ
る。前者の焼成方法は、工程数が少なくて済む利点があ
る。後者の方法では、緩衝層を電極上に形成する際、電
極の凹凸および隔壁の焼成収縮応力に起因する緩衝層の
亀裂などが起きず、歩留まりが高い利点がある。

【００２５】緩衝層の厚みは、焼成後で３〜２０μｍ、
より好ましくは８〜１８μｍであることが均一な緩衝層
の形成のために好ましい。厚みが２０μｍを越えると、
焼成の際、脱媒が困難であり亀裂が生じやすく、またガ
ラス基板へかかる応力が大きいために基板がそる等の問
題が生じる。また、３μｍ未満では厚みの均一性を保持
するのが困難である、電極部分の凹凸によって緩衝層に
亀裂が入る等の問題が生じる。

【００２６】緩衝層は、５０〜４００℃の範囲の熱膨張
係数（α）₅₀〜₄₀₀が７０〜８５×１０^-7／°Ｋ、より
好ましくは７２〜８０×１０^-7／°Ｋであるガラスから
なることが、基板ガラスの熱膨張係数と整合し、焼成の
際にガラス基板にかかる応力を減らすので好ましい。８
５×１０^-7／°Ｋを越えると、緩衝層の形成面側に基板
が反るような応力がかかり、７０×１０^-7／°Ｋ未満で
は緩衝層のない面側に基板が反るような応力がかかる。
このため、基板の加熱、冷却を繰り返すと基板が割れる
場合がある。また、前面基板との封着の際、基板のそり
のために両基板が平行にならず封着できない場合もあ
る。

【００２７】また緩衝層に含まれるガラスには、ガラス
転移点Ｔｇが４３０〜５００℃、軟化点Ｔｓが４７０〜
５８０℃のものをもちいることが好ましい。緩衝層を形
成する際、ガラス転移点が５００℃、軟化点が５８０℃
より高いと、高温で焼成しなければならず、焼成の際に
ガラス基板に歪みが生じる。またガラス転移点が４３０
℃、軟化点が４７０℃より低い材料は、その後の工程
で、蛍光体を塗布、焼成する際に緩衝層に歪みが生じ、
膜厚精度が保たれないので好ましくない。

【００２８】緩衝層には、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化
亜鉛のうち少なくとも１種類をガラス中に１０〜６０重
量％含むガラス微粒子を用いることによって軟化点、熱
膨張係数のコントロールが容易になる。

【００２９】酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛の添加量
は６０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低くなり過
ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。

【００３０】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムを含むガラス微粒子を用いることによっても軟化
点、熱膨張係数をコントロールすることができるが、そ
の含有率は好ましくは５重量％以下、より好ましくは３
重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向
上することができる。また、基板ガラスとのイオン交換
などの化学反応による基板の変形、変質を防いだり、電
極に用いている金属との反応による着色等を防ぐのに有
効である。

【００３１】上記ガラスのうち特に、酸化ビスマスを１
０〜６０重量％含有するガラスを用いることは、ペース
トのポットライフが長いことなどの利点がある。

【００３２】酸化ビスマスを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化ビスマス１０〜４０重量部酸化珪素３〜５０重量部酸化ホウ素１０〜４０重量部酸化バリウム８〜２０重量部酸化亜鉛１０〜３０重量部の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００３３】本発明の緩衝層は、無機成分としてフィラ
ーを添加することによって、緩衝層を白色化し、発光時
の輝度向上をしたり、緩衝層の表面粗さを調整し、隔壁
の密着力を増加することができる。

【００３４】緩衝層のフィラーの含有量は全無機成分の
５〜４０重量％であることによって、緩衝層を白色化
し、且つ適正な温度範囲で緩衝層を焼結させることがで
きる。５重量％未満だと十分な白色度が得られず、４０
重量％を越えると、高温で焼成しなければならず、焼成
の際にガラス基板に歪みが生じる等の問題がある。

【００３５】緩衝層のフィラーは酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化マグネシウム、チタン酸バリウム等が好適に用
いられ、このうち少なくとも１種を含むことによって、
緩衝層を白色化できる。緩衝層の白色度は、ハンター表
色系Ｌ値で示した場合５０以上であることが好ましい。

【００３６】緩衝層用ペースト塗布膜を焼成して緩衝層
を形成した後、該緩衝層上に隔壁を形成する場合、緩衝
層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１〜１．５μ
ｍであると隔壁との密着性が増加し、剥がれが防止でき
るので好ましい。より好ましくはＲａが０．３〜０．９
μｍである。

【００３７】Ｒａが０．１μｍ未満では、表面が平滑す
ぎて焼成時に、有機バインダーが蒸発する際に隔壁と緩
衝層の密着力が低下し、隔壁の剥がれ、断線および倒れ
が生じるようになる。また１．５μｍを超えると、焼成
時に発生する有機物が誘電体層の凹凸部に残留し、隔壁
との密着力が低下するため好ましくない。

