JP2002520679A - 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法 - Google Patents

感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法

Info

Publication number
JP2002520679A
JP2002520679A JP2000560487A JP2000560487A JP2002520679A JP 2002520679 A JP2002520679 A JP 2002520679A JP 2000560487 A JP2000560487 A JP 2000560487A JP 2000560487 A JP2000560487 A JP 2000560487A JP 2002520679 A JP2002520679 A JP 2002520679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
black matrix
weight
matrix composition
solvent
pigment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000560487A
Other languages
English (en)
Inventor
ラム ダブリュー サブニス
ジョナサン ダブリュー マヨ
テリー エル ブリューワー
マイケル ディー ストロダー
希代巳 江間
靖久 曽根
貴康 仁平
和広 青葉
晄 柳本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of JP2002520679A publication Critical patent/JP2002520679A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 アルカリ可溶性ポリマーと、光重合性多官能(メタ)アクリレートまたはその混合物と、光を遮蔽するためのシリカ被覆金属酸化物顔料と、トリアルコキシオルガノシランカップリング剤と、光開始剤と、組成物にスピンコート可能性を与えるに十分な溶媒と、および溶媒中に3重量%未満の可溶な染料を含む感光性ブラックマトリクス。成分を混合することからなる該組成物の形成方法もまた記載される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明の分野 本発明は、ブラックマトリクスコーティング組成物、そして特に、付着後、高
い解像度でフォトリソグフィーによりパターン付けされることができるものに関
する。
【0002】発明の背景 平面パネルディスプレーは発光素子の周囲に光学的に不透明なブラックマトリ
クス構造を使用して、ディスプレーのコントラストを改良する。ディスプレー製
造者は、高い光学濃度(3より大きい)および高い体積抵抗率(108Ω・cm
より大きい)を有する薄い(1μm未満)ブラックマトリクス構造を形成するた
めに、真空蒸着したクロム/酸化クロム材料を主に用いていた。そのような方法
は、例えば、横山等の合衆国特許第5,378,274号明細書、エス・リー(
S. Lee)の同第5,587,818号明細書および藤川等の同第5,59
2,317号明細書に記載されている。しかしながら、この産業の一部では、ク
ロムベースの材料を、クロム材料とは異なって環境への脅威をほとんどまたは全
く与えず、低価格で容易にパターン付け可能な有機ブラックマトリクスコーティ
ングに置き換えることの強い要望がある。
【0003】 多数の有機ブラックマトリクス材料が過去10年にわたって表されてきた。ラ
ザン(Latham)等は合衆国特許第4,822,718号明細書において、
また島村等は合衆国特許第5,176,971号明細書において、ポリイミド前
駆体バインダーを含む染料着色ブラックマトリクス組成物を開示している。しか
しながら、これらの組成物はある欠点、例えば短い貯蔵寿命、相対的に低い光学
濃度(付着後)、貧弱な熱安定性および耐退色性を被っていた。前記染料ベース
の組成物もまた、染料が引き続く加工工程の間に前記組成物から浸出する傾向が
あった。前記コーティングは元来は光画像形成性ではなく、そして従って独立し
たフォトレジスト層無しにパターン付けされることはできない。
【0004】 様々な顔料分散(“染料ベースの”から区別される)ブラックマトリクスコー
ティング系は、より高い光学濃度、改良された熱的安定性および褪色および薬品
の攻撃の双方に対するより大きな耐性を達成するために開発されてきた。これら
の組成物のいずれも、高い電気抵抗率を有する薄く高い光学濃度のブラックマト
リクス系についての全ての要求を満たしていない。様々な系を以下に議論する。
【0005】 楠川等の合衆国特許第5,251,071号明細書には、黒色顔料着色ポリイ
ミド前駆体組成物が記載されている。該ブラックマトリクスの改良された熱安定
性および光学濃度は染料着色系を超えて達成されたけれども、該組成物はパター
ン付けのためにフォトレジストの独立した塗布を必要とし、またポリイミド前駆
体バインダーの使用から生じる短い保存寿命を有している。
【0006】 感光性カーボンブラック充填組成物は、ブラックマトリクス付着を簡単にし、
そしてさらに光学濃度を増加させるために開発された。例えば、ヘスラー(He
sler)等は文献“LCDカラーフィルターのための顔料分散有機ブラックマ
トリクスフォトレジスト”(SID Digest, vol. 26, p.
