JP3594392B2 - 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 57
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 21
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 20
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 19
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 19
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 8
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 8
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 claims description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 6
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical group COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 6
- -1 2-chlorothioki Sa Chemical compound 0.000 description 5
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 5
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 241001104043 Syringa Species 0.000 description 2
- 235000004338 Syringa vulgaris Nutrition 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKUJCSBWRBWNAV-UHFFFAOYSA-N [Sn].[V] Chemical compound [Sn].[V] UKUJCSBWRBWNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N antimony tin Chemical compound [Sn].[Sb] GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 2
- 229910052601 baryte Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010428 baryte Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M brilliant green Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 NNBFNNNWANBMTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 2
- QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L copper;2-amino-3-[(2-amino-2-carboxylatoethyl)disulfanyl]propanoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C(N)CSSCC(N)C([O-])=O QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 2
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- ZPPSOOVFTBGHBI-UHFFFAOYSA-N lead(2+);oxido(oxo)borane Chemical compound [Pb+2].[O-]B=O.[O-]B=O ZPPSOOVFTBGHBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical group 0.000 description 2
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940088417 precipitated calcium carbonate Drugs 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N strontium chromate Chemical compound [Sr+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSUYMGPLEJLSPA-UHFFFAOYSA-N vanadium zirconium Chemical compound [V].[V].[Zr] PSUYMGPLEJLSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 2
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFJJYOKMAAQFHC-UHFFFAOYSA-N (4-methoxy-5,5-dimethylcyclohexa-1,3-dien-1-yl)-phenylmethanone Chemical compound C1C(C)(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KFJJYOKMAAQFHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N (e)-4-ethoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(=O)C(C)=C JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C(C)=C SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C(C)=C YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 9-(5-acridin-9-ylpentyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 9-(7-acridin-9-ylheptyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOZALWBFWGMCAU-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(C)C(CO)(CO)CO Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(C)C(CO)(CO)CO JOZALWBFWGMCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUNJWHPUTYMQDP-UHFFFAOYSA-N CN(C1=CC=C(C(=O)OCC)C=C1)C.CN(C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1)C Chemical compound CN(C1=CC=C(C(=O)OCC)C=C1)C.CN(C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1)C QUNJWHPUTYMQDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N Dibenzylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNCC1=CC=CC=C1 BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXDVWKGIBWQGET-UHFFFAOYSA-N [OH-].CC1=C(C([NH2+]C2=CC=CC=C2)(C)C)C=CC=C1 Chemical compound [OH-].CC1=C(C([NH2+]C2=CC=CC=C2)(C)C)C=CC=C1 IXDVWKGIBWQGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M benzyl(dimethyl)sulfanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[S+](C)CC1=CC=CC=C1 FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical class [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N butyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHFXZTUFRVUOSG-UHFFFAOYSA-M diethyl(methyl)sulfanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[S+](C)CC IHFXZTUFRVUOSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003063 hydroxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940031574 hydroxymethyl cellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 229940074369 monoethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N monomethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229940005650 monomethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical class [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N padimate a Chemical compound CCCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRDVGGZNFFBWTM-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOC1=CC=CC=C1 GRDVGGZNFFBWTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WZESLRDFSNLECD-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOC1=CC=CC=C1 WZESLRDFSNLECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- QIQCZROILFZKAT-UHFFFAOYSA-N tetracarbon dioxide Chemical group O=C=C=C=C=O QIQCZROILFZKAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDTPTXSNPBAUHX-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[S+](C)C MDTPTXSNPBAUHX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な遮光膜形成用感光性樹脂組成物、該組成物で形成したブラックマトリックス、及びその製造方法、さらに詳しくはプラズマディスプレイ等のブラックマトリックスの形成に好適な、耐熱性及び電気絶縁性が高く、しかも遮光性に優れたブラックマトリックスを形成できる遮光膜形成用感光性樹脂組成物、該遮光膜形成用感光性樹脂組成物を用いて形成したブラックマトリックス、及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
従来より、CRTディスプレイや液晶パネル等の表示体の製造において、画像のコントラストを強調するためブラックマトリックスが形成されているが、その形成にカーボンブラックを含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物が用いられてきた。
ところが、近年、ディスプレイとしてプラズマディスプレイ(以下「PDP」という)がCRTディスプレイと同程度の発光輝度を有する表示体が得られる上に、構造が比較的簡単で大型化が可能であるとともに装置もコンパクトにできることから注目を集め、そのPDPのブラックマトリックスの形成に上記CRTディスプレイや液晶パネル等のブラックマトリックスの形成に使用されている遮光膜形成用感光性樹脂組成物の使用が期待された。しかしPDPの製造においては350〜750℃の焼成工程があり、この工程で前記遮光膜形成用感光性樹脂組成物中に含有するカーボンブラックが分解し、満足できるブラックマトリックスの形成が困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、上記欠点を解決するするため、カーボンブラックの代わりにチタンブラックなどの耐熱性を有する無機顔料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物が提案されたが、チタンブラックを含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物はカーボンブラックを主体とした遮光膜形成用感光性樹脂組成物に比べ形成されるブラックマトリックスの遮光性が低く、無彩色の満足するブラックマトリックスの形成ができなかった。