【００３８】ここでＲａは、誘電体表面の粗さ曲線から
その中心線の方向に長さＬ（Ｌは測定長さ）の部分を抜
き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方
向をＹ軸とし、粗さ曲線をＹ＝ｆ（Ｘ）で表したとき、
次の式によって求められる値をμｍで表したものをい
う。

【００３９】

【式１】Ｒａは、触針式の表面粗さ計（東京精密製：サーフコム
１５００Ａ）を用いて、縦倍率２０００倍、横倍率１０
倍で測定した値である。

【００４０】緩衝層用ペーストに用いる有機成分は、有
機バインダー、可塑剤、溶媒および必要に応じ分散剤や
レベリング剤などの添加物が含まれる。有機バインダー
の具体的な例としては、ポリビニルアルコール、セルロ
ース系ポリマー、シリコンポリマー、ポリエチレン、ポ
リビニルピロリドン、ポリスチレン、ポリアミド、高分
子量ポリエーテル、ポリビニルブチラール、メタクリル
酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリ
ル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メ
チルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などが
あげられる。

【００４１】緩衝層用ペーストを塗布、乾燥後、該塗布
膜上に感光性ペースト法により隔壁パターンを形成する
場合は、隔壁の現像液に溶解しないバインダーを選択す
る必要がある。

【００４２】また、緩衝層用ペーストに、感光性モノマ
ー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくと
も１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要
に応じて、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感
助剤、重合禁止剤などの添加剤成分を加えることも行わ
れる。これにより、緩衝層用ペーストに感光性を付与
し、ガラス基板上に塗布し、乾燥を行った後、露光を行
い、緩衝層を光硬化することで隔壁用現像液による緩衝
層の浸食を防ぐことができる。

【００４３】緩衝層用ペーストに紫外線吸収剤を添加す
ることも有効である。緩衝層用ペースト塗布膜上に、感
光性ペースト法により隔壁パターンを形成する場合は、
露光に用いた光が緩衝層用ペースト塗布膜面から反射
し、所望の隔壁パターン形状を得られない場合がある。
緩衝層用ペーストに紫外線吸収効果の高い化合物を添加
することによって緩衝層用ペースト塗布膜面からの反射
を抑制することで隔壁下面の太りのない高精細パターン
を得ることが可能となる。紫外線吸収剤は、具体的に
は、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染
料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキ
ノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ジフェニルシ
アノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ｐ−
アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は
吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残
存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくでき
るので好ましい。

【００４４】緩衝層用ペーストの粘度を調整する際は、
バインダー成分の溶媒を用いるのが好ましい。溶媒とし
ては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチル
アルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、
ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、
ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸な
どやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物
が用いられる。

【００４５】また、ペースト中に可塑剤を含むこともで
きる。可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、
グリセリンなどがあげられる。

【００４６】本発明の隔壁の作製方法は特に限定しない
が、前記した隔壁形状（下面幅をＬｂ、半値幅をＬｈ、
上面幅をＬｔとしたとき、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１、
Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２）を得るには、工程が少なく、微細
なパターン形成が可能である感光性ペースト法で作製す
るのが好ましい。

【００４７】感光性ペースト法は、主としてガラス粉末
からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光
性ペーストを塗布、乾燥して得た塗布膜をマスク露光
し、非硬化部分を現像によって除去して、隔壁パターン
を形成し、その後焼成して隔壁を得る方法である。

【００４８】本発明の隔壁に用いられるガラス材料とし
ては、屈折率１．５〜１．６５であることが好ましい。
一般に絶縁体として用いられるガラスは、１．５〜１．
９程度の屈折率を有しているが、感光性ペースト法を用
いる場合、有機成分の平均屈折率がガラス粉末の平均屈
折率と大きく異なる場合は、ガラス粉末と感光性有機成
分の界面での反射・散乱が大きくなり、精細なパターン
が得られない。一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜
１．７であるため、ガラス粉末と有機成分の屈折率を整
合させるためには、ガラス粉末の平均屈折率を１．５〜
１．６５にすることが好ましい。

【００４９】プラズマディスプレイやプラズマアドレス
液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、ガラス転移
点、軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するた
め、隔壁材質として、ガラス転移点が４３０〜５００
℃、熱軟化温度が４７０〜５８０℃のガラス材料を用い
ることが好ましい。感光性ペースト法に用いるガラス粉
末の量は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８
５重量％であるのが好ましい。

【００５０】６５重量％より小さいと、焼成時の収縮率
が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因となるため、
好ましくない。８５重量％より大きいと、感光性成分が
少ないことにより、パターンの形成性が悪くなる。

【００５１】隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラ
ス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
く、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安
定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガ
ラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量
％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラ
ス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。

【００５２】酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％
の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱
膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的
特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガ
ラスの安定性が低下する。

【００５３】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラ
ス微粒子を用いることによっても得ることができるが、
リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の酸
化物は添加量としては、２０重量％以下、好ましくは、
１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性
を向上することができる。

【００５４】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化リチウム２〜１５重量部酸化珪素１５〜５０重量部酸化ホウ素１５〜４０重量部酸化バリウム２〜１５重量部酸化アルミニウム６〜２５重量部の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００５５】また、上記組成で、酸化リチウムの代わり
に、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、
ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。

