JP3440768B2

JP3440768B2 - プラズマディスプレイ

Info

Publication number: JP3440768B2
Application number: JP18544397A
Authority: JP
Inventors: 健堀内; 雄一朗井口; 孝樹正木
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1996-07-10
Filing date: 1997-07-10
Publication date: 2003-08-25
Anticipated expiration: 2017-07-10
Also published as: JPH10106443A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイに関する。プラズマディスプレイは大型のテレビや
コンピューターモニターに用いることができる。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に用いられている。また、高品位テレビジ
ョンの分野などへの応用が非常に期待されている。

【０００３】このような用途の拡大にともなって、繊細
で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されてい
る。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間
に備えられた放電空間内において対抗するアノードおよ
びカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電
空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、放
電空間内に設けた蛍光体にあてることにより表示を行う
ものである。ＡＣ方式ＰＤＰの簡単な構成図を図７に示
す。この場合、放電の広がりを一定領域に押さえ、表示
を規定のセル内で行わせ、かつ均一な放電空間を確保す
るために隔壁（障壁、リブともいう）が設けられてい
る。ＡＣ方式ＰＤＰの場合、この隔壁はストライプ状に
形成される。

【０００４】上記の隔壁の形状は、およそ幅３０〜８０
μｍ、高さ１００〜２００μｍである。通常、隔壁は前
面ガラス基板もしくは背面ガラス基板にガラス粉末を含
むペーストをスクリーン印刷法でストライプ状に印刷・
乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜２０回繰り返して
所定の高さにした後、焼成して形成している。しかしな
がら、スクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型
化した場合に、あらかじめ前面透明平面板上に形成され
た放電電極とガラスペーストの印刷場所との位置あわせ
が難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。し
かも１０〜２０回ガラスペーストの重ね合わせ印刷を行
うため、隔壁の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が
得られないため、表示品質が悪くなる、作業性が悪い、
歩留まりが低いという問題がある。特に、パターン幅が
５０μｍ、ピッチが１００μｍ以下になると隔壁底部が
ペーストのチキソトロピー性により滲みやすく、シャー
プで残渣のない隔壁形成が難しくなるという問題があ
る。

【０００５】ＰＤＰの大面積化、高解像度化にともな
い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アス
ペクト比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難
となり、かつコスト的に不利になってきている。

【０００６】これらの問題を改良する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフ
ォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法では、感光性ペース
トのガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔壁が
得られなかったり、感光性ペーストの感度や解像度が低
いという問題があった。このために感光性ペーストの塗
布・露光・現像の工程を繰り返し行うことによって高ア
スペクト比の隔壁を得る必要があった。しかしながら、
塗布・露光・現像を繰り返し行うので、位置あわせの問
題が生じたり、低コスト化に限界があった。

【０００７】特開平８−５０８１１号公報では、感光性
ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成す
る方法が提案されている。しかしながら、この方法では
線幅を細くしたパターンを形成すると、露光、現像後に
パターンの蛇行、倒れ、はがれが発生したり、また形成
されたパターンを焼成して隔壁を得る際に、断線、はが
れが生じる問題があった。さらに隔壁の断面形状によっ
ては、蛍光体の塗布の均一性が悪くなるという問題点が
あった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、隔壁の強
度、基板との密着性をあげ、隔壁の蛇行、倒れ、はが
れ、断線の少ない高精細プラズマディスプレイを提供す
ることを目的とする。また本発明は、蛍光体の塗布均一
性がよく、輝度ムラの少ない高精細プラズマディスプレ
イを提供することを目的とする。さらに本発明は、発光
特性の優れた高輝度、高精細のプラズマディスプレイを
提供することを目的とする。なお、本発明におけるプラ
ズマディスプレイとは、隔壁で区切られた放電空間内に
おいて放電することにより表示を行うディスプレイを指
し、上記のＡＣ方式ＰＤＰ以外にも、プラズマアドレス
液晶ディスプレイをはじめとする各種ディスプレイに用
いることができる。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、基板上
に隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔
壁の上面幅（Ｌｔ）、半値幅（Ｌｈ）、下面幅（Ｌｂ）
の比が下記に示される範囲にあり、かつ、該隔壁が熱膨
張係数（α ₅₀ 〜 ₄₀₀ ）が５０〜９０×１０ ^-7 ／Ｋである
材料から構成されていることを特徴とするプラズマディ
スプレイによって達成される。

【００１０】Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２ただしＬｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合をのぞく。

【００１１】また、本発明の目的は、基板上に隔壁を形
成したプラズマディスプレイであって、該隔壁の９０％
高さ幅（Ｌ９０）、半値幅（Ｌｈ）、１０％高さ幅（Ｌ
１０）の比が下記に示される範囲にあり、かつ、該隔壁
が熱膨張係数（α ₅₀ 〜 ₄₀₀ ）が５０〜９０×１０ ^-7 ／Ｋ
である材料から構成されていることを特徴とするプラズ
マディスプレイによって達成される。

【００１２】Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌ１０／Ｌｈ＝１〜２ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合はのぞく。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレイに
おいて、隔壁は側面にテーパー形状を有しているので、
強度が高く、倒れが防止できる。

【００１４】本発明のプラズマディスプレイ用隔壁は、
下面幅をＬｂ、半値幅をＬｈ、上面幅をＬｔとしたと
き、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２の範囲にある。本発明の例を図１に示す。なお、Ｌｂは
隔壁底部の幅、Ｌｈは半値幅（隔壁高さを１００とした
とき、底面から５０の高さの線幅）、Ｌｔは隔壁上部の
幅を示す。

【００１５】Ｌｔ／Ｌｈが１より大きいと、隔壁中央に
くびれが生じる形状となり、隔壁のピッチに対する放電
空間の割合、すなわち開口率が小さくなるため、輝度が
低下する。また蛍光体形成時に塗布ムラすなわち厚みム
ラや不均一が生じる。また０．６５未満では上面が細く
なりすぎ、パネル形成時にかかる大気圧に耐える強度が
不足し、先端のつぶれが生じやすくなる。

