JP3402070B2

JP3402070B2 - プラズマディスプレイ

Info

Publication number: JP3402070B2
Application number: JP15130796A
Authority: JP
Inventors: 雄一朗井口; 孝樹正木; 慶二岩永
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1995-06-12
Filing date: 1996-06-12
Publication date: 2003-04-28
Anticipated expiration: 2016-06-12
Also published as: JPH09312135A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイやプラズマアドレス液晶ディスプレイのプラズマ放
電部分に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ディスプレイにおいて、高精細化
が進んでおり、それに伴って、パターン加工技術も技術
向上が望まれている。プラズマディスプレイやプラズマ
液晶ディスプレイ等のプラズマ放電を伴うディスプレイ
において、色のクロストークなどを抑制するために各画
素の仕切りとして隔壁層が形成されている。ディスプレ
イの高精細化に伴って、ガラスなどの無機材料で隔壁層
を高精度かつ高アスペクト比に形成する要求が高まって
いる。

【０００３】従来、無機材料のパターン加工を行う場
合、無機粉末と有機バインダーからなるペーストによる
スクリーン印刷が多く用いられている。しかし、スクリ
ーン印刷は精度の高いパターンが形成できないという欠
点があった。

【０００４】この問題を改良する方法として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公
報、特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペース
トを用いてフォトリソグラフィ技術に形成する方法が提
案されている。しかしながら、感光性ペーストの感度や
解像度が低いために高アスペクト比、高精細の隔壁が得
られないために、例えば８０μｍを越えるような厚みの
ものをパターン加工する場合、複数回の加工工程（塗
布、露光、現像工程）を必要とするため、工程が長くな
る欠点があった。

【０００５】また、特開平２−１６５５３８号公報で
は、感光性ペーストを転写紙上にコーティングした後、
転写フィルムをガラス基板上に転写して隔壁を形成する
方法が、特開平３−５７１３８号公報では、フォトレジ
スト層の溝に誘電体ペーストを充填して隔壁を形成する
方法がそれぞれ提案されている。また特開平４−１０９
５３６号公報では、感光性有機フィルムを用いて隔壁を
形成する方法が提案されている。しかしながら、これら
の方法では、転写フィルムやフォトレジストあるいは有
機フィルムを必要とするために工程が増えるという問題
点があった。また、高精細度や高アスペクト比を有する
隔壁を得るには至っていない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】発明者らは、感光性ペ
ーストを用いた隔壁層の形成が、他の方法よりも、簡便
で、かつ、高精度のパターン形成が可能であると考え、
鋭意検討を進めた。しかし、従来から、無機微粒子と有
機成分を含む感光性ペーストは、厚膜感光化が困難であ
り、そのために、１００μｍ以上の厚みの感光性ペース
トをパターン加工するためには、複数回の塗布工程と露
光工程を繰り返す必要があった。

【０００７】本発明は、少ない工程数で作製可能な、高
精細度かつ高アスペクト比を有する隔壁層を有するプラ
ズマディスプレイを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、隔壁層
の材料として平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラ
ス成分を用い、かつ、前記ガラス成分として、酸化カリ
ウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムのうち、少なくと
も１種類を含み、それらの合計量が３〜２０重量％であ
り、かつ、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５
〜５０重量％を含有するガラス成分を用いることを特徴
とするプラズマディスプレイにより達成される。又は、
隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜１．６８であ
るガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成分として、酸
化リチウムを３〜１５重量％含むガラス成分を用いるこ
とを特徴とするプラズマディスプレイにより達成され
る。又は、隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウ
ムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が
１〜２０重量％であり、かつ、酸化ビスマスを５〜３０
重量％含有するガラス成分を用いることを特徴とするプ
ラズマディスプレイにより達成される。又は、隔壁層の
材料として平均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス
成分を用い、かつ、前記ガラス成分として、酸化珪素を
３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％含有する
ガラス成分を用いることを特徴とするプラズマディスプ
レイにより達成される。又は、隔壁層の材料として平均
屈折率が１．５〜１．６８であるガラス成分を用い、か
つ、前記ガラス成分として、酸化珪素を３〜６０重量
％、酸化ホウ素を５〜５０重量％、酸化バリウムを１〜
３０重量％、酸化アルミニウムを１〜３０重量％含有す
るガラス成分を用いることを特徴とするプラズマディス
プレイにより達成される。又は、隔壁層の材料として平
均屈折率が１．５〜１．６８であるガラス成分を用い、
かつ、前記ガラス成分として、酸化珪素を１５〜５０重
量％、酸化ホウ素を１５〜４０重量％、酸化バリウムを
２〜１０重量％、酸化アルミニウムを６〜２５重量％、
酸化リチウムを１〜１５重量％含有するガラス成分を用
いることを特徴とするプラズマディスプレイにより達成
される。