【0004】
こうした現状に鑑み、本発明者等は鋭意研究した結果、特定の金属酸化物からなる遮光性材料を感光性樹脂組成物に含有させることで、高い耐熱性を有するとともに、遮光性に優れ、しかも電流のリークのないブラックマトリックスが形成できることを見い出し、本発明を完成したものである。すなわち
【0005】
本発明は、耐熱性が高く、遮光性に優れたブラックマトリックスを形成する遮光膜形成用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【0006】
また、本発明は、耐熱性が高く、遮光性が優れるとともに、電流リークのないブラックマトリックスを提供することを目的とする。
【0007】
さらに、本発明は、上記ブラックマトリックスの製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明は、光重合性化合物、光重合開始剤、有機溶剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記有機溶剤が3−メトキシブチルアセテートで、その配合量が光重合性化合物、光重合開始剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料の合計100重量部に対して50〜500重量部の範囲にあり、前記遮光性材料中の銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種のの酸化物との配合重量比が1:20〜10:1であることを特徴とする遮光膜形成用感光性樹脂組成物、該組成物を用いて形成したブラックマトリックス、及びその製造方法に係る。
【0009】
上記本発明の遮光膜形成用感光性樹脂組成物の成分である光重合性化合物としては、エチレン性二重結合を有する光重合性化合物が好ましく、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、カルドエポキシジアクリレート等のモノマー、オリゴマー類;多価アルコール類と1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに(メタ)アクリル酸を反応して得られるポリエステル(メタ)アクリレート、ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を反応させた後、(メタ)アクリル酸を反応して得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールまたはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応して得られるエポキシ(メタ)アクリレート樹脂などが挙げられる。さらに前記エポキシ(メタ)アクリレート樹脂に多塩基酸無水物を反応させた樹脂も好適に使用できる。
【0010】
上記光重合性化合物は、該化合物と光重合開始剤の合計100重量部に対し60〜99.9重量部の範囲で含有される。含有量が60重量部未満では十分な耐熱性、耐薬品性が期待できず、また99.9重量部を超えると塗膜形成能が劣り、光硬化不良を起こすことがある。
【0011】
また、光重合開始剤としては、具体的に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−イソアミル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジンなどを挙げられる。
【0012】
上記光重合開始剤は、光重合性化合物及び光重合開始剤の合計100重量部中0.1〜40重量部の範囲で含有することができる。
【0013】
上記各成分に加えて本発明の遮光膜形成感光性樹脂組成物は、銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルの群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する。前記遮光性材料としては、具体的にFe2O3・CuO、Fe3O4・CuO、MnO2・CuO、CuO・Cr2O3、CuO・CoO、CuO・NiO、Fe2O3・MnO2・CuO、Fe3O4・MnO2・CuO、MnO2・CuO・Cr2O3、MnO2・CuO・CoO、MnO2・CuO・NiO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・CoO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・NiO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・CoO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・NiO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・CoO・NiOなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。中でも、Fe2O3・MnO2・CuO、Fe3O4・MnO2・CuO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・CoO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・NiO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・CoO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・NiO、Fe2O3・Fe3O4・MnO2・CuO・Cr2O3・CoO・NiOなど、銅酸化物と鉄及びマンガンの酸化物の組み合わせを含む遮光性材料が好ましい。
【0014】
上記遮光性材料はその平均粒子径が0.01〜5μmの範囲が好ましく、前記範囲を逸脱するとブラックマトリックスの可視光線に対する遮光性能が低下する。前記遮光性材料は有機溶剤を除く光重合性化合物と光重合開始剤との総和100重量部に対し、10〜600重量部の範囲で含有することができる。
【0015】
また、銅の酸化物と鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルの群から選択してなる少なくとも1種の金属の酸化物との配合重量比は1:20〜10:1、好ましくは1:9〜6:1程度がよい。この配合重量比が1:20〜10:1の範囲から外れた場合、無彩色のブラックマトリックスパターンが得られないことがある。
【0016】