【００１６】Ｌｂ／Ｌｈが１未満では強度が低くなり、
隔壁の倒れ、蛇行の原因になるため、好ましくない。ま
た２より大きいと放電空間が減少することにより輝度が
低下する。より好ましくは、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．８〜１、
Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜１．５の範囲が、開口率の確保の点か
らすぐれているため、好ましい。ただし、Ｌｔ＝Ｌｈ＝
Ｌｂの場合は、強度が弱くなり、倒れが生じやすくなる
ことから、好ましくない。形状としては、隔壁下面にく
びれなどない台形または矩形形状が強度の点から好まし
い。

【００１７】隔壁頂部が丸みを帯びていたり、または隔
壁底部が裾引きしていたりして、隔壁の上面幅、下面幅
の定義が困難な場合は、上面幅の代わりに９０％高さ幅
（Ｌ９０）、下面幅の代わりに１０％高さ幅（Ｌ１０）
を測定する。Ｌ１０、Ｌｈ、Ｌ９０は、Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌ１０／Ｌｈ＝１〜２の範囲にある。本発明の例を図２に示す。なお、Ｌ９０
は隔壁高さを１００としたとき、底面から９０の高さの
線幅、Ｌ１０は同様に、底面から１０の高さの線幅であ
る。ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合は、Ｌｔ＝Ｌ
ｈ＝Ｌｂの場合と同じ理由により好ましくない。

【００１８】本発明において、特にピッチ２３０μｍ以
下、線幅５０μｍ以下の高精細の隔壁を３２インチ以上
の大型パネルに形成する場合に、上記形状とすることに
より焼成後の隔壁の蛇行、振れ、断線を防ぐことができ
る。また焼成前の隔壁パターンを上記形状とすることに
より、特に基板ガラスや誘電体層との接触面積が広くな
り、形状保持性や安定性が向上する。その結果、焼成後
の剥がれ、断線が解消される。

【００１９】隔壁線幅の測定方法は特に限定しないが、
光学顕微鏡、走査電子顕微鏡、またはレーザ顕微鏡を用
いて測定するのが好ましい。たとえば、走査電子顕微鏡
（たとえばＨＩＴＡＣＨＩＳ−２４００）を用いる場
合は次のような方法が好ましい。隔壁断面が第２図のよ
うに正確にでるように切断し、観察が可能なサイズに加
工する。その際、断面が斜めになっていると正確な評価
ができないため、断面が隔壁のストライプ方向と直角に
なるようにする。測定倍率は、隔壁断面が２〜５個くら
い視野にはいるところを選ぶ。たとえばピッチ１５０μ
ｍの場合は、２００〜３００倍の倍率を用いる。そして
隔壁線幅と同等の大きさの標準試料で縮尺を校正した後
に写真を撮影し、縮尺から線幅を算出する。

【００２０】また非破壊で測定を行いたい場合は、レー
ザフォーカス変位計（たとえば（株）キーエンス社製
ＬＴ−８０１０）を用いてもよい。この場合も同様に標
準試料で校正を行った後、測定を行うのが好ましい。こ
の際、レーザの測定面が隔壁のストライプ方向と直角に
なっていることを確認することが、正確な測定をするた
め好ましい。

【００２１】傾斜面は、平面構造に限定せず、曲面形状
をしていてもよい。特に、図３に例を示すように、隔壁
高さ中央部から底面にかけて曲面形状を有すると、Ｌｂ
／Ｌｈを大きくしても放電空間を大きくとることがで
き、輝度が低下しないので好ましい。曲面形状は、隔壁
の曲面形状の曲率半径をＲ、半値幅をＬｈとしたとき、
下記の様な関係にあることが、効果が高く特に好まし
い。Ｒ≦Ｌｈ／２

【００２２】本発明における隔壁の線幅は１５〜５０μ
ｍであることが高開口率、高輝度が得られることから好
ましい。５０μｍより大きいと開口率が低くなることに
より、十分な輝度が得られず、１５μｍより小さいと強
度が不足し、封着時に隔壁が破壊されたりするため好ま
しくない。

【００２３】さらに、隔壁のピッチは１００〜２５０μ
ｍであることが好ましい。より好ましくは１００〜１６
０μｍであることがよい。この範囲を満足することによ
り、高精細プラズマディスプレイが得られる。

【００２４】また、隔壁の高さは６０〜１７０μｍであ
ることが放電安定性、輝度の点で有利なことから好まし
い。より好ましくは１００〜１７０μｍであることが良
い。この範囲外では、誤放電が起きる、または輝度が低
いなど不具合がでるため好ましくない。

【００２５】本発明の隔壁各部の形状は、ピッチをＰ、
線幅をＬ、高さをＨとすると、次のような関係にあるこ
とが、パネルの輝度、放電寿命の点ですぐれていること
から、より好ましい。・Ｐ＝１００〜１４０μｍの時Ｌ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ・Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時Ｌ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ線幅については、上記下限より小さいと、パターン形成
時のはがれ、倒れ、また焼成後に断線、はがれが生じや
すくなる。上記上限より大きいと開口率が小さくなるこ
とによる輝度の低下が起こり、好ましくない。高さにつ
いては、上記下限より小さいと、放電空間が狭くなり、
プラズマ領域が蛍光体層に近くなり、蛍光体層がスパッ
タされるため、寿命の点で好ましくない。上記上限より
大きいと放電により発生した紫外線が、蛍光体層に届く
までに吸収されてしまうために輝度が下がり、好ましく
ない。

【００２６】本発明における隔壁の気孔率は、隔壁の倒
れを防止し、基板との密着性に優れていることから、１
０％以下が好ましく、３％以下がより好ましい。気孔率
（Ｐ）は、隔壁材質の真比重をｄth、隔壁の実測密度を
ｄexとしたとき、Ｐ＝(ｄth − ｄex)／ｄth×１００と定義する。

【００２７】隔壁材質の真比重は次の様ないわゆるアル
キメデス法を用いて算出するのが好ましい。隔壁材質を
乳鉢を用いて指頭に感じない程度、３２５メッシュ以下
ぐらいまでに粉砕する。そしてＪＩＳ−Ｒ２２０５に記
載のように真比重を求める。次に実測密度の測定は隔壁
部分を形状を崩さないように削り取り、粉砕を行わない
こと以外は上記と同様にしてアルキメデス法を用いて計
測を行う。