【０００９】

【発明の実施の形態】プラズマディスプレイの隔壁は、
ガラス基板上に、ガラス微粒子と有機成分を必須成分と
するペーストを用いてパターン加工を行った後に、焼成
することによって形成される。有機成分中に感光性の有
機化合物を含有する感光性ペーストを用いた隔壁形成
は、工程が簡便で、高精度のパターン加工が実現でき
る。

【００１０】この場合、有機成分とガラス微粒子の平均
屈折率が異なる場合は、ペースト内部での光散乱が生じ
るために、高精度のパターン加工が困難である。そこ
で、ガラス微粒子と有機成分の屈折率制御を行うことに
よって、光散乱を抑制できることを見出した。ガラス微
粒子の平均屈折率と有機成分の平均屈折率の差が０．１
以下であることが好ましく、より好ましくはガラス微粒
子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２の間に
（Ａ）式の関係を持たせることによって、高アスペクト
比かつ高精度のパターン加工が可能になる。

【００１１】 −０．０３≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０７・・・・・（Ａ）しかし、一般に絶縁体として用いられるガラスは、１．
５〜１．９程度の屈折率を有しているのに対し、一般的
な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７程度であり、屈
折率を整合するためには、ガラス微粒子の平均屈折率を
１．５〜１．６８にする必要がある。好ましくは、屈折
率１．５５〜１．６５にすることによって、有機成分の
選択の幅が広がる利点がある。

【００１２】一方、隔壁形成はガラス基板上での焼成を
行うために、ガラス成分の熱軟化温度が３５０〜６００
℃程度であることが好ましい。３５０℃未満の場合は、
後の封着工程で隔壁層が変形する問題があり、６００℃
を越えると、焼成時に溶融せずに強度の低い隔壁層にな
る問題がある。

【００１３】このような、温度特性を有するガラスとし
ては、従来、酸化鉛や酸化ビスマスを２０重量％以上含
有するガラスが用いられてきた。しかし、酸化鉛や酸化
ビスマスを３０重量％以上含有するガラス微粒子は、平
均屈折率が１．７以上になる場合が多かった。

【００１４】屈折率１．５〜１．６８で、かつ、熱軟化
温度が６００℃以下のガラスは、無機微粒子中の酸化鉛
や酸化ビスマスの含有量が３０重量％以下であり、か
つ、アルカリ金属の酸化物を１〜２０重量％含有するこ
とによって得られる。また、アルカリ金属の酸化物を３
〜２０重量％含有することによって、熱膨張係数や温度
特性、屈折率の制御が容易になる。２０重量％を超える
とガラスの吸水性が高まり、ディスプレイに用いるには
好ましくない。

【００１５】また、酸化ビスマスや酸化鉛を３０重量％
以下、より好ましくは２０重量％以下の範囲で併用する
ことによって、少ない量のアルカリ金属酸化物の添加
で、各種特性を制御することが容易になる。

【００１６】アルカリ金属の酸化物としては、酸化カリ
ウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムから選ばれる少な
くとも１種類を用いることができる。特に、ペーストの
ポットライフという点からは、酸化リチウムを含有する
場合が好ましい。前記の通りの発明者らが見出した知見
等を勘案すると、本発明の一態様としては、酸化リチウ
ムを３〜１５重量％含むものである。又、別の態様とし
ては、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウムの
うち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が１〜
２０重量％であり、かつ、酸化ビスマスを５〜３０重量
％含有するものである。