さらに、本発明の遮光膜形成用感光性樹脂組成物は、基板への塗布、乾燥時に、タック性の少ない乾燥した被膜を形成でき、かつ遮光膜の強度を上げるため塗膜形成能を有する高分子化合物を含有することができる。前記高分子化合物としては、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、N−ブチルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリル等の共重合物が挙げられる。特に遮光膜形成用感光性樹脂組成物がアルカリ現像可能となるようにアクリル酸、メタクリル酸を共重合成分中に5〜40重量%程度含有させた共重合体が好ましい。またカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、カルボキシプロピルセルロースなどのセルロース樹脂、及びヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシル基に多塩基酸無水物が反応したセルロース樹脂も好適に使用できる。
【0017】
上記塗膜形成能を有する高分子化合物は、光重合性化合物及び光重合開始剤の合計100重量部中20〜200重量部の範囲で含有されるのがよい。
【0018】
本発明の遮光形成感光性樹脂組成物は、さらに遮光膜の色調や遮蔽性能を向上させるために、鉛白、亜鉛華、酸化チタン、塩基性硫酸塩、リトポン、硫酸亜鉛、チタン酸鉛、酸化ジルコニウム、バライト、沈降性硫酸バリウム、炭酸バリウム、白亜、沈降性炭酸カルシウム、石膏、炭酸マグネシウム、アルミナ、クレー、滑石紛、ケイ草土、鉛丹、朱、カドミウム赤、黄鉛、カドミウム黄、亜鉛黄、ストロンチウム黄、バリウム黄、エメラルド緑、カドミウム緑、シリカ、タルク、バナジウム錫黄、バナジウムジルコニウム黄、プラセオジム黄、アンチモン錫青、ライラックなどの他の無機顔料を添加することができる。また、ホウ酸鉛ガラス、ホウ酸亜鉛ガラスなどSi、B、Pb、Na、K、Mnの酸化物からなる低融点ガラスも添加できる。前記低融点ガラスは焼成処理時に金属酸化物の結着剤として作用し、強固なブラックマトリックスを形成することができる。
【0019】
本発明の遮光膜形成用感光性樹脂組成物は、さらに遮光膜の色調や遮蔽性能を向上させるために、鉛白、亜鉛華、酸化チタン、塩基性硫酸塩、リトポン、硫酸亜鉛、チタン酸鉛、酸化ジルコニウム、バライト、沈殿性硫酸バリウム、炭酸バリウム、白亜、沈殿性炭酸カルシウム、石膏、炭酸マグネシウム、アルミナ、クレー、滑石粉、珪藻土、鉛丹、朱、カドミウム赤、黄鉛、カドミウム黄、亜鉛黄、ストロンチウム黄、バリウム黄、エメラルド緑、カドミウム緑、シリカ、タルク、バナジウム錫黄、バナジウムジルコニウム黄、プラセオジム黄、アンチモン錫青、ライラックなどの他の無機顔料を添加することができる。また、ホウ酸鉛ガラス、ホウ酸亜鉛ガラスなどSi、B、Pb、Na、K、Mnの酸化物からなる低融点ガラスも添加できる。前記低融点ガラスは焼成処理時に金属酸化物の結着剤として作用し、強固なブラックマトリックスを形成することができる。
【0020】
本発明のブラックマトリックスは、上記各成分を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフ法でパターンを形成し、それを焼成することで形成されるが、その遮光率は光学濃度でOD値1.5以上、好ましくは2.0以上、電気絶縁抵抗値は1×108Ω/□以上であることを必要とする。前記遮光率以上を有することで本発明のブラックマトリックスは表示体として高コントラストの画像が維持でき、またその電気絶縁抵抗値が前記数値以上であることにより電流リークのない表示体が作成できる。
【0021】
上記ブラックマトリックスの製造方法は以下のとおりである。すなわち
(i)遮光膜形成用感光性樹脂組成物の調製
光重合性化合物、光重合開始剤、銅の酸化物と鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルの群から選択してなる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料、並びに必要により塗膜形成能を有する高分子化合物、有機溶剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等を3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等でよく分散、混練して遮光膜形成用感光性樹脂組成物を調製する。
【0022】
(ii)遮光膜形成用感光性樹脂組成物の塗布
ソーダライムガラス、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板、ITO電極が形成されたガラス基板などの表面を清浄し、その上に(i)で調製した遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布する。塗布に当たっては基板と感光性樹脂組成物との密着性を向上させるためシランカップリング剤を感光性樹脂組成物に配合するか、或は予め基板に塗布しておいてもよい。前記塗布はロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて行う。特に 厚膜の形成の場合には複数回塗布するか、或は前記塗布装置の数種を併用するのがよい。塗布後、室温にて数時間〜数日放置するか、温風ヒーター、赤外線ヒーター中に数十分〜数時間入れて溶剤を除去し、塗布膜厚1〜10μm程度に調整する。
【0023】
(iii)露光処理
上記塗布膜にネガマスクを介して、露光を行う。露光に用いる活性エネルギー線としては紫外線、エキシマレーザー光、エックス線、ガンマ線、電子線が好適である。照射エネルギー線量は用いる感光性樹脂組成物の組成に応じて若干変わるが30〜2000mJ/cm2の範囲で選択される。
【0024】
(iv)現像処理
露光後、現像液を用いて浸漬法、スプレー法等により現像する。現像液としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミン等の第1級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第2級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第3級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリジン等の環状アミン、、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミン、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシド等のスルホニウムヒドロキシド類、その他コリン等の水溶液が使用される。
【0025】
(v)焼成処理
本発明の遮光膜形成用感光性樹脂組成物を液晶パネル等のブラックマトリックス形成に用いる場合には、(iv)の現像処理により完成することができるが、プラズマディスプレイパネルのブラックマトリックスの形成においては焼成作業が必要となる。前記プラズマディスプレイパネルのブラックマトリックスは上記現像処理した基板を350〜750℃の温度で焼成し、遮光膜形成用感光性樹脂組成物中の金属の酸化物等の無機物以外を熱分解し、揮散し、無機物の遮光層に形成して製造される。
