JPH10283941A

JPH10283941A - プラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JPH10283941A
Application number: JP9090711A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Moriya; 豪守屋; Yuichiro Iguchi; 雄一朗井口; Yoshiki Masaki; 孝樹正木
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-04-09
Filing date: 1997-04-09
Publication date: 1998-10-23

Abstract

(57)【要約】【課題】製造時の歩留まりの高いプラズマディスプレイ
パネルを提供する。【解決手段】ガラス基板上に誘電体層を設けたプラズマ
ディスプレイパネルであって、該ガラス基板の反り量１
／Ｒが次式を満たすことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。 −１×１０^-ｍ^-2≦１／Ｒ≦１×１０^-2ｍ^-1 ここでＲはガラス基板の曲率半径を表す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下ＰＤＰと略す）に関する。ＰＤＰは大
型化と薄型化が可能であり、家庭用テレビ、コンピュー
ターモニター等に適したディスプレイである。より詳細
には、ＰＤＰの構成要素である、誘電体層を形成したガ
ラス基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、且つ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また高品位テレビジョン
の分野などでの進展が非常に期待されている。

【０００３】このような用途の拡大にともなって、微細
で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されてい
る。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間
に備えられた放電空間内で対抗するアノードおよびカソ
ード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内
に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間
内に設けた蛍光体にあてることにより表示を行うもので
ある。

【０００４】ＰＤＰの構造例を図１に示す。ＰＤＰは前
面板と背面板をはり合わせて構成されている。前面板
は、ガラス基板Ａ上に透明電極Ｂが形成されている。透
明電極はＩＴＯや酸化錫からなり、ストライプ状に複数
本形成されている。この隣り合う透明電極間に通常１０
ｋＨｚ〜数１０ｋＨｚのパルス状ＡＣ電圧を印加し、表
示用の放電を得るが、透明電極のシート抵抗は数１０Ω
／ｃｍ２と高いために、電極抵抗が数１０ｋΩ程度にな
り、印加電圧パルスが十分に立ち上がらず駆動が困難に
なる。そこで、透明電極上に通常金属製のバス電極Ｃを
形成して抵抗値を下げる。

【０００５】次に、これら電極を透明誘電体層Ｄによっ
て被覆する。この透明誘電体層には低融点ガラスを用い
る。その後、保護層Ｅとして、ＭｇＯを電子ビーム蒸着
法によって形成する。前面板に形成される透明誘電体
は、放電のための電荷を蓄積するコンデンサーとしての
役割をする。

【０００６】背面板は、ガラス基板上Ｆに、表示データ
を書き込む書き込み電極Ｇを感光性銀ペーストを用いて
作製し、この電極を白色誘電体層Ｈで被覆する。その上
に放電空間の確保と電極間距離の規定および誤放電防止
の役割を果たす白色もしくは黒色の隔壁Ｉを形成する。
次に、隔壁側面と底部にスクリーン印刷法により、赤、
緑、青の各色に発光する蛍光体Ｊを塗布後、乾燥、焼成
を行って蛍光体層を形成する。

【０００７】上記の背面板と前面板をシールガラスで封
着した後、排気し、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の不活性気体の
混合ガスを充填し、駆動回路を実装してＰＤＰは製造さ
れる。

【０００８】隣り合う透明電極の間にパルス状の交流電
圧を印加するとガス放電が生じプラズマが形成される。
ここで生じた紫外線が蛍光体を励起して可視光を発光し
前面板を通して表示発光を得る。放電を生じる透明電極
は走査電極と維持電極からなっている。実際のパネル駆
動において、放電電極である透明電極には維持放電パル
スが印加されており、放電を生じさせるときには、背面
板上の書き込み電極との間に電圧を印加して対向放電を
生じさせ、この放電が維持パルスによって放電電極間で
維持される。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のＰＤＰを作製す
る場合に、ガラス基板が加工時に割れが起こり、歩留ま
りが低下する問題があった。本発明は、製造時の歩留ま
りのよいプラズマディスプレイを提供することを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明のＰＤＰは以下の構成からなり、すなわち本
発明は、ガラス基板上に誘電体層を設けたプラズマディ
スプレイパネルであって、ガラス基板の反り量１／Ｒが
次式を満たすことを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル。