446, 1995)において、感光性アクリルポリマー中に分散されたカー
ボンブラックは1.5μmの膜厚について2.8の平均光学濃度を与えることを
開示するが、しかしながら該組成物は貧弱なコーティング性能および貧弱な画像
品質を表している。同様な結果は、蓮見等により文献“薄膜トランジスター上の
カーボン分散有機黒色ブラックマトリクス”(Proc. of Int. D
isplay Res. Conf. (EuroDisplay−96),
vol. 16, p. 237, 1996)において報告されている。
【0007】 長沢等による合衆国特許第5,718,746号明細書もまたカーボンブラッ
ク充填組成物を開示している。その中で長沢は、顔料濃度がコーティング中で3
0%を越える場合、分散の安定性が貧弱であることを報告している。また同様に
、コーティング中での多いカーボンブラック添加量の高い導電性が長沢の目的の
ために望ましかった。
【0008】 薄膜中で高い光学濃度を得るためのカーボンブラックの使用は、ブラックマト
リクスの抵抗率との反比例を常に生じる。従って、これらの材料は、カーボンブ
ラックの導電性が許容できる場合にのみ、許容可能な有益性が見出されている。
我々の係属中である合衆国特許出願、出願番号第08/982233号は、例え
ば、そのような状況において使用するための改良されたカーボンブラック充填コ
ーティングを記載している。
【0009】 東京応化工業株式会社による特願平9−166869号(未審査)は、カーボ
ンブラック顔料粒子がその導電性を減少させるためにポリマー層で被覆されたブ
ラックマトリクス組成物を記載している。この被覆カーボンブラックはその後フ
ォトレジスト樹脂系中に分散されて、ブラックマトリクス組成物を形成する。硬
化したコーティングは高い抵抗率を表すけれども、光学濃度はクロムブラックマ
トリクス代替物について要求されるものの約半分のみである。
【0010】 非導電性有機および無機顔料を、時にはカーボンブラックとの混合物において
含む感光性ブラックマトリクスコーティング組成物は、中程度の光学濃度、容易
なパターン付け可能性および1.5〜2.0μmの膜厚での高い体積抵抗率を同
時に達成するように近年開発されている。例えば、田島等による合衆国特許第5
,368,976号明細書は、LCDおよび電荷結合素子の製造について有用で
ある顔料分散カラーフィルター組成物を記載している。コポリマーバインダーの
分子量は良好な画像品質を得るために注意深く制御されなければならない。積水
化学工業株式会社による特願平8−34923号(未審査)は、感光性顔料着色
黒色層を基材上に付着させ、パターン付けし、そしてその後パターン中に黒色染
料を拡散することによってさらに着色する二工程ブラックマトリクス法を開示し
ている。この方法は商業的使用のためには扱いにくすぎる。積水化学工業株式会
社による特願平8−36257号は、シリカ被覆金属酸化物顔料を使用して、顔
料粒子の導電性を減少させるブラックマトリクスコーティング組成物を記載して
いる。それは106Ω・cmより大きい抵抗率を達成することを記載している。
しかしながら、108Ω・cmの抵抗率がクロムブラックマトリクス代替品のた
めの要件を果たすために必要であり、従って、これらの組成物が膜厚1μm以下
で使用されることができることは疑わしい。改良された保存寿命を有する関連し
た組成物は、例えば、辻村等の合衆国特許第5,626,796号明細書、林等
の同第5,639,579号明細書、および内川等の同第5,714,286号
明細書に記載されている。しかしながら、これらの保存寿命が改良された組成物
はいずれも、クロムブラックマトリクス系によって達成される高い光学濃度を示
さない。従って、顔料分散系は、現在まで、クロムが満足するようなブラックマ
トリクス系についての多くの要求要件を満たしていない。
【0011】 チタンブラックは金属酸化物顔料であり、日本化薬株式会社による特願平9−
54431号(未審査)において開示されるブラックマトリクスコーティング組
成物中でオルガノシランまたは反応性シリコーン剤で処理されて、その導電性を