【００２８】気孔率が１０％より大きいと、密着強度が
低下するのに加え、強度の不足、また放電時に気孔から
排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの発光
特性低下の原因になる。パネルの放電寿命、輝度安定性
などの発光特性を考慮すると、さらに好ましくは１％以
下がよい。

【００２９】本発明の隔壁の作製方法は特に限定しない
が、工程が少なく、微細なパターン形成が可能である感
光性ペースト法で作製するのが好ましい。サンドブラス
ト法では、サンドを吹き付けて削ることにより隔壁パタ
ーンを形成するため、制御が難しく、削り不足で裾引き
が大きくなったり、逆に削りすぎて下面の方が上面より
も細くなったりしやすい。また、スクリーン印刷法では
印刷を１０〜２０回重ねるため、隔壁底部はつぶれ、隔
壁上部は垂れ下がった形状になりやすい。

【００３０】感光性ペースト法は、主としてガラス粉末
からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光
性ペーストを用いて、フォトマスクのパターンを露光に
より、焼き付け、現像により、隔壁パターンを形成し、
その後焼成して隔壁を得る方法である。

【００３１】プラズマディスプレイやプラズマアドレス
液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、ガラス転移
点、軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するた
め、隔壁材質として、ガラス転移点が４３０〜５００
℃、軟化点が４７０〜５８０℃のガラス材料を用いるこ
とが好ましい。ガラス転移点が５００℃、軟化点が５８
０℃より高いと、高温で焼成しなければならず、焼成の
際に基板に歪みが生じる。またガラス転移点が４３０
℃、軟化点が４７０℃より低い材料は緻密な隔壁層が得
られず、隔壁の剥がれ、断線、蛇行の原因となる。

【００３２】ガラス転移点、軟化点の測定は次の様にす
るのが好ましい。示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガ
ラス試料約１００ｍｇを２０℃／分で空気中で加熱し、
横軸に温度、縦軸に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描
く。ＤＴＡ曲線より、ガラス転移点と軟化点を読みと
る。

【００３３】また、基板ガラスに用いられる一般的な高
歪点ガラスの熱膨張係数が８０〜９０×１０^-7であるこ
とから、基板のそり、パネル封着時の割れ防止のために
は、５０〜４００℃の熱膨張係数（α₅₀〜₄₀₀）が５０
〜９０×１０^-7、さらには、６０〜９０×１０^-7のガラ
ス材料を用いることが好ましい。上記の特性を有するガ
ラス材料を用いることによって、隔壁の剥がれや断線を
防ぐことができる。

【００３４】感光性ペースト法に用いるガラス粉末の量
は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８５重量
％であるのが好ましい。６５重量％より小さいと、焼成
時の収縮率が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因と
なるため、好ましくない。また、ペーストとして乾燥が
難しくなり、ベタ付きが生じ、印刷特性が低下する。さ
らにパターン太り、現像時の残膜の発生が起こりやす
い。このため、Ｌｂ／Ｌｈが２より大きくなりやすい。
８５重量％より大きいと、感光性成分が少ないことによ
り、隔壁パターン底部まで光硬化しない。このため、Ｌ
ｂ／Ｌｈが１より小さくなりやすい。

【００３５】隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラ
ス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
い。３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安
定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガ
ラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量
％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラ
ス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。

【００３６】酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％
の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱
膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的
特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガ
ラスの安定性が低下する。

【００３７】酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少
なくとも１種類をガラス中に、５〜５０重量％含むガラ
ス粉末を用いることによって、ガラス基板上にパターン
加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得ること
ができる。５０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低
くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。
特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラスを
用いることは、ペーストのポットライフが長いなどの利
点がある。

【００３８】酸化ビスマスを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化ビスマス１０〜４０重量部酸化珪素３〜５０重量部酸化ホウ素１０〜４０重量部酸化バリウム８〜２０重量部酸化アルミニウム１０〜３０重量部の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００３９】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムのうち少なくとも１種類を２〜２０重量％含むガラ
ス粉末を用いることによっても、ガラス基板上にパター
ン加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得るこ
とができる。リチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属の酸化物は添加量としては、２０重量％以下、
好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペー
ストの安定性を向上することができる。

【００４０】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化リチウム２〜１５重量部酸化珪素１５〜５０重量部酸化ホウ素１５〜４０重量部酸化バリウム２〜１５重量部酸化アルミニウム６〜２５重量部の組成を含むものを７０重量％以上含有することが好ま
しい。また、上記組成で、酸化リチウムの代わりに、酸
化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、ペース
トの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。

【００４１】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラスによって、より低いアルカリ含有量で軟化点や
線熱膨張係数のコントロールが容易になる。

【００４２】また、ガラス粉末中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することによ
り、高度や加工性を改良することができるが、軟化点、
熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４
０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以
下である。

【００４３】さらに、一般に絶縁体として用いられるガ
ラスは、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているが、
感光性ペースト法を用いる場合、有機成分の平均屈折率
がガラス粉末の平均屈折率と大きく異なる場合は、ガラ
ス粉末と感光性有機成分の界面での反射・散乱が大きく
なり、精細なパターンが得られない。一般的な有機成分
の屈折率は１．４５〜１．７であるため、ガラス粉末と
有機成分の屈折率を整合させるためには、ガラス粉末の
平均屈折率を１．５〜１．７にすることが好ましい。さ
らにより好ましくは１．５〜１．６５にするのがよい。

【００４４】酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリ
ウム等のアルカリ金属の酸化物を合計で２〜２０重量％
含有するガラスを用いることによって、軟化点、熱膨張
係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラスの
平均屈折率を低くすることができるため、有機物との屈
折率差を小さくすることが容易になる。２％より小さい
時は、軟化点の制御が難しくなる。２０％より大きい時
は、放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によって輝度低
下をもたらす。さらにアルカリ金属の酸化物の添加量は
ペーストの安定性を向上させるためにも、１０重量％よ
り小さいことが好ましく、より好ましくは８重量％以下
である。

【００４５】特に、アルカリ金属の中では酸化リチウム
を用いることが、比較的ペーストの安定性を高くするこ
とができるから、好ましい。また、酸化カリウムを用い
た場合は、比較的少量の添加でも屈折率を制御できる利
点がある。この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な軟
化点を有し、平均屈折率を１．５〜１．７にすることが
でき、有機成分との屈折率差を小さくすることが容易に
なる。