【００１１】 −１×１０^-2ｍ^-1≦１／Ｒ≦１×１０^-2ｍ^-1 ここで、Ｒは基板の曲率半径を表す。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳しく説明
する。本発明のＰＤＰに用いるガラス基板としては、ソ
ーダライムガラス基板や、旭硝子社製の”ＰＤ−２０
０”などのＰＤＰ用耐熱ガラス基板を用いることができ
る。このガラス基板上に電極を形成する場合、電極材質
としては、銀を５０重量％以上、さらには９０〜９９重
量％含む電極を用いることが抵抗値・ガラス基板との密
着性の点から好ましい。電極中に１〜１０重量％のガラ
ス成分を含有することにより、基板ガラスとの接着性に
優れた電極層を得ることができる。この電極を形成する
方法としては、スクリーン印刷法や感光性ペースト法が
用いられる。感光性ペースト法では平均粒子径１〜４μ
ｍの銀粉末と平均粒子径０．１〜２μｍのガラスフリッ
トを感光性有機成分と混練して得られる感光性ペースト
をガラス基板上に塗布、露光、現像、焼成の工程を経て
形成することができる。

【００１３】電極を形成したガラス基板上に、絶縁体か
らなる誘電体層を形成する。この誘電体層は発光輝度を
向上させる以外に、隔壁の剥がれや倒れを防止する役割
がある。特に、隔壁の形成方法として、感光性ペースト
の印刷、マスク露光、現像、焼成の工程からなる感光性
ペースト法を用いた場合、隔壁上部と下部の重合硬化の
差に起因する剥がれが生じやすく、隔壁層のアンダーガ
ラス層として誘電体層を形成することは、歩留まり向上
のために有効である。

【００１４】しかしながら、この場合、誘電体層と基板
の熱膨張係数の違い等により、基板の加熱、冷却の際に
応力がかかり、基板が反ってしまうという問題がある。
基板に反りが生じると、前面基板との封着の際、両基板
が平行にならないために封着できなかったり、基板が割
れたりする問題が生じ、逆に歩留まりが低下していた。

【００１５】本発明においては、基板上に誘電体層を形
成して反りを生じても、反りの量を以下の範囲に規定し
た基板を用いれば、封着の際の基板の破損を抑制するこ
とができ、歩留まりが向上することを見いだした。ただ
し、Ｒは基板の曲率半径を表す。

【００１６】 −１×１０^-2ｍ^-1≦１／Ｒ≦１×１０^-2ｍ^-1 基板の反りの量は以下の範囲であることがより好まし
い。 −５×１０^-3ｍ^-1≦１／Ｒ≦５×１０^-3ｍ^-1 反り量はガラス基板の曲率半径の逆数によって規定する
ことができ、すなわち、反り量は曲率半径に反比例す
る。反り量の正負の値は基板の反る方向を表す。反り量
の絶対値が１×１０^-2ｍ^-1を越えた背面板を用いると、
前面板との封着の際、隔壁頭部と前面板表面との間に隙
間が生じることで、各セル間で誤放電が生じたり、封着
時に基板が破損したりする。

【００１７】ガラス基板の曲率半径は、種々の方法で測
定できるが、表面粗さ計を用い、ガラス基板面のうねり
を測定する方法がもっとも簡便である。図２に表面粗さ
計を用いて得たガラス基板表面のうねり曲線の１例を示
す。測定長さ（Ｌ）、曲線の最大偏差（Ｈ）の間にはＬ
がＨに対して十分大きい値の時、ほぼ以下の関係が成り
立つ。

【００１８】Ｒ＝Ｌ²／８Ｈまた、本発明において、基板の反りが誘電体材料の特性
や厚みに大きく依存することを見いだした。

【００１９】誘電体層に用いる絶縁体として、酸化ビス
マス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少なくとも１種類をガラ
ス中に１０〜８０重量％含むガラスを用いることによっ
て熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールが容易にな
る。特に、酸化ビスマスを１０〜８０重量％含有するガ
ラスを用いることは、ペーストのポットライフが長いこ
となどの利点がある。酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛
の添加量は８０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低
くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。
具体的なガラス組成の例としては酸化物換算表記で以下
のものがあげられるが、本発明は、このガラス組成に限
定されるものではない。

【００２０】酸化ビスマス１５〜８０重量部酸化珪素８〜３０重量部酸化ホウ素１０〜４０重量部酸化バリウム８〜２０重量部酸化亜鉛１０〜３０重量部また、誘電体層には、酸化リチウム、酸化ナトリウム、
酸化カリウムの含有率が１０重量％以下、より好ましく
は５重量％以下のガラスを用いることによって、焼成時
の基板の反りや割れを抑制することができる。誘電体層
の熱膨張係数が基板ガラスと整合していても、酸化リチ
ウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムを１０重量％以上
含有すると、基板ガラスや電極中のガラス成分とのイオ
ン交換などの化学反応が起こるため、基板ガラスの表面
部分や誘電体ガラスの特性が変化し、基板ガラスが変形
する。特に、酸化リチウムを含有する場合に生じやすい
ため、酸化リチウムを含まないガラスを用いることが好
ましい。