【００５６】酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリ
ウム等のアルカリ金属の酸化物を合計で２〜１０重量％
含有するガラスを用いることによって、熱軟化温度、熱
膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラ
スの平均屈折率を低くすることができるため、有機物と
の屈折率差を小さくすることが容易になる。２％より小
さい時は、熱軟化温度の制御が難しくなる。１０％より
大きい時は、放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によっ
て輝度低下をもたらす。さらにアルカリ金属の酸化物の
添加量はペーストの安定性を向上させるためにも、１０
重量％より小さいことが好ましく、より好ましくは８重
量％以下である。

【００５７】特に、アルカリ金属の中では酸化リチウム
を用いることによって、比較的ペーストの安定性を高く
することができ、また、酸化カリウムを用いた場合は、
比較的少量の添加でも屈折率を制御できる利点があるこ
とから、アルカリ金属酸化物の中でも、酸化リチウムと
酸化カリウムの添加が有効である。

【００５８】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することによ
り、高度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量
は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量
％以下である。この結果、ガラス基板上に焼き付け可能
な熱軟化温度を有し、平均屈折率を１．５〜１．６５に
することができ、有機成分との屈折率差を小さくするこ
とが容易になる。

【００５９】酸化ビスマスを含有するガラスは熱軟化温
度や耐水性向上の点から好ましいが、酸化ビスマスを１
０重量％以上含むガラスは、屈折率が１．６以上になる
ものが多い。このため酸化ナトリウム、酸化リチウム、
酸化カリウムなどのアルカリ金属の酸化物と酸化鉛を併
用することによって、熱軟化温度、熱膨張係数、耐水
性、屈折率のコントロールが容易になる。

【００６０】本発明におけるガラス材質の屈折率測定
は、感光性ペースト法で露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。
さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎ
ｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００６１】本発明の隔壁はコントラストをあげる点で
優れていることから、黒色に着色されていてもよい。種
々の金属酸化物を添加することによって、焼成後の隔壁
を着色することができる。例えば、感光性ペースト中に
黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、
黒色のパターンを形成することができる。

【００６２】この際に用いる黒色の金属酸化物として、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくと
も１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色
化が可能になる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ
０．５重量％以上含有することによって、黒色パターン
を形成できる。

【００６３】さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色
する無機顔料を添加したペーストを用いることによっ
て、各色のパターンを形成できる。これらの着色パター
ンは、プラズマディスプレイのカラーフィルターなどに
好適に用いることができる。

【００６４】また、本発明の隔壁の比重は２〜３．３で
あることが好ましい。２以下にするためには、ガラス材
料に酸化ナトリウムや酸化カリウムなどのアルカリ金属
の酸化物を多く含ませなければならず、放電中に蒸発し
て放電特性を低下させる要因となるため、好ましくな
い。３．３以上になると、大画面化した時ディスプレイ
が重くなったり、自重で基板に歪みを生じたりするので
好ましくない。

【００６５】本発明の隔壁材料にガラス軟化点が６５０
〜８５０℃であるフィラーを１０〜５０重量％含ませて
もよい。これにより、感光性ペースト法において、パタ
ーン形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、パターン形
成が容易になる。フィラーとしては、熱軟化温度が６０
０℃以上の高融点ガラスやセラミックスなどを用いるこ
とができる。

【００６６】高融点ガラス粉末としては、酸化珪素、酸
化アルミニウムを１５重量％以上含有するガラス粉末が
好ましく、これらの含有量合計がガラス粉末中５０重量
％以上であることが、必要な熱特性を持たせるためには
有効である。一例としては、以下の組成を含有するガラ
ス粉末を用いることが好ましい。

【００６７】酸化珪素：１５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜２０重量％酸化アルミニウム：１５〜５０重量％酸化バリウム：２〜１０重量％感光性ペーストの有機成分は、感光性モノマー、感光性
オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類か
ら選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、
バインダー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増
感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化
防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの
添加剤成分を加えることも行われる。

【００６８】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）
芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲ
ン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジア
ゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆる
ジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００６９】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジ
アゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノ
ンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当
なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノー
ル、ノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルフォン酸エステル等がある。

【００７０】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００７１】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソ
オクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メ
トキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これ
らの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭
素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルス
チレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチル
スチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルス
チレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレ
ン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、およ
び、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくは
すべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキ
シー３−メタクリロキシプロピル）ポリオキシプロピレ
ンジアミンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種
または２種以上使用することができる。

【００７２】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００７３】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。

【００７４】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００７５】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。

【００７６】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００７７】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００７８】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応
性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチ
レン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリ
ル基、メタクリル基などがあげられる。

【００７９】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００８０】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００８１】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００８２】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００８３】感光性ペースト中の感光性ポリマー、感光
性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の
量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優
れていることから、ガラス粉末と感光性成分の和に対し
て、５〜３５重量％であることが好ましい。この範囲外
では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの太り
がでるため好ましくない。