【００１７】ガラス微粒子中の組成としては、酸化珪素
は３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、よ
り好ましくは２０〜６０重量％である。３重量％未満の
場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、また
熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマ
ッチが起こりやすい。また６０重量％以下にすることに
よって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付け
が可能になるなどの利点がある。

【００１８】酸化ホウ素は５〜５０重量％の範囲で配合
することが好ましく、より好ましくは１０〜４０重量％
である。この範囲で配合することによって、電気絶縁
性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機
械および熱的特性を向上することができる。５０重量％
を越えるとガラスの安定性が低下する。前記の通りの発
明者らが見出した知見等を勘案して、本発明の一態様と
しては、ガラス成分が、酸化珪素を３〜６０重量％、酸
化ホウ素を５〜５０重量％含有するものである。また、
別の態様としては、ガラス成分が、酸化カリウム、酸化
ナトリウム、酸化リチウムのうち、少なくとも１種類を
含み、それらの合計量が３〜２０重量％であり、かつ、
酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量
％を含有するものである。

【００１９】酸化ビスマスや酸化鉛を含有することによ
って、焼き付け温度を制御できる効果があるものの、目
標の屈折率よりも高くする効果もあり、３０重量％以下
が好ましい。

【００２０】また、ガラス中に、酸化アルミニウム、酸
化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化ア
ルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することに
より、硬度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量
は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは３０重量
％以下であり、かつ、これらの含有量の合計が５０重量
％以下である。

【００２１】前記の通りの発明者らが見出した知見等を
勘案して、本発明の一態様としては、酸化珪素を３〜６
０重量％、酸化ホウ素を５〜５０重量％、酸化バリウム
を１〜３０重量％、酸化アルミニウムを１〜３０重量％
含有するものである。更に好ましく用いられる別の本発
明の一態様であるガラス組成の例を挙げると、酸化珪素
を１５〜５０重量％、酸化ホウ素を１５〜４０重量％、
酸化バリウムを２〜１０重量％、酸化アルミニウムを６
〜２５重量％、酸化リチウムを１〜１５重量％含有する
ガラス組成である。

【００２２】上記において使用されるガラス粒子径は、
作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれる
が、５０重量％粒子径が０．１〜１０μｍが好ましい。

【００２３】ガラス微粒子として、球形率８０個数％以
上のガラス微粒子を５０重量％以上用いることによっ
て、ガラス表面積を小さくして、ペースト中の光散乱を
抑制することができる。

【００２４】さらに、ガラス微粒子として、４３６ｎｍ
の波長での全光線透過率が５０％以上のガラス微粒子を
用いることを特徴とするガラス微粒子を用いることが好
ましい。ガラス微粒子内部の散乱や吸収を抑制すること
によって、パターン特性は向上する。

【００２５】この場合に用いるガラス微粒子としては、
５０重量％粒子径が１〜７μｍ、１０重量％粒子径が
０．４〜２μｍ、９０重量％粒子径が４〜１０μｍ、比
表面積０．２〜３ｍ²／ｇのガラス微粒子が適してい
る。

【００２６】本発明におけるガラス微粒子の屈折率測定
は、ベッケ法により行うことができる。屈折率は露光波
長で測定することが効果を確認する上で正確である。特
に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定するこ
とが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくは
ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００２７】また、本発明に用いられるペースト中に、
熱軟化温度が６００℃以上のガラス粒子やセラミックス
粒子を４０重量％以下の範囲で添加することによって、
焼成時の収縮率を抑制することができる。ただし、この
場合に用いる微粒子相互の屈折率差が０．１以下、さら
には、０．０５以下であることが、精度良くパターン形
成する上で重要である。

【００２８】また、プラズマディスプレイのコントラス
トを向上する目的で、隔壁層を黒色化する場合には、用
いる感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重
量％含むことによって、黒色の隔壁を形成することがで
きる。

【００２９】この際に用いる黒色の金属酸化物として、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくと
も１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色
の隔壁層を形成することができる。特に、ＦｅとＭｎの
酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによっ
て、より、黒色の隔壁層を形成できる。

【００３０】上記のガラス成分を含む無機微粒子を、感
光性化合物を含む有機成分に分散することによって、感
光性ペーストを作製できる。本発明において使用される
有機成分とは、感光性の有機物を含むペースト中の有機
成分（ペーストから無機成分を除いた部分）のことであ
る。