【００２１】ガラス基板と誘電体層の５０〜４００℃の
熱膨張係数（α）₅₀〜₄₀₀の差が次式を満たすことが好
ましい。 −３×１０^-7≦（α）_g−（α）_d≦１５×１０^-7／°Ｋここで、（α）_g、（α）_dはそれぞれガラス基板、誘電
体層の熱膨張係数を表す。

【００２２】熱膨張係数（α）₅₀〜₄₀₀の差がこの範囲
にあると、焼成の際にガラス基板にかかる応力を減らす
ので好ましい。

【００２３】そのためには、誘電体層は、５０〜４００
℃の範囲の熱膨張係数（α）₅₀〜₄₀ ₀が７０〜８５×１
０^-7／°Ｋ、より好ましくは７２〜８０×１０^-7／°Ｋ
であるガラスからなることが好ましい。８５×１０^-7／
°Ｋを越えると、誘電体層の形成面側に基板が反るよう
な応力がかかり、７０×１０^-7／°Ｋ未満では誘電体層
のない面側に基板が反るような応力がかかる。このた
め、基板の加熱、冷却を繰り返すと基板が割れる場合が
ある。また、前面基板との封着の際、基板のそりのため
に両基板が平行にならず封着できない場合もある。

【００２４】誘電体層の厚みは、３〜２０μｍ、より好
ましくは６〜１５μｍであることが均一な誘電体層の形
成のために好ましい。厚みが２０μｍを越えると、焼成
の際、脱媒が困難でありクラックが生じやすく、またガ
ラス基板へかかる応力が大きいために基板が反る問題が
生じる。また、３μｍ未満では厚みの均一性を保持する
のが困難である。

【００２５】誘電体材料の誘電率は７〜１３のものを用
いることができるが、７〜１０が好ましい。誘電率７以
下の材料はガラス基板上への焼き付けが難しく、１３以
上の材料はＰＤＰの駆動の際に放電電圧が高くなるため
好ましくない。

【００２６】誘電体層は通常、電極形成したガラス基板
に、ガラス粉末および有機成分からなる絶縁ペーストを
スクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・乾燥工程
を１〜２回繰り返して所定の厚みにした後、焼成してガ
ラスを溶融することで形成している。

【００２７】誘電体層用ペーストに用いるガラス粉末の
量は、ガラス粉末と有機成分の和に対して５０〜９０重
量％であるのが好ましい。５０重量％未満では、誘電体
層の緻密性、表面の平坦性が欠如し、９０重量％を越え
るとペースト粘度が上昇し、塗布時のムラが生じやすく
なる。

【００２８】誘電体の焼成は、ガラス基板の変形を防ぐ
ため５００〜６００℃で行う必要がある。このため誘電
体用ペーストに用いるガラス粉末には、ガラス転移温度
（Ｔｇ）が４３０〜５００℃、荷重熱軟化温度（Ｔｓ）
が４７０〜５８０℃のものを６０重量％以上含有するこ
とが好ましい。誘電体層を形成する際、Ｔｇが５００℃
より高かったり、Ｔｓが５８０℃より高い場合、５００
〜６００℃の焼成では不十分になり、誘電体層の剥離や
欠落が生じやすくなる。またＴｇが４３０℃より低かっ
たり、Ｔｓが４７０℃より低い材料は、その後の工程中
に、誘電体層のガラスが溶融して、厚みの均一性や特性
が保たれないので好ましくない。

【００２９】誘電体ペーストの塗布後、乾燥した塗布面
に隔壁パターンを形成した後、隔壁パターンと誘電体層
を同時に焼成すると、隔壁の剥がれや断線を防止でき
る。隔壁を無機粉末と感光性有機成分からなる感光性ペ
ーストを用いて形成する場合、この方法が特に有用であ
る。