【００８４】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン、チオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキ
サントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチル
チオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノー
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテ
ル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、
２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノ
ン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロ
ン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフ
ェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデ
ン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−
１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）
オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−
エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−
プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オ
キシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオ
ン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケト
ン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニ
ルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フ
ェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニ
トリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジ
スルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノ
ン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸
化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光
還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン
などの還元剤の組み合わせなどがあげられる。本発明で
はこれらを１種または２種以上使用することができる。

【００８５】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜２０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜１５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎ
ると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎ
れば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。

【００８６】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て光硬化反応の閾値を高め、散乱光による所望部分以外
の硬化を防止し、高アスペクト比、高精細、高解像度が
得られる。紫外線吸収剤は、具体的には、アゾ系染料、
アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染
料、アミノケトン系染料、アントラキノン系化合物、ベ
ンゾフェノン系化合物、ジフェニルシアノアクリレート
系化合物、トリアジン系化合物、ｐ−アミノ安息香酸系
染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加
した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤
による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。

【００８７】紫外線吸光剤の添加量はガラス粉末に対し
て０．０５〜１０重量％が好ましい。０．０５重量％以
下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、１０重量％を
越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくな
い。より好ましくは０．１〜８重量％である。

【００８８】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以
外に、該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥する
方法があげられる。この方法によってガラス微粒子の個
々の粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の微粒子が作製できる。

【００８９】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸
化物がペースト中に含有する場合、感光性成分と反応し
てペーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合
がある。このような反応を防止するために安定化剤を添
加してゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化
剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられ
る。トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール
誘導体が好ましく用いられる。この中でも特にベンゾト
リアゾールが有効に作用する。本発明において使用され
るベンゾトリアゾールによるガラス微粒子の表面処理の
一例を上げると、無機微粒子に対して所定の量のベンゾ
トリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコ
ール、メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、
これら微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に
１〜２４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０
℃下で自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理
を行った微粒子を作製する。使用される安定化剤の割合
（安定化剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ま
しい。

【００９０】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より
好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００９１】また、増感剤は、露光波長に吸収を有して
いるものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈
折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加するこ
とによって、有機成分の屈折率を向上することができ
る。この場合の増感剤の添加量は３〜１０重量％添加す
ることができる。

【００９２】重合禁止剤は、保存時の熱安定性向上およ
び光硬化反応の閾値を高め、散乱光による所望部分以外
の硬化を防止し、高アスペクト比、高精細、高解像度パ
ターンを得るために添加される。重合禁止剤の具体的な
例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステ
ル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジ
ン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチル
アミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノー
ル、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重
合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペース
ト中に、通常、０．０１〜６重量％である。

【００９３】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００９４】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。

【００９５】酸化防止剤を添加する場合、その添加量は
通常、添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１
重量％である。

【００９６】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００９７】有機成分の屈折率とは、露光により感光性
成分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の
屈折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥
工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の
有機成分の屈折率のことである。例えば、ペーストをガ
ラス基板上に塗布した後、５０〜１００℃で１〜３０分
乾燥して屈折率を測定する方法などがある。

【００９８】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるエリプソメトリー法やＶブロック法が好まし
く、測定は露光する光の波長で行うことが効果を確認す
る上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中
の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線
（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
測定が好ましい。

【００９９】また、有機成分が光照射によって重合した
後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光
照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射すること
によって測定できる。

【０１００】緩衝層用ペーストおよび隔壁用感光性ペー
ストは、通常、上記の無機および有機の各種成分を所定
の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で
均質に混合分散し作製する。

【０１０１】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印
刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、４
０００〜２０万ｃｐｓが好ましい。

【０１０２】所定厚みの隔壁用感光性ペースト塗布膜に
高精細なパターンを露光し、高アスペクト比のパターン
を解像度高く形成するためには、露光用の活性光線を塗
布膜の最下部までできるだけ多く透過させることが必須
である。

【０１０３】具体的には、感光性ペーストは、５０μｍ
厚みの塗布膜で測定した全光線透過率が５０％以上であ
ることが好ましい。また、測定波長は、ペーストを塗布
後、露光する光の波長で測定することが効果を確認する
上で正確である。光線透過率は、島津製作所製の分光光
度計（ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて測定したものであ
る。

【０１０４】次に、緩衝層用ペーストおよび感光性ペー
ストを用いて、緩衝層上にパターン加工を行う一例につ
いて説明するが、本発明はこれに限定されない。

【０１０５】ガラス基板やセラミックスの基板上に、緩
衝層用ペーストを５〜３０μｍの厚みで塗布する。塗布
方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロール
コーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を
用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペースト
の粘度を選ぶことによって調整できる。

【０１０６】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができる。

【０１０７】緩衝層用ペーストの塗布の後、ペースト中
の溶媒を除去するため、乾燥を行う。この後、緩衝層ペ
ースト塗布膜を焼成して得た緩衝層上に隔壁パターンを
形成する場合と、焼成せずに塗布膜上に隔壁パターンを
形成する２通りがある。前者の場合、焼成雰囲気や、温
度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、
窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、
バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いるこ
とができる。ガラス基板上の場合は、５４０〜６１０℃
の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。後者の場
合、緩衝層用ペースト中に光もしくは熱重合性の成分が
含まれる際は、光、または熱架橋により硬化し、感光性
ペースト法による隔壁パターン形成の際の現像液による
浸食を防ぐ。