【００３１】本発明に用いる感光性ペーストに関して
は、感光性成分の含有率が有機成分中の１０重量％以
上、さらには、３０重量％以上であることが光に対する
感度の点で好ましい。

【００３２】有機成分は、感光性モノマー、感光性オリ
ゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選
ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バイ
ンダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助
剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリン
グ剤などの添加剤成分を加えることも行われる。

【００３３】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００３４】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等
がある。

【００３５】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００３６】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素
原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換した
モノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、
ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチ
レン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α
−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロ
メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシ
キメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラ
セン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子
内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレー
トに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げら
れる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用する
ことができる。

【００３７】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００３８】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００３９】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。

【００４０】重合する際に、これらのモノマーの含有率
が１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上に
なるように、他のモノマーと共重合することができる。

【００４１】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００４２】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００４３】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。

【００４４】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが
あげられる。

【００４５】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００４６】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００４７】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００４８】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００４９】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ
−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキ
サノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ
−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロ
パンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−
エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）
オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４、４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホル
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対
し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ま
しくは、０．１〜５重量％である。重合開始剤の量が少
なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が
多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれ
がある。

【００５０】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い吸収剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸収剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の
添加量は０．０５〜５重量％が好ましい。０．０５重量
％以下では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、５重量％
を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましく
ない。より好ましくは０．１〜１重量％である。有機顔
料からなる紫外線吸光剤の添加方法としては、有機溶媒
に溶解した後、ペースト作製時に混練りする方法以外
に、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、
次に該有機溶媒中にガラス粉末を混合後、乾燥する方法
がある。この方法によってガラス粉末の個々の粉末表面
に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の粉末が作
製できる。

【００５１】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸
化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペー
ストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合があ
る。このような反応を防止するために安定化剤を添加し
てゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤と
しては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。ト
リアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有
効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリア
ゾールによるガラス粉末の表面処理の一例を上げると、
無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢
酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアル
コールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子が十
分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時間浸積
する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥し
て溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を作
製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機微
粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。

【００５２】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より
好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００５３】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００５４】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００５５】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する
場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通
常、０．００１〜１重量％である。

【００５６】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００５７】有機成分の屈折率は、露光により感光性成
分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の屈
折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥工
程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の有
機成分の屈折率のことである。

【００５８】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペ
ーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００５９】また、有機成分が光照射によって重合した
後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光
照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射すること
によって測定できる。

【００６０】ガラス基板上に焼き付けを行うことができ
る酸化ビスマスや酸化鉛を１０重量％以上含有するガラ
ス粉末は、屈折率が１．６以上になる場合があり、この
場合は有機物の屈折率を高くする必要がある。

【００６１】この場合、有機成分中に高屈折率成分を導
入する必要があり、有機成分中に硫黄原子、臭素原子、
ヨウ素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセ
ン環、カルバゾール環を有する化合物を１０重量％以上
用いることが高屈折率化に有効である。また、ベンゼン
環を２０重量％以上含有することによって、高屈折率化
ができる。

【００６２】特に、硫黄原子もしくはナフタレン環を１
０重量％以上含有することによって、より簡便に有機成
分を高屈折率化することができる。ただし、含有量が６
０重量％以上になると光感度が低下するという問題が発
生するので、１０〜６０重量％の範囲で含有することが
好ましい。

【００６３】有機成分の屈折率を高くする方法として
は、感光性モノマーやバインダー中に、硫黄原子、ナフ
タレン環を持つ化合物を用いることが有効である。

【００６４】分子内に硫黄原子を原子を含有するモノマ
ーとしては、次の一般式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）で
示される化合物が上げられる。

【００６５】

【化１】構造式中のＲは水素原子もしくはメチル基を示す。Ｘは
ＳまたはＯ、ｌは１〜３の整数、ｍ，ｎ，ｐ，ｑは０〜
３の整数を示す。

【００６６】また、増感剤は、露光波長に吸収を有して
いるものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈
折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加するこ
とによって、屈折率を向上することができる。この場合
の増感剤の添加量としてペースト中に０．５〜１０重量
％添加することができる。より好ましくは、１〜６重量
％である。