【００３０】感光性ペースト法は、主としてガラス粉末
からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光
性ペーストを用いて、露光によりフォトマスクのパター
ンを焼き付け、現像により、隔壁パターンを形成し、そ
の後焼成して隔壁を得る方法である。塗布する方法とし
て、感光性ペーストをフィルム上に塗布した感光性シー
ト（グリーンテープ）を誘電体層上に転写する方法もあ
る。感光性ペースト法によって得た隔壁パターンは、厚
み方向に光硬化の不均一による歪み応力が生じやすいた
め、焼成の際に剥がれが生じやすい。隔壁の剥がれが生
じると剥がれた箇所で色の混色が起こり、また剥がれた
隔壁が画素をつぶしてしまい歩留まりが低下する。これ
を抑制するために、隔壁パターンを未焼成の誘電体層上
で形成し、この隔壁パターンと誘電体層を同時に焼成す
ることにより、剥がれが抑制され、歩留まりが向上す
る。

【００３１】隔壁用感光性ペーストに用いるガラス材料
としては、ガラス転移点、熱軟化点の低いガラス基板上
にパターン形成するため、ガラス転移温度が４３０〜５
００℃、荷重熱軟化温度が４７０〜５８０℃のガラス材
料を用いることが好ましい。また、平均屈折率１．５〜
１．６５のガラスを用いることにより、ペースト中のガ
ラス粉末の屈折率を有機成分の屈折率と近づけ、ペース
ト中の光散乱を抑制し、塗布・露光の回数を減らして高
精細の隔壁パターン形成することが可能となる。ガラス
基板上に焼き付けが可能で、平均屈折率が１．５〜１．
６５のガラスを得るためには、酸化ナトリウム、酸化リ
チウム、酸化カリウム等のアルカリ金属の酸化物のうち
少なくとも１種を２〜１０重量％含有するガラスを用い
るのが好ましい。これにより、熱軟化温度、熱膨張係数
のコントロールが容易になるだけでなく、ガラスの平均
屈折率を低くすることができるため、有機物との屈折率
差を小さくすることが容易になる。２％より小さい時
は、熱軟化温度の制御が難しくなる。１０％より大きい
時は、放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によって輝度
低下をもたらす。さらにアルカリ金属の酸化物の添加量
はペーストの安定性を向上させるためにも、１０重量％
より小さいことが好ましく、より好ましくは８重量％以
下である。しかし、隔壁材料に酸化ナトリウム、酸化リ
チウム、酸化カリウム等のアルカリ金属の酸化物を含有
する場合、ガラス基板、誘電体層、隔壁の３層間でイオ
ン交換反応が生じ、ガラス基板の反りや割れが起こる場
合があるが、誘電体層を酸化リチウム、酸化ナトリウ
ム、酸化カリウムの含有率が１０重量％以下、より好ま
しくは５重量％以下のガラスによって形成することによ
って、焼成時の基板の反りや割れを抑制することができ
る。

【００３２】隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラ
ス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
く、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安
定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガ
ラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量
％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラ
ス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。酸
化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％の範囲で配合す
ることによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁
層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上する
ことができる。５０重量％を越えるとガラスの安定性が
低下する。

【００３３】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することによ
り、硬度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量
は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量
％以下である。

【００３４】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化リチウム２〜１５重量部酸化珪素１５〜５０重量部酸化ホウ素１５〜４０重量部酸化バリウム２〜１５重量部酸化アルミニウム６〜２５重量部の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００３５】また、上記組成で、酸化リチウムの代わり
に、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、
ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。

【００３６】感光性ペースト法に用いるガラス粉末の量
は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８５重量
％であるのが好ましい。６５重量％より小さいと、焼成
時の収縮率が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因と
なるため、好ましくない。またパターン太り、現像時の
残膜の発生が起こりやすい。８５重量％より大きいと、
感光性成分が少ないことにより、パターンの形成性が悪
くなる。

【００３７】隔壁材料にガラス軟化点が６５０〜８５０
℃であるフィラーを１０〜５０重量％含ませてもよい。
これにより、感光性ペースト法において、パターン形成
後の焼成時の収縮率が小さくなり、パターン形成が容易
になる。フィラーとしては、熱軟化温度が６００℃以上
の高融点ガラスやセラミックスなどを用いることができ
る。

【００３８】高融点ガラス粉末としては、酸化珪素、酸
化アルミニウムを１５重量％以上含有するガラス粉末が
好ましく、これらの含有量合計がガラス粉末中５０重量
％以上であることが、必要な熱特性を持たせるためには
有効である。一例としては、以下の組成を含有するガラ
ス粉末を用いることが好ましい。