【０１０８】形成した緩衝層または緩衝層用ペースト塗
布膜上に感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に
塗布する。塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、
フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的であ
る。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、
ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フ
ォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光などで
直接描画する方法を用いても良い。

【０１０９】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、基板上に感光性ペーストを塗
布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小
さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することが
できる。

【０１１０】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ
／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜３０分
間露光を行う。

【０１１１】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコ
ール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリ
エステルなどのフィルムが上げられる。

【０１１２】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上すると考えられる。

【０１１３】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチ
レン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光
性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用い
る方法もある。

【０１１４】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行う。用
いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能
である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶
解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペ
ースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化
カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使
用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時に
アルカリ成分を除去しやすいので好ましい。

【０１１５】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去され
ず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離さ
せ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくな
い。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うこ
とが工程管理上好ましい。

【０１１６】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【０１１７】ガラス基板上にパターン加工する場合は、
５４０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成
を行う。

【０１１８】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加
熱工程を導入しても良い。

【０１１９】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。

【０１２０】実施例１＜有機成分の調製＞以下に示す溶媒および下記のポリマ
をそれぞれ４０％溶液となるように混合し、攪拌しなが
ら６０℃まで加熱し、すべてのポリマを均質に溶解させ
た。

【０１２１】溶媒：ガンマブチロラクトンポリマ：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％
のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のス
チレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル基に対
して０．４当量のグリシジルメタアクリレート（ＧＭ
Ａ）を付加反応させた重量平均分子量４３０００、酸価
９５の感光性ポリマ。

【０１２２】ついで溶液を室温まで冷却し、該ポリマ溶
液に有機成分を構成する各成分を以下に示す割合で加え
て溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフ
ィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルＡ１を作製し
た。

【０１２３】有機ビヒクルＡ１組成有機染料：スダンIV（アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀
Ｎ₄Ｏ、分子量３８０．４５）０．２重量％上記ポリマ溶液：４９．３重量％モノマ：ＴＰＡ３３０（日本化薬社製：トリメチロール
プロパントリアクリレート・モディファイドＰＯ）１
９．７重量％開始剤：イルガキュア９０７（チバガイギー社製：２−
メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノプロパノン）３．１重量％増感剤：ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬社製：２，４−ジエチ
ルチオキサントン）３．１重量％増感助剤：ＥＰＡ（日本化薬社製：ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル）１．６重量％可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）２．７重量％増粘剤：ＳｉＯ₂／酢酸2-（2-ブトキシエトキシ）エチ
ル溶液（濃度１５重量％）６．３重量％溶媒：ガンマブチロラクトン１４．０重量％得られた有機ビヒクル６０ｇに対して下記に示すガラス
粉末（１）を７５ｇ添加し、３本ローラーで均一に混練
することによって隔壁用感光性ペーストを製造した。ガ
ラス粉末は、あらかじめアトラクターにて微粉末にした
ものを用いた。

【０１２４】ガラス粉末（１）組成Ｌi₂Ｏ９％、ＳｉＯ₂２２％、Ｂ₂Ｏ₃ ３３
％、ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２３％、ＺｎＯ２％、
ＭｇＯ７％。平均粒径２．６μｍの非球状粉末。Ｔｇ
（ガラス転移点）４８０℃、Ｔｓ（軟化点）５２０℃。
熱膨張係数７９×１０^-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）
での屈折率１．５９。

【０１２５】次に背面板用ガラス基板として、サイズ２
４０×３００ｍｍ（Ａ４サイズ）のガラス基板（旭硝子
社製ＰＤ−２００）を使用した。このガラス基板に、書
き込み電極として感光性銀ペーストを用いてフォトリソ
法により、ピッチ１５０μｍ、線幅６０μｍ、焼成後厚
み６μｍおよびピッチ２２０μｍ、線幅８０μｍ、焼成
後厚み６μｍの２種類のストライプ状電極を形成した。

【０１２６】次に、以下に示す組成の有機ビヒクルＡ２
をＡ１と同様の条件で作製し、Ａ２を５０ｇと下記に示
すガラス粉末（２）を８５ｇとを３本ローラーを用いて
均一に混練し、緩衝層用ペーストを作製した。