【0026】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施例について述べるがこれによって本発明はなんら限定されるものではない。
【0027】
【実施例】
実施例1
下記に示される化合物をよくかきまぜ遮光膜形成用感光性樹脂組成物を調製した。
を3本ロールミルを用いて2時間分散、混練した。
【0028】
得られた遮光膜形成用感光性樹脂組成物を厚さ3mmの清浄な表面を有するガラス基板上にリバースコーター(大日本スクリーン社製:ラウンドコーター)を用いて乾燥膜厚2μmとなるように塗布し80℃で1分間乾燥させた。その後、800mJ/cm2の紫外線を全面照射して露光したのち、電気炉中で540℃、30分間焼成作業を行った。この基板に背面から3波長蛍光管の光を照射したが、色ムラ等のない優れた黒色フイルタが得られた。遮光性を示すOD値は、測定器「PDA−65」(コニカ社製)を用いて測定したところ、2.5であった。また、測定器として「ハイレスタ」(三菱化学社製)を使用し、電気絶縁抵抗値を測定したところ8.51×109Ω/□であった。同様にして遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布、乾燥したガラス基板上にネガマスクを介して露光し、2%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、25℃、90秒間現像し、焼成を行ったが、露光部にカケ、ハガレ、変色等がみられず、未露光部にも残渣のない良好なブラックマトリックスが得られた。
【0029】
比較例1
実施例1のFe2O3・MnO2・CuO40重量部の代わりに、カーボンブラック40重量部使用した以外はすべて同様にして、得られた遮光膜形成用感光性樹脂組成物をガラス基板上に乾燥膜厚2μmとなるように塗布し、乾燥後、800mJ/cm2の紫外線を全面照射して露光し、電気炉中で540℃、30分間焼成作業を行った。カーボンブラックが分解、酸化してしまい、基板上に残ってはいなかった。
【0030】
実施例2
下記に示される化合物をよくかきまぜ遮光膜形成用感光性樹脂組成物を調製した。
を3本ロールミルを用いて2時間分散、混練した。
【0031】
得られた遮光膜形成用感光性樹脂組成物を厚さ3mmの清浄な表面を有するガラス基板上にリバースコーター(前出)を用いて乾燥膜厚2μmとなるように塗布し80℃で1分間乾燥させた。その後、800mJ/cm2の紫外線を全面照射して露光したのち、電気炉中で540℃、30分間焼成作業を行った。この基板に背面から3波長蛍光管の光を照射したが、色ムラ等のない優れた黒色フイルタが得られた。遮光性を示すOD値は、測定器「PDA−65」(前出)を用いて測定したところ、1.8であった。また、測定器として「ハイレスタ」(前出)を使用し、電気絶縁抵抗値を測定したところ5.38×1011Ω/□であった。同様にして遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布、乾燥したガラス基板上にネガマスクを介して露光し、2%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、25℃、90秒間現像し、焼成を行ったが、露光部にカケ、ハガレ、変色等がみられず、未露光部にも残渣のない良好なブラックマトリックスが得られた。
【0032】
実施例3
下記に示される化合物をよくかきまぜ遮光膜形成用感光性樹脂組成物を調製した。
を3本ロールミルを用いて2時間分散、混練した。
【0033】
得られた遮光膜形成用感光性樹脂組成物を厚さ3mmの清浄な表面を有するガラス基板上にリバースコーター(前出)を用いて乾燥膜厚3μmとなるように塗布し80℃で1分間乾燥させた。その後、800mJ/cm2の紫外線を全面照射して露光したのち、電気炉中で540℃、30分間焼成作業を行った。この基板に背面から3波長蛍光管の光を照射したが、色ムラ等のない優れた黒色フイルタが得られた。遮光性を示すOD値は、測定器「PDA−65」(前出)を用いて測定したところ、2.8であった。また、測定器として「ハイレスタ」(前出)を使用し、電気絶縁抵抗値を測定したところ2.84×109Ω/□であった。同様にして遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布、乾燥したガラス基板上にネガマスクを介して露光し、2%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、25℃、90秒間現像し、焼成を行ったが、露光部にカケ、ハガレ、変色等がみられず、未露光部にも残渣のない良好なブラックマトリックスが得られた。
【0034】
【発明の効果】
本発明の遮光膜形成用感光性樹脂組成物は、銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルの群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成感光性樹脂組成物であって、焼成により容易に前記材料を主とした無機質の遮光層が形成できる。この遮光膜形成用感光性樹脂組成物を用いて形成したブラックマトリックスは、耐熱性が高く、遮光性に優れ、しかも高い画像コントラストを維持できるとともに電気絶縁性も良好で、電流のリークがない。
Claims (11)
- 光重合性化合物、光重合開始剤、有機溶剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記有機溶剤が3−メトキシブチルアセテートで、その配合量が光重合性化合物、光重合開始剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料の合計100重量部に対して50〜500重量部の範囲にあり、前記遮光性材料中の銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種のの酸化物との配合重量比が1:20〜10:1であることを特徴とする遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 遮光性材料が銅の酸化物と鉄及びマンガンの酸化物とからなることを特徴とする請求項1記載の遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 遮光性材料の平均粒子径が0.01〜5μmの範囲にあることを特徴とする請求項1記載の遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 請求項1記載の遮光膜形成用感光性樹脂組成物にさらに低融点ガラスを含有することを特徴とする遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 請求項1又は4記載の遮光膜形成用感光性樹脂組成物にさらに塗膜形成能を有する高分子化合物を含有することを特徴とする遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 遮光膜形成用感光性樹脂組成物がプラズマディスプレイパネル用遮光膜形成感光性樹脂組成物であることを特徴とする請求項1ないし5記載の遮光膜形成用感光性樹脂組成物。
