JP3402077B2 - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なプラズマデ
ィスプレイパネルに関する。

【０００２】本発明のプラズマディスプレイは、大型化
時にも重量増加が比較的少ない軽量化を実現している。
また、誘電率が低いことによって、正確な表示を行うこ
とができる。さらに、高精細化への対応も可能であり、
ハイビジョンテレビやコンピューターモニター用途にも
対応可能である。

【０００３】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイやプラズマ
アドレス液晶ディスプレイ等のプラズマ放電を用いるデ
ィスプレイ（以下、これをプラズマディスプレイとす
る）において、カラー化に伴って、放電セルを仕切るた
めの隔壁を形成する必要が生じている。

【０００４】従来は、この隔壁を形成する方法として、
ガラス粉末とバインダーからなる印刷ペーストを用い
て、ガラス基板上へのスクリーン印刷によりパターン形
成を行った後、焼成して、隔壁を形成する技術が広く用
いられてきた。

【０００５】また、スクリーン印刷は精度の高いパター
ンが形成できない、生産性が低い等の欠点があり、サン
ドブラスト法や感光性ペーストを用いた方法が提案され
ている。

【０００６】しかし、どの方法もガラス粉末として、酸
化鉛や酸化ビスマスを多く含有したガラス粉末を用いて
いる。これは、酸化鉛や酸化ビスマスを多く添加するこ
とによって、ガラスの荷重熱軟化温度を下げることがで
き、ガラス基板上への焼き付けを可能にするためであ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
等の隔壁材料として、酸化鉛や酸化ビスマスを３０重量
％以上含有する場合、ガラスの比重が大きいため、ディ
スプレイが重くなるという問題があった。

【０００８】この場合、ディスプレイを大型化した時に
重量が大きすぎて、自重で基板に歪みを生じたり、破損
する恐れがある。また、壁掛けテレビ等の用途を考えた
場合に、重量が大きくなり過ぎると用いることができな
い。

【０００９】比重が軽く、かつガラス基板に焼き付け可
能な融点のガラスは、これまで知られていなかった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで、発明者らは低比
重ガラスを隔壁に用いることによるプラズマディスプレ
イパネルに関する検討をすすめた。

【００１１】本発明は以下の構成からなる。

【００１２】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化ビス
マスを５〜３０重量％含むガラスを７０重量％以上含
み、該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６００℃のガ
ラスを５０重量％以上有するものである比重２〜３．３
の材料を用いることを特徴とするプラズマディスプレイ
パネル。または、各放電セルを仕切る隔壁として、酸化
ビスマスを５〜３０重量％、酸化リチウム、酸化ナトリ
ウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種を３〜２０重
量％含み、かつ、酸化ビスマス、酸化リチウム、酸化ナ
トリウム、酸化カリウムの合計が５〜４０重量％である
ガラスを７０重量％以上含み、該ガラスは荷重熱軟化温
度が４００〜６００℃のガラスを５０重量％以上有する
ものである比重２〜３．３の材料を用いることを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。または、各放電セル
を仕切る隔壁として、酸化物換算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを７０重量％以上含み、
該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６００℃のガラス
を５０重量％以上有するものである比重２〜３．３の材
料を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ル。または、各放電セルを仕切る隔壁として、酸化物換
算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを７０重量％以上含み、
該ガラスは荷重熱軟化温 度が４００〜６００℃のガラス
を５０重量％以上有するものである比重２〜３．３の材
料を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ル。または、各放電セルを仕切る隔壁として、酸化物換
算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ ５〜３０重量部 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 （Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ 、 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏの計が５〜
４０重量部）の成分を必須成分とするガラスを７０重量
％以上含み、該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６０
０℃のガラスを５０重量％以上有するものである比重２
〜３．３の材料を用いることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル。

【００１３】

【発明の実施の形態】各放電セルを仕切る隔壁とは、プ
ラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディスプレ
イにおいて、放電が所定の位置のみで起こるように（放
電が漏れないように）設けられた壁のことであり、通常
はガラス等の無機絶縁体が用いられている。

【００１４】比重２〜３．３の隔壁材料としては、ガラ
ス、セラミックス等を用いることができるが、ガラスを
７０重量％以上含む材料を用いることが隔壁の強度を高
く保つ点で必要である。