【０１２７】有機ビヒクルＡ２組成有機染料：スダンIV（アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀
Ｎ₄Ｏ、分子量３８０．４５）０．２重量％ポリマ溶液：Ａ１と同一のポリマ溶液５２．５重量％モノマ：ＴＰＡ３３０（日本化薬社製：トリメチロール
プロパントリアクリレート・モディファイドＰＯ）１
０．５重量％開始剤：イルガキュア９０７（チバガイギー社製：２−
メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノプロパノン）４．０重量％増感剤：ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬社製：２，４−ジエチ
ルチオキサントン）４．０重量％増感助剤：ＥＰＡ（日本化薬社製：ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル）２．０重量％可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）３．５重量％増粘剤：ＳｉＯ₂／酢酸2-（2-ブトキシエトキシ）エチ
ル溶液（濃度１５重量％）８．３重量％溶媒：ガンマブチロラクトン１５．０重量％ガラス粉末（２）組成Ｂi₂Ｏ₃ ２７％、ＳｉＯ₂１４％、Ｂ₂Ｏ₃ １
８％、ＢａＯ１４％、Ａｌ₂Ｏ₃４％、ＺｎＯ２１
％、Ｎａ₂Ｏ２％。平均粒径３．４μｍの非球状粉
末。Ｔｇ４８６℃、Ｔｓ５３１℃。熱膨張係数７
５×１０^-7／°Ｋ。ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
１．７５。

【０１２８】得られた緩衝層用ペーストを３２５メッシ
ュのスクリーンを用いてスクリーン印刷による塗布、乾
燥を行い、乾燥後厚み２０μｍの均一な膜を得た。塗布
厚みはスキージ角度と速度によって調整した。このよう
にして得た緩衝層用ペースト塗布膜に、上面から１５ｍ
Ｗ／ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で全面紫外線露光し、光
硬化を行った。露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ² であっ
た。

【０１２９】次に、光硬化した膜上に隔壁用感光性ペー
ストを上記の緩衝層用ペースト塗布と同じ方法で塗布、
乾燥を繰り返し塗布厚み２００μｍおよび１８０μｍの
２種類の膜を形成した。その後、８０℃で１時間保持し
て乾燥した。

【０１３０】続いて、フォトマスクを介して上面から１
５ｍＷ／ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で紫外線露光した。
露光量は１００００ｍＪ／ｃｍ² であった。マスクは隔
壁用感光性ペーストの塗布厚みに応じて次の２種類を用
いた。

【０１３１】（１）ピッチ２２０μｍ、線幅５０μｍの
ストライプパターンのネガ型のクロムマスク（厚み
２００μｍの塗布膜に用いた）。

【０１３２】（２）ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍの
ストライプパターンのネガ型のクロムマスク（厚み
１８０μｍの塗布膜に用いた）。

【０１３３】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２重量％の水溶液を１５０秒間シャワーする
ことにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水
洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して設け
たガラス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。

【０１３４】このようにして得た基板を、空気中で５７
０℃で３０分間焼成を行い、緩衝層および隔壁を形成し
た。走査型電子顕微鏡を用いた基板の断面観察によっ
て、隔壁高さ、上面幅、半値幅、下面幅、緩衝層厚みを
測定し、３サンプルの平均値を算出した。また焼成後の
隔壁の断線、剥がれ、倒れの有無を評価した。断線、剥
がれ、倒れの欠陥ない場合は○とし、該欠陥がある場合
は全隔壁の本数に対する欠陥のある隔壁の本数の割合を
％で示した。結果を表１に示す。

【０１３５】隔壁を形成した背面板の隔壁内の所定の溝
にスクリーン印刷法を用いて、蛍光体層を形成した。す
なわち、赤（Ｒ）を形成する場合、Ｒの感光性蛍光体ペ
ーストを用いて、位置あわせを行い印刷する。緑
（Ｇ）、青（Ｂ）に関しても同様の操作を行った後、焼
成（５００℃、３０分）を行い、３色の蛍光体を所定の
位置に形成した。

【０１３６】前面板は以下の工程によって作製した。先
ず、ガラス基板上に、ＩＴＯをスパッタ法で形成後、レ
ジスト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理によっ
て焼成厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形
成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを
用いて、フォトリソ法により、焼成後厚み１０μｍのバ
ス電極を形成した。電極はピッチ１５０μｍ、線幅６０
μｍのものとピッチ２２０μｍ、線幅８０μｍのものと
の２種類を作製した。

【０１３７】さらに、電極形成した前面板上に透明誘電
体ペーストを２０μｍ塗布し、４３０℃で２０分間保持
して焼き付けた。次に、形成した透明電極、黒色電極、
誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用
いて、厚みは０．５μｍのＭｇＯ膜を形成して前面板を
完成させた。

【０１３８】次に、前面板および背面板用ガラス基板に
シール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配
置になるよう位置合わせして対向配置し、４５０℃、３
０分間処理してガラス基板を封止した。その後、表示領
域内内部の排気およびＨｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガス
の封入を行ってプラズマディスプレイパネルを完成させ
た。このパネルに電圧を印加して表示を行った。全面点
灯時の輝度を大塚電子社製の側光機ＭＣＰＤ−２００を
用いて測定した。

【０１３９】隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電
等の欠点はなく、表示は良好であった。輝度はピッチ２
２０μｍのもので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍ
のもので８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１４０】実施例２隔壁用のガラス粉末を下記の（３）に変更した以外は実
施例１と同様にＰＤＰを作製、評価した。結果を表１に
示す。