低下させている。しかしながら、この組成物の抵抗率は105Ω・cmであり、
クロムブラックマトリクス組成物についての要求を果たすに十分に高い抵抗率で
はない。 他の限界性能特性を完全に満たす容易に塗布され光形状決定可能な有機ブラッ
クマトリクスコーティングは、本技術分野において歓迎される進歩を表し、また
長く望まれていた必要性を満足するであろう。
【0012】発明の概要 本発明の第1の目的は、フォトレジストについての必要性が無くかつ1μm以
下の膜厚で塗布したときに高い光学濃度および高い体積抵抗率を示す改良された
光形状決定可能なブラックマトリクスコーティングを提供することである。 本発明の第2の目的は、上記のコーティング組成物を製造しそして使用して、
平板パネルディスプレーおよび光遮蔽層を必要とする他の光電素子を作製する改
良方法を提供することである。 本発明のさらなる目的は、クロム/酸化クロムよりもより環境的に許容可能で
あり、そしてなお効率的なブラックマトリクス系を提供することである。
【0013】 我々は、これらの目的が(a)感光性バインダー系と、(b)シランカップリ
ング剤で前処理されている少なくとも1種のシリカ被覆黒色金属酸化物顔料と、
および(c)所定の溶媒可溶性染料を含むブラックマトリクスコーティングによ
って満たされることを見出した。
【0014】 本発明の有機ブラックマトリクスは一般的に以下の性能特性によって特徴付け
られる。 1.1μm以下の膜厚で塗布されたとき、光波長領域400〜700nmにわた
る3以上の光学濃度、 2.108Ω・cmより大きい高い体積抵抗率、 3.優れたコーティング品質、即ち光学顕微鏡により観察可能な粒子またはピン
ホールを有さないこと、 4.充分な貯蔵寿命(冷蔵下で3ケ月また室温で1週間より長い)、 5.空気中7時間230℃での加熱後のΔEab3未満の高い熱安定性(図7参照
)、 6.疑似太陽光照射での108ルクス・時間照明後のΔEab3未満の高い耐退色
性(図8参照)、 7.独立したフォトレジスト材料についての必要無しでの光形状決定可能特性。
【0015】発明の詳細な説明 改良されたブラックマトリクスコーティングは以下の成分からなる。 a)光重合性バインダー系、 b)シリカ被覆金属酸化物顔料(類)、 c)シランカップリング剤、 d)遊離ラジカル生成光開始剤または光開始剤系、 e)ガラスおよび半導体基材上にスピンコートするために適した乾燥特性を有す
る溶媒ビヒクル、および f)乾燥顔料固形分に基づいて3重量%未満で存在する溶媒可溶性有機染料。 前記バインダー系は好ましくは、a)アクリル酸またはメタクリル酸を含むア
ルカリ可溶性コポリマーおよびb)多官能アクリレートまたはメタクリレートコ
モノマーまたはコモノマー混合物を含む。
【0016】 組成物の成分a.バインダー系 アルカリ可溶性ポリマーバインダーは好ましくは、アクリル酸またはメタクリ
ル酸、またはカルボン酸、スルホン酸、スルホンアミド、フェノール性基、もし
くはバインダーに水溶性塩基中での溶解性を付与することが可能な他の官能性基
を有する他のエチレン性不飽和モノマーを含むビニルポリマーまたはコポリマー
である。特に好ましいポリマーバインダーは、(a.)1種以上の上記酸性モノ
マー、特にメタクリル酸またはアクリル酸モノマーおよび(b.)1種以上の非
酸性(メタ)アクリルモノマーから配合されたコポリマーである。特に好ましい
コポリマーバインダーにおける酸性モノマーの望ましい濃度は、光画像形成、即
ちパターン付けの間に慣用のアルカリ現像溶液中でブラックマトリクス組成物全
体の残渣の無い湿式エッチングを効率的に可能にする量である。本発明における
使用について、この種の特に好ましい我々のポリマーバインダーは、ベンジルメ
タクリレート約70モル%およびメタクリル酸約30モル%を含むコポリマーで
ある。
【0017】 バインダー系のアクリルコモノマー成分は、遊離ラジカル開始光重合が可能な
少なくとも1つのエチレン性不飽和二重結合を有し、該光重合は非常に有効なパ
ターン付けを容易にする。分子当り2つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有す