【００３９】酸化珪素：１５〜５０重量部酸化ホウ素：５〜２０重量部酸化アルミニウム：１５〜５０重量部酸化バリウム：２〜１０重量部誘電体層用ペーストおよび隔壁用ペーストに用いる有機
成分には、公知の有機バインダー、可塑剤、溶媒および
必要に応じ分散剤やレベリング剤などを添加できる。有
機バインダーの具体的な例としては、ポリビニルアルコ
ール、セルロース系ポリマー、シリコンポリマー、ポリ
エチレン、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン、ポリ
アミド、高分子量ポリエーテル、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル
重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共
重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレ
ート樹脂などがあげられる。バインダーは隔壁の現像液
に溶解しないものを選択する必要がある。また、ペース
トの粘度を調整する際は、バインダー成分の溶媒を用い
るのが好ましい。溶媒としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。また、ペース
ト中に可塑剤を含むこともできる。可塑剤の具体的な例
としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげら
れる。

【００４０】誘電体層用ペーストおよび隔壁用ペースト
に感光性を付与することにより、パターン加工が容易に
なることや現像液に対する溶解度を制御できる利点があ
る。ペースト中に、感光性モノマー、感光性オリゴマ
ー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれ
る感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、光重合開
始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤な
どの添加剤成分を加えることで感光性が付与される。
この場合、ペーストをガラス基板上に塗布し、乾燥を行
った後、露光することで光硬化できる。また、パターン
露光の後、する方法不要な部分を現像して除去しパター
ン形成することができる。

【００４１】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００４２】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル
等がある。

【００４３】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００４４】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチ
ルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−
ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジル
アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシ
トリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシ
クロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアク
リレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアク
リレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシ
ルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリル
アクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メト
キシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチ
レングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリ
ルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリ
ル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジ
オールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘ
キシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、
フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレー
ト、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジア
クリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付
加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレン
オキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールア
クリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート等のア
クリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、
１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマー、も
しくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルス
チレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化
スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチ
レン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレ
ン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチ
レン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニル
カルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレ
ートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたも
の、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明
ではこれらを１種または２種以上使用することができ
る。

【００４５】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００４６】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。

【００４７】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。

【００４８】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００４９】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００５０】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応
性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチ
レン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリ
ル基、メタクリル基などがあげられる。

【００５１】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００５２】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００５３】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００５４】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００５５】感光性ペースト中の感光性ポリマー、感光
性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の
量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優
れていることから、ガラス粉末と感光性成分の和に対し
て、５〜３０重量％であることが好ましい。この範囲外
では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの太り
がでるため好ましくない。

【００５６】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルア
セタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブ
チルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−
クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロ
ン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジ
ドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジド
ベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−
アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、
２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキ
シカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオ
ン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３
−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−
プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、
ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタ
レンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロラ
イド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビス
イソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズ
チアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カ
ンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルス
ルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブ
ルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタ
ノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられる。
本発明ではこれらを１種または２種以上使用することが
できる。

【００５７】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜２０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜１５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎ
ると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎ
れば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。

【００５８】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。

【００５９】有機染料の添加量はガラス粉末に対して
０．０５〜１重量部が好ましい。０．０５重量％以下で
は紫外線吸光剤の添加効果が減少し、１重量％を越える
と焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。よ
り好ましくは０．１〜０．１８重量％である。

【００６０】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以
外に、該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥する
方法があげられる。この方法によってガラス微粒子の個
々の粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の微粒子が作製できる。増感剤は、感度を向上させる
ために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−
ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサント
ン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シク
ロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベン
ザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチル
アミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒ
ラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾ
フェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチ
ルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミ
ノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノ
フェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−
ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３
−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）ア
セトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミ
ノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールア
ミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエ
タノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香
酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテト
ラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオ
テトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１
種または２種以上使用することができる。なお、増感剤
の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。
増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その
添加量は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量
％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤
の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮され
ず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくな
りすぎるおそれがある。

【００６１】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００６２】また、誘電体層用ペースト中に公知のラジ
カル重合性モノマーおよびラジカル重合開始剤を添加
し、熱重合性ペーストを得ることができる。このペース
トを塗布後、加熱する方法により架橋構造を得ることが
でき、現像液への溶解性を制御できる利点がある。ラジ
カル重合性モノマーの具体的な例としては、エチレン、
スチレン、ブタジエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、アク
リル酸、アクリル酸メチル、メチルビニルケトン、アク
リルアミド、アクリロニトリル等がある。ラジカル開始
剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過
硫酸カリウム、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベ
ンゾイル-ジメチルアニリン等があげられる。