【００４６】酸化ビスマスを含有するガラスは軟化点や
耐水性向上の点から好ましいが、酸化ビスマスを１０重
量％以上含むガラスは、屈折率が１．６以上になるもの
が多い。このため酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化
カリウムなどのアルカリ金属の酸化物と酸化ビスマスを
併用することによって、軟化点、熱膨張係数、耐水性、
屈折率のコントロールが容易になる。

【００４７】本発明におけるガラス材質の屈折率測定
は、感光性ガラスペースト法で露光する光の波長で測定
することが効果を確認する上で正確である。特に、３５
０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ま
しい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４
３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００４８】本発明の隔壁はコントラストをあげる点で
優れていることから、黒色に着色されていてもよい。種
々の金属酸化物を添加することによって、焼成後の隔壁
を着色することができる。例えば、感光性ペースト中に
黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、
黒色のパターンを形成することができる。

【００４９】この際に用いる黒色の金属酸化物として、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくと
も１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色
化が可能になる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ
０．５重量％以上含有することによって、黒色パターン
を形成できる。

【００５０】さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色
する無機顔料を添加したペーストを用いることによっ
て、各色のパターンを形成できる。これらの着色パター
ンは、プラズマディスプレイのカラーフィルターなどに
好適に用いることができる。

【００５１】隔壁ガラス部材の誘電率はパネルの消費電
力、放電寿命に優れている点から周波数１ＭＨｚ、温度
２０℃の時に４〜１０であることが好ましい。４以下に
するためには、誘電率が３．８程度である酸化珪素を多
く含ませねばならず、ガラス転移点が高くなり、焼成温
度が高くなることから、基板歪みの原因となり好ましく
ない。１０以上であると、帯電量の増加による電力のロ
スが生じ、消費電力の増加を引き起こすため好ましくな
い。

【００５２】また、本発明の隔壁の比重は２〜３．３で
あることが好ましい。２以下にするためには、ガラス材
料に酸化ナトリウムや酸化カリウムなどのアルカリ金属
の酸化物を多く含ませなければならず、放電中に蒸発し
て放電特性を低下させる要因となるため、好ましくな
い。３．３以上になると、大画面化した時ディスプレイ
が重くなったり、自重で基板に歪みを生じたりするので
好ましくない。

【００５３】上記において使用されるガラス粉末粒子径
は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ば
れるが、５０体積％粒子径（平均粒子径Ｄ５０）が１〜
６μｍ、最大粒子径サイズが３０μｍ以下、比表面積
１．５〜４ｍ²／ｇであることが好ましい。より好まし
くは１０体積％粒子径（Ｄ１０）０．４〜２μｍ、５０
体積％粒子径（Ｄ５０）１．５〜６μｍ、９０体積％粒
子径（Ｄ９０）：４〜１５μｍ、最大粒子径サイズが２
５μｍ以下、比表面積１．５〜３．５ｍ²／ｇを有して
いることが好ましい。さらに好ましくはＤ５０が２〜
３．５μｍ、比表面積１．５〜３ｍ²／ｇである。ここ
で、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それぞれ、粒径の小さ
いガラス粉末から１０体積％、５０体積％、９０体積％
のガラスの粒子径である。

【００５４】上記のような粒度分布をもったガラス粉末
を用いることにより、粉末の充填性が向上し、感光性ペ
ースト中の粉末比率を増加させても気泡を巻き込むこと
が少なくなり、余分な光散乱が小さいため好ましい隔壁
パターン形状が形成できる。ガラス粉末の粒度が上記範
囲より小さいと比表面積が増えるため、粉末の凝集性が
あがり、有機成分内への分散性が下がるため、気泡を巻
き込みやすくなる。そのため光散乱が増え、隔壁中央部
の太り、底部の硬化不足が生じ、Ｌｂ／Ｌｈが１より小
さくなりやすい。またガラス粉末の粒度が上記範囲より
大きくても、粉末のかさ密度が下がるため充填性がさが
り、感光性有機成分の量が不足し気泡を巻き込みやすく
なり、やはり光散乱を起こしやすくなる。さらに、ガラ
ス粉末の粒度分布が上記範囲にあると、粉末充填比率が
高いので焼成収縮率が低くなり、焼成時にパターン形状
が崩れず、本発明の隔壁形状が安定して得られる。

【００５５】粒子径の測定方法は特に限定しないが、レ
ーザー回折・散乱法を用いるのが、簡便に測定できるの
で好ましい。たとえばマイクロトラック社製、粒度分布
計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００を用いた場合の測定条件は
下記の通りである。試料量：１ｇ分散条件：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分
散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム
水溶液中で行う。

【００５６】粒子屈折率：ガラス種類によって変更（リ
チウム系１．６、ビスマス系１．８８）溶媒屈折率：１．３３測定数：２回

【００５７】本発明の隔壁に軟化点が５５０〜１２００
℃、さらに好ましくは６５０〜８００℃であるフィラー
を３〜６０重量％含ませてもよい。これにより、感光性
ペースト法において、パターン形成後の焼成時の収縮率
が小さくなり、パターン形成が容易になり、焼成時の形
状保持性が向上する。

【００５８】フィラーとしては、チタニア、アルミナ、
チタン酸バリウム、ジルコニアなどのセラミックスや酸
化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有する高
融点ガラス粉末が好ましい。一例としては、以下の組成
を含有するガラス粉末を用いることが好ましい。酸化珪素：２５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜２０重量％酸化アルミニウム：２５〜５０重量％酸化バリウム：２〜１０重量％高融点ガラス粉末をフィラーとして用いる際、母ガラス
材料（低融点ガラス）との屈折率差が大きいと有機成分
との整合が困難になり、パターン形成性が悪くなる。

【００５９】そこで、低融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ
１、高融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ２が、次の範囲に
あることによって、有機成分との屈折率整合が容易にな
る。 −０．０５≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０５無機粉末の屈折率のばらつきが小さいことも光散乱低減
には重要なことである。屈折率のばらつきが±０．０５
である（無機粉末の９５体積％以上が平均屈折率Ｎ１±
０．０５の範囲に入っている）ことが、光散乱低減には
好ましい。

