JP3520720B2 - 感光性導電ペーストおよびプラズマディスプレイ用電極の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイの電極作製およびそれに用いる感光性ペーストに関
する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョ
ンの分野などでの進展が非常に期待されている。

【０００３】このような用途の拡大にともなって、繊細
で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されてい
る。ＰＤＰは、前面板と背面板の２枚のガラス基板の間
に作られた僅かな隙間を放電空間とし、アノードおよび
カソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、放電空間内
に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間
内に設けた蛍光体にあてて発光させることにより表示を
行うものである。この場合、電極は前面板と背面板にそ
れぞれストライプ状に配置され、複数本の電極が平行に
あり、前面板の電極と背面板の電極は僅かの間隙を介し
て対抗し、かつ互いに直行するように形成される。ＰＤ
Ｐの中で、蛍光体によるカラー表示に適した３電極構造
の面放電型ＰＤＰは、互いに平行に隣接した一対の表示
電極からなる複数の電極対と、各電極対と直行する複数
のアドレス電極とを有する。ただし、背面板には光のク
ロストークを防ぎ、放電空間を確保するための隔壁が、
電極間のスペースに形成される。

【０００４】上記の電極のうち前面板の電極には、表示
画面のコントラストを向上させるために黒色化する技術
が要求されている。例えば、特開昭６１−１７６０３５
号公報、特開平４−２７２６３４号公報では、黒色化し
た銀ペーストをガラス基板に印刷法でパターン形成する
方法が提案されている。印刷法では、電極パターンに対
応する印刷マスクを用いてガラス基板上に銀ペーストな
どの導電ペーストを印刷した後焼成して電極パターンが
完成する。しかしながら、スクリーン印刷法ではマスク
パターン精度、スクイーズ硬さ、印刷速度、分散性の最
適化を図っても電極パターンの幅を６０μｍ以下に細く
することができず、ファインパターン化には限界があっ
た。また、スクリーン印刷法では、印刷マスクの精度
は、マスク製版の精度に依存するので印刷マスクが大き
くなるとマスクパターンの寸法誤差が大きくなってしま
う。このため３０インチ以上の大面積のＰＤＰの場合
に、高精細のＰＤＰ作製がますます技術的に困難となっ
ている。

【０００５】また、この銀ペーストの黒色化には、銀に
鉄、クロム、ニッケル、ルテニウムなどの金属酸化物を
銀と等量以上混合する方法が採られている。しかし、こ
の方法では電極の抵抗値がかなり上がってしまうため、
電極の厚膜化や、黒電極と通常の白い電極との２層構造
化が必須となってくる。電極の厚膜化では電極の上に印
刷する誘電体層の表面平坦性が保証できなくなり、２層
構造では工程が複雑になるという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、抵抗値が低
く、かつ、黒色度の高いプラズマディスプレイまたはプ
ラズマアドレス液晶ディスプレイ用の黒色の電極を形成
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、導電性
の金属微粒子と感光性化合物を含有する有機成分からな
る感光性導電ペーストであって、導電性の金属微粒子表
面がＲｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの群から選ば
れた少なくとも１種の金属または金属酸化物で被覆され
ており、該金属または金属酸化物が導電性の金属微粒子
に対して０．５〜５重量％含有されており、かつ、該感
光性導電ペーストを基板に５〜３０μｍの厚みで塗布
し、焼成した時の色の刺激値Ｙが１〜３０の範囲である
ことを特徴とする感光性導電ペーストによって達成され
る。

【０００８】また、本発明の目的は、導電性の金属微粒
子と感光性化合物を含有する有機成分からなる感光性導
電ペーストであって、導電性の金属微粒子表面がＲｕ、
Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの群から選ばれた少なく
とも１種の金属または金属酸化物で被覆されており、該
金属または金属酸化物が導電性の金属微粒子に対して
０．５〜５重量％含有されており、かつ、該感光性導電
ペーストを基板に５〜３０μｍの厚みで塗布し、焼成し
た時の色の刺激値Ｙが１〜３０の範囲であることを特徴
とする感光性導電ペーストを基板上に塗布し、焼成し
て、電極を形成することを特徴とするプラズマディスプ
レイ用電極の製造方法よって達成される。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の電極は、抵抗値が低く、
かつ、表示画面のコントラストを向上させるために十分
なほど黒色化するために、厚み５〜３０μｍで、色の刺
激値Ｙが１〜３０であることが重要である。

【００１０】光源色の３刺激値刺ＸＹＺおよびそれらか
ら求められる色度座標ｘ、ｙ、ｚは、ＪＩＳ（日本工業
規格）Ｚ ８７２２の６．２（測定値の付記事項）、Ｊ
ＩＳＺ ８７１７の８．２（測定値の付記事項の表示）
の６．２（測定値の付記事項）、ＪＩＳ Ｚ ８７０１
（色の表示方法−ＸＹＺ表色系及びＸＹＺ表色系）に規
定される方法で求めることができる。

【００１１】本発明は感光性導電ペースト中のＡｇ、Ａ
ｌ、Ｎｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔなどの導電性の金属微粒子
（金属群Ａ）中に、Ｒｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃ
ｕなどの金属（金属群Ｂ）またはその金属酸化物を添
加、または被覆させることにより金属微粒子の黒色化を
はかり、黒色電極パターンを形成可能にすることを特徴
とする。

【００１２】この際に用いる黒色化する金属として、Ｒ
ｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉの金属または
その酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上
を含むことによって、黒色化が可能になる。特に、Ｒｕ
の酸化物をそれぞれ０．５〜５重量％含有することによ
って、黒色パターンを形成できる。また黒色に着色する
ために、金属群Ａの金属微粒子に金属群Ｂの金属または
金属酸化物を被覆してもよい。

【００１３】金属群Ａの金属微粒子表面に金属群Ｂの金
属または金属酸化物を化学メッキしたのち、４００〜５
００℃で３０分〜数時間焼成することにより、微粒子の
黒色化が可能となる。具体的には、所望の金属塩または
金属錯体の水溶液に金属群Ａの微粒子を分散させてお
き、この分散剤に還元剤を添加して、水溶液に溶解して
いた金属を析出させ、その後焼成することにより析出し
た金属を酸化し、黒色とする。

【００１４】焼成することによって、金属酸化物の添加
量が少ない場合は、金属群Ａの微粒子表面に金属酸化物
の粉末が均一に、点々と付着する。添加量が多い場合は
均一に被覆され、薄膜が形成される。この際、用いる金
属微粒子としては、平均粒径が０．５〜５μｍであるこ
とが被覆の容易さから好ましい。

【００１５】用いる金属塩または金属錯体は上記金属群
Ｂの塩または錯体であり、水溶性であれば特に限定しな
いが、たとえばハロゲン化物、シアン化物、硫酸塩、硝
酸塩、アンミン錯体、ニトロシル錯体、カルボニル錯
体、アクア錯体が好ましい。特に、たとえばＲｕの場
合、２ＲｕＣｌ₂（ＯＨ）・７ＮＨ₃・３Ｈ₂Ｏ、ＲｕＯ₂
（ＮＨ₃）₂（ＯＨ）₂、Ｎａ₂ＲｕＯ₄、Ｋ₂ＲｕＯ₄、Ｒ
ｂ₂ＲｕＯ₄、Ｃｓ₂ＲｕＯ₄、（ＮＨ₄）₂ＲｕＯ₄、Ｍｇ₂
ＲｕＯ₄、Ｃａ₂ＲｕＯ₄、Ｓｒ₂ＲｕＯ₄、Ｂａ₂Ｒｕ
Ｏ₄、Ａｇ₂ＲｕＯ₄、Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₂・Ｈ₂Ｏ、Ｒｕ
（ＮＯ）Ｂｒ₂・Ｈ₂Ｏ、Ｒｕ（ＮＯ）Ｉ₃が好ましい。

【００１６】被覆する金属群Ｂの金属または金属酸化物
は、金属群Ａの微粒子量の０．５〜５重量％であること
が、黒色度、パターン形成性、抵抗値、および焼結性の
点で優れていることから重要である。０．５重量％より
小さいと、白色に近づきＹ値が３０以上になるため、コ
ントラスト向上に効果がない。５重量％より大きいと、
焼結性が低下し抵抗値が大きくなるので好ましくない。
また、黒色度が強くなりすぎて、紫外線が下部まで到達
しなくなり、パターン形成性が低下するので好ましくな
い。

【００１７】金属群Ａの導電性金属微粒子は理論抵抗値
の小さいものが良く、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｕ、Ｐｄ、
Ｐｔなどが用いられるが、コスト面からＡｇ、Ａｌ、Ｎ
ｉを用いることが好ましい。

【００１８】本発明で用いられる導電性金属微粒子の形
状は、特に限定はないが、より緻密な導体膜を形成した
方が抵抗が低くなるのでタップ密度の大きな粒状または
球状の粒子が好ましい。これらのタップ密度は２ｇ／ｃ
ｍ³以上であることが望ましい。金属微粒子の平均粒子
径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ば
れるが、０．１〜５μｍのものがパターン形成性を良好
に保ち、電極表面を平滑にかつラインエッジをストレー
トにするために好ましく用いられる。０．１μｍ以下で
は粒子と粒子の間隙が入り組んでいるため、露光した光
がガラス基板まで到達せずパターン形成が不可能にな
る。また５μｍ以上ではパターン形成が可能ではある
が、粒子が粗すぎて電極膜の平坦性が保てず、さらには
粒子間の距離が離れるため焼成後に断線するという問題
が発生する。より好ましい粒径としては１．５〜３μｍ
である。

【００１９】感光性導電ペースト中には、基板との接着
性を高めるためにガラス微粒子（ガラスフリット）を１
０重量％以下の範囲で添加することができる。ガラス微
粒子を添加しなくても電極パターンは基板に密着してい
るが、接着力が弱く振動、衝撃等で剥離しやすくなる。
特に、ガラス基板などの低温焼成基板では６００℃以下
で焼成するため金属微粒子は完全に焼結せず、密着力が
不足する。ガラス微粒子には焼結助剤として効果があ
り、また、電極と基板界面での接着力を高める効果もあ
る。しかし、ガラス微粒子の添加量が１０重量％を越え
ると、接着力がすでに十分で変化しないのに対し、抵抗
値のみが上昇するので好ましくない。１０重量％以下で
は接着力はガラス微粒子の添加量に比例して強くなり、
比抵抗値もガラス微粒子を添加しないときの５倍以下で
あり実用に耐えうる。より好ましくは０．５〜３重量％
である。

【００２０】ガラス微粒子の熱軟化点は焼成温度以下で
ある必要がある。上記の効果を発揮するためには焼成温
度より０〜１００℃低いと最適である。ガラス基板上で
の焼成温度は５４０〜６２０℃であるので、ガラス微粒
子の熱軟化点は４７０〜６００℃が好ましい。熱軟化点
が６００℃以上であるとガラス微粒子は溶融しないので
添加する効果がみられない。４７０℃以下ではガラス微
粒子が早く軟化するためガラス微粒子が基板界面に分離
し、焼結助剤としての効果が失われるので好ましくな
い。より好ましくは５００〜５５０℃である。

【００２１】ガラス微粒子は平均粒径が金属微粒子と同
じか、もしくはやや小さいものが良く、０．１〜５μｍ
が好ましい。平均粒径が５μｍより大きい場合、金属微
粒子より大きな微粒子が電極の導通を妨げ、ライン抵抗
の上昇、ひいては電極ラインの断線をも引き起こすので
好ましくない。０．１μｍより小さいと焼成時に流動
し、基板界面に集まるので好ましくない。好ましくは
０．５〜１．５μｍである。

【００２２】本発明の感光性ペーストのうち有機成分に
関する詳細を以下に説明する。プラズマディスプレイや
プラズマアドレス液晶ディスプレイの電極に用いる場
合、有機成分はペーストの４０重量％以下にすることが
好ましい。４０重量％以上になると、焼成収縮率が大き
くなり、電極が断線する原因となるので好ましくない。
また、金属微粒子感の隙間が大きくなるので抵抗が大き
くなるので好ましくない。

【００２３】ガラス微粒子としては、次のような酸化物
を含む組成物であることが好ましい。酸化珪素はガラス
中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
い。３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安
定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガ
ラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量
％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラ
ス基板への十分な焼き付けが可能となる。

【００２４】酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％
の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱
膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的
特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガ
ラスの安定性が低下する。

【００２５】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラ
ス粉末を用いることによっても得ることができるが、リ
チウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の酸化
物は添加量としては、２０重量％以下、好ましくは、１
５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を
向上することができる。また、ガラス転移点、ガラス軟
化点を下げることができることから、低温焼成が可能と
なる。

【００２６】酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少
なくとも１種類をガラス中に、５〜５０重量％含むガラ
ス粉末を用いることによって、ガラス基板上に低温焼成
で隔壁が形成できる感光性ガラスペーストを得ることが
できる。５０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低く
なり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。特
に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラスを用
いることは、ペーストのポットライフが長いなどの利点
がある。

【００２７】の組成を含むものを５０重量％以上含有す
ることが好ましい。

【００２８】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラスによって、より低いアルカリ含有量で熱軟化温
度や線熱膨張係数のコントロールが容易になる。

【００２９】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することによ
り、硬度や加工性を改良することができるが、熱軟化
点、熱膨張係数の制御の点からは、その含有量は４０重
量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下で
ある。感光性導電ペーストに用いる無機微粒子の量は、
無機微粒子と有機成分の和に対して６０〜９５重量％で
あるのが好ましい。

【００３０】６０重量％より小さいと、焼成時の収縮率
が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因となるため、
好ましくない。また、焼成時に多くの有機成分が焼失す
ることにより、空孔が発生しやすく、好ましくない。さ
らにパターン太り、現像時の残膜の発生が起こりやす
い。９５重量％より大きいと、基板にペーストを塗布、
乾燥した時点で空孔が発生し、パターン形成性ができな
くなる。

【００３１】プラズマディスプレイの電極に用いる場合
は、ガラス転移点、熱軟化点の低いガラス基板上にパタ
ーン形成する。

【００３２】有機成分は、感光性モノマー、感光性オリ
ゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選
ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バイ
ンダー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助
剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、消泡剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤な
どの添加剤成分を加えることも行われる。

【００３３】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、 （Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの （Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの （Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００３４】また、光可溶型のものとしては、 （Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの （Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル
等がある。

【００３５】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機粉末と混合して簡便に用いることができる
感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。

【００３６】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これ
らの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭
素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルス
チレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチル
スチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルス
チレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレ
ン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、およ
び、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくは
すべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種ま
たは２種以上使用することができる。

【００３７】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００３８】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後
の硬度不足が発生するため好ましくない。

【００３９】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００４０】また、前述の炭素−炭素二重結合を有する
化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリ
ゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際
に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以
上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他
の感光性のモノマーと共重合することができる。

【００４１】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。

【００４２】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００４３】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性
オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応
性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチ
レン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリ
ル基、メタクリル基などがあげられる。

【００４４】このような側鎖をオリゴマーやポリマーに
付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基や
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やア
クリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはア
リルクロライドを付加反応させて作る方法がある。

【００４５】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。

【００４６】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等があ
る。

【００４７】また、グリシジル基やイソシアネート基を
有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライ
ド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド
は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカ
ルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させる
ことが好ましい。

【００４８】感光性ガラスペースト中の感光性ポリマ
ー、感光性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマ
ー成分の量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率
の点で優れていることから、金属微粒子と感光性成分の
和に対して、５〜３０重量％であることが好ましい。こ
の範囲外では、パターン形成が不可能もしくは、形成し
たパターンの焼結性が悪くなるため好ましくない。

【００４９】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキ
シエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキ
ノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズ
アントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ
−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキ
サノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ
−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロ
パンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−
エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）
オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホル
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、
メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが
あげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。

【００５０】光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．
０５〜３０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
５〜２０重量％である。重合開始剤の量が少なすぎる
と、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれ
ば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。

【００５１】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。

【００５２】有機染料の添加量は金属微粒子に対して０
〜０．５重量部が好ましい。染料を添加しなくともパタ
ーンは形成できるが光の散乱による非露光部の硬化が進
むため０．０１〜０．０５重量％添加することが好まし
い。特に本発明で用いられる金属微粒子は黒色であるの
で微粒子自身の吸収が大きく、添加する染料は少量でよ
い。０．５重量％を越えると紫外線を吸収しすぎるため
にペーストの表層しか硬化せず、パターン形成ができな
くなる。

【００５３】有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法
の一例を上げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法以
外に、該有機溶媒中に金属微粒子を混合後、乾燥する方
法があげられる。この方法によって金属微粒子の個々の
粒子表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の
粉末が作製でき、これを使用する。

【００５４】本発明において、無機粉末に含まれるＦ
ｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎａや微量に存在するＰｂ、Ｃｄ、Ｍ
ｇなどの金属および酸化物がペースト中に含有する感光
性成分と反応してペーストが短時間でゲル化し、塗布で
きなくなる場合がある。このような反応を防止するため
に安定化剤を添加してゲル化を防止することが好まし
い。用いる安定化剤としては、トリアゾール化合物が好
ましく用いられる。トリアゾール化合物としては、ベン
ゾトリアゾール誘導体が好ましく用いられる。この中で
も特にベンゾトリアゾールが有効に作用する。本発明に
おいて使用されるベンゾトリアゾールによるガラスフリ
ットの表面処理の一例を上げると、無機粉末に対して所
定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶
媒に溶解した後、これら粉末が十分に浸すことができる
ように溶液中に１〜２４時間浸積する。浸積後、好まし
くは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を蒸発させてト
リアゾール処理を行った粉末を作製する。使用される安
定化剤の割合（安定化剤／無機粉末）は０．０５〜５重
量％が好ましい。

【００５５】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。

【００５６】本発明ではこれらを１種または２種以上使
用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始
剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感
光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分
に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは
０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば
光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多
すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがあ
る。

【００５７】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００５８】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００５９】隔壁の空孔を減少させるために、ポリエチ
レングリコール（分子量４００〜８００）などのアルキ
レングリコール系の消泡剤を添加するのが効果的であ
る。ペースト中の気泡を減少させ、焼成前の隔壁パター
ン中の空孔を減少させることができる。酸化防止剤は、
保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために
添加される。酸化防止剤の具体的な例として２，６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシア
ニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、
２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−
トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−
ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−
（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリッ
クアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプ
ロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げら
れる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は通常、
添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％
である。

【００６０】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００６１】感光性ペーストは、通常、無機粉末、紫外
線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開
始剤、ガラスフリットおよび溶媒等の各種成分を所定の
組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均
質に混合分散し作製する。

【００６２】ペーストの粘度は無機粉末、増粘剤、有機
溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって
適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ
（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布
をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印
刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５
万〜２０万ｃｐｓが好ましい。

【００６３】次に、感光性ペーストを用いてパターン加
工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定
されない。

【００６４】ガラス基板やセラミックスの基板、もしく
は、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面
塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、
スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイ
コーター、ブレードコーター等の方法を用いることがで
きる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、
ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。

【００６５】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができるまた、フィルム上に塗布した場合、フィ
ルム上で乾燥を行った後、次の露光工程を行う場合と、
ガラスやセラミックの基板上に張り付けた後、露光工程
を行う方法がある。

【００６６】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。

【００６７】また、フォトマスクを用いずに、赤色や青
色のレーザー光などで直接描画する方法を用いても良
い。

【００６８】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。

【００６９】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ
／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分
間露光を行なう。

【００７０】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコ
ール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリ
エステルなどのフィルムが上げられる。

【００７１】ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上すると考えられる。

【００７２】ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチ
レン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光
性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用い
る方法もある。

【００７３】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場
合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行な
う。

【００７４】用いる現像液は、感光性ペースト中の有機
成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有
機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加しても
よい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を
持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像でき
る。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナト
リウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アル
カリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用い
た方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好まし
い。

【００７５】有機アルカリとしては、アミン化合物を用
いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常
０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量
％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去され
ず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離さ
せ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくな
い。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うこ
とが工程管理上好ましい。

【００７６】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。

【００７７】ガラス基板上にパターン加工する場合は、
５４０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成
を行う。

【００７８】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加
熱工程を導入しても良い。

【００７９】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である。

【００８０】実施例１ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＲｕ
Ｏ₂ を３重量％になるよう均一に被覆した銀を使用し、
金属微粒子および感光性有機成分から成る感光性導電ペ
ーストを作製した。ペーストは感光性の有機成分すべて
を混ぜ溶解した後に、金属微粒子を添加し三本ローラー
などの混練機で混練することによって作製した。なお、
使用した金属微粒子を表１に、ペースト組成を表２に示
した。

【００８１】次に、２５ｃｍ×３５ｃｍ角のソーダガラ
ス基板にスクリーン印刷機を用いてペーストを印刷し
た。印刷は４００メッシュのスクリーンで行い、塗布厚
みを１０μｍにした。印刷後に溶媒の乾燥を１００℃で
３０分行った。

【００８２】露光は５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水
銀灯で２０秒間紫外線露光を行った。露光時に使用した
フォトマスクはネガ型で、光硬化させる部分が光透過す
るクロムマスクである。電極パターンはピッチが１４０
μｍ、線幅が４０μｍのストライプ状の高精細パターン
を使用した。

【００８３】現像は、３０℃のモノエタノールアミン
０．１％水溶液のシャワーで行い、光照射されなかった
部分を除去した。そして、純水のシャワーで現像液を洗
い流し、８０℃で２０分間乾燥した。

【００８４】焼成は、２５０℃／時間で昇温し、最高温
度５８０℃、１５分間保持で行った。同じ条件で、パタ
ーン解像度テスト用サンプル、電極膜の黒さ測定用サン
プル、および比抵抗の測定用サンプルを作製し、パター
ン解像度の観察、電極膜の黒さおよび比抵抗の測定を行
った。解像度は電極パターンの電子顕微鏡（ＳＥＭ）写
真で全体、表面、断面を観察した。電極膜の黒さは、パ
ターン形成をしないベタを焼成したサンプルについて、
スガ試験機（株）製のカラーコンピューター（ＳＭ−７
−ＣＨ）を用いて、刺激値Ｙを測定した。比抵抗は専用
パターンを作製して測定・算出をした。

【００８５】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は５．０であり、黒色度は非常
に高かった。また、比抵抗値は、１０μΩ／ｃｍ² であ
り、実用に耐えうるものであった。

【００８６】実施例２ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＦｅ
₂Ｏ₃を１重量％になるよう均一に被覆した銀を使用した
以外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行った。

【００８７】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は１０．０であり、黒色度は高
かった。また、比抵抗値は、１８μΩ／ｃｍ² であり、
実用に耐えうるものであった。

【００８８】実施例３ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＣｕ
Ｏを１重量％になるよう均一に被覆した銀を使用した以
外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行った。

【００８９】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は８．０であり、黒色度は高か
った。また、比抵抗値は、１８μΩ／ｃｍ² であり、実
用に耐えうるものであった。

【００９０】実施例４ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＭｏ
Ｏ₂ を１重量％になるよう均一に被覆した銀を使用した
以外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行った。

【００９１】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は１２．０であり、黒色度は高
かった。また、比抵抗値は、２０μΩ／ｃｍ² であり、
実用に耐えうるものであった。

【００９２】実施例５ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＲｕ
Ｏ₂ を３重量％になるよう均一に被覆したアルミニウム
を使用した以外は、実施例１と同様にして、作製・評価
を行った。

【００９３】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は２０．０であり、黒色度は高
かった。また、比抵抗値は、２５μΩ／ｃｍ² であり、
実用に耐えうるものであった。

【００９４】実施例６ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＲｕ
Ｏ₂ を３重量％になるよう均一に被覆したニッケルを使
用した以外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行
った。

【００９５】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。Ｙ値は５．０であり、黒色度は非常
に高かった。また、比抵抗値は、２５μΩ／ｃｍ² であ
り、実用に耐えうるものであった。

【００９６】比較例１ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＲｕ
Ｏ₂ を１０重量％になるよう均一に被覆した銀を使用し
た以外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行っ
た。

【００９７】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。また、Ｙ値は３．０であり、黒色度
は高かった。しかしながら、抵抗値は、５０μΩ／ｃｍ
² であり、実用に耐えうるものでなかった。

【００９８】比較例２ 黒色化した導電性金属微粒子として、微粒子表面にＣｕ
Ｏを１０重量％になるよう均一に被覆した銀を使用した
以外は、実施例１と同様にして、作製・評価を行った。

【００９９】パターン形成性は良好で、電極ラインの断
面は矩形であった。また、Ｙ値は３．０であり、黒色度
は高かった。しかしながら、比抵抗値は、１００μΩ／
ｃｍ² であり、実用に耐えうるものでなかった。

【０１００】

【表１】

【表２】 表中の略称に関して次に示す。

【０１０１】Ｘ−４００７ ：４０％のメタアクリル酸
（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭ
Ａ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体
のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタ
アクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子
量４３０００、酸価９５の感光性ポリマー ＴＰＡ ：トリメチロールプロパントリアクリレ
ート ＭＴＰＭＰ ：2-メチル-1-［4-(メチルチオ)フェニ
ル］-2-モルホリノプロパノン-1 ＤＢＰ ：ジブチルフタレート ＳｉＯ₂ ：”アエロジル” スダン ：アゾ系染料、Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ γ-BL ：γ−ブチロラクトン

【表３】

【０１０２】

【発明の効果】本発明の黒色化した感光性導電ペースト
を用いることにより、簡便な方法で抵抗値の低いプラズ
マディスプレイまたはプラズマアドレス液晶ディスプレ
イの黒色の電極を形成することができる。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−227153（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−92027（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−92028（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−258303（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−176035（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−272634（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 7/00 - 7/42 H01B 1/00 - 1/24 H01J 9/02

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】導電性の金属微粒子と感光性化合物を含有
   する有機成分からなる感光性導電ペーストであって、導
   電性の金属微粒子表面がＲｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍ
   ｎ、Ｃｕの群から選ばれた少なくとも１種の金属または
   金属酸化物で被覆されており、該金属または金属酸化物
   が導電性の金属微粒子に対して０．５〜５重量％含有さ
   れており、かつ、該感光性導電ペーストを基板に５〜３
   ０μｍの厚みで塗布し、焼成した時の色の刺激値Ｙが１
   〜３０の範囲であることを特徴とする感光性導電ペース
   ト。
2. 【請求項２】導電性の金属微粒子として、Ａｇ、Ａｕ、
   Ｐｄ、Ｐｔ、ＮｉおよびＡｌの群から選ばれた少なくと
   も１種の金属を含有することを特徴とする請求項１記載
   のペースト。
3. 【請求項３】導電性の金属微粒子の平均粒径が、０．１
   〜５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１または
   ２に記載の感光性導電ペースト。
4. 【請求項４】感光性導電ペースト中に１０重量％以下の
   範囲内でガラス微粒子を含有することを特徴とする請求
   項１〜３のいずれかに記載の感光性導電ペースト。
5. 【請求項５】ガラス微粒子のガラス転移点が４００〜５
   ００℃、ガラス軟化点が４７０〜６００℃であることを
   特徴とする請求項４に記載の感光性導電ペースト。
6. 【請求項６】ガラス微粒子の平均粒径が０．１〜５μｍ
   の範囲であることを特徴とする請求項４または５に記載
   の感光性導電ペースト。
7. 【請求項７】有機成分中に、不飽和二重結合を持つ重量
   平均分子量５００〜１０万のオリゴマーもしくはポリマ
   ーを１０〜９０重量％含むことを特徴とする請求項１〜
   ６のいずれかに記載の感光性導電ペースト。
8. 【請求項８】プラズマディスプレイに用いることを特徴
   とする請求項１〜７のいずれかに記載の感光性導電ペー
   スト。
9. 【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載の感光性導
   電ペーストを基板上に塗布し、焼成して、電極を形成す
   ることを特徴とするプラズマディスプレイ用電極の製造
   方法。
10. 【請求項１０】感光性導電ペーストを基板上に塗布し、
    フォトリソグラフィ法でパターン形成した後に、焼成し
    て、電極を形成することを特徴とする請求項９に記載の
    プラズマディスプレイ用電極の製造方法。