【０１４１】ガラス粉末（３）組成Ｌi₂Ｏ７％、ＳｉＯ₂２３％、Ｂ₂Ｏ₃ ３３
％、ＢａＯ４％、ＣａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃１９％、
ＭｇＯ６％、ＺｎＯ３％、ＺｒＯ₂ １％。平均粒
径２．６μｍの非球状粉末。Ｔｇ４８５℃、Ｔｓ５
２５℃。熱膨張係数７５×１０^-7／°Ｋ。ｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率１．５８。

【０１４２】隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電
等の欠点はなく、表示は良好であった。輝度はピッチ２
２０μｍのもので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍ
のもので８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１４３】実施例３隔壁用の有機ビヒクルを下記のＡ３に変更し、該隔壁用
感光性ペースト塗布膜への露光量を１Ｊ／ｃｍ²とした
以外は実施例１と同様にＰＤＰを作製、評価した。結果
を表１に示す。

【０１４４】有機ビヒクルＡ３組成有機染料：スダンIV（アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀
Ｎ₄Ｏ、分子量３８０．４５）０．２重量％ポリマ溶液：Ａ１と同一のポリマ溶液５３．５重量
％モノマ：ＭＧＰ−４００：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
（２−ヒドロキシー３−メタクリロキシプロピル）ポリ
オキシプロピレンジアミン２０．０重量％開始剤：イルガキュア３６９（チバガイギー社製：２−
ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブ
チロフェノン）７．０重量％増感剤：ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬社製：２，４−ジエチ
ルチオキサントン）７．０重量％可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）２．３重量％溶媒：ガンマブチロラクトン１０．０重量％隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電等の欠点はな
く、表示は良好であった。輝度はピッチ２２０μｍのも
ので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍのもので８０
ｃｄ／ｍ²であった。

【０１４５】実施例４緩衝層用ペーストのガラス粉末を以下に示すガラス粉末
（４）に変更した以外は実施例３と同様にＰＤＰを作
製、評価した。結果を表１に示す。

【０１４６】ガラス粉末（４）組成Ｂi₂Ｏ₃ ３８％、ＳｉＯ₂ ７％、Ｂ₂Ｏ₃ １９
％、ＢａＯ１２％、Ａｌ₂Ｏ₃ ３％、ＺｎＯ２１
％、Ｔｇ４７６℃、Ｔｓ５２５℃、熱膨張係数７５
×１０^-7／°Ｋ。

【０１４７】隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電
等の欠点はなく、表示は良好であった。輝度はピッチ２
２０μｍのもので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍ
のもので８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１４８】実施例５隔壁用のガラス粉末をガラス粉末（３）に変更した以外
は実施例４と同様にＰＤＰを作製、評価した。結果を表
１に示す。隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電等
の欠点はなく、表示は良好であった。輝度はピッチ２２
０μｍのもので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍの
もので８０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１４９】実施例６緩衝層用の有機ビヒクルの組成を以下に示すＡ４に変更
し、該緩衝層ペーストの塗布膜への全面紫外線露光を行
わなかった以外は、実施例１と同様にしてＰＤＰを作
製、評価した。結果を表１に示す。

【０１５０】有機ビヒクルＡ４組成ポリマ溶液：ポリビニルブチラール（非感光ポリマ重
量平均分子量１１４０００）／イソブタノール溶液（濃
度２０重量％）９４．６重量％可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）１．６重量％増粘剤：ＳｉＯ₂／酢酸2-（2-ブトキシエトキシ）エチ
ル溶液（濃度１５重量％）３．８重量％隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電等の欠点はな
く、表示は良好であった。輝度はピッチ２２０μｍのも
ので１５０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍのもので８０
ｃｄ／ｍ²であった。

【０１５１】実施例７緩衝層用ペーストを以下の組成とし、該緩衝層ペースト
を塗布して得た厚み２５μｍの塗布膜を、空気中で５６
０℃で３０分間焼成を行って緩衝層を形成した。

【０１５２】ガラス粉末（４）５０．０重量％白色顔料：ＴｉＯ₂（石原産業（株）製：ＴＲ−５０）
５．０重量％ポリマ溶液：エチルセルロース／テルピネオール溶液
（濃度５０重量％）２０．０重量％増粘剤：ＳｉＯ₂／酢酸2-（2-ブトキシエトキシ）エチ
ル溶液（濃度１５重量％）５．０重量％次に、得られた緩衝層上に以下の組成有機ビヒクルＡ５
を８０ｇとガラス粉末（３）７０ｇからなる隔壁用感光
性ペーストを用いて隔壁パターンを形成した。パターン
形成時の露光量は４００ｍＪ／ｃｍ²であった。