- 光重合性化合物、光重合開始剤、有機溶剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記有機溶剤が3−メトキシブチルアセテートで、その配合量が光重合性化合物、光重合開始剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料の合計100重量部に対して50〜500重量部であり、前記遮光性材料中の銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種のの酸化物との配合重量比が1:20〜10:1である遮光膜形成用感光性樹脂組成物を用いて形成したことを特徴とするブラックマトリックス。
- ブラックマトリックスの光学濃度値がOD値で1.5以上、電気絶縁抵抗値が1×108Ω/cm2以上であること特徴とする請求項6記載のブラックマトリックス。
- ブラックマトリックスがプラズマディスプレイパネル用ブラックマトリックスであることを特徴とする請求項7又は8記載のブラックマトリックス。
- 基板上に光重合性化合物、光重合開始剤、有機溶剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記有機溶剤が3−メトキシブチルアセテートで、その配合量が光重合性化合物、光重合開始剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料の合計100重量部に対して50〜500重量部であり、前記遮光性材料中の銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種のの酸化物との配合重量比が1:20〜10:1である遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布、乾燥し、それに活性光線を選択的に照射したのち、現像してパターンを形成することを特徴とする請求項7記載のブラックマトリックスの製造方法。
- 基板上に光重合性化合物、光重合開始剤、有機溶剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料を含有する遮光膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記有機溶剤が3−メトキシブチルアセテートで、その配合量が光重合性化合物、光重合開始剤及び銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物とからなる遮光性材料の合計100重量部に対して50〜500重量部であり、前記遮光性材料中の銅の酸化物と、鉄、マンガン、クロム、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種のの酸化物との配合重量比が1:20〜10:1であることを特徴とする遮光膜形成用感光性樹脂組成物を塗布、乾燥し、それに活性光線を選択的に照射したのち、現像してパターンを形成し、それを350〜750℃の温度で焼成することを特徴とする請求項8又は9記載のブラックマトリックスの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34561395A JP3594392B2 (ja) | 1995-12-09 | 1995-12-09 | 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法 |
US08/759,716 US5714286A (en) | 1995-12-09 | 1996-12-06 | Photosensitive resin composition for forming light shielding films, black matrix formed by the same, and method for the production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34561395A JP3594392B2 (ja) | 1995-12-09 | 1995-12-09 | 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09160243A JPH09160243A (ja) | 1997-06-20 |
JP3594392B2 true JP3594392B2 (ja) | 2004-11-24 |
Family
ID=18377789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34561395A Expired - Fee Related JP3594392B2 (ja) | 1995-12-09 | 1995-12-09 | 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5714286A (ja) |
JP (1) | JP3594392B2 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6001533A (en) * | 1996-03-27 | 1999-12-14 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Composition for forming non-conductive light-shielding layer, and non-conductive light-shielding layer containing same |
US6106992A (en) * | 1996-11-14 | 2000-08-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoresist film and process for producing back plate of plasma display panel |
US6157426A (en) * | 1998-02-13 | 2000-12-05 | Ois Optical Imaging Systems, Inc. | Liquid crystal display with SiOx Ny inclusive multilayer black matrix |
TW454219B (en) * | 1998-04-02 | 2001-09-11 | Toshiba Corp | Dispersion composition for black matrix, display, and process for producing display |
US6407783B1 (en) * | 1998-04-07 | 2002-06-18 | Optrex Corporation | Liquid crystal display device |