【００１５】また、ガラスとして、ガラス転移温度（Ｔ
ｇ）が３５０〜６００℃のガラスを５０重量％以上用い
ることが好ましく、荷重熱軟化温度が４００〜６００℃
のガラスを５０重量％以上用いることが必要である。こ
れによって、ガラス基板上への焼き付けが可能になる。

【００１６】ガラス転移温度は、示差熱分析測定におい
て、吸熱が開始する温度により測定する。荷重熱軟化温
度は荷重を付加したサンプルを加熱して、変形が開始す
る温度により測定する。

【００１７】上記の条件を満たすガラスとしては、次の
２つの方法があることを見いだした。

【００１８】（１）酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのうち少なくとも１種を３〜２０重量％含む
ガラスを用いる。

【００１９】（２）酸化ビスマスを５〜３０重量％含む
ガラスを用いる。

【００２０】さらに、プラズマディスプレイ等の隔壁に
用いるガラスとして、ＳｉＯ₂ 、Ｂ₂ Ｏ₃ 、ＢａＯ、Ｚ
ｎＯ、Ａｌ₂ Ｏ₃ を含むガラスが、熱安定性、耐水性、
強度等の点で好ましい。

【００２１】従来、ＰｂＯを添加することによって、低
融点ガラスを作成して、プラズマディスプレイの隔壁材
料として用いられていたが、ＰｂＯを２０重量％以上含
む場合は比重が大きくなる。

【００２２】そこで、本発明では、酸化リチウム、酸化
ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種を添加
することによって、融点を引き下げると共に低比重の隔
壁が形成できることを見出した。

【００２３】また、３０重量％以下の比率で酸化ビスマ
スを含むことによって、融点のコントロールを行いやす
くなる。

【００２４】ただし、酸化ビスマスと酸化リチウム、酸
化ナトリウム、酸化カリウムの合計の含有量を５〜４０
重量％に調製することが、ガラス基板上に焼き付けを可
能にしかつ、比重を低減して、軽量のプラズマディスプ
レイを作成する上で好ましい。前記の通りの発明者らが
見出した知見等を勘案すると、本発明の一態様として
は、酸化ビスマスを５〜３０重量％含むガラスを用いる
ものである。又、別の態様としては、酸化ビスマスを５
〜３０重量％、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カ
リウムのうち少なくとも１種を３〜２０重量％含み、か
つ、酸化ビスマス、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムの合計が５〜４０重量％であるガラスを用い
るものである。

【００２５】本発明のガラス中の組成としては、ＳｉＯ
₂ は２０〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
く、２０重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や
安定性が低下し、またガラス基板と熱膨張係数のミスマ
ッチが起こり、所望の値から外れる。また６０重量％以
下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基
板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。

【００２６】Ｂ₂ Ｏ₃ は１０〜４０重量％の範囲で配合
することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶
縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上す
ることができる。また、４０重量％を越えるとガラスの
安定性が低下する。

【００２７】ＢａＯを配合することにより、ガラスの軟
化点や熱膨張係数を制御するのが容易であるので好まし
く添加される。また、リブの輝度寿命が長く、電気絶縁
性が良いので放電特性や耐蝕性、ガラスの安定性が優れ
るようになる。しかし、２５重量％を越えるとガラス層
の安定性や緻密性が低下する。

【００２８】ＺｎＯを配合することにより、絶縁層の緻
密性を向上することができる。しかし、２０重量％を越
えると、ガラス基板上に焼付けする温度が低くなり過ぎ
て制御できなくなり、また絶縁抵抗が低くなるので好ま
しくない。

【００２９】Ａｌ₂ Ｏ₃ を配合することにより強度を向
上することができる。しかし、１０重量％を越えると、
荷重熱軟化温度が高くなり過ぎて焼付けが困難となる。
前記の通りの発明者らが見出した知見等を勘案すると、
本発明の一態様としては、酸化物換算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを用いるものである。
又、別の態様としては、酸化物換算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを用いるものである。