【００６３】誘電体層中の有機成分に直鎖状ポリマーを
用いることもできるが、架橋構造を有する場合に比べ、
現像液に非溶解性のポリマーを選択せねばならない、ま
た現像液による浸食によって、誘電体層に亀裂が生じや
すい。

【００６４】上記の各成分を混合した後、３本ローラや
プラネタリーミキサー等の混練機で均質に混合分散し誘
電体および隔壁用ペーストを作製することができる。

【００６５】次に、本発明のＰＤＰ用基板の作製工程の
一例について説明するが、本発明はこれに限定されな
い。

【００６６】本発明のＰＤＰ用基板に用いるペースト
は、上記の無機および有機の各種成分を所定の組成とな
るように調合した後、３本ローラやプラネタリーミキサ
ー等の混練機で均質に混合分散して調製する。

【００６７】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印
刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、４
０００〜２０万ｃｐｓが好ましい。

【００６８】電極を形成したガラス基板の上に、誘電体
層用ペーストを５〜４０μｍの厚みで塗布する。

【００６９】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビおうせいするニルトリクロロシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ
（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシランなどあるいは有機金属例えば有機
チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどであ
る。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶
媒、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルア
ルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用
いる。次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均
一に塗布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥
することによって表面処理ができる。

【００７０】誘電体層用ペーストの塗布の後、ペースト
中の溶媒を除去するため、乾燥を行う。次に、誘電体層用
ペースト中に、光もしくは熱重合性の成分が含まれる際
は、光、または熱架橋により硬化し、隔壁パターン形成の
際の現像液による浸食を防ぐ。

【００７１】形成した誘電体層上に隔壁パターンを形成
する際、直接感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分
的に塗布した後パターニングする方法と、塗布方法とし
ては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコータ
ー、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いる
ことができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの粘度
を選ぶことによって調整できる。

【００７２】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。

【００７３】また、フォトマスクを用いずに、赤色や青
色のレーザー光などで直接描画する方法を用いても良
い。

【００７４】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。

【００７５】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ
／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分
間露光を行なう。

【００７６】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場
合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行な
う。

【００７７】用いる現像液は、感光性ペースト中の有機
成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有
機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加しても
よい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を
持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像でき
る。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナト
リウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アル
カリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用い
た方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好まし
い。

【００７８】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去され
ず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離さ
せ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくな
い。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うこ
とが工程管理上好ましい。

【００７９】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【００８０】ガラス基板上にパターン加工する場合は、
５４０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成
を行う。

【００８１】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加
熱工程を導入しても良い。

【００８２】次に、赤、青、緑の各色に発光する蛍光体
ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷することによ
り、フルカラー表示可能なＰＤＰ用の背面板を作製でき
る。

【００８３】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。

【００８４】実施例１＜有機成分の調製＞下記の溶媒およびポリマをそれぞれ
４０％溶液となるように混合し、攪拌しながら６０℃ま
で加熱し、すべてのポリマを均質に溶解させ、ポリマ溶
液を得た。

【００８５】溶媒：ガンマブチロラクトン（γ−ＢＬ）ポリマ：４０モル％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０
モル％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０
モル％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキ
シル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリレー
ト（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３００
０、酸価９５の感光性ポリマ。

【００８６】ついで室温まで冷却した上記のポリマ溶液
４００ｇに、以下に示す各有機成分を以下に示す割合で
加えて溶解した後、この溶液を４００メッシュのフィル
ターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。

【００８７】有機染料：スダンIV；アゾ系有機染料（化
学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ）０．５ｇ、モノマ：トリメチロー
ルプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１５０ｇ、
開始剤：チバガイギー社製”イルガキュア３６９” ２
５ｇ、増感剤：２，４−ジエチルチオキサントン２５
ｇ、増感助剤：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエス
テル１０ｇ、可塑剤：ジブチルフタレート（ＤＢＰ）
２０ｇ、溶媒：γ−ＢＬ８０ｇ得られた有機ビヒクル３０ｇに下記に示すガラス粉末
（１）を７０ｇ加え、混練した後３本ローラーで均一に
分散することにより誘電体層用ペーストを得た。また、
上記有機ビヒクル４０ｇにガラス粉末（２）を６０ｇ添
加し、混練した後３本ローラーで均一に分散することに
より隔壁用ペーストを製造した。ガラス粉末はそれぞ
れ、あらかじめアトラクターにて微粉末にしたものを用
いた。