るコモノマーまたはコモノマーの混合物の使用は、高い光速度および良好な解像
度を得る目的にのためにさらにより好ましい。適当なコモノマーの例は、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、イソブチル(メタ)アクリレートおよびフェニル(メタ
)アクリレート等のような広く知られた(メタ)アクリレートエステルを含む。
また同様に適当なのは、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリトリ
トールトリアクリレートおよびテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペ
ンタアクリレートおよびヘキサアクリレート、(メタ)アクリル酸とポリエステ
ルプレポリマーとを反応させることによって得られたポリエステル(メタ)アク
リレート、ウレタン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸とビスフェノー
ル−A型樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂およびノボラック型エポキシ
樹脂のようなエポキシ樹脂とを反応させることによって製造されたエポキシ(メ
タ)アクリレート、並びにトリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌ
レートである。これらのうち、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリトリトールペンタアクリレートおよびジペンタエリトリトールヘキサア
クリレートのような多官能アクリレートモノマーが、本発明における使用のため
に好ましい。ペンタエリトリトールテトラアクリレートの使用は特に好ましい。 前記アクリルポリマーバインダーの好ましい分子量範囲は、重量平均分子量2
5,000〜150,000である。最も好ましいのは重量平均分子量50,0
00〜120,000である。
【0018】b.シリカ被覆金属酸化物顔料 銅、マンガン、コバルト、ニッケル、クロムおよび鉄の単独または混合された
金属酸化物からなるシリカ被覆顔料が本発明における使用のために好ましい、な
ぜならば、それらが最終ブラックマトリクス構造に高い光学濃度および高い抵抗
率を与え、またシランカップリング剤でさらに処理したときに優れた分散性を表
すからである。適当な顔料は、例えば、ピグメント・ブラック22(Pigme
nt Black 22)(C.I. 77429)、ピグメント・ブラック2
6(Pigment Black 26)(C.I. 77494)、ピグメン
ト・ブラック27(Pigment Black 27)(C.I. 7750
2)、およびピグメント・ブラック28(Pigment Black 28)
(C.I. 77428)を含む。該顔料は単独で、または有機顔料との混合物
を含む混合物において使用され得る。銅、マンガンおよび鉄のシリカ被覆混合金
属酸化物であるピグメント・ブラック26(例えば、日本の大日精化工業式会社
から入手したダイピロキシドRブラック−3551)の使用は、高い光学濃度お
よび低い表面伝導性を有するブラックマトリクス構造を得るために特に好ましい
。 顔料粒子のシリカ被覆は、好ましくは全顔料重量の0.5〜5%、またより好
ましくは顔料重量の1〜3%をなすべきである。 シリカ被覆顔料は、1μm未満の解像度でのフィルター化を可能にするに十分
な粒子径を有するべきである。例えば、好ましいシリカ被覆金属酸化物顔料のた
めに0.01〜0.02μmの一次粒子径は、特に粒子の少なくとも50重量%
が0.02μmより小さな一次粒子径を有するとき良好に作用する。
【0019】c.シランカップリング剤 トリアルコキシオルガノシランカップリング剤が改良されたブラックマトリク
スコーティング組成物中に存在して、有機媒体中のシリカ被覆顔料の分散性を改
良し、コーティングの有機成分との相溶性および湿潤性を増加し、またディスプ
レー基材へのコーティングの全体的な密着性を増大する。カップリング剤の構造
は一般的に (R’O)3−Si−R” [式中、R’は典型的にメチル基またはエチル基を表し、またR”はカップリン
グ剤にコーティング材の有機成分と物理的または化学的に結合することを可能に
する官能性を有する非加水分解性基を表す。]のように表されることができる。
カップリング剤のトリアルコキシシラン官能基は、より疎水性のR”基を溶媒お
よびバインダー成分と相互作用させたまま、シリカ被覆顔料の表面上のヒドロキ
シル基と化学結合を形成する。カップリング剤分子は表面結合ポリマー層中にさ
らに縮合し得る。
【0020】 本発明において適当に使用され得るトリアルコキシオルガノシランカップリン
グ剤の例は、メチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、3−
クロロプロピル−トリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、3−(トリメトシキシシ
リル)プロピルメタクリレート、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
、ビニルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、アミルト
リエトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエト
キシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリフェノキ
シシランおよびn−オクタデシルトリエトキシシランを含む。該カップリング剤
は単独であるいは混合物において使用されることができ、また典型的には顔料固
形分に基づいて約5重量%で添加される。メチルトリメトキシシランの使用は、
良好な分散安定性および顔料湿潤性を得るために非常に好ましい。
【0021】d.光重合開始剤または開始剤系 露光波長400nm未満で有効に作用する全ての既知の遊離ラジカル開始剤ま
たは開始剤系は、本発明のための光重合開始剤または開始剤系として実質的に用
いられることができる。その例は、 1)p−メトキシ−フェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジンのようなトリハロメチル置換トリアジン、 2)2−(p−ブトキシ−スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾールのようなトリハロメチル置換オキサジアゾール、 3)2−(2’−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
のようなイミダゾール誘導体(メルカプトベンズイミダゾールのようなプロトン
供与体を有する)、 4)2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフ
ェニルビイミダゾールのようなヘキサアリールビイミダゾール、 5)ベンゾインイソプロピルエーテルのようなベンゾインアルキルエーテル、 6)2−エチルアントラキノンのようなアントラキノン誘導体、 7)ベンズアントロン、 8)ミヒラーケトンのようなベンゾフェノン、 9)2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノンおよび2−ベンジル−
2−N,N−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノ
ンのようなアセトフェノン、 10)2−イソプロピルチオキサントンのようなチオキサントン、 11)オクチルp−ジメチル−アミノベンゾエートのような安息香酸エステル
誘導体、 12)9−フェニルアクリジンのようなアクリジン、 13)9,10−ジメチルベンズフェナジンのようなフェナジン、および 14)ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピ
リ−1−イル)チタン)のようなチタン誘導体を含む。
【0022】 光重合開始剤は単独で、または例えば、2−イソプロピルチオキサトンをオク
チルp−ジメチルアミノベンゾエート(ODAB)と組み合わせることによる混
合物において使用され得る。チオキサントン−ODAB混合物と組み合せた2−
ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ−フェニル)
−1−ブタノン(イルガキュア369R、チバガイギー社)のようなアミン置換
アセトフェノンの使用が、高い光速度および鮮明な画像形成性能を得るために好
ましい。
【0023】e)溶媒ビヒクル 改良されたブラックマトリクス組成物のための適当な溶媒は、アルコール、エ
ステル、グリム、エーテル、グリコールエーテル、ケトン、ジアルキルアミド、
ラクタム、ラクトンおよびそれらの混合物を含む。有用な溶媒の例は、N−メチ
ル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチル
ホルムアミド(DMF)、シクロヘキサノン、ビス−2−メチルエチルエーテル
ジグリム、テトラヒドロフルフリルアルコール(THFA)、ジメチスルホキシ
ド(DMSO)、キシレン、2−ヘプタノン、エチルラクテート、エチル3−エ
トキシプロピオネート、メチル3−メトキシプロピオネート、プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセートを含む。NMPおよびシクロヘキノンの混合物の使
用は、良好なコーティング品質および長い貯蔵寿命を得るために特に好ましい。
【0024】f.溶媒可溶性有機染料 溶媒可溶性有機染料は改良されたブラックマトリクス組成物に小さな比率で添
加されて、コーティング品質および貯蔵寿命のようなコーティング性能を限界に
ついて増大する。選択された染料の添加は、塗布された組成物中の粒子、空隙、
ピンホールおよび皺の発生を有意に減少し、またコーティング配合物の室温貯蔵
寿命を典型的には数時間から5〜10日間へと延長する。染料添加はまたコーテ
ィングの光学濃度および体積抵抗率において限界の改良を与える。
【0025】 前記染料の化学的性質は所望の改良を達成するために非常に重要である。例え
ば、ソルベント・ブラック28、ソルベント・ブラック27、ソルベント・ブラ
ック29(Solvent Black 29)、およびソルベント・ブラック
45(Solvent Black 45)のような好ましいアゾ−1,2−ク
ロム錯体染料は、コーティング品質および貯蔵寿命を有意に増大するが、一方、
他の種類からの溶媒可溶性染料は改良を一般的に与えず、またはコーティング性
能を実際に低下させる。貧弱な効果の染料の例は、ソルベント・ブラック35(
Solvent Black 35)、ソルベント・ブラウン44(Solve
nt Brown 44)、ソルベント・ブルー67(Solvent Blu
e 67)、ソルベント・ブラック3(Solvent Black 3)、ソ
ルベント・ブラック5(Solvent Black 5)、ソルベント・ブラ
ック7(Solvent Black 7)、ソルベント・ブラック46(So
lvent Black 46)およびソルベント・ブラック47(Solve
nt Black 47)を含む。前記アゾ−1,2−クロム錯体染料類の中で
も、ソルベント・ブラック28がもっとも好ましい、なぜならば、貯蔵寿命およ
びコーティング品質を改良するだけでなく、鋭い垂直側壁を有するブラックマト
リクス像の高い解像度(3μm)のパターン付けを可能にするからである。
【0026】 染料の量もまたコーティング性能および安定性における所望の増大を得るため
に非常に重要である。前記溶媒可溶性染料は好ましくは、添加した顔料の重量に
基づいて0.2〜3.0重量%、またより好ましくは顔料重量に基づいて1.0
〜2.0重量%で使用される。5重量%より多くを使用する場合、コーティング
は素早く現像されすぎ、パターン解像度を減少させるかまたは現像の間に残渣の
形成を引き起こす。