【００６７】感光性ペーストは、通常、ガラス微粒子、
紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重
合開始剤および溶媒等の各種成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製する。

【００６８】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスピンコート法で行う場合は、２０００〜５０００
ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜
厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好
ましい。ブレードコーター法やダイコーター法などを用
いる場合は、２０００〜２００００ｃｐｓが好ましい。

【００６９】次に本発明によって、プラズマディスプレ
イの隔壁層のパターン加工を行う一例について説明す
る。ただし、本発明はこれに限定されない。

【００７０】ガラス基板やポリマー製フィルムの上に、
感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布す
る。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコータ
ー、ロールコーター等一般的な方法を用いることができ
る。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペ
ーストの粘度を選ぶことによって調整できるが、プラズ
マディスプレイの隔壁は１００〜２００μｍの厚みが必
要であり、乾燥や焼成による収縮を考慮して、１２０〜
３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。

【００７１】ここでペーストとガラス基板との密着性を
高めるためにガラス基板の表面処理を行うことができ
る。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えば
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエ
トキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリ
メトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるい
は有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機
ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるい
は有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルア
ルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度
に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナ
ーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で
１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができるまた、ポリマーフィルム上に塗布した場合、フィルム状
の感光性ペーストシート（感光性グリーンシート）をガ
ラス基板上に張り付けることによって、簡便にガラス基
板上への塗布を行うことができる。

【００７２】なお、本発明に用いるガラス基板は、一般
的なものであれば特に限定はないが、一般的なソーダラ
イムガラスやソーダライムガラスをアニール処理したガ
ラス、または、高歪み点ガラス（例えば、旭硝子社製”
ＰＤ−２００”）等を用いることができる。ガラス基板
のサイズには特に限定はなく、１〜５ｍｍの厚みのガラ
スを用いることができる。

【００７３】また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、
金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等をスクリーン印刷や感
光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によ
って、電極層をパターン形成したものを用いることが一
般的である。さらに、放電の安定化のために電極層の上
に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。

【００７４】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、レーザー光などで直接描
画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッ
パー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることがで
きる。

【００７５】露光工程を１回だけ行うことが、複数回の
露光を行う場合に比べて、精度良く簡便に隔壁層を形成
する方法としては好ましい。

【００７６】また、大面積の露光を行う場合は、ガラス
基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬
送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面
積の露光機で、大きな面積を露光することができる。

【００７７】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、０．５〜１００
ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３
０分間露光を行なう。特に、露光量が０．３〜５Ｊ／ｃ
ｍ²程度の露光を行うことが好ましい。

【００７８】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶＡやセルロー
スなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが
上げられる。

【００７９】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上するので好ましい。

【００８０】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチ
レン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光
性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用い
る方法がある。

【００８１】露光後、現像液を使用して現像を行なう
が、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行な
う。現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能
である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶
解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペ
ースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水溶液
などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機
アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除
去しやすいので好ましい。

【００８２】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃
度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１
〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部
が除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン
部を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良
くない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行
うことが工程管理上好ましい。

【００８３】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は
４００〜６１０℃で行う。ガラス基板上にパターン加工
する場合は、５２０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間
保持して焼成を行う。焼成炉としては、バッチ式の焼成
炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。

【００８４】また、以上の各工程中に、乾燥、予備反応
の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。

【００８５】以上の工程によって得られた隔壁層を有す
るガラス基板はプラズマディスプレイの前面側もしくは
背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス
液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基
板として用いることができる。

【００８６】形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後
に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、
ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、
プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さら
に、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、
プラズマディスプレイを製造することができる。

【００８７】また、プラズマディスプレイを高精細化す
るため、つまり、一定の画面サイズで画素の数を増やす
ためには、１画素の大きさを小さくする必要がある。こ
の場合、隔壁間のピッチを小さくする必要があるが、ピ
ッチを小さくすると、放電空間が小さくなり、また、蛍
光体の塗布面積が小さくなることから、輝度が低下す
る。具体的には、４２インチのハイビジョンテレビ（１
９２０×１０３５画素）や２３インチのＯＡモニター
（ＸＧＡ：１０２４×７６８画素）を実現しようとする
と、画素のサイズを４５０μｍ角の大きさにする必要が
あり、各色を仕切る隔壁は１５０μｍピッチで形成する
必要がある。この場合、隔壁の線幅が大きいと放電のた
めの空間が確保できないことや蛍光体の塗布面積が小さ
くなることによって、輝度を向上することが困難にな
る。