【００６０】用いるフィラーの粒子径としては、平均粒
子径１〜６μｍのものが好ましい。また、Ｄ１０（１０
体積％粒子径）０．４〜２μｍ、Ｄ５０（５０体積％粒
子径）：１〜３μｍ、Ｄ９０（９０体積％粒子径）：３
〜８μｍ、最大粒子サイズ：１０μｍ以下の粒度分布を
有するものを使用することがパターン形成を行う上で好
ましい。さらにより好ましくはＤ９０は３〜５μｍ、最
大粒子サイズ５μｍ以下が好ましい。Ｄ９０が３〜５μ
ｍの細かい粉末であることが、焼成収縮率を低くするこ
とができ、かつ気孔率が低い隔壁を作製する点で優れて
いることから好ましい。また隔壁上部の長手方向の凹凸
を±２μｍ以下にすることが可能となる。フィラーに大
きい粒径の粉末を用いると、気孔率が上昇するばかりで
なく、隔壁上部の凹凸が大きくなり、誤放電を引き起こ
すことから好ましくない。

【００６１】有機成分は、感光性モノマー、感光性オリ
ゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選
ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バイ
ンダー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助
剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加
剤成分を加えることも行われる。

【００６２】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００６３】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル
等がある。

【００６４】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００６５】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これ
らの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭
素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルス
チレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチル
スチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルス
チレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレ
ン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、およ
び、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくは
すべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種ま
たは２種以上使用することができる。

【００６６】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００６７】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。

【００６８】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００６９】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。

【００７０】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００７１】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するため現像液濃度を濃くする
と露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得ら
れにくい。また、酸価が１８０を現像許容幅が狭くな
る。

【００７２】現像性を不飽和酸等のモノマーで付与する
場合は、ポリマーの酸価値は５０以下にすることにより
ガラス粉末とポリマーの反応によるゲル化を抑制できる
ことから好ましい。

【００７３】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応
性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチ
レン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリ
ル基、メタクリル基などがあげられる。

【００７４】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００７５】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００７６】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００７７】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００７８】感光性ガラスペースト中の感光性ポリマ
ー、感光性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマ
ー成分の量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率
の点で優れていることから、ガラス粉末と感光性成分の
和に対して、５〜３０重量％であることが好ましい。こ
の範囲外では、パターン形成が不可能もしくは、パター
ンの太りがでるため好ましくない。

【００７９】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ
−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキ
サノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ
−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロ
パンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−
エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）
オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホル
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。

【００８０】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜３０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜２０重量％である。重合開始剤の量が少なすぎ
ると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎ
れば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。

【００８１】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。

【００８２】有機染料の添加量はガラス粉末に対して
０．０５〜１重量％が好ましい。０．０５重量％以下で
は紫外線吸光剤の添加効果が低く、１重量％を越えると
光感度が不良になったり、焼成後の絶縁膜特性が低下す
るので好ましくない。より好ましくは０．１〜０．１８
重量％である。

【００８３】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げる。有機染料を予め有機溶媒に溶解した溶
液を作製し、それをペースト作製時に混練する。あるい
は、該有機染料溶液中にガラス微粒子を混合後、乾燥す
る方法もある。この方法によってガラス微粒子の個々の
粒子表面に有機染料の膜をコートしたいわゆるカプセル
状の微粒子が作製できる。

【００８４】本発明において、無機微粒子に含まれるＰ
ｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸
化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペー
ストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合があ
る。このような反応を防止するために安定化剤を添加し
てゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤と
しては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。ト
リアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール誘導体
が好ましく用いられる。この中でも特にベンゾトリアゾ
ールが有効に作用する。本発明において使用されるベン
ゾトリアゾールによるガラス微粒子の表面処理の一例を
上げると、無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリア
ゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、
メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら
微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２
４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃で自
然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った
微粒子を作製する。使用される安定化剤の割合（安定化
剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。

【００８５】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜３０重量％、より
好ましくは０．１〜２０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００８６】また、増感剤は、露光波長に吸収を有して
いるものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈
折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加するこ
とによって、有機成分の屈折率を向上することができ
る。この場合の増感剤の添加量は３〜１０重量％添加す
ることができる。

【００８７】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００８８】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００８９】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。

【００９０】酸化防止剤を添加する場合、その添加量は
通常、添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１
重量％である。

【００９１】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００９２】有機成分の屈折率とは、露光により感光性
成分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の
屈折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥
工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の
有機成分の屈折率のことである。例えば、ペーストをガ
ラス基板上に塗布した後、５０〜１００℃で１〜３０分
乾燥して屈折率を測定する方法などがある。

【００９３】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるエリプソメトリー法やＶブロック法が好まし
く、測定は露光する光の波長で行うことが効果を確認す
る上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中
の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線
（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率
測定が好ましい。

【００９４】また、有機成分が光照射によって重合した
後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光
照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射すること
によって測定できる。

【００９５】感光性ペーストは、通常、無機微粒子、紫
外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合
開始剤、ガラスフリットおよび溶媒等の各種成分を所定
の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で
均質に混合分散し作製する。

【００９６】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスピンコート法で行う場合は、２００〜５０００ｃ
ｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚
１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ま
しい。

【００９７】次に、感光性ペーストを用いてパターン加
工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定
されない。ガラス基板やセラミックスの基板、もしく
は、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面
塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、
スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイ
コーター、ブレードコーター等の方法を用いることがで
きる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、
ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。

【００９８】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができるまた、フィルム上に塗布した場合、フィ
ルム上で乾燥を行った後、次の露光工程を行う場合と、
ガラスやセラミックの基板上に張り付けた後、露光工程
を行う方法がある。

【００９９】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光
などで直接描画する方法を用いても良い。

【０１００】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。

【０１０１】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ
／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒〜３０分
間露光を行なう。

【０１０２】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコ
ール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリ
エステルなどのフィルムが上げられる。

【０１０３】ＰＶＡ膜を形成するには濃度が０．５〜５
重量％のＰＶＡ水溶液をスピナーなどの方法で基板上に
均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥
することによって水分を蒸発させて行う。また水溶液中
にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良く
なり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰ
ＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあ
ると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向
上するのは次の理由が推定される。すなわち感光性成分
が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度
を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な
酸素を遮断できるので露光時に感度が向上すると考えら
れる。ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等
の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペー
ストの上に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法
もある。