【0027】 好ましい組成範囲 改良されたブラックマトリクスコーティング組成物は、塗布および硬化後に1
〜2μmの層厚を有するコーティングを得るために、溶液中で全固形分20〜5
0重量%で好ましく配合される。30〜40重量%のコーティング固形分濃度は
、約1μmの層厚を有する良好な品質のスピンコーティングを得るために特に好
ましい。 以下の表は、前記コーティング中の各々の主な成分について好ましいまた最も
好ましい添加量(全コーティング固形分の重量%として示される。)を与える。
【0028】
【表1】
【0029】 溶媒可溶性染料に対するシランカップリング剤の望ましい範囲は、重量につい
て10/1〜1/4、好ましくは重量について5/1〜1/2、また最も好まし
くは重量について5/1である。
【0030】 使用方法 改良されたブラックマトリクスコーティング組成物は、高い光学濃度および電
気抵抗率を示す熱安定なブラックマトリクス構造を得るために、フォトリソグラ
フィー法において塗布され、パターン付けされ、そして硬化される。付着法は以
下のように要約される(図1)。ディスプレー基材、典型的にはガラスを洗浄す
る。ブラックマトリクスコーティングを90秒間1000〜1200rpmでガ
ラス基材上にスピンコーティングし、そしてその後100℃で60秒間、ホット
プレート上でα−焼成を行って、厚さ約1μmである均一な層を得る。該コーテ
ィングを200〜2000mJ/cm2、好ましくは500〜1200mJ/c
2でネガティブトーンマスクを通し中紫外光源を使用して露光して、ブラック
マトリクス層中に潜像を形成する。その後30秒間炭酸カリウム溶液中で現像し
、10秒間スプレー洗浄し、そしてスピンして乾燥して、該層中の光が射さなか
った範囲をエッチング除去する。最後に、パターン付けされたブラックマトリク
スコーティングを230℃で1時間、対流炉中で硬化して、平板パネルディスプ
レーおよび光遮蔽層を必要とする他の光電素子の形成の間の引き続き塗布される
コーティング層に対して前記コーティングを完全に耐性とする。
【0031】実施例 以下の実施例は本発明の方法および生成物を説明する。中間顔料分散体は粉砕
媒体として0.5mmガラスビーズを使用したアイガーMINI−100モータ
ーミル中で製造した。実施例1において記載した方法を使用して実施例の全ての
ものを製造した。異なる染料を各々の実施例について使用した。 染料ソルベント・ブラック28を使用した実施例1の組成物は、粒子、空隙お
よびピンホールがなく、また皺は低い表面粗さを表した(図5および6)。ソル
ベント・ブラック28の添加はまた、組成物の貯蔵寿命を1日未満から約5〜1
0日間へと増大し、一方、最も高い解像パターン付けを可能にした。前記パター
ンは残渣が無く、また鋭い垂直側壁を有していた(図4)。ブラックマトリクス
コーティングについての透過率値は波長範囲400〜700nmにわたって1.
0%未満であるべきである。図2は、実施例1のブラックマトリクスコーティン
グ組成物についての透過率が良好にこの値未満であることを図示する。実施例1
におけるコーティングの光学濃度は3.1であり、該光学濃度は540nmでコ
ーティング層の吸光度として定義される(図3)。 実施例7における好ましくないソルベント・ブラック35の使用は、多くの粒
子およびピンホールを有する貧弱な品質のコーティングを生じた。 これは、優れた結果を得ることにおける正しい染料を使用することの重要性を
示す。表1参照。
【0032】
【表2】
【0033】 実施例1中間顔料分散体の製造 プラスチックビーカー中に、N−メチルピロリドン(NMP)20g、シクロ
ヘキサノン111g、メチルトリメトキシシラン3.12g、ピグメント・ブラ
ック26(シリカ被覆)62.4gおよびポリマーバインダー溶液20gを添加
した。後者はベンジルメタクリレート70モル%およびメタクリル酸30モル%
を含むアクリルコポリマーの25重量%NMP溶液であった。該混合物を均質に
なるまで約5分間スパチュラで攪拌した。この顔料スラリーをその後、15分間
にわたり1000rpmで回転する粉砕ミル中に導入した。内容物をミル中への