【００８８】発明者らは、本発明の技術を用いることに
よって、隔壁の幅を小さくすることができることを見い
だした。特に、隔壁幅２０〜４０μｍ、好ましくは隔壁
幅２０〜３５μｍのストライプ状隔壁を形成するプラズ
マディスプレイを得ることができ、高精細化時の輝度向
上に有効である。

【００８９】また、高さが１００〜１７０μｍ、ピッチ
が１００〜１６０μｍの高精細隔壁を形成することによ
って、ハイビジョンテレビやコンピューターモニターに
用いることができる高精細プラズマディスプレイを提供
できる。

【００９０】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。

【００９１】実施例は、無機微粒子および有機成分から
なる感光性ペーストを作成した。作成手順は、まず、有
機成分の各成分とγ−ブチロラクトンを８０℃に加熱し
ながら溶解し、その後、無機微粒子を添加し、混練機で
混練することによってペーストを作成した。粘度は溶媒
量をによって調整した。溶媒量（γ−ブチルラクトン）
はペースト中に１０〜４０％になるように調整した。

【００９２】次に、３０ｃｍ角のソーダガラス基板もし
くは石英ガラス基板上に、スクリーン印刷法による複数
回塗布によって、１００μｍ、１５０μｍ、２００μｍ
の塗布厚みになるように塗布を行った後、８０℃で３０
分乾燥した。

【００９３】次に、フォトマスクを介して露光を行っ
た。マスクは次の２種類を用いた。

【００９４】（１）ピッチ２２０μｍ、線幅５０μｍの
クロム製ネガマスク（２）ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのクロム製ネガ
マスク露光は、５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯で２〜
１０Ｊ／ｃｍ²の光量で紫外線露光を行った。その後、
モノエタノールアミンの０．５％水溶液に浸漬して、現
像を行った。

【００９５】さらに、得られたガラス基板を８０℃で１
時間乾燥した後、最高温度５６０℃もしくは８５０℃
（最高温度保持時間３０分）で焼成を行った。

【００９６】得られた試料を切断し、走査型電子顕微鏡
で断面観察した結果、良好な隔壁パターンが形成されて
いる場合を○として評価し、パターンの欠落・断絶、現
像不良による未露光部の詰まりなどによって、良好な隔
壁が形成されていない場合を×として評価を行った。結
果を表３に示す。

【００９７】また、有機成分の屈折率は、ペースト中の
有機成分だけを調整して、塗布および乾燥工程後に、エ
リプソメトリー法によって、２５℃における４３６ｎｍ
の波長の光に関して測定を行った。

【００９８】実施例１表１のＡ１のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分を２５
ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１
０ｇであった。パターン形成、５６０℃３０分焼成を行
った結果を表３に示す。

【００９９】また、３６０×５００ｍｍのサイズのソー
ダガラス基板（厚み２．８ｍｍ）上に、感光性銀ペース
トを用いて、線幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍ、厚み１
０μｍのストライプ状の銀配線を形成した後、上記ペー
ストを用いて、全面に２００μｍ厚みで塗布を行い、ピ
ッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのフォトマスクを用い
て、露光後、現像、焼成を行って隔壁層を形成した。そ
の後、蛍光体ペーストをスクリーン印刷によって塗布し
た後、４５０℃２０分の焼成を行って、２３インチ用プ
ラズマディスプレイの背面板を作製した。この背面板を
前面板と張り合わせ、ガスを封入することによって、２
３インチＸＧＡ（１０２４×７６８画素）モニターを作
製することができる。

【０１００】実施例２表１のＡ２のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分を２５
ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１
５ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行
った結果を表３に示す。

【０１０１】実施例３表１のＡ３のガラス粉末７０ｇとＢ４の有機成分を３０
ｇを用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１
５ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行
った結果を表３に示す。