【００８８】ガラス粉末（１）：組成Ｂi₂Ｏ₃ ２７
％、ＳｉＯ₂１４％、Ｂ₂Ｏ₃ １８％、ＢａＯ１４
％、Ａｌ₂Ｏ₃４％、ＺｎＯ２１％、Ｎａ₂Ｏ２
％、平均粒径３．４μｍの非球状粉末、Ｔｇ４８６
℃、Ｔｓ５３１℃、熱膨張係数７４×１０^-7／°
Ｋ、ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．７５ガラス粉末（２）：組成Ｌi₂Ｏ９％、Ｎａ₂Ｏ２
％、ＳｉＯ₂１９％、Ｂ₂Ｏ₃ ３１％、ＢａＯ４％、
Ａｌ₂Ｏ₃２３％、ＺｎＯ２％、ＭｇＯ６％、Ｃａ
Ｏ４％。平均粒径２．６μｍの非球状粉末、Ｔｇ（ガ
ラス転移点）４８０℃、Ｔｓ（軟化点）５２０℃、熱膨
張係数７９×１０^-7／°Ｋ、ｇ線（４３６ｎｍ）での
屈折率１．５８次に背面板用ガラス基板として、サイズ２４０×３００
ｍｍ（Ａ４サイズ）のガラス基板（旭硝子社製”ＰＤ−
２００”）を使用した。ガラス基板の熱膨張係数は８４
×１０^-7／°Ｋである。このガラス基板に、書き込み電
極として感光性銀ペーストを用いてフォトリソ法によ
り、ピッチ１５０μｍ、線幅４０μｍ、焼成厚み６μｍ
のストライプ状電極を形成した。

【００８９】得られた誘電体層用ペーストを電極形成し
た背面板上に、３２５メッシュのスクリーンを用いてス
クリーン印刷による塗布、乾燥を行い、乾燥後厚み１５
μｍの均一な膜を得た。塗布厚みはスキージ角度と速度
によって調整した。この膜に上面から５０ｍＷ／ｃｍ²
出力の超高圧水銀灯で全面紫外線露光し、光硬化を行っ
た。露光量は１Ｊ／ｃｍ² であった。

【００９０】次に塗布膜上に隔壁用ペーストを上記と同
じ方法で塗布、乾燥を繰り返し塗布厚みを１８０μｍに
調整した。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。

【００９１】続いて、フォトマスクを介して上面から５
０ｍＷ／ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で紫外線露光した。
露光量は２Ｊ／ｃｍ² であった。フォトマスクはピッチ
１５０μｍ、線幅２０μｍのネガ型のクロムマスクを用
いた。

【００９２】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．３重量％の水溶液を１２０秒間シャワーする
ことにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水
洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してスト
ライプ状の隔壁パターンを形成した。

【００９３】このようにして誘電体ペースト塗布膜およ
び隔壁パターンを形成したガラス基板を、空気中で５７
０℃で３０分間焼成を行い、誘電体層および隔壁を作製
した。

【００９４】隔壁を形成した背面板の隔壁内の所定の溝
にスクリーン印刷法を用いて、蛍光体層を形成した。す
なわち、赤（Ｒ）を形成する場合、Ｒの感光性蛍光体ペ
ーストを用いて、位置あわせを行い印刷する。緑
（Ｇ）、青（Ｂ）に関しても同様の操作を行った後、焼
成（５００℃、３０分）を行い、３色の蛍光体を所定の
位置に形成した。

【００９５】得られた背面板は、電極、隔壁および蛍光
体形成面の裏面の中央部４ｃｍを、表面粗さ計（東京精
密社製：”サーフコム１５００Ａ”）によって掃引し、
うねりを測定した。得られたうねり曲線の最大偏差Ｈ、
測定長さＬから次式を用いて反り量１／Ｒを算出した。１／Ｒ＝８Ｈ／Ｌ² 結果を表１に示す。

【００９６】前面板は以下の工程によって作製した。先
ず、ガラス基板上に、ＩＴＯをスパッタ法で形成後、レ
ジスト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理によっ
て焼成厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形
成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを
用いて、フォトリソ法により、ピッチ１５０μｍ、線幅
５０μｍ、焼成厚み１０μｍのバス電極を形成した。

【００９７】さらに、電極形成した前面板上に透明誘電
体ペーストを２０μｍ塗布し、４３０℃で２０分間保持
して焼き付けた。次に、形成した透明電極、黒色電極、
誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用
いて、厚みは０．５μｍのＭｇＯ膜を形成して前面板を
完成させた。