【００３０】より好ましいガラスとして、酸化物換算表
記で、 ＳｉＯ₂ ２０〜６０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ₂ Ｏ₃ ５〜３０重量部 Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １〜１０重量部 （Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏの計が５〜
４０重量部）の成分を含有するガラスを用いることによ
って、低融点ガラスを得ることができる。前記の通りの
発明者らが見出した知見等を勘案すると、本発明の一態
様としては、酸化物換算表記で、 ＳｉＯ ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ ₂ Ｏ ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ ５〜３０重量部 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ ₂ Ｏ ₃ １〜１０重量部 （Ｂｉ ₂ Ｏ ₃ 、 Ｌｉ ₂ Ｏ、Ｎａ ₂ Ｏ、Ｋ ₂ Ｏの計が５〜
４０重量部）の成分を必須成分とするガラスを用いるも
のである。

【００３１】また、ガラス中に、ＰｂＯ、ＭｇＯ、Ｃａ
Ｏ、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ などを含有することができる
が、その量は２０重量％以下であることが好ましい。

【００３２】本発明の隔壁の材質について、上記のよう
なガラス成分以外に、荷重熱軟化温度が６００℃以上の
ガラスやセラミックスなどを含有することができる。こ
れらの材料はフィラーとして機能し、隔壁の強度を向上
することができる。

【００３３】また、異なる成分の添加が、光散乱による
隔壁面の反射を向上し、プラズマディスプレイパネルの
輝度を高めることができる。

【００３４】荷重熱軟化温度６００℃以上のガラスとし
ては、ＳｉＯ₂ を３０重量％以上含有するガラスやＡｌ
₂ Ｏ₃ を２０重量％以上含有するガラス、もしくは、ア
ルミナやジルコニアやコーディエライトのようなセラミ
ックス粉末を用いることができる。

【００３５】本発明のプラズマディスプレイパネルは、
上述の低比重のガラス粉末を含むペーストを用いて、ス
クリーン印刷法やサンドブラスト法により製造すること
ができるが、感光性ペースト法によって、より簡便に製
造することができる。

【００３６】以下に、その製造方法を示す。前述の無機
微粒子と各種の有機成分を所定の組成となるように調合
した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製す
る。

【００３７】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２００〜１０万ｃｐｓ
（センチ・ポイズ）である。

【００３８】有機成分には、感光性モノマー、感光性オ
リゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から
選ばれる光反応性成分を含む。

【００３９】また、バインダー、光重合開始剤、紫外線
吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘
剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機
の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることも行われ
る。

【００４０】本発明に用いる感光性ペーストに関して
は、光反応性成分の含有率が有機成分中の１０重量％以
上であることが光に対する感度の点で好ましい。さらに
は、３０重量％以上であることが好ましい。

【００４１】光反応性成分としては、光不溶化型のもの
と光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 （１）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの （２）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの （３）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。また、
光可溶型のものとしては、 （４）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの （５）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等
がある。

【００４２】本発明において用いる光反応性成分は、上
記のすべてのものを用いることができるものの、（１）
が最も簡便にペーストを作製できる。

【００４３】例えば、ペースト中には、感光性モノマ
ー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーや、現像性向上
のためのカルボキシル基を含有するポリマーを添加する
ことができる。

【００４４】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレートおよび上記化合物の分
子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレ
ートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン、フェニル
（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アク
リレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチ
ル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリ
レート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジ（メ
タ）アクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキ
サイド付加物のジ（メタ）アクリレート、１−ナフチル
（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレ
ート、チオフェノール（メタ）アクリレート、ベンジル
メルカプタン（メタ）アクリレートまたこれらの芳香環
中の１〜５個の水素原子を塩素または臭素原子に置換し
た化合物を用いることができる。

【００４５】本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。これら以外に、不飽和カルボン酸
を加えることによって、感光後の現像性を向上すること
ができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、ア
クリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、
マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸
無水物などがあげられる。

【００４６】一方、感光性オリゴマーや感光性ポリマー
としては、前述の炭素−炭素不飽和結合を含有する化合
物やスチレンやビニルナフタレン、α−メチルナフタレ
ン等を重合して用いることができる。

【００４７】重合する際に、これらのモノマーの含有率
が３０重量％以上になるように、他の反応性のモノマー
を共重合することができる。

【００４８】また、不飽和カルボン酸を共重合すること
によって、感光後の現像性を向上することができる。不
飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メ
タアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、
フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などが
あげられる。

【００４９】こうして得られた側鎖にカルボキシル基を
有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価（ＡＶ）は５
０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲が好ましい。