【０１０２】

【０１０３】

【０１０４】実施例４表１のＡ５のガラス粉末７５ｇとＢ１の有機成分２５ｇ
を用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１２
ｇであった。パターン形成、５８０℃１５分焼成を行っ
た結果を表３に示す。

【０１０５】実施例５表１のＡ６のガラス粉末７５ｇとＢ３の有機成分２５ｇ
を用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０
ｇであった。パターン形成、８５０℃１５分焼成を行っ
た結果を表３に示す。

【０１０６】実施例６表１のＡ１のガラス粉末６０ｇとＡ６のガラス粉末１５
ｇを混合した後、Ｂ３の有機成分２５ｇを用いて、ペー
ストを作製した。使用した溶媒は、１０ｇであった。パ
ターン形成、５８０℃３０分焼成を行った結果を表３に
示す。

【０１０７】比較例１表１のＡ３のガラス粉末７５ｇとＢ２の有機成分２５ｇ
を用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０
ｇであった。パターン形成、５６０℃１０分焼成を行っ
た結果を表３に示す。

【０１０８】比較例２表１のＡ４のガラス粉末７５ｇとＢ４の有機成分２５ｇ
を用いて、ペーストを作製した。使用した溶媒は、１０
ｇであった。パターン形成、５８０℃１５分焼成を行っ
た結果を表３に示す。

【０１０９】

【表１】

【表２】

【表３】表中の略称に関して、次に示す。

【０１１０】（ポリマー１〜３の構造中の数字は、それ
ぞれのモノマーの構成モル比を示す）ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレートＴＢＰＭＡ：トリブロモフェニルメタクリレートＴＢＢ−ＡＤＡ：テトラブロモビスフェノールＡジアクリレートＢＭＥＸＳ−ＭＡ：

【化２】ＭＰＳ−ＭＡ：

【化３】ＰＶＡ：ポリビニルアルコールスダン：アゾ系赤色染料、Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏユヒ゜ナール D-50 ：ベンゾフェノン系染料（ユピナールＤ−５０）Ｃ₁₃Ｈ₁₀Ｏ₅ ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２− モルホリノプロパノン−１ＥＰＡ：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルＤＥＴ：２，４−ジエチルチオキサントン γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトンポリマー１：

【化４】（重量平均分子量：４３０００、酸価：９０）ポリマー２：

【化５】（重量平均分子量：３２０００、酸価：９５）ポリマー３：

【化６】（重量平均分子量：３００００、酸価：１０１）

【０１１１】

【発明の効果】本発明は、高精度の隔壁を有するプラズ
マディスプレイに関し、高精細化可能なプラズマディス
プレイを提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号特願平8−61048 (32)優先日平成８年３月18日(1996．3．18) (33)優先権主張国日本（ＪＰ） (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 17/49 C03C 3/064 C03C 3/091 H01J 11/02

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウ
ムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が
３〜２０重量％であり、かつ、酸化珪素を３〜６０重量
％、酸化ホウ素を５〜５０重量％を含有するガラス成分
を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項２】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化リチウムを３〜１５重量％含むガラス成
分を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項３】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化リチウ
ムのうち、少なくとも１種類を含み、それらの合計量が
１〜２０重量％であり、かつ、酸化ビスマスを５〜３０
重量％含有するガラス成分を用いることを特徴とするプ
ラズマディスプレイ。
【請求項４】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５
〜５０重量％含有するガラス成分を用いることを特徴と
するプラズマディスプレイ。
【請求項５】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化珪素を３〜６０重量％、酸化ホウ素を５
〜５０重量％、酸化バリウムを１〜３０重量％、酸化ア
ルミニウムを１〜３０重量％含有するガラス成分を用い
ることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項６】隔壁層の材料として平均屈折率が１．５〜
１．６８であるガラス成分を用い、かつ、前記ガラス成
分として、酸化珪素を１５〜５０重量％、酸化ホウ素を
１５〜４０重量％、酸化バリウムを２〜１０重量％、酸
化アルミニウムを６〜２５重量％、酸化リチウムを１〜
１５重量％含有するガラス成分を用いることを特徴とす
るプラズマディスプレイ。