【００９８】次に、前面板および背面板用ガラス基板に
シール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配
置になるよう位置合わせして対向配置し、４５０℃、３
０分間処理してガラス基板を封止した。その後、表示領
域内内部の排気およびＨｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガス
の封入を行ってプラズマディスプレイパネルを完成させ
た。

【００９９】作製したＰＤＰの評価結果を表１に示す。
封着の際、基板に亀裂や割れ等の破損のない場合は○と
し、破損がある場合は×で示した。

【０１００】実施例２下記に示すガラス粉末（３）を用い、誘電体層用ペース
トを作製して使用した以外は、実施例１と同様にして、
ガラス基板上に表１に示す条件で背面板を作製した。ガラス粉末（３）：組成Ｂi₂Ｏ₃ ３８％、ＳｉＯ₂
７％、Ｂ₂Ｏ₃ １９％、ＢａＯ１２％、Ａｌ₂Ｏ₃３
％、ＺｎＯ２１％、平均粒径３．４μｍの非球状粉
末、Ｔｇ４７６℃、Ｔｓ５２５℃、熱膨張係数７
７×１０^-7／°Ｋ、ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
１．７５作製したＰＤＰの評価結果を表１に示す。

【０１０１】実施例３誘電体層用ペーストの塗布厚みを１０μｍとした以外
は、実施例１と同様にして、ガラス基板上に表１に示す
条件で背面板を作製した。作製したＰＤＰの評価結果を
表１に示す。

【０１０２】比較例１ガラス粉末（２）を用い、誘電体層用ペーストを作製し
て使用した以外は、実施例１と同様にして、ガラス基板
上に表１に示す条件で背面板を作製した。作製したＰＤ
Ｐの評価結果を表１に示す。

【０１０３】比較例２下記に示すガラス粉末（４）を用い、誘電体層用ペース
トを作製して使用した以外は、実施例１と同様にして、
ガラス基板上に表１に示す条件で背面板を作製した。

【０１０４】ガラス粉末（４）：組成Ｌｉ₂Ｏ３
％、Ｋ₂Ｏ６％、ＳｉＯ₂２１％、Ｂ₂Ｏ₃３３％、
ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２０％、ＺｎＯ１３％、平
均粒径２．６μｍの非球状粉末、Ｔｇ（ガラス転移点）
４７３℃、Ｔｓ（軟化点）５２０℃、熱膨張係数７９
×１０^-7／°Ｋ、ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率１．６
０作製したＰＤＰの評価結果を表１に示す。

【表１】

【０１０５】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネルに
よれば、隔壁の剥がれや倒れもなく、基板の破損もな
く、高精細で、かつ、製造時の歩留まりの高いプラズマ
ディスプレイパネルを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプラズマディスプレイパネルの断面形
状を示す簡略図である。

【図２】基板の反り量の算出方法を示す簡略図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板上に誘電体層を設けたプラズマ
ディスプレイパネルであって、該ガラス基板の反り量１
／Ｒが次式を満たすことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。 −１×１０^-2ｍ^-1≦１／Ｒ≦１×１０^-2ｍ^-1 ここでＲはガラス基板の曲率半径を表す。
【請求項２】ガラス基板の反り量１／Ｒが次式を満たす
ことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ
パネル。 −５×１０^-3ｍ^-1≦１／Ｒ≦５×１０^-3ｍ^-1
【請求項３】誘電体層が、酸化ビスマスを１０〜８０重
量％含むガラスからなることを特徴とする請求項１記載
のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】誘電体層が酸化リチウム、酸化ナトリウ
ム、酸化カリウムの含有率の合計が１０重量％以下のガ
ラスからなることを特徴とする請求項1記載のプラズマ
ディスプレイパネル。
【請求項５】誘電体層が、５０〜４００℃の熱膨張係数
（α）₅₀〜₄₀₀が７０〜８５×１０^-7／°Ｋのガラスか
らなることを特徴とする請求項１記載のプラズマディス
プレイパネル。
【請求項６】ガラス基板と誘電体層の５０〜４００℃の
熱膨張係数（α）₅₀〜₄₀₀の差が次式を満たすことを特
徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。 −３×１０^-7≦（α）_g−（α）_d≦１５×１０^-7／°Ｋここで、（α）_g、（α）_dはそれぞれガラス基板、誘電
体層の熱膨張係数を表す。
【請求項７】誘電体層が、ガラス転移温度（Ｔｇ）４３
０〜５００℃、荷重熱軟化温度（Ｔｓ）４７０〜５８０
℃のガラスからなることを特徴とする請求項１記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】誘電体層の厚みが、３〜２０μｍであるこ
とを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。