【００５０】酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００５１】以上示したポリマーもしくはオリゴマーに
対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させる
ことによって、感光性を付与することができる。好まし
い光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものであ
る。

【００５２】エチレン性不飽和基としては、ビニル基、
アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられ
る。

【００５３】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００５４】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００５５】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエ
チレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー
中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基
に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好まし
い。

【００５６】また、以上示したポリマーもしくはオリゴ
マーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加
させないものを用いてもかまわない。光に対する感度は
低下するものの、現像性は向上する。

【００５７】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。こ
のバインダー成分の高屈折率化を行うことも、感光性有
機成分の高屈折率化には効果的である。バインダー成分
の高屈折率化方法は、前述の感光性ポリマーや感光性オ
リゴマーにおいて、光反応性基であるエチレン性不飽和
基を側鎖または分子末端に付加していないものを用いる
ことができる。つまり、感光性ポリマーや感光性オリゴ
マーの反応性基を付与する工程を省略したものをバイン
ダーとして用いることができる。

【００５８】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジル−メト
キシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノ
ン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアント
ラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベ
ンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロ
ン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−
（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキ
シム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−
（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイ
ル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリン
スルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、
４、４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジス
ルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニ
ルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリ
ブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオ
シン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコル
ビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せな
どがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以
上使用することができる。光重合開始剤は、反応性成分
にに対し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、よ
り好ましくは、０．１〜５重量％である。重合開始剤の
量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤
の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００５９】有機染料からなる紫外線吸光剤を添加する
ことも有効である。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加
することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が
得られる。紫外線吸光剤としては有機系染料からなるも
のが用いられ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で
高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられ
る。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キ
サンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染
料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニル
シアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息
香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤とし
て添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで
吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ま
しい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染
料が好ましい。有機染料の添加量は０．０５〜５重量部
が好ましい。０．０５重量％以下では紫外線吸光剤の添
加効果が減少し、５重量％を越えると焼成後の絶縁膜特
性が低下するので好ましくない。より好ましくは０．１
５〜１重量％である。有機顔料からなる紫外線吸光剤の
添加方法の一例を上げると、有機顔料を予め有機溶媒に
溶解した溶液を作製し、次に該有機溶媒中にガラス粉末
を混合後、乾燥することによってできる。この方法によ
ってガラス粉末の個々の粉末表面に有機の膜をコートし
たいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。

【００６０】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属およびそ
の酸化物がペースト中に含有する反応性成分と反応して
ペーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合が
ある。このような反応を防止するために安定化剤を添加
してゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤
としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。
トリアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが
有効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリ
アゾールによるガラス粉末の表面処理の一例を上げる
と、無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾール
を酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチル
アルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子
が十分に浸す事ができるように溶液中に１〜２４時間浸
積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥
して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を
作製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機
微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。

【００６１】増感剤は、高感度を向上させるために添加
される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチ
オキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−
ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノ
ン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベン
ザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケト
ン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４
−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミ
ノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベン
ジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス
（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カ
ルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセト
ン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノク
マリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミ
ン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタ
ノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸
イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオ−テト
ラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオ
−テトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを
１種または２種以上使用することができる。なお、増感
剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがあ
る。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、
その添加量は有機物量に対して通常０．０５〜４０重量
％、より好ましくは３〜１０重量％である。

【００６２】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００６３】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００６４】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコ−ルエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する
場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通
常、０．００１〜１重量％である。

【００６５】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセルソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００６６】次に、感光性ペーストを用いてパターン加
工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定
されない。

【００６７】電極層を形成したガラス基板上に、感光性
ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布
方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロール
コーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、
塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度等を
選ぶことによって調整できる。

【００６８】ここでペーストをガラス基板上に塗布する
場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表
面処理を行うことができる。表面処理液としてはシラン
カップリング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ト
リス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタク
リロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（２−ア
ミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシランなど、あるいは有機金属、例えば有機チタ
ン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。
シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒例え
ばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール
などで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次
にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布
した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥する事に
よって表面処理ができる 塗布した上から、フォトマスクを用いて、マスク露光す
る。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、
ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。この際使
用される活性光源は、たとえば、近紫外線、紫外線、電
子線、Ｘ線などが挙げられるが、これらの中で紫外線が
好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが
使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適であ
る。露光条件は塗布厚みによって異なるが、５〜１００
ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜３
０分間露光を行なう。