【０１５３】有機ビヒクルＡ５組成紫外線吸収剤１：ユビナール３０３９（ＢＡＳＦ社製：
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリレート）３．１重量％紫外線吸収剤２：ベーシックブルー７０．０２重量％紫外線吸収剤３：１，２，３−ベンゾトリアゾール
３．９重量％ポリマ溶液：実施例１と同一のポリマ溶液４６．８重
量％モノマー：ＭＧＰ４００：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）ポリ
オキシプロピレンジアミン１８．７重量％開始剤：イルガキュア３６９（チバガイギー社製：２−
ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブ
チロフェノン）７．５重量％増感剤：ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬社製：２，４−ジエチ
ルチオキサントン）０．７重量％重合禁止剤：ヒドロキノンモノメチルエーテル７．５
重量％可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）１．８重量％溶媒：ガンマブチロラクトン９．９８重量％その他は実施例１と同様にしてＰＤＰを作製、評価し
た。結果を表１に示す。隔壁の剥がれによる蛍光体の混
色、誤放電等の欠点はなく、表示は良好であった。輝度
はピッチ２２０μｍのもので１８０ｃｄ／ｍ²、ピッチ
１５０μｍのもので９０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１５４】実施例８緩衝層ペーストの塗布厚みを１５μｍとした以外は実施
例７と同様にしてＰＤＰを作製、評価した。結果を表１
に示す。隔壁の剥がれによる蛍光体の混色、誤放電等の
欠点はなく、表示は良好であった。輝度はピッチ２２０
μｍのもので１８０ｃｄ／ｍ²、ピッチ１５０μｍのも
ので９０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１５５】比較例１緩衝層なしで隔壁を形成した以外は実施例１と同様にし
てＰＤＰの作製、評価した。結果を表１に示す。隔壁の
剥がれによる蛍光体の混色、誤放電等の欠陥が多数あっ
た。輝度はピッチ２２０μｍのもので１３０ｃｄ／
ｍ²、ピッチ１５０μｍのもので７０ｃｄ／ｍ²であっ
た。

【０１５６】

【表１】

【０１５７】

【発明の効果】本発明の緩衝層を有する高精細隔壁は、
焼成の際の隔壁の剥がれが生じないため、高精細のＰＤ
Ｐを歩留まりよく製造できるようになる。これにより高
精細のプラズマディスプレイを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＰＤＰの構造を示すＰＤＰ断面図であ
る。

【図２】従来のＡＣ型ＰＤＰの構造を示すＰＤＰ断面図
である。

【図３】従来のスクリーン印刷法によって作製した隔壁
の断面図である。

【図４】本発明の隔壁形状を示す隔壁断面図である。

【符号の説明】

１：前面ガラス基板２：透明誘電体層３：保護層４：透明電極５：バス電極６：隔壁７：蛍光体層８：書き込み電極９：背面ガラス基板１０：緩衝層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に緩衝層を形成し、該緩衝層の上に
隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔壁
が線幅（Ｌ）１５〜６０μｍ、ピッチ（Ｐ）１００〜２
２０μｍ、高さ（Ｈ）８０〜１７０μｍの隔壁であるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】隔壁の上面幅（Ｌｔ）、半値幅（Ｌｈ）、
下面幅（Ｌｂ）の比が下記に示される範囲にあることを
特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ。Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２ただし、Ｌｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合をのぞく。
【請求項３】緩衝層の厚みが、３〜２０μｍであること
を特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディス
プレイパネル。
【請求項４】緩衝層が、５０〜４００℃の熱膨張係数
（α）₅₀〜₄₀₀が７０〜８５×１０^-7／°Ｋのガラスか
らなることを特徴とする請求項１または２に記載のプラ
ズマディスプレイパネル。
【請求項５】緩衝層が、Ｔｇ（ガラス転移点）が４３０
〜５００℃、Ｔｓ（軟化点）が４７０〜５８０℃のガラ
スからなることを特徴とする請求項１または２に記載の
プラズマディスプレイパネル。
【請求項６】緩衝層が、酸化ビスマスを１０〜６０重量
％含むガラスからなることを特徴とする請求項１〜５の
いずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】緩衝層が酸化リチウム、酸化ナトリウム、
酸化カリウムの含有率の合計が５重量％以下のガラスか
らなることを特徴とする請求項1〜６のいずれかに記載
のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】緩衝層がガラスとフィラーを含む無機成分
からなることを特徴とする請求項1〜７のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】緩衝層のフィラーの含有量が全無機成分の
５〜４０重量％であることを特徴とする請求項８に記載
のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】緩衝層のフィラーが酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化マグネシウム、チタン酸バリウムのうち少なく
とも１種を含むことを特徴とする請求項８に記載のプラ
ズマディスプレイパネル。
【請求項１１】緩衝層が下記組成のガラス材料から構成
されていることを特徴とする請求項１または８に記載の
プラズマディスプレイパネル。酸化ビスマス１０〜４０重量部酸化珪素３〜５０重量部酸化ホウ素１０〜４０重量部酸化バリウム８〜２０重量部酸化亜鉛
１０〜３０重量部
【請求項１２】隔壁が下記組成のガラス材料から構成さ
れていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマデ
ィスプレイパネル。酸化リチウム２〜１５重
量部酸化珪素１５〜５０重量部酸化ホウ素
１５〜４０重量部酸化バリウム２〜１
５重量部酸化アルミニウム６〜２５重量部
【請求項１３】隔壁が、屈折率１．５〜１．６５のガラ
スからなることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネル。