KR100732905B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물, 유전체용적층체 및 유전체의 형성 방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물, 유전체용적층체 및 유전체의 형성 방법 Download PDF

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Abstract

무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물; 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 (monomer) 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 하부층 상부에 제공되는 상부층 조성물; 및 열분해성 수지를 함유하고, 하부층과 상부층 사이에 제공되는 중간층 조성물을 포함하는, 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물, 유전체용 적층체 및 유전체의 형성 방법{COMPOSITION FOR DIELECTRIC OF PLASMA DISPLAY PANEL, LAMINATE FOR DIELECTRIC, AND METHOD FOR FORMING THE DIELECTRIC}
기술분야
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체를 형성하기 위한 유전체용 조성물, 유전체용 적층체, 및 유전체의 형성방법에 관한 것이다.
배경 기술
플라즈마 디스플레이 패널 (이하, PDP로 약칭) 은, 2장의 유리기판과 그 기판들 사이에 제공된 배리어 리브 (barrier rib) 에 의해 형성되는 다수의 미소공간내에, 인광체, 전극 및 무기재료로 이루어지는 유전체를 형성하고, 거기에 방전 가스를 주입함으로써 구성된다. PDP에서는, 각 미소공간이 1개의 화소이며, 전극에 전압이 인가될 때, 유전체를 통해 방전이 시작되고, 이에 따라 방전 가스가 여기되고 방전 가스가 기저 상태로 돌아갈 때에 방출된 자외선에 의해 인광체가 발광한다. 이러한 PDP는 종래의 액정표시장치나 CRT 디스플레이에 비해, 대형화면에 적합해서 실용화되고 있다.
미소 공간의 구체적인 구조로서, 종래에는 다수의 평행한 홈 (slot) 을 정렬한 스트라이프형 (stripe type) 이 많이 사용되었다. 이 스트라이프형에서는, 홈에서의 바닥 및 바닥과 대향하는 2측면인 3면에 인광체가 형성되고, 홈의 양단으 로부터 방전가스가 유입된다. 그러나, 이 구조에서는 발광휘도에 한계가 있다.
그래서, 최근에는 스트라이프형의 각 홈에 배리어가 제공된 셀형 (cell type) 이 개발되었다. 이 셀형에서, 각 셀 내의 바닥면 및 바닥면을 둘러싸는 4개의 측면인 총 5면에 인광체를 도포하여, 인광체의 표면적을 증가시킬 수 있다. 따라서, 휘도를 향상시킬 수 있다.
그러나, 셀형의 경우 4면 모두가 배리어 리브로 덮여있기 때문에 방전가스의 유입로를 확보하기 어렵다는 문제가 있다. 따라서, 각 셀을 둘러싸는 배리어 리브에 단차 (column) 를 만들고, 단차에 의해 형성되는 틈새를 통해 가스를 유입하는 기술이 개발되었다 (예를 들어, 일본국 공개특허공보 제2001-202876호 및 일본국 공개특허공보 제2001-202877호 참조).
그러나, 이 경우의 제조방법은 서로 직교하도록 형성된 세로방향 및 가로방향의 배리어 리브의 각각을 포토레지스트나 샌드 블라스트를 이용한 패터닝 공정을 통해 형성하는 여러 단계의 공정을 필요로 하며, 따라서 작업효율이 불량하다는 문제가 있다.
상술한 바와 같이, PDP에서, 특히 셀형의 PDP에서는, 방전 가스 유입 경로를 용이하게 확보하기 어렵다는 문제가 있다.
본 발명의 과제는 방전가스의 유입로를 종래에 비해 비교적 간단하게 형성하고, 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 공정의 작업 효율을 향상시키는 것이다.
발명의 개시
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 제 1 양태에 따르면, 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물은 무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물; 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 (monomer) 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 하부층 상부에 제공되는 상부층 조성물; 및 열분해성 수지를 함유하고, 하부층과 상부층 사이에 제공되는 중간층 조성물을 포함한다.
본 발명의 제 1 양태에 따르면, 조성물은 무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물과, 무기분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 상부층 조성물의 사이에 열분해성 수지를 함유하는 중간층 조성물을 포함한다.
유전체를 형성할 때, 먼저, 각층의 조성물을 포개서 유전체용 적층체를 구성한 상태에서, 상부층에 포토마스크 등을 통해 소정파장의 광을 선택적으로 조사하고, 상부층을 현상처리함으로써 패턴을 소망하는 형상으로 형성한다. 그 다음, 소성하여 하부층과 상부층이 독립적으로 유기 함유물을 잃어서 수축하는 동시에 중간층이 열분해되고, 이어서 전체가 일체화되어 유전체가 형성된다. 중간층이 없을 경우, 하부층과 상부층이 일체화되고, 이어서 유기 함유물을 잃어서 수축한다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서 수축이 발생하고, 패턴을 따라 크랙 (crack) 이 발생할 수 있다. 그러나, 열분해성 수지를 함유하는 중간층을 제공함으로써, 중간층이 열분해되는 동안에 하부층과 상부층이 유기 함유물을 잃어서 수축하고, 이어서 하부층과 상부층이 일체화된다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서 수축에 의해 크랙이 발생하는 것을 방지하고, 양호한 소성 패턴을 얻을 수 있다.
PDP를 제조할 때, 상부층으로부터 파생된 유전체의 요철면을 배리어 리브에 적용함으로써 유전체의 오목부로부터 각 셀로 방전 가스를 유입하는 경로를 확보할 수 있다. 상술한 바와 같이, 각 층을 일괄적으로 소성하여 유전체를 형성함으로써 간단하게 가스 유입로를 형성할 수 있고, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정의 작업 효율을 상승시킬 수 있으며, 패널당 택트 (tact) 시간을 단축할 수 있다.
열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인 것이 바람직하다.
제 1 양태의 효과와 유사한 효과를 얻는데 부가하여, 유전체용 조성물에 따르면, 열분해성 수지가 열처리시 분해되는데 오랜 시간이 걸리기 때문에, 그 동안 하부층과 상부층이 유기 함유물을 잃어서 수축하고, 이어서 하부층과 상부층이 일체화된다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서 수축에 의해 크랙이 발생하는 것을 방지하고, 보다 양호한 소성 패턴을 얻을 수 있다.
열분해성 수지는 바인더 수지와 상이한 수지인 것이 바람직하다.
상기 유전체용 조성물에 따르면, 제 1 양태에서와 유사한 효과를 얻으며, 또한, 열분해성 수지가 바인더 수지와 상이한 수지이기 때문에, 중간층이 하부층과 상부층 사이에 적층될 때 하부층 및 상부층의 수지가 중간층으로 침투하는 것을 방지할 수 있으며, 소성시 크랙을 더 확실하게 방지할 수 있다.
열분해성 수지는 수용성이고, 하부층의 바인더 수지는 물에서 거의 용해되지 않는 것이 바람직하다.
유전체용 조성물에 따르면, 상술한 효과를 얻는데 부가하여, 열분해성 수지가 수용성이고 하부층의 바인더 수지는 물에서 거의 용해되지 않기 때문에, 각 층의 조성물은 그것들이 용매 내에서 용해에 의해 적층될 때 서로 섞이지 않는다. 따라서, 하부층 및 상부층의 수지가 중간층으로 침투하는 것을 더 확실하게 방지할 수 있으며, 소성시의 크랙을 더 확실하게 방지할 수 있다. 상부층을 패터닝할 때, 중간층이 수용성이므로 상부층의 무기 물질은 하부층 상에 잔류물로 존재하지 않는다.
하부층 조성물과 중간층 조성물 중 하나 이상은 소정파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유하는 것이 바람직하다.
여기서, 광흡수제는 상부층을 노광할 수 있는 파장의 광을 흡수하는 것으로, 그 재료는 유전체의 특성을 손상시키는 것이 아니라면, 유기물질 또는 무기물질 일 수도 있으며, 여러종류의 광흡수제를 혼합해서 사용할 수도 있다.
유전체용 조성물에 따르면, 상기 효과와 유사한 효과를 얻는다. 하부층과 중간층 중 하나 이상의 층을 형성하기 위한 유전체용 조성물은, 소정파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유한다. 따라서, 각층을 포개서 유전체용 적층체를 이룬 상태에서, 상부층에 포토마스크 등을 통해서 소정파장의 광을 선택적으로 조사했을 경우, 상부층을 통해 통과하여 광흡수제를 함유하는 층에 도달한 광은 광흡수제에 의해 흡수된다. 이는 하부층에 도달한 광이 하부층 내의 무기 분말등에 의해 산란되고, 이어서 그 광이 랜덤한 방향으로부터 상부층으로 다시 들어가는 헐레이션 (halation) 을 방지하고, 마스크의 형상에 따라 소망하는 잠상 (latent image) 패턴을 형성할 수 있다.
본 발명의 제 2 양태에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체는 무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층; 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 하부층 상부에 제공되는 상부층; 및 열분해성 수지를 함유하고, 상기 하부층과 상부층 사이에 제공되는 중간층을, 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물에 포함한다.
유전체용 적층체에 따르면, 제 1 양태와 유사하게, 하부층과 상부층이 독립적으로 유기 함유물을 잃어서 수축함과 동시에 중간층이 열분해하고, 이어서 전체가 일체화되어 유전체를 형성하였다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서의 수축에 기인한 크랙을 방지할 수 있다.
제 1 양태와 마찬가지로, 가스 유입로를 용이하게 형성할 수 있고, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정의 작업 효율을 개선할 수 있으며, 패널당 택트 시간을 단축할 수 있다.
중간층은 두께가 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
유전체용 적층체에 따르면, 상기와 유사한 효과를 얻는다. 소성시에 중간층이 열분해되어 발생하는 물과 이산화탄소 때문에, 상부층의 패턴 형성 부분과 중간층의 접촉 부분 주위에 거품이 생길 수 있다. 그러나, 중간층의 두께를 5 ㎛ 이하로 만들면, 거품을 남기지 않고 유전체를 형성할 수 있다.
열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인 것이 바람직하다.
열분해성 수지는 상기 바인더 수지와 상이한 수지인 것이 바람직하다.
열분해성 수지는 수용성이고, 상기 하부층의 바인더 수지는 물에서 거의 용해되지 않는 것이 바람직하다.
하부층 조성물과 중간층 조성물 중 하나 이상은 소정 파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제 3 양태에 따르면, 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법으로서, 무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층; 열분해성 수지를 함유하는 중간층; 및 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 상부층을 유리기판 상에 하부층, 중간층 및 상부층의 순서대로 적층하도록 형성하는 단계; 그 다음 상부층에 선택적으로 광을 조사한 후 현상하여 소정 형상의 패턴을 형성하는 단계; 및 각 층을 일괄적으로 소성하는 단계를 포함한다.
중간층은 두께가 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인 것이 바람직하다.
열분해성 수지는 바인더 수지와 상이한 수지인 것이 바람직하다.
열분해성 수지는 수용성이고, 하부층의 바인더 수지는 물에서 거의 용해되지않는 것이 바람직하다.
하부층 조성물과 중간층 조성물 중 하나 이상은 소정 파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 무기 분말과 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물과 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 상부층 조성물 사이에 열분해성 수지를 함유하는 중간층 조성물을 제공함으로써, 하부층과 상부층은 중간층이 열분해되는 동안 유기 함유물을 잃어서 수축하고, 이어서 하부층과 상부층은 일체화된다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서의 수축에 기인하여 발생하는 크랙을 방지하고 양호한 소성 패턴을 얻을 수 있다.
패턴을 상부층 상에 소망하는 형상으로 형성하고 이어서 소성에 의해 모든 유기 함유물을 제거하여 유전체를 얻을 경우, 상부층으로부터 파생된 요철 패턴이 유전체의 표면상에 형성된다. PDP를 제조할 때, 상부층으로부터 파생된 유전체의 요철면을 배리어 리브에 적용함으로써 유전체의 오목부로부터 각 셀로 방전 가스를 유입하는 경로를 확보할 수 있다. 상술한 바와 같이, 각층을 일괄적으로 소성하여 유전체를 형성함으로써 가스 유입로를 간단히 형성할 수 있으며, 따라서, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정의 작업 효율을 향상시킬 수 있고 패널당 택트 시간을 단축할 수 있다.
발명을 실시하기 위한 최선의 모드
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 유전체용 적층체는 무기 분말과 바인더 수지가 필수성분인 하부층과, 무기분말과 바인더 수지에 부가하여 광중합성 모노머 및 광중합 개시제가 필수성분인 상부층의 사이에 열분해성 수지가 필수성분인 중간층을 제공함으로써 구성된다. 또한, 하부층은 소정파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 함유할 수도 있다.
보통, 이것들을 각각 용매 등과 혼합하고, 액상 또는 페이스트의 유전체용 조성물을 각각 제조하고, 이 조성물을 차례대로 유리기판 상에 직접 도포하거나 또는 조성물로부터 막을 제작하고 상기 막을 차례대로 유리기판 상에 적층함으로써 PDP를 구성하는 유전체의 층을 형성할 수 있다.
하부층과 상부층에 함유되는 무기분말은, 소성에 의해 유리화할 수 있는 것이 바람직하며, 예를 들어, PbO-SiO2, PbO-B2O3-SiO2, ZnO-SiO2, ZnO-B2O3-SiO2, BiO-SiO2, BiO-B2O3-SiO2, PbO-B2O3-SiO2-Al2O3, 및 PbO-ZnO-B2O3-SiO2 시스템 등을 포함한다.
하부층과 상부층에 함유된 바인더 수지로서, 하기에 포함된 중합성 또는 공중합성 (copolymerizing) 모노머에 의해 얻은 것들을 사용할 수 있다. 이 모노머들은 하부층과 상부층의 광중합성 모노머로서 혼합할 수 있다.
이러한 모노머로서, 예를 들어, (메스) 아크릴레이트 에스테르, 에틸렌 불포화 카르복실산 및 다른 공중합성 모노머를 적절하게 사용할 수 있고, 벤질 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 스티렌, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜 모노메타크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 모노아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 모노메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 2-아크릴오일옥시에틸 프탈레이트, 2-아크릴오일옥시에틸-2-히드록시에틸 프탈레이트, 2-메타크릴오일옥시에틸-2-히드록시프로필 프탈레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-프로필 아크릴레이트, n-프로필 메타크릴레이트, i-프로필 아크릴레이트, i-프로필 메타크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, i-부틸 아크릴레이트, i-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 아크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 아크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 메타크릴레이트, 3-히드록시프로필 아크릴레이트, 3-히드록시프로필 메타크릴레이트, 2-히드록시부틸 아크릴레이트, 2-히드록시부틸 메타크릴레이트, 3-히드록시부틸 아크릴레이트, 3-히드록시부틸 메타크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 메타크릴레이트, 3-에틸헥실 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노메타크릴레이트, 글리세롤 아크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 모노아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 모노메타크릴레이트, 디메틸아미노에틸 아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 신남산, 말레산, 말레 무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘 무수물, 시트라콘산, 시트라콘 무수물 등을 포함한다. 이들 중, 아크릴산 및 메타크릴산이 적절하게 사용된다.
다른 공중합성 모노머로서, 예를 들어, 상술한 (메스) 아크릴레이트 에스테르의 예시 화합물을 각각 푸마레이트, 말레이트, 크로토네이트 및 이타코네이트 화합물로 바꾼 푸마레이트 에스테르, 말레이트 에스테르, 크로토네이트 에스테르 및 이타코네이트 에스테르, o-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, o-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, 비닐 아세테이트, 비닐 부티레이트, 비닐 프로피오네이트, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 이소프렌, 클로로프렌, 3-부타디엔 등을 포함할 수 있다.
상부층에 함유된 광중합성 모노머는 상술한 모노머를 포함할 수 있다.
상기 모노머를 바인더 수지로 사용하기 위한 중합에서 중합 촉매로서, 일반적인 라디칼 중합개시제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 2-2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴 및 2,2'-아조비스-(4-메톡시-2-디메틸발레로니트릴과 같은 아조 화합물, 벤조일 과산화물, 라우로일 과산화물, tert-부틸 퍼옥시피발레이트 및 1,1'-비스-(tert-부틸퍼옥시)시클로헥산과 같은 유기 과산화물 및 과산화 수화물 등을 포함한다. 과산화물을 라디칼 중합개시제로서 사용할 때, 환원제를 결합함으로써 산화환원반응 (redox) 형 개시제로 만든다.
상기 모노머의 폴리머 또는 코폴리머 이외에, 바인더 수지로서, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 카르복시에틸셀룰로오스 및 카르복시에틸메틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체, 및 이 셀룰로오스 유도체와 에틸렌 불포화 카르복실산 및 (메스) 아크릴레이트 화합물의 다른 코폴리머를 사용할 수 있다.
또한, 바인더 수지는 폴리비닐 알코올과 부틸알데히드의 반응물인 폴리부티랄 수지와 같은 폴리비닐알코올, δ-발레롤락톤, ε-카프롤락톤, β-프로피올락톤, α-메틸-β-프로피올락톤, β-메틸-β-프로피올락톤, α,α-디메틸-β-프로피올락톤 및 β,β-디메틸-β-프로피올락톤과 같은 락톤이 고리개방형으로 중합된 폴리에스테르, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 및 네오펜틸글리콜과 같은 알킬렌 글리콜 단독 또는 2종 이상의 디올과 말레산, 푸마르산, 글루타르산 및 아디프산과 같은 디카르복실산의 축합반응으로 얻은 폴리에스테르, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜 및 폴리펜타메틸렌글리콜과 같은 폴리에테르, 비스페놀 A, 히드로퀴논 및 디히드록시시클로헥산과 같은 디올과 디페닐카보네이트, 포스겐 및 호박산 무수물과 같은 카르보닐 화합물의 반응물인 폴리카보네이트를 포함한다.
상기 바인더 수지는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다. 하부층의 바인더 수지는 하기에 기술한 열분해성 수지가 수용성일 때 물에서 거의 용해되지 않는 것이 바람직하다.
여기서, 하부층과 상부층의 유전체용 조성물이 액상 또는 페이스트로 제조될 때, 유기 용매를 용매로 사용할 수 있다. 유기 용매는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 3-메톡시-3-메틸부탄올과 같은 알코올, 테트라히드로퓨란 및 디옥산과 같은 시클릭 에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노에틸에테르와 같은 다원자가 (polyvalent) 알코올의 알킬 에테르, 2-메톡시부틸 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 4-메톡시부틸 아세테이트, 2-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-에틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 2-에톡시부틸 아세테이트 및 4-에톡시부틸 아세테이트와 같은 알콕시알킬 아세테이트, 에틸렌글리콜 에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르 아세테이트 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트와 같은 다원자가 알코올의 알킬에테르 아세테이트, 톨루엔 및 자일렌과 같은 방향성 히드로카본, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 및 디아세톤 알코올과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 에톡시아세테이트 에틸 히드록시아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트 및 메틸 3-에톡시프로피오네이트와 같은 에스테르를 포함한다. 이들 중에서, 시클릭 에테르, 다원자가 알코올의 알킬에테르, 다원자가 알코올의 알킬에테르 아세테이트, 케톤, 에스테르 등이 바람직하다.
이 용매들은 하부층과 상부층의 유전체용 조성물을 용해하거나 균일하게 분산하는데 사용된다. 조성물이 유전체용 조성물에서 용매로 기능하는 액체 성분 을 함유하고, 새로운 용매를 첨가하지 않고 있는 그대로 용해되거나 균일하게 분산된다면, 용매는 사용되지 않을 수도 있다.
하부층과 상부층 사이에 설치된 중간층의 주성분이 되는 열분해성 수지로서, 5℃/분으로 600℃까지 승온하고, 수지를 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인 수지가 바람직하다.
구체적으로, 하기에 포함된 중합성 또는 공중합성 모노머에 의해 얻은 것들을 사용할 수 있으며, 하부층 및 상부층용으로 사용되는 바인더 수지와 상이한 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
이러한 모노머로서, 예를 들어, (메스) 아크릴레이트 에스테르, 에틸렌 불포화 카르복실산 및 다른 공중합성 모노머를 사용할 수 있으며, 벤질 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 스티렌, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜 모노메타크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 모노아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌 모노메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸 프탈레이트, 2-아크릴로일옥시에틸-2-히드록시에틸 프탈레이트, 2-메타크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필 프탈레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-프로필 아크릴레이트, n-프로필 메타크릴레이트, i-프로필 아크릴레이트, i-프로필 메타크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, i-부틸 아크릴레이트, i-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 아크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 아크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 메타크릴레이트, 3-히드록시프로필 아크릴레이트, 3-히드록시프로필 메타크릴레이트, 2-히드록시부틸 아크릴레이트, 2-히드록시부틸 메타크릴레이트, 3-히드록시부틸 아크릴레이트, 3-히드록시부틸 메타크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 메타크릴레이트, 3-에틸헥실 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노메타크릴레이트, 글리세롤 아크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 모노아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 모노메타크릴레이트, 디메틸아미노에틸 아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 신남산, 말레산, 말레무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘 무수물, 시트라콘산, 시트라콘 무수물 등을 포함할 수 있다.
다른 공중합성 모노머로서, 예를 들어, 상술한 (메스) 아크릴레이트 에스테르의 예시 화합물을 각각 푸마레이트, 말레이트, 크로토네이트 및 이타코네이트 화합물로 바꾼 푸마레이트 에스테르, 말레이트 에스테르, 크로토네이트 에스테르 및 이타코네이트 에스테르, o-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, o-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, 비닐 아세테이트, 비닐 부티레이트, 비닐 프로피오네이트, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 이소프렌, 클로로프렌, 3-부타디엔 등을 포함할 수 있다.
상기 모노머의 폴리머 및 코폴리머 이외에, 열분해성 수지로서, 셀룰로오스, 히드록시메틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 카르복시에틸셀룰로오스 및 카르복시에틸메틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체, 및 이 셀룰로오스 유도체와 에틸렌 불포화 카르복실산 및 (메스) 아크릴레이트 화합물의 다른 코폴리머를 사용할 수 있다.
또한, 열분해성 수지는 폴리비닐 알코올과 부틸알데히드의 반응물인 폴리부티랄 수지와 같은 폴리비닐알코올, δ-발레롤락톤, ε-카프롤락톤, β-프로피올락톤, α-메틸-β-프로피올락톤, β-메틸-β-프로피올락톤, α,α-디메틸-β-프로피올락톤 및 β,β-디메틸-β-프로피올락톤과 같은 락톤이 고리개방형으로 중합된 폴리에스테르, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 및 네오펜틸글리콜과 같은 알킬렌 글리콜 단독 또는 2종 이상의 디올과 말레산, 푸마르산, 글루타르산 및 아디프산과 같은 디카르복실산의 축합반응으로 얻은 폴리에스테르, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜 및 폴리펜타메틸렌글리콜과 같은 폴리에테르 및 비스페놀 A, 히드로퀴논 및 디히드록시시클로헥산과 같은 디올과 디페닐카보네이트, 포스겐 및 호박 무수물과 같은 카르보닐 화합물의 반응물인 폴리카보네이트를 포함한다.
상기 열분해성 수지에서, 특히, 수용성 수지가 바람직하고, 내용매성을 갖는 수지가 바람직하다. 특히, 폴리비닐 알코올 및 수용성 셀룰로오스 유도체가 바 람직하다. 상기 열분해성 수지는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용가능하다.
여기서, 중간층의 유전체용 조성물은 액상 또는 페이스트로 제조되고, 용매로서, 물 또는 유기용매 또는 물과 유기용매의 혼합 용매를 사용할 수 있다. 유기 용매는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 3-메톡시-3-메틸부탄올과 같은 알코올, 테트라히드로퓨란 및 디옥산과 같은 시클릭 에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노에틸에테르와 같은 다원자가 (polyvalent) 알코올의 알킬 에테르, 2-메톡시부틸 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 4-메톡시부틸 아세테이트, 2-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-에틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 2-에톡시부틸 아세테이트 및 4-에톡시부틸 아세테이트와 같은 알콕시알킬 아세테이트, 에틸렌글리콜 에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르 아세테이트 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트와 같은 다원자가 알코올의 알킬에테르 아세테이트, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 및 디아세톤 알코올과 같은 케톤, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2- 히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 에톡시아세테이트 에틸 히드록시아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트 및 메틸 3-에톡시프로피오네이트와 같은 에스테르를 포함한다. 이들 중에서, 물과 알코올의 혼합 용매를 사용하는 것이 바람직하다.
이 용매들은 중간층의 유전체용 조성물을 용해하거나 균일하게 분산시키는 데 사용된다. 만약 조성물이 유전체용 조성물에서 용매로서 기능하는 액체 성분을 포함하고 용매를 새로이 첨가하지 않고 있는 그대로 용해되거나 균일하게 분산된다면, 용매를 사용하지 않을 수도 있다.
하부층 또는 중간층은 상부층에 노출되는, 즉 상부층에 함유된 광중합 개시제를 광활성화시키는 파장의 광을 흡수할 수 있는 광흡수제를 함유할 수도 있다.
이러한 광흡수제로서, 300 내지 450 ㎚ 파장의 광을 흡수하는 것을 적절하게 사용하며, 예를 들어, 아조형 염료, 아미토케톤형 염료, 크산텐형 염료, 퀴놀린 염료, 벤조페논형 염료, 트리아진형 염료, 벤조트리아졸형 염료, 및 안트라퀴논형 염료가 포함된다.
광흡수제는 하부층 형성용 조성물의 무기 분말, 바인더 수지 및 광흡수제의 총 100 중량부를 기준으로 0.01 내지 30 중량부로 혼합되는 것이 바람직하다. 또한, 광흡수제는 중간층 형성용 조성물의 열분해성 수지 및 광흡수제의 총 100 중량부 기준으로 0.01 내지 30 중량부로 혼합되는 것이 바람직하다.
광흡수제가 0.01 중량부 미만인 경우, 충분한 광흡수효과가 발휘될 수 없다. 광흡수제가 30 중량부를 초과할 경우, 계면 주위의 상부층은 광의 과도한 흡수로 인해 충분히 노출되지 않는다. 따라서, 때때로 막이 박리되고 패턴이 형성될 수 없는 경우가 있다.
상부층에 필수 성분으로 함유된 광중합 개시제는 1-히드록시시클로헥실 페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 산화물, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤조페논, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-벤조일-4'-메틸디메틸 황화물, 4-디메틸아미노벤조산, 메틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 부틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노벤조에이트-2-에틸헥실, 4-디메틸아미노벤조에이트-2-이소아밀, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세톤페논, 벤질디메틸케탈, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 1-페닐-1,2-프로판디온, 2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 메틸 o-벤조일벤조에이트, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인 이소부틸에테르, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조수베론 (dibenzosuberone), α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판 등을 포함한다. 이 광중합 개시제들은 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수도 있다.
상부층은 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 필수성분으로 포함한다. 따라서, 결국 상부층 상의 패턴으로부터 파생된 요철 패턴을 갖는 유전체를 하부층 상에 중간층을 형성하고, 중간층 상에 상부층을 형성하고 이어서 상부층에만 패터닝을 실시함으로써 형성할 수 있다. 그리고 하기에 설명한 바와 같이, "홈 (slit)"은 배리어 리브 부분에 볼록부를 형성함으로써 각 셀의 상부에 생성되며, 따라서 방전 가스가 유입될 수 있다.
하부층에도 패터닝을 실시할 수도 있다. 예를 들어, 소정 패턴을 PDP를 구성하는 유리기판의 외부 형상에 따라 하부층의 가장자리부에 형성할 수도 있다. 하부층이 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 더 함유할 경우, 하부층의 거의 전체 면이 상부층의 노광 및 현상 이전에 노출될 수 있다. 하부층에도 패터닝을 실시할 경우, 중간층에 광흡수제를 함유함으로써 하부층의 노광시 상부층이 노광되는 것을 방지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 하부층 또는 중간층이 상부층에 함유된 광중합 개시제를 광활성화시키는 파장의 광을 흡수할 수 있는 광흡수제를 함유할 때, 각층을 적층한 상태에서 상부층을 노광해서 소정형상으로 패터닝을 실시했을 경우 광흡수제를 함유하는 층에 들어간 광이 하부층 내부의 무기분말 등에 의해 산란하는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 광흡수제가 함유되어 있지 않으면, 하부층 내의 무기분말 등의 입자에 의해 광이 산란된다. 따라서, 상부층은 하부층으로부터 불확실한 방향에서 입사하는 광에 의해 노광되므로, 결과적으로 마스크에 따른 정확한 패턴을 형성하는 것이 불가능해진다. 그것을 방지하기 위해서는, 하부층을 소성하여 투명한 유리상태로 만들고, 이어서 중간층을 형성하고, 노광하고 다시 소성해야 하며, 다시 말해서, 소성을 2회 실시해야만 한다.
그러나, 본 발명에서는 하부층 또는 중간층의 하나 이상의 층이 광흡수제를 함유하고 있으므로, 한번에 소성할 수 있고, 소망하는 패턴을 형성할 수 있다.
본 발명에서, 유전체용 적층체를 얻기 위해서는, 필수 성분인 상기 용매, 바인더 수지 및 무기 분말, 및 필요에 따라 광흡수제, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제가 혼합된 하부층용 유전체의 액상 또는 페이스트 조성물 (이하, 하부층 조성물이라 칭함) 을 제조한다.
중간층용으로는, 필수 성분인 상기 용매 및 열분해성 수지, 및 필요하다면, 광흡수제가 혼합된 유전체용의 액상 또는 페이스트 조성물 (이하, 중간층 조성물이라 칭함) 을 제조한다.
상부층 용으로는, 필수성분인 상기 용매, 바인더 수지, 무기 분말, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제가 혼합된 액상 또는 페이스트 조성물 (이하, 상부층 조성물이라 칭함) 을 제조한다.
또한, 분산제, 점착성 부여제, 가소제, 표면장력조정제, 안정제 및 소포제 (defoaming agent) 등의 각종 첨가제를 옵션적인 성분으로서 각층의 조성물에 첨가할 수도 있다.
하부층 조성물 및 상부층 조성물에서, 무기 분말의 비율은 나머지 모든 유기 성분 (유기 용매, 바인더 수지, 광중합성 모노머, 광중합 개시제 등을 포함) 의 100 중량부를 기준으로 100 내지 1000 중량부일 수 있다.
하부층 조성물 및 상부층 조성물에 각각 포함된 무기 분말, 바인더 수지 및 다른 첨가제는 동일하거나 상이한 물질일 수도 있다. 이들이 동일한 물질이라 할지라도, 그 비율은 상이할 수도 있다.
중간층에 포함된 열분해성 수지는 하부층 조성물 및 상부층 조성물용으로 사용되는 바인더 수지 양자 모두와 상이한 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 유전체용 적층체는, 예를 들어, 후술하는 방법 (1 내지 12) 에 의해 제조된다.
(1) 하부층 조성물, 중간층 및 상부층 조성물로부터 용매를 각각 제거하여, 막으로 만든다. 그 막을 적층하여 2층막 및 1층막 또는 3층막으로 만들고, 이어서 PDP를 구성하는 유리기판에 고정시킨다. 또는 막으로 만들어진 것들을 연속적으로 유리기판 상에 적층한다.
(2) 중간층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 하부 (상부) 층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 2층막을 형성한다. 별도로, 상부 (하부) 층 조성물로부터 용매를 제거하여 막을 형성한다. 다음으로, 그 2장의 막을 연속적으로 PDP를 구성하는 유리기판에 고정시킨다.
(3) 상부 (하부) 층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 중간층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 2층막을 형성한다. 별도로, 상부 (하부) 층 조성물로부터 용매를 제거하여 막을 형성한다. 다음으로, 그 2장의 막을 PDP를 구성하는 유리기판에 연속적으로 고정시킨다.
(4) 중간층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 하부 (상부) 층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 2층막을 형성한다. 별도로, 상부 (하부) 층 조성물로부터 용매를 제거하여 막을 형성한다. 다음으로, 그 2장의 막을 결합하여 3층 적층체를 얻고, 이어서 PDP를 구성하는 유리기판에 고정시킨다.
(5) 하부 (상부) 층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 중간층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 2층막을 형성한다. 별도로, 상부 (하부) 층 조성물로부터 용매를 제거하여 막을 형성한다. 다음으로, 그 2장의 막을 결합하여 3층 적층체를 얻고, 이어서 PDP를 구성하는 유리기판에 고정시킨다.
(6) 하부 (상부) 층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 중간층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 막을 형성하고, 상부 (하부) 층 조성물을 그 표면상에 도포하고, 용매를 제거하여 막을 형성하여, 3층 적층체를 형성한다. 이어서, 적층체를 PDP를 구성하는 유리기판에 고정시킨다.
(7) PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 하부층을 형성하고, 이어서, 중간층 조성물을 하부층상에 도포하고, 용매를 제거하여 중간층을 형성한 후, 상부층 조성물을 중간층 상에 도포하고, 용매를 제거하여 상부층을 형성함으로써 적층체를 얻는다.
(8) 중간 (상부) 층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성하고, 그 표면상에 상부 (중간) 층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 중간층 및 상부층으로 구성된 2층막을 형성한 후, PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 하부층을 형성한 다음, 하부층 상에 상기 2층막을 적층함으로써 적층체를 얻는다.
(9) 중간층 조성물 및 상부층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 막을 형성한 후, PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 하부층을 형성한 다음, 이어서 상기 2장의 막 각각을 적층함으로써 적층체를 얻는다.
(10) 중간층 조성물 및 상부층 조성물로부터 용매를 미리 제거하여 중간층 및 상부층으로 구성된 2층막을 형성한 다음, PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포한 후, 용매를 제거하여 하부층을 형성한 다음, 상기 2층막을 적층함으로써 적층체를 얻는다.
(11) PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 하부층을 형성하고, 그 상부에 용매를 중간층으로부터 제거한 것을 적층하여 막을 형성하고, 이어서 중간층 상에 상부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 상부층을 형성함으로써 적층체를 얻는다.
(12) PDP를 구성하는 유리기판 상에 하부층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 하부층을 형성하고, 이어서 하부층 상에 중간층 조성물을 도포하고, 용매를 제거하여 중간층을 형성하고, 그 상부에 상부층 조성물로부터 용매를 제거한 것을 적층하여 막을 형성함으로써, 적층체를 얻는다.
즉, 본 발명의 유전체용 적층체는 유리기판 상에 직접 적층함으로써 형성한 것 또는 유리기판 상에 제공되기 전에 적층된 상태로 미리 형성된 것일 수도 있다.
소성 전의 중간층의 두께는 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 중간층과 상부층의 패턴 형성 부분 사이의 접촉 부분 주위에 소성시에 중간층을 열분해함에 의해 발생한 물 및 이산화탄소로 인해 기포가 발생할 수 있다. 그러나, 중간층의 두께가 5 ㎛ 이하일 경우, 기포가 잔류하지 않는다.
소성 후 유전체용 적층체로부터 파생된 하부층의 두께는 5 내지 40 ㎛이고, 상부층의 두께는 5 내지 50 ㎛인 것이 바람직하다.
유리기판 상에 제공하기 전에, 하부, 중간 및 상부층을 개별적으로 막으로 제조할 경우, 하부 및 중간층 또는 중간 및 상부층을 2층의 적층막으로 제조할 경우, 또는 3층의 적층막으로 제조할 경우, 막제조의 용이성, 관리의 편의, 또는 저장의 편의를 위해 막을 지지막 상에 형성하거나 보호막으로 덮는 것이 바람직하다.
지지막 및 보호막으로 사용가능한 수지는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 폴리플루오로에틸렌과 같은 플루오르 함유 수지, 나일론, 셀룰로오스 등을 포함할 수 있다. 몰드 이형 (mold release) 특성을 향상시키기 위해, Si 처리와 같은 몰드 이형 처리를 실시할 수도 있다. 지지막의 두께는, 예를 들어 15 내지 100 ㎛이고, 보호막의 두께는, 예를 들어 15 내지 60 ㎛이다.
상술한 바와 같이, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 필요하다면 하부층에서 혼합할 수도 있다는 것을 기술하였다. 막을 제조한 후 유리기판상에 설치하기 이전 및 이후에 경화를 위해 광중합을 실시할 경우, 접착력이 감소하여 지지막 및 보호막이 쉽게 박리될 수 있다. 또한, 상부층과 동일한 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유함으로써 소성 시의 축소율을 균일화할 수 있다.
유전체용 적층체를 유리기판 상에 제공한 후, 상부층을 소정파장의 광에 의해 소정형상의 마스크를 통해 노광한다. 이어서, 용매 또는 물, 알칼리 수용액 등으로 구성된 현상제에 의해 노광되지 않은 부분을 제거함으로써 소정의 패턴을 형성한다. 이어서, 모든 유기 성분을 450℃ 이상의 온도에서 소성하여 제거하고, 무기성분을 유리화하고, 하부, 중간 및 상부층을 일괄적으로 소성함으로서 유전체를 형성한다. 상부층 패턴으로부터 파생된 요철 패턴을 이 유전체의 표면 상에 형성한다.
상부층의 패턴을 형성하는 광원의 파장은, 300 ㎚ 내지 450 ㎚의 파장광을 사용할 수 있으며, 특히 g 선 (436 ㎚), h 선 (405 ㎚) 및 i 선 (365 ㎚) 를 바람직하게 사용할 수 있다.
PDP 제조시, 배리어 리브 내에 인광체 등이 형성된 상기 셀형 기판에 요철 패턴을 갖는 유전체 (요철 유전체) 를 갖는 유리 기판을 부착한다. 유전체의 볼록부를 배리어 리브로 정렬하고 오목부를 셀 상에 정렬함으로써 각 셀내의 인광체 반대편 유전체측에 홈을 형성하고, 따라서 방전가스를 셀 내로 유입시킬 수 있 다.
본 발명을 셀형 PDP에 특히 적합하게 사용할 수 있지만, 물론 스트라이프형 PDP에 사용할 수도 있다.
다음으로, 본 발명을 실시예에 기초하여 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그에 한정되지 않는다.
< 실시예 1>
1-1. 중간층 조성물의 제조
폴리비닐 알코올 (상품명: PVA-235, Kuraray Co., Ltd. 제공) 4 중량부, 용매로서 물 53 중량부 및 이소프로필 알코올 43 중량부를 믹서에서 12시간 동안 혼합함으로써 중간층 조성물을 제조하였다.
1-2. 중간층의 제조
그 결과로 얻은 중간층 조성물을 립 코터 (lip coater) 를 사용하여 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A53, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 으로 구성된 제 1 지지막 상에 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조함으로써 용매를 완전히 제거하여 제 1 지지막 상에 0.5 ㎛ 두께의 중간층을 형성하였다.
1-3. 하부층 조성물의 제조
아크릴 수지로서 이소부틸 메타크릴레이트/히드록시에틸아크릴레이트=80/20 (중량%) 코폴리머 (Mw=20,000) 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸 부탄올 20 중량부 및 유리 프릿 (frit) 80 중량부를 혼합함으로써 하부층 조성물을 제조하였다.
1-4. 유전체용 막의 제조
1-2의 제 1 지지막 상에 형성된 중간층 상에 립 코터를 사용해서 1-3에서 얻은 하부층 조성물을 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조함으로써 용매를 완전히 제거하여 중간층 상에 60 ㎛ 두께의 하부층을 형성하였다.
그 다음, 25 ㎛ 두께의 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A24, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 를 제 1 보호막으로서 하부층 상에 부착하여 유전체용 막을 제조하였다.
1-5. 상부층 조성물의 제조
수용성 셀룰로오스 유도체로서 히드록시프로필셀룰로오스 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/히드록시에틸 메타크릴레이트=55/45 (중량%) 코폴리머 (Mw=40,000) 14 중량부, 광중합성 모노머로서 2-메타크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필 프탈레이트 (상품명: HO-MPP, Kyoeisha Chemical Co.,Ltd. 제공) 63 중량부, 광중합 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 (상품명: IR-651, Ciba-Geigy Japan Ltd. 제공) 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (상품명: Dye SS, Daito Chemix Corporation 제공) 0.1 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올 100 중량부를 믹서에서 3시간 동안 혼합함으로써 유기성분을 제조하였다.
유기 성분 내에 자외선 흡수제를 첨가한 것은 상부층 내의 헐레이션을 방지하고 샤프 (sharp) 한 패턴을 형성하기 위해서이다.
상부층 조성물을 상기 유기 성분 (고체 함량: 50%) 20 중량부 및 유리 프릿 80 중량부를 혼합함으로써 제조하였다.
1-6. 물 (water) 현상형 감광성막의 제조
1-5에서 얻은 상부층 조성물을 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A53, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 로 구성된 제 2 지지막상에 립 코터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조시킴으로써 용매를 완전히 제거하여 제 2 지지막 상에 40 ㎛ 두께의 감광성 유리 페이스트막을 형성하였다. 그 다음, 제 2 보호막으로서 25 ㎛ 두께의 폴리에틸렌막을 감광성 유리 페이스트막 상에 부착하여 물 현상형 감광막을 제조하였다.
1-7. 유전체막층의 형성
버스 (bus) 전극이 형성된 유리 기판을 미리 80℃로 가열하였다. (4) 에서 얻은 유전체용 막을 제 1 보호막을 박리하면서 핫 롤 라미네이터 (hot roll laminator) 에 의해 105℃에서 상기 유리기판상에 적층하였다. 공기 압력은 3 ㎏/㎠이었고, 적층 속도는 1.0 m/분이었다.
이어서, 제 1 지지막을 박리하였다.
1-8. 물 현상형 감광성막층의 형성
1-7에서 얻은 유전체막층이 상부에 형성된 유리 기판을 미리 80℃로 가열하였다. 1-6에서 얻은 물 현상형 감광성막을 제 2 보호막을 박리하면서 롤 라미네이터를 사용하여 상온에서 상기 유리기판상의 중간층의 표면 상에 적층하였다. 공기 압력은 3 ㎏/㎠이었고, 적층 속도는 1.0 m/분이었다.
1-9. 평가
물 현상형 감광성 막층을 테스트 패턴 마스크를 통해, 초고압 수은 램프에 의해 300 mJ/㎠의 조사량으로 자외선 노광을 실시하였다. 이어서, 제 2 지지막을 박리한 후, 액체 온도 30℃의 물을 이용하여 3㎏/㎠의 스프레이 압력으로, 30초 동안 스프레이 현상을 실시하여 패턴을 형성했다. 얻은 패턴의 밀착성 및 패턴형상에 대해 평가하였다. 그 결과, 잔류한 최소 선폭은 60 ㎛이었고, 양호한 패턴 형상을 얻었다.
소성 후 패턴의 형상 안정성을 평가하기 위해, 상기 방법으로 패턴을 형성하고, 승온 속도 1.0℃/분으로 가열하여 580℃에서 30분간 유지하는 소성처리를 하였다. 그 결과 양호한 패턴을 얻었다.
< 실시예 2>
2-1. 하부층 조성물의 제조
아크릴 수지로서 이소부틸 메타크릴레이트/히드록시에틸 아크릴레이트=80/20 (중량%) 코폴리머 (Mw=20,000) 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올 20 중량부 및 유리 프릿 80 중량부를 혼합하여 하부층 조성물을 제조하였다.
2-2. 하부층의 형성
그 결과 얻은 하부층 조성물을 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A24, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 로 구성된 지지막 상에 립 코터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조하여 용매를 완전히 제거하여 제 1 지지막 상에 60 ㎛ 두께의 하부층을 형성하였다.
2-3. 중간층 조성물의 제조
폴리비닐 알코올 (상품명: PVA-235, Kuraray Co., Ltd. 제공) 4 중량부, 용 매로서 물 53 중량부 및 이소프로필 알코올 43 중량부를 12시간 동안 믹서에서 혼합하여 중간층 조성물을 제조하였다.
2-4. 중간층의 제조
2-3에서 얻은 중간층 조성물을 2-2.의 지지막 상에 형성된 하부층 상에 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조하여 용매를 완전히 제거하여 0.5 ㎛ 두께의 중간층을 하부층 상에 형성하였다.
2-5. 상부층 조성물의 제조
수용성 셀룰로오스 유도체로서 히드록시프로필셀룰로오스 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/히드록시에틸 메타크릴레이트 =55/45 (중량%) 코폴리머 (Mw=40,000) 14 중량부, 광중합성 모노머로서 2-메타크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필 프탈레이트 (상품명: HO-MPP, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제공) 63 중량부, 광중합 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 (상품명: IR-651, Ciba-Geigy Japan Ltd.) 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (상품명: Dye SS, Daito Chemix Corporation 제공) 0.1 중량부, 및 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올 100 중량부를 믹서에서 3시간 동안 혼합하여 유기성분을 제조하였다.
상기 유기 성분 (고체 함량: 50%) 20 중량부 및 유리 프릿 80 중량부를 혼합하여 상부층 조성물을 제조하였다.
2-6. 물 현상형 감광성막의 제조
2-5에서 얻은 상부층 조성물을 2-4의 지지막 상에 형성된 중간층 상에 립 코터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조하여 용매를 완전히 제거하여 40 ㎛ 두께의 상부층을 지지막 상에 형성하였다. 다음으로, 보호막으로서, 25 ㎛ 두께의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A53, Teijin Dupont Films Japan Ltd. 제공) 를 상부층 상에 부착하여 5층 구조의 물 현상형 감광막을 제조하였다.
2-7. 물 현상형 감광막층의 형성
버스 전극이 형성된 유리 기판을 미리 80℃로 가열하였다. 2-6에서 얻은 물 현상형 감광막을 두께가 있는 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A24, Teijin Dupont Films Japan Ltd. 제공) 를 박리하면서 핫 롤 라미네이터를 사용하여 105℃에서 상기 유리기판 상에 적층하였다. 공기 압력은 3 ㎏/㎠이었고, 적층 속도는 1.0 m/분이었다.
2-8. 평가
물 현상형 감광성 막층을 테스트 패턴 마스크를 통해, 초고압 수은 램프에 의해 300 mJ/㎠의 조사량으로 자외선 노광을 실시하였다. 이어서, 지지막을 박리한 후, 액체 온도 30℃의 물을 이용하여 3㎏/㎠의 스프레이 압력으로, 30초 동안 스프레이 현상을 실시하여 패턴을 형성했다. 얻은 패턴의 밀착성 및 패턴형상에 대해 평가하였다. 그 결과, 잔류한 최소 선폭은 60 ㎛이었고, 양호한 패턴 형상을 얻었다.
소성 후 패턴의 형상 안정성을 평가하기 위해, 상기 방법으로 패턴을 형성하고, 승온 속도 1.0℃/분으로 가열하여 580℃에서 30분간 유지하는 소성처리를 하였다. 그 결과 양호한 소성 패턴을 얻었다.
< 비교예 1>
3-1. 하부층 조성물의 제조
아크릴 수지로서 이소부틸 메타크릴레이트/히드록시에틸 아크릴레이트=80/20 (중량%) 코폴리머 (Mw=20,000) 20 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올 20 중량부 및 유리 프릿 (frit) 80 중량부를 혼합함으로써 하부층 조성물을 제조하였다.
3-2. 유전체용 막의 제조
그 결과로 얻은 하부층 조성물을 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A24, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 로 구성된 제 1 지지막 상에 립 코터를 사용해서 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조함으로써 용매를 완전히 제거하여 제 1 지지막 상에 60 ㎛ 두께의 하부층을 형성하였다. 그 다음, 25 ㎛ 두께의 폴리에틸렌막을 제 1 보호막으로서 하부층 상에 부착하여 유전체용 막을 제조하였다.
3-3. 상부층 조성물의 제조
수용성 셀룰로오스 유도체로서 히드록시프로필셀룰로오스 22 중량부, 아크릴 수지로서 스티렌/히드록시에틸 메타크릴레이트=55/45 (중량%) 코폴리머 (Mw=40,000) 14 중량부, 광중합성 모노머로서 2-메타크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필 프탈레이트 (상품명: HO-MPP, Kyoeisha Chemical Co.,Ltd. 제공) 63 중량부, 광중합 개시제로서 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 (상품명: IR-651, Ciba-Geigy Japan Ltd. 제공) 0.9 중량부, 자외선 흡수제로서 아조 염료 (상품명: Dye SS, Daito Chemix Corporation 제공) 0.1 중량부, 용매로서 3-메톡시-3-메틸부탄올 100 중량부를 믹서에서 3시간 동안 혼합함으로써 유기성분을 제조하였다.
상부층 조성물을 상기 유기 성분 (고체 함량: 50%) 20 중량부 및 유리 프릿 80 중량부를 혼합함으로써 제조하였다.
3-4. 물 현상형 감광성막의 제조
3-3에서 얻은 상부층 조성물을 몰드 이형 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (상품명: Purex A24, Teijin Dupont Films Japan Ltd 제공) 로 구성된 제 2 지지막상에 립 코터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 6분 동안 도포된 막을 건조시킴으로써 용매를 완전히 제거하여 제 2 지지막 상에 40 ㎛ 두께의 상부층을 형성하였다. 그 다음, 제 2 보호막으로서 25 ㎛ 두께의 폴리에틸렌막을 상부층 상에 부착하여 물 현상형 감광막을 제조하였다.
3-5. 유전체막층의 형성
버스 전극이 형성된 유리 기판을 미리 80℃로 가열하였다. 3-2에서 얻은 유전체용 막을 제 1 보호막을 박리하면서 핫 롤 라미네이터에 의해 105℃에서 상기 유리기판상에 적층하였다. 공기 압력은 3 ㎏/㎠이었고, 적층 속도는 1.0 m/분이었다.
이어서, 제 1 지지막을 박리하였다.
3-6.물 현상형 감광성막층의 형성
상부에 3-5에서 얻은 유전체막층이 형성된 유리 기판을 미리 80℃로 가열하였다. 3-4에서 얻은 물 현상형 감광성막을 제 2 보호막을 박리하면서 롤 라미네이터를 사용하여 상온에서 유전체막층의 표면 상에 적층하였다. 공기 압력은 3 ㎏/㎠이었고, 적층 속도는 1.0 m/분이었다.
3-7. 평가
물 현상형 감광성 막층을 테스트 패턴 마스크를 통해, 초고압 수은 램프에 의해 300 mJ/㎠의 조사량으로 자외선 노광을 실시하였다. 이어서, 제 2 지지막을 박리한 후, 액체 온도 30℃의 물을 이용하여 3㎏/㎠의 스프레이 압력으로, 30초 동안 스프레이 현상을 실시하여 패턴을 형성했다. 얻은 패턴의 밀착성 및 패턴형상에 대해 평가하였다. 그 결과, 잔류한 최소 선폭은 60 ㎛이었고, 양호한 패턴 형상을 얻었다.
그러나, 소성 후 패턴의 형상 안정성을 평가하기 위해, 상기 방법으로 패턴을 형성하고, 승온 속도 1.0℃/분으로 가열하여 580℃에서 30분간 유지하는 소성처리를 하였는데, 소성 후 유전체의 패턴 종단부에서 크랙 (crack) 이 발생하였다.
산업상 이용가능성
본 발명에 따르면, 열분해성 수지를 함유하는 중간층 조성물을 무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물과 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 상부층 사이에 제공함으로써, 중간층이 열분해되는 동안 하부층과 상부층이 유기 함유물을 잃고, 이어서 하부층과 상부층이 일체화된다. 따라서, 두께가 불균일한 상태에서 수축 때문에 발생하는 크랙을 방지할 수 있으며 양호한 소성 패턴을 얻을 수 있다.
그리고 소망하는 형상을 갖는 패턴이 상부층 상에 형성되고 이어서 모든 유기 함유물이 소성에 의해 제거되어 유전체를 얻을 때, 상부층으로부터 파생된 요철 패턴이 그 표면 상에 형성된다. PDP를 제조할 때, 상부층으로부터 파생된 유전체의 요철면을 배리어 리브에 적용함으로써 유전체의 오목부로부터 각 셀로 방전 가스를 유입하는 경로를 확보할 수 있다. 상술한 바와 같이, 각 층을 일괄적으로 소성하여 유전체를 형성함으로써 간단하게 가스 유입로를 형성할 수 있고, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정의 작업 효율을 상승시킬 수 있으며, 패널당 택트 (tact) 시간을 단축할 수 있다.

Claims (19)

  1. 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물로서,
    무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층 조성물;
    무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 (monomer) 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 하부층 상부에 제공되는 상부층 조성물; 및
    열분해성 수지를 함유하고, 상기 하부층과 상기 상부층 사이에 제공되는 중간층 조성물을 포함하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지는 상기 바인더 수지와 상이한 수지인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지는 수용성인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 하부층 조성물과 상기 중간층 조성물 중 하나 이상은 300 ㎚ 내지 450 ㎚ 파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물.
  6. 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체로서,
    무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층;
    무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 하부층 상에 제공되는 상부층; 및
    열분해성 수지를 함유하고, 상기 하부층과 상기 상부층 사이에 제공되는 중간층을 포함하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지는 상기 바인더 수지와 상이한 수지인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지는 수용성인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 하부층과 상기 중간층 중 하나 이상은 소정 파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 더 함유하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 중간층은 두께가 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  12. 제 6 항에 있어서,
    상기 하부층은 두께가 5 내지 40 ㎛인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 적층체.
  13. 복수의 층을 적층한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법으로서,
    무기 분말 및 바인더 수지를 함유하는 하부층; 열분해성 수지를 함유하는 중간층; 무기 분말, 바인더 수지, 광중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 상부층을, 하부층, 중간층 및 상부층의 순서대로 유리기판 상에 적층하도록 형성하는 단계;
    다음으로, 상기 상부층에 선택적으로 광을 조사한 후 현상하여 소정 형상의 패턴을 형성하는 단계; 및
    각 층을 일괄적으로 소성하는 단계를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지를 5℃/분으로 600℃까지 가열하고, 600℃에서 20분 동안 열처리할 경우, 상기 열분해성 수지의 잔량은 50% 이하인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 바인더 수지와는 상이한 수지를 열분해성 수지로서 사용하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 열분해성 수지로서 수용성 수지를 사용하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  17. 제 13 항에 있어서,
    소정 파장의 광을 흡수하는 광흡수제를 상기 하부층과 상기 중간층 중 하나 이상에서 더 함유하는, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  18. 제 13 항에 있어서,
    중간층은 두께가 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
  19. 제 13 항에 있어서,
    상기 하부층은 두께가 5 내지 40 ㎛인, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체의 형성방법.
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