【０１０４】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場
合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行な
う。用いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶
解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒に
その溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感
光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合
物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アル
カリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、
水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶
液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼
成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。

【０１０５】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去され
ず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離さ
せ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくな
い。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うこ
とが工程管理上好ましい。

【０１０６】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【０１０７】ガラス基板上にパターン加工する場合は、
昇温速度２００〜４００℃／時間で５４０〜６１０℃の
温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。なお焼成温
度は用いるガラス粉末によって決まるが、パターン形成
後の形が崩れず、かつガラス粉末の形状が残らない適正
な温度で焼成するのが好ましい。適正温度より低いと、
気孔率、隔壁上部の凹凸が大きくなり、放電寿命が短く
なったり、誤放電を起こしやすくなったりするため好ま
しくない。また適正温度より高いとパターン形成時の形
状が崩れ、隔壁上部が丸くなったり、極端に高さが低く
なり、所望の高さが得られないため、好ましくない。

【０１０８】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加
熱工程を導入しても良い。

【０１０９】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。本発明の実施例に使用した材料を以
下に示す。

【０１１０】（隔壁用ガラス粉末）ガラス(1) ；組成：Ｌi₂Ｏ９％、ＳｉＯ₂２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ３
１％、ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２４％、ＺｎＯ２
％、ＭｇＯ６％、ＣａＯ４％熱物性：ガラス転移点４７４℃、軟化点５１５℃、熱
膨張係数８３×１０^-7／Ｋ粒径：Ｄ１００．９μｍ、Ｄ５０２．５μｍ、
Ｄ９０６．５μｍ、最大粒径１８．５μｍ比表面積：２．５６ｍ²／ｇ屈折率：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）比重：２．５５ガラス(2) ；組成、熱物性、屈折率、比重はガラス(1)
と同じ粒径：Ｄ１００．７μｍ、Ｄ５０１．６μｍ、
Ｄ９０２．４μｍ、最大粒径５．２μｍ比表面積：５．８ｍ²／ｇガラス(3) ；組成：Ｌi₂Ｏ７％、ＳｉＯ₂２２％、Ｂ₂Ｏ₃ ３
２％、ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２２％、ＺｎＯ２
％、ＭｇＯ６％、ＣａＯ４％熱物性：ガラス転移点４９１℃、軟化点５２８℃、熱
膨張係数７４×１０^-7／Ｋ粒径：Ｄ１００．９μｍ、Ｄ５０２．６μｍ、
Ｄ９０７．５μｍ、最大粒径２２．０μｍ比表面積：１．９２ｍ²／ｇ屈折率：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）比重：２．５４ガラス(4) ；組成、熱物性はガラス(3) と同じ粒径：Ｄ１００．８μｍ、Ｄ５０１．５μｍ、
Ｄ９０２．５μｍ、最大粒径４．６μｍ比表面積：５．９ｍ²／ｇ屈折率：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）比重：２．５４ガラス(5) ；組成：Ｌi₂Ｏ４％、Ｋ₂Ｏ５％、ＳｉＯ₂１５
％、Ｂ₂Ｏ₃ ３３％、ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２０
％、ＺｎＯ１３％、ＭｇＯ１％、ＣａＯ５％熱物性：ガラス転移点４７０℃、軟化点５１１℃、熱
膨張係数７６×１０^-7／Ｋ粒径：Ｄ１００．９μｍ、Ｄ５０２．７μｍ、
Ｄ９０６．０μｍ、最大粒径１３．１μｍ比表面積：２．２９ｍ²／ｇ屈折率：１．５８（ｇ線４３６ｎｍ）比重：２．６７ガラス(6) ；組成：Ｂｉ₂Ｏ₃ ２７％、ＳｉＯ₂１４％、Ｂ₂Ｏ₃
１８％、Ｎａ₂Ｏ２％、ＢａＯ１４％、Ａｌ₂Ｏ
₃４％、ＺｎＯ２１％熱物性：ガラス転移点４８３℃、軟化点５２３℃、熱
膨張係数７９×１０^-7／Ｋ粒径：Ｄ１０１．４μｍ、Ｄ５０３．４μｍ、
Ｄ９０７．４μｍ、最大粒径２２．０μｍ比表面積：３．２６ｍ²／ｇ屈折率：１．７３（ｇ線４３６ｎｍ）比重：４．１３（ポリマー）ポリマー(1) ：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、
３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０
％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル
基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリレート
（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３００
０、酸価９５の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラク
トン溶液ポリマー(2) ：構造はポリマー(1) と同一で重量平均
分子量が１８０００、酸価が１００の感光性ポリマーの
４０％γ−ブチロラクトン溶液ポリマー(3) ：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、
３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０
％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル
基に対して０．８当量のグリシジルメタアクリレート
（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量３０００
０、酸価５０の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラク
トン溶液（モノマー）モノマー(1) ：X₂-N-CH₂-Ph-CH₂-N-X₂ X:-CH₂-CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ モノマー(2) ：X₂-N-CH(CH₃)-CH₂-(O-CH₂-CH(CH₃))_n-N-X₂ X:-CH₂-CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ ｎ＝２〜１０モノマー(3) ：トリメチロールプロパントリアクリレート・モディファイドＰＯ（光重合開始剤）ＩＣ−３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイ
ギー製品）；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１（増感剤）ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントン（有機染料）スダン；アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ、分
子量３８０．４５（実施例１）表１に示すような組成からなる隔壁用感光
性ペーストを作製した。ガラス粉末（ガラス(1) ）７０
重量部に対して、有機染料（スダン）０．０８重量部の
割合で秤量した。スダンをアセトンに溶解させ、分散剤
を加えてホモジナイザで均質に攪拌した。この溶液中に
ガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリー
エバポレータを用いて、１００℃の温度で乾燥し、アセ
トンを蒸発させた。こうして有機染料の膜でガラス粉末
の表面が均質にコーティングされた粉末を作製した。

【０１１１】ポリマー、モノマー、光重合開始剤、増感
剤を表１に示す割合で混合し、均質に溶解させた。その
後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾
過し、有機ビヒクルを作製した。