【００６９】感光性ペーストを塗布した後に、その表面
に酸素遮蔽膜を設けることによって、パターン形状を向
上することができる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶ
Ａの膜が挙げられる。ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．
５〜５重量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に
均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間好ま
しいＰＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範
囲にあると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感
度が向上するのは次の理由が推定される。すなわち反応
性成分が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化
の感度を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると
余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が向上するの
で好ましい。ＰＶＡ以外に水溶性で、透明なポリマー例
えばセルロース系のメチルセルロースなども使用でき
る。

【００７０】露光後、現像液を使用して現像を行なう
が、この場合、浸漬法やスプレー法で行なう。現像液
は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機
溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失わ
れない範囲で水を添加してもよい。 感光性ペースト中
にカルボキシル基を持つ化合物が存在する場合、アルカ
リ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナ
トリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような金属ア
ルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用
いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ま
しい。有機アルカリとしては、公知のアミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が除去さ
れずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部を剥離
させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良くない。

【００７１】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や
温度はペーストや基板の種類によって異なるが、通常は
空気中もしくは窒素雰囲気中で焼成する。焼成温度は４
００〜１０００℃で行う。ガラス基板上にパターン加工
する場合や無機微粒子として銀を用いた場合は、５００
〜６１０℃の温度で５〜６０分間保持して焼成を行う。

【００７２】また、以上の工程中に、乾燥、予備反応の
目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。

【００７３】以上の工程によって得られた隔壁層を有す
るガラス基板はプラズマディスプレイの前面側もしくは
背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス
液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基
板として用いることができる。

【００７４】形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後
に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、
ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、
プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さら
に、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、
プラズマディスプレイを製造することができる。

【００７５】本発明のガラス微粒子を用いた感光性ペー
ストによって、プラズマディスプレイパネルを作製した
場合、高精細、高アスペクト比かつ、軽量なパネルが形
成できることを見出した。

【００７６】また、プラズマディスプレイを高精細化す
るため、つまり、一定の画面サイズで画素の数を増やす
ためには、１画素の大きさを小さくする必要がある。こ
の場合、隔壁間のピッチを小さくする必要があるが、ピ
ッチを小さくすると、放電空間が小さくなり、また、蛍
光体の塗布面積が小さくなることから、輝度が低下す
る。具体的には、４２インチのハイビジョンテレビ（１
９２０×１０３５画素）や２３インチのＯＡモニター
（ＸＧＡ：１０２４×７６８画素）を実現しようとする
と、画素のサイズを４５０μｍ角の大きさにする必要が
あり、各色を仕切る隔壁は１５０μｍピッチで形成する
必要がある。この場合、隔壁の線幅が大きいと放電のた
めの空間が確保できないことや蛍光体の塗布面積が小さ
くなることによって、輝度を向上することが困難にな
る。

【００７７】発明者らは、本発明の技術を用いることに
よって、隔壁の幅を小さくすることができることを見い
だした。特に、隔壁幅２０〜４０μｍ、好ましくは隔壁
幅２０〜３５μｍのストライプ状隔壁を形成するプラズ
マディスプレイを得ることができ、高精細化時の輝度向
上に有効である。隔壁ピッチ１５０μｍのプラズマディ
スプレイにおいて、隔壁幅を６０μｍにすると開口率が
６０％程度になるのに対して、隔壁幅を３０μｍにする
ことによって、開口率を８０％に向上できる。また、隔
壁幅を小さくすることによって、隔壁部分の体積低減に
より、さらに軽量化が達成できる。

【００７８】また、高さが１００〜１７０μｍ、ピッチ
が１００〜１６０μｍの高精細隔壁を形成することによ
って、ハイビジョンテレビやコンピューターモニターに
用いることができる高精細プラズマディスプレイを提供
できる。

【００７９】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。

【００８０】比重の異なる材料を用いて、隔壁を形成し
た場合のプラズマディスプレイパネルの背面板重量を測
定を行った。

【００８１】実施例１ まず、下記の組成からなる有機成分２５０ｇを８０℃に
加熱しながら溶解し、その後、下記のガラス微粒子７５
０ｇを添加し、混練機で混練することによって、感光性
ペーストを作成した。