JP2002520679A (ja) * | 1998-07-14 | 2002-07-09 | ブリューワー サイエンス インコーポレイテッド | 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法 |
FR2797992A1 (fr) * | 1999-09-01 | 2001-03-02 | Thomson Plasma | Composition pour la realisation d'un reseau noir procede de realisation d'un reseau noir et panneau d'affichage au plasma comprotant un tel reseau noir |
US6400072B1 (en) * | 2000-03-08 | 2002-06-04 | Motorola, Inc. | Viewing screen for a display device |
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KR100399787B1 (ko) * | 2001-05-04 | 2003-09-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판과 이 기판의 제조방법 및 이 기판을 가지는 플라즈마표시장치 |
JP3972022B2 (ja) * | 2003-05-28 | 2007-09-05 | 東京応化工業株式会社 | プラズマディスプレイパネルの凹凸誘電体形成用組成物、凹凸誘電体形成用積層体、及び凹凸誘電体の形成方法 |
JP4348226B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2009-10-21 | 富士フイルム株式会社 | 金属化合物微粒子及びこれを用いた遮光膜 |
WO2005052976A1 (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイパネル |
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US7554270B2 (en) * | 2004-05-17 | 2009-06-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Composition for dielectric of plasma display panel, laminate for dielectric, and method for forming the dielectric |
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KR20060046935A (ko) * | 2004-11-12 | 2006-05-18 | 삼성코닝 주식회사 | 신규 블랙 매트릭스, 그 제조방법 및 그를 이용한평판표시소자 및 전자파차폐 필터 |
JP4197177B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2008-12-17 | 東京応化工業株式会社 | ブラックマトリックス形成用光硬化性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、ブラックマトリックスの形成方法、ブラックマトリックス及びそのブラックマトリックスを有するプラズマディスプレイパネル |
JP2007322485A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 遮光隔壁形成用のアルカリ現像型黒色感光性樹脂組成物 |
KR100795800B1 (ko) * | 2006-07-18 | 2008-01-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
EP1944628A1 (en) * | 2006-12-22 | 2008-07-16 | Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. | External light shielding film and optical filter for display apparatus having the same |
JP4335265B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2009-09-30 | パナソニック株式会社 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
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JP5183754B2 (ja) * | 2010-02-12 | 2013-04-17 | キヤノン株式会社 | 光学素子 |
CN105070729A (zh) | 2015-08-31 | 2015-11-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板和显示装置 |
JP6890003B2 (ja) * | 2016-11-29 | 2021-06-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0084216A1 (en) * | 1981-10-26 | 1983-07-27 | Dainichi-Nippon Cables, Ltd. | Image guide |
US5418094A (en) * | 1991-12-17 | 1995-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
-
1995
- 1995-12-09 JP JP34561395A patent/JP3594392B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-12-06 US US08/759,716 patent/US5714286A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09160243A (ja) | 1997-06-20 |
US5714286A (en) | 1998-02-03 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090910 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090910 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120910 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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