【０１１２】上記有機ビヒクルと上記ガラス粉末を表１
に示す組成になるように添加し、３本ローラで混合・分
散して、隔壁形成用の感光性ペーストを調整した。有機
成分の屈折率は１．５９、ガラス粉末のそれは１．５９
であった。

【０１１３】電極、誘電体層をあらかじめ形成したＡ４
サイズの旭ガラス社製ＰＤ−２００基板上に、前記隔壁
用感光性ペーストを３２５メッシュのスクリーンを用い
てスクリーン印刷により、均一に塗布した。塗布膜にピ
ンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回
以上繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。途中の乾燥
は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で１時間保
持して乾燥した。乾燥後の厚みは１７０μｍであった。
続いて、１４０μｍピッチのネガ型のクロムマスクを通
して、上面から５０ｍＪ／ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で
紫外線照射した。露光量は０．７Ｊ／ｃｍ² であった。

【０１１４】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２重量％の水溶液をシャワーで１７０秒間か
けることにより現像し、その後シャワースプレーを用い
て水洗浄した。これにより、光硬化していない部分が除
去され、ガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンが
形成された。このようにして隔壁パターンが形成された
ガラス基板を、空気中で５６０℃で１５分間焼成し、隔
壁を形成した。

【０１１５】隔壁を形成したガラス基板の隔壁内の所定
の溝に感光性ペースト法で蛍光体層を形成した。すなわ
ち、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類の感光性蛍
光体ペーストを作製し、１種づつ印刷、乾燥、フォトマ
スクによる露光、現像を繰り返すことにより、所定の箇
所に蛍光体パターンを形成した。この操作を各色につい
て行った後、５００℃で２０分間一括焼成して蛍光体層
を形成した。これにより、ＰＤＰ用背面板が得られた。

【０１１６】形成した隔壁の断面形状を、走査型電子顕
微鏡（ＨＩＴＡＣＨＩ製Ｓ−２４００）で観察した。
図１、図３、図４、図５のような形状の場合は上面幅、
半値幅、下面幅を、図２および図６のように上面部、下
面部の測定の困難な場合は上面幅、下面幅の代わりにＬ
９０、Ｌ１０を測定した。また、図２のように底面にア
ール形状を持つ場合は曲率半径も測定した。各値は、３
サンプルの平均値により算出した。本実施例の形状は図
３であった。

【０１１７】隔壁および蛍光体層の欠陥については、
(1)焼成前の隔壁の倒れ、剥がれの有無、(2)焼成後の隔
壁の剥がれ、断線の有無、(3)蛍光体層の塗布均一性を
評価した。それぞれ欠陥のない場合は○とした。さら
に、各隔壁の開口率を１−（半値幅／ピッチ）と定義
し、算出した。結果を表６に示す。焼成前後ともに剥が
れ、倒れ、断線がなく、また蛍光体の塗布均一性も良好
である優れたものであった。

【０１１８】次に、電極、誘電体、保護層を前もって配
した前面板と前記背面板にシール剤となる低融点ガラス
ペーストを設け、所定の配置になるよう位置あわせして
対向配置し、４５０℃、３０分間処理して封止した。そ
の後、表示領域内部を排気し、Ｈｅ９９％、Ｘｅ１％の
混合ガスの封入を行ってプラズマディスプレイパネルを
完成させ、発光特性を調べた。輝度ムラ、輝度に問題の
ない場合は○とした。結果を表６に示す。輝度ムラが少
なく、高輝度で優れた特性を有していた。

【０１１９】実施例２隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、露光量
を１Ｊ／ｃｍ²に変えた以外は、実施例１と同様にして
検討を行った。結果を表６に示す。

【０１２０】実施例３隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、露光量
を１Ｊ／ｃｍ²に変えた以外は、実施例１と同様にして
検討を行った。結果を表６に示す。

【０１２１】実施例４隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、隔壁用
ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を０．３
Ｊ／ｃｍ²、現像時間を１５０秒に変えた以外は、実施
例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。

【０１２２】実施例５隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、隔壁用
ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を１．５
Ｊ／ｃｍ²、現像時間を１５０秒にした以外は、実施例
１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。

【０１２３】実施例６隔壁用ペーストの組成を表１のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を１．２Ｊ／
ｃｍ²、現像時間を１５０秒にした以外は、実施例１と
同様にして検討を行った。結果を表６に示す。

【０１２４】実施例７隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１９０μｍにし、現像時間を２００秒
にし、焼成温度を５８０℃にした以外は、実施例１と同
様にして検討を行った。結果を表７に示す。

【０１２５】実施例８隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁パター
ンの焼成温度を５８０℃にした以外は、実施例１と同様
にして検討を行った。結果を表７に示す。

【０１２６】実施例９隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、現像時間を２３０秒、焼成温度
を５８０℃にした以外は、実施例１と同様にして検討を
行った。結果を表７に示す。

【０１２７】実施例１０隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１４０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を１．２Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を１５０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。

【０１２８】実施例１１隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．５Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。

【０１２９】実施例１２隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用フォ
トマスクのピッチを１００μｍ、露光波長をｇ線（４３
６ｎｍ）のみで露光量を０．８Ｊ／ｃｍ²、焼成温度を
５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行っ
た。結果を表７に示す。

【０１３０】実施例１３隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２００μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．７Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を２００秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。

【０１３１】実施例１４隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを２３０μｍ、露光量を１．２Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。

【０１３２】実施例１５隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２１０μｍにし、隔壁用パターンの露
光量を０．９Ｊ／ｃｍ²、現像時間を２００秒、焼成温
度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を
行った。結果を表８に示す。

【０１３３】実施例１６隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用パタ
ーンの露光量を０．７Ｊ／ｃｍ²、焼成温度を５８０℃
にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果
を表８に示す。

【０１３４】実施例１７隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを２３０μｍ、露光量を１．３Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。

【０１３５】実施例１８隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を１５０秒、焼成温度を５６０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。

【０１３６】比較例１隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を１５０秒、焼成温度を５６０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。
隔壁用ガラス粉末の粒度が小さかったため、隔壁底部ま
で露光せず、Ｌｔ／Ｌｈ＞１、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、
隔壁の倒れ、剥がれが著しかった。