【００８２】 上記の略称に関して、次に示す。

【００８３】（ポリマー構造中の数字は、それぞれのモ
ノマーの構成モル比を示す） ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート ポリマー１：

【化１】 ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルホリノプロパノン−１ ＥＰＡ：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル スダン：アゾ系染料、Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄ Ｏ ＤＥＴ：２，４−ジエチルチオキサントン γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン ガラス微粒子 ＳｉＯ₂ ４７％ Ｂ₂ Ｏ₃ ２１％ ＢａＯ ５％ Ｌｉ₂ Ｏ １３％ ＺｎＯ ６％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ８％ ガラス微粒子は、予めアトライターにて微粉末にした
後、プラズマ気流中で球状化処理して作製した粉末で、
平均粒子径；５μｍ、比表面積；４．１ｍ² ／ｇ、球形
率９５個数％、ガラス転移温度４６０℃、荷重熱軟化温
度５０６℃の粉末を用いた。球形率の測定は、粉末を光
学顕微鏡で３００倍の倍率で撮影し、このうち計測可能
な粒子を計数し、球形のものの比率を表す。

【００８４】次に、この感光性ペーストを厚み１．１ｍ
ｍ、３０ｃｍ角のソーダガラス基板上に、スクリーン印
刷法で複数回塗布によって、１８０μｍの塗布厚みにな
るように塗布を行った後、８０℃で３０分乾燥し、マス
クを用いて露光を行った。

【００８５】マスクは、ピッチ２２０μｍ、線幅６０μ
ｍ、プラズマディスプレイにおけるストライプ状の隔壁
パターン形成が可能になるように設計したクロムマスク
である。露光は、５０ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀
灯で紫外線露光を行った。

【００８６】その後、モノエタノールアミンの１％水溶
液に浸漬して、現像を行った。さらに、得られたガラス
基板を１２０℃で１時間乾燥した後、５６０℃で３０分
焼成を行った。焼成により約２０％程度の収縮が生じ
る。

【００８７】パターン特性の評価は、パターン形状（線
幅５０μｍ、高さ８０μｍもしくは１２０μｍ、ピッチ
２２０μｍがターゲット）を電子顕微鏡観察によって観
察した。高さ８０μｍ、１２０μｍ共に良好な形状が得
られている場合は○、８０μｍのみ良好な形状が得られ
ている場合を△、８０μｍ、１２０μｍの両方とも欠落
などにより良好な形状が得られていない場合を×として
評価を行った。結果を表１に記す。

【００８８】実施例２ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００８９】 ＳｉＯ₂ ３５％ Ｂ₂ Ｏ₃ ２５％ Ｂｉ₂ Ｏ₃ ２５％ Ｌｉ₂ Ｏ ８％ ＺｎＯ ４％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ３％ （ガラス転移温度４７０℃、荷重熱軟化温度５１６℃、
平均粒径５μｍ） 実施例３ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９０】 ＳｉＯ₂ ２０％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ２４％ Ｂ₂ Ｏ₃ ３１％ Ｌｉ₂ Ｏ ９％ ＢａＯ ４％ ＺｎＯ ２％ ＭｇＯ ６％ ＣａＯ ４％ （ガラス転移温度４８５℃、荷重熱軟化温度５１８℃、
平均粒径４．１μｍ） 実施例４ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９１】 ＳｉＯ₂ ４７％ Ｂ₂ Ｏ₃ ２１％ ＢａＯ ５％ Ｋ₂ Ｏ １１％ Ｌｉ₂ Ｏ ２％ ＺｎＯ ６％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ８％ （ガラス転移温度４５７℃、荷重熱軟化温度５０３℃、
平均粒径５μｍ） 実施例５ ピッチ１５０μｍ、線幅３０μｍのフォトマスクを用い
た以外は実施例２と同様にして感光性ペーストを作製
し、パターン作成を行った。結果を表１に記す。

【００９２】さらに、３６０×５００ｍｍのサイズのソ
ーダガラス基板（厚み２．８ｍｍ）上に、感光性銀ペー
ストを用いて、線幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍ、厚み
１０μｍのストライプ状の銀配線を形成した後、上記ペ
ーストを用いて、全面に２００μｍ厚みで塗布を行い、
ピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍのフォトマスクを用い
て、露光後、現像、焼成を行って隔壁層を形成した。そ
の後、蛍光体ペーストをスクリーン印刷によって塗布し
た後、４８０℃２０分の焼成を行って、２３インチ用プ
ラズマディスプレイの背面板を作製した。この背面板を
前面板と張り合わせ、ガスを封入することによって、２
３インチＸＧＡ（１０２４×７６８画素）モニターを作
製することができた。

【００９３】実施例６ ガラス粉末の平均粒径を４．１μｍとし、ピッチ２２０
μｍ、線幅３０μｍのフォトマスクを用いた以外は実施
例２と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９４】比較例１ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９５】 ＳｉＯ₂ ２７％ Ｂ₂ Ｏ₃ １２％ Ｂｉ₂ Ｏ₃ ４４％ Ｎａ₂ Ｏ ６％ ＺｎＯ ５％ ＺｒＯ₂ ３％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ３％ （ガラス転移温度４８８℃、荷重熱軟化温度５２８℃） 比較例２ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９６】 ＳｉＯ₂ １０％ Ｂ₂ Ｏ₃ ２０％ Ｂｉ₂ Ｏ₃ ３５％ ＺｎＯ ３０％ ＣａＯ １５％ （ガラス転移温度４７０℃、荷重熱軟化温度５１０℃） 比較例３ ガラス微粒子を下に示す組成のものに変えた以外は実施
例１と同様にして感光性ペーストを作製し、パターン作
成を行った。結果を表１に記す。

【００９７】 ＳｉＯ₂ １６％ Ｂ₂ Ｏ₃ ２６％ ＰｂＯ ５５％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ３％ （ガラス転移温度４６５℃、荷重熱軟化温度４９８℃）

【表１】

【００９８】

【発明の効果】本発明によって、プラズマディスプレイ
パネルの隔壁を高精細かつ軽量にすることができ、ディ
スプレイの軽量化が可能になる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 17/16 C03C 3/064 C03C 3/089 C03F 7/004 501 H01J 11/02

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化ビス
   マスを５〜３０重量％含むガラスを７０重量％以上含
   み、該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６００℃のガ
   ラスを５０重量％以上有するものである比重２〜３．３
   の材料を用いることを特徴するプラズマディスプレイパ
   ネル。
2. 【請求項２】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化ビス
   マスを５〜３０重量％、酸化リチウム、酸化ナトリウ
   ム、酸化カリウムのうち少なくとも１種を３〜２０重量
   ％含み、かつ、酸化ビスマス、酸化リチウム、酸化ナト
   リウム、酸化カリウムの合計が５〜４０重量％であるガ
   ラスを７０重量％以上含み、該ガラスは荷重熱軟化温度
   が４００〜６００℃のガラスを５０重量％以上有するも
   のである比重２〜３．３の材料を用いることを特徴とす
   るプラズマディスプレイパネル。
3. 【請求項３】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化物換
   算表記で、 ＳｉＯ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ₂ Ｏ₃ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを７０重量％以上含み、
   該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６００℃のガラス
   を５０重量％以上有するものである比重２〜３．３の材
   料を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
   ル。
4. 【請求項４】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化物換
   算表記で、 ＳｉＯ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ １０〜４０重量部 Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １〜１０重量部 の成分を必須成分とするガラスを７０重量％以上含み、
   該ガラスは荷重熱軟化温 度が４００〜６００℃のガラス
   を５０重量％以上有するものである比重２〜３．３の材
   料を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
   ル。
5. 【請求項５】各放電セルを仕切る隔壁として、酸化物換
   算表記で、 ＳｉＯ₂ ２０〜５０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ １０〜４０重量部 Ｂｉ₂ Ｏ₃ ５〜３０重量部 Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ ５〜３０重量部 ＢａＯ １〜２５重量部 ＺｎＯ １〜２０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １〜１０重量部 （Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、 Ｌｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏの計が５〜
   ４０重量部）の成分を必須成分とするガラスを７０重量
   ％以上含み、該ガラスは荷重熱軟化温度が４００〜６０
   ０℃のガラスを５０重量％以上有するものである比重２
   〜３．３の材料を用いることを特徴とするプラズマディ
   スプレイパネル。