【０１３７】比較例２隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１９０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．１Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を２００秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。
この組成の隔壁用ペーストでは、Ｌ９０／Ｌｈ＞１、Ｌ
１０／Ｌｈ＞２の隔壁しか得られず、隔壁の蛇行も大き
く、輝度ムラが大きかった。

【０１３８】比較例３隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１３０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を０．２Ｊ／ｃｍ²、現
像時間を１２０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実
施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。
有機染料の添加量を少なくしたところ、Ｌｂ／Ｌｈ＞２
となり、発光輝度が低くなった。

【０１３９】比較例４隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、現像時間を１６０秒にした以外
は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示
す。隔壁用ペースト中のガラス粉末の含量が多かったた
め、隔壁底部まで露光せず、Ｌｔ／Ｌｈ＜０．６５、Ｌ
ｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れが起こり、輝度が低く
なった。

【０１４０】比較例５隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを７５μｍにし、隔壁用フォトマスクの
ピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ²、現像
時間を５０秒にした以外は実施例１と同様にして検討を
行った。結果を表９に示す。隔壁用ペースト中のガラス
粉末の含量が少なかったため、Ｌ１０／Ｌｈ＞２とな
り、輝度が低くなった。

【０１４１】比較例６隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを９０μｍにし、隔壁用フォトマスクの
ピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ²、現像
時間を７０秒、焼成温度を５７０℃にした以外は実施例
１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。隔壁
用ペースト中のガラス粉末の屈折率が１．７３、有機成
分の屈折率が１．５９であり、屈折率の整合が悪くて露
光がうまく行かず、Ｌｔ／Ｌｈ＞１の隔壁しか得られ
ず、隔壁の蛇行も大きく、輝度ムラが大きかった。

【０１４２】比較例７隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１００μｍにし、露光量を０．６Ｊ／
ｃｍ²、現像時間を９０秒にした以外は実施例１と同様
にして検討を行った。結果を表１０に示す。隔壁用ガラ
ス粉末の粒度が小さかったため、隔壁底部まで露光せ
ず、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れ、剥がれが著し
かった。

【０１４３】比較例８隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１００μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを１５０μｍ、露光量を３Ｊ／ｃｍ²、現像時
間を１００秒、焼成温度を５７０℃にした以外は実施例
１と同様にして検討を行った。結果を表１０に示す。有
機染料の添加量を多くしたところ、Ｌｂ／Ｌｈ＜１とな
り、隔壁の倒れが起こり、輝度が低くなった。

【０１４４】比較例９隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペー
ストの塗布厚みを１８０μｍにし、隔壁用フォトマスク
のピッチを２３０μｍ、現像時間を１９０秒、焼成温度
を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行
った。結果を表１０に示す。光重合開始剤、増感剤の添
加量を減らしたため、露光がうまく行かず、Ｌｔ／Ｌｈ
＜０．６５、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れが起こ
り、輝度ムラが大きかった。

【０１４５】

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【０１４６】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【表１０】

【０１４７】

【発明の効果】特定形状を有する隔壁を用いることによ
り、強度、基板との密着性をあげ、隔壁の蛇行、倒れ、
はがれ、断線の少ない高精細プラズマディスプレイが得
られた。また、蛍光体の塗布均一性がよく、輝度ムラの
少ない高精細プラズマディスプレイが得られた。さらに
は、発光特性の優れた高輝度、高精細のプラズマディス
プレイが得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図であ
る。

【図２】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図であ
る。

【図３】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図であ
る。

【図４】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図であ
る。

【図５】本発明の比較例に挙げた隔壁形状の簡単な断面
図である。

【図６】本発明の比較例に挙げた隔壁形状の簡単な断面
図である。

【図７】プラズマディスプレイの簡単な構成図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平６−267422（ＪＰ，Ａ) 特開平６−222345（ＪＰ，Ａ) 特開平８−133778（ＪＰ，Ａ) 特開平８−119725（ＪＰ，Ａ) 特開平10−21839（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 11/02 H01J 9/02

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に隔壁を形成したプラズマディスプ
レイであって、該隔壁の上面幅（Ｌｔ）、半値幅（Ｌ
ｈ）、下面幅（Ｌｂ）の比が下記に示される範囲にあ
り、かつ、該隔壁が熱膨張係数（α ₅₀ 〜 ₄₀₀ ）が５０〜
９０×１０ ^-7 ／Ｋである材料から構成されていることを
特徴とするプラズマディスプレイ。Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜２ただしＬｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合をのぞく。
【請求項２】基板上に隔壁を形成したプラズマディスプ
レイであって、該隔壁の９０％高さ幅（Ｌ９０）、半値
幅（Ｌｈ）、１０％高さ幅（Ｌ１０）の比が下記に示さ
れる範囲にあり、かつ、該隔壁が熱膨張係数（α ₅₀ 〜
₄₀₀ ）が５０〜９０×１０ ^-7 ／Ｋである材料から構成さ
れていることを特徴とするプラズマディスプレイ。Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１Ｌ１０／Ｌｈ＝１〜２ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合はのぞく。
【請求項３】隔壁が高さ中央部から底面にかけて曲面形
状を有することを特徴とする請求項１または２記載のプ
ラズマディスプレイ。
【請求項４】隔壁の線幅が１５〜５０μｍであることを
特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイ。
【請求項５】隔壁のピッチが１００〜２５０μｍである
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイ。
【請求項６】隔壁の高さが６０〜１７０μｍであること
を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ
ディスプレイ。
【請求項７】隔壁のピッチが１００〜１６０μｍ、高さ
が１００〜１７０μｍであることを特徴とする請求項５
または６記載のプラズマディスプレイ。
【請求項８】隔壁がガラス転移点が４３０〜５００℃、
かつ、軟化点が４７０〜５８０℃であるガラス材料から
構成されていることを特徴とする請求項１または２記載
のプラズマディスプレイ。
【請求項９】隔壁が下記組成のガラス材料から構成され
ていることを特徴とする請求項１または２記載のプラズ
マディスプレイ。酸化リチウム：２〜１５重量部酸化珪素：１５〜５０重量部酸化ホウ素：１５〜４０重量部酸化バリウム：２〜１５重量部酸化アルミニウム：６〜２５重量部