NMP10gで洗浄した。粉砕速度を3000rpmへと徐々に増加させた。顔
料をその後2時間この速度で粉砕した。
【0034】 独立したプラスチック破砕機中に、ポリマーバインダー溶液20gおよびオラ
ソル・ブラックCN(ORASOL Black CN)(チバガイギー社、ア
カ・ソルベント・ブラック28(aka Solvent Black 28)
、シリカ被覆顔料に基づいて1重量%)0.62gを添加した。該混合物を10
分間攪拌し、そしてその後、2時間粉砕した後に、前記ミルの内容物に添加した
。該染料溶液をミル中への新たなNMP34.2gで洗浄した。該ミル内容物を
その後さらに90分間3000rpmで粉砕した。顔料分散体をミルから排出し
、そして0.2μm孔径フィルターを通して濾過した。
【0035】ブラックマトリクスコーティング配合物の製造 上記の顔料分散体30g、ペンタエリトリトールテトラアクリレート0.5g
、イソプロピルチオキサントン0.6g、オクチル−p−ジメチルアミノ−ベン
ゾエート1.2gおよびイルガキュア369・1.2gを、黄色光下で15分間
攪拌することによって組み合わせた。生じた生成組成物を0.2μm孔径フィル
ターを通して濾過した。ブラックマトリクスの貯蔵寿命は冷蔵下で3ケ月以上で
あった。
【0036】ブラックマトリクスの塗布 前記ブラックマトリクスを1μmの膜厚でガラス基板上にスピンコートし、そ
して100℃で1分間、ホットプレート上で予備焼成した。該ブラックマトリク
スは感光性であり、そしてフォトレジストコーティングを必要としない。該ブラ
ックマトリクスを500〜1000mJ/cm2で高圧水銀灯で露光し、30秒
間希アルカリ現像液中で現像し、30秒間DI水で洗浄した。生じた画像を23
0℃で1時間、対流炉中で最終硬化した。3〜6μmの範囲内の解像度が達成さ
れた。1μm薄膜についてASTM・D257法に従ってなされた体積抵抗率測
定は、109〜1011Ω・cmの大きさであった。最終硬化後の1μmのブラッ
クマトリクスの反射率は2.1%であった。表面粗さは0.03〜0.05μm
の範囲内であった。
【0037】熱安定性 前記ブラックマトリクスは、配向層形成工程の間に高い熱安定性を示さなけれ
ばならない。図7は加熱前後の1μm膜厚でのスペクトル変化を図示する。色変
化(ΔE*ab)は、230℃で空気中7時間、対流炉中で加熱した後、3未満
(ΔE*ab=1.9)であり、それ故優秀な熱安定性を示す。
【0038】耐光性 画素の耐光性は重要である、なぜならば、これらの画素はLCDのバックライ
トで照明されるからである。前記ブラックマトリクスをUVフィルターを有する
水銀−キセノン灯(200〜1300ルクス)に露光した。図8は100万ルク
ス時間後の該ブラックマトリクスのスペクトル変化を図示する。色変化(ΔE*
ab)は3未満(ΔE*ab=1.2)であり、該ブラックマトリクスの優れた
耐光性を示す。
【0039】耐薬品性
【表3】
【0040】 カラーフィルターはLCD作製プロセスの間に溶媒、酸および塩基に暴露され
るので、薬品安定性は重要な要素である。硬化薄膜はNMPおよびg−ブチロラ
クトンのような配向層溶媒に対して、インジウム酸化スズ(ITO)のエッチン
グの間に酸に対して、または現像系において使用される塩基に対して耐性を有し
なければならない。ブラックレジストの薬品安定性を、パターン観察および色変
化の双方によって評価した。溶媒、酸およびアルカリ溶液中に1分間、画素を浸
漬した後、パターンが安定であることを見出し、また膨潤および剥離は観察しな
かった。色変化(ΔE*ab)は3未満であり、前記ブラックマトリクスの非常
に良好な薬品安定性を示す(表2)。
【0041】 実施例2 オラソル・ブラックCNの代わりに、ザポン・ブラックX51(ZAPON
Black X51)(BASF社、アカ・ソルベント・ブラック27/カチオ
ン1(aka Solvent Black 27/Cation 1)、シリ
カ被覆顔料に基づいて1重量%)を使用したことを除いて、実施例1と全く同様
に本発明のブラックマトリクスコーティング組成物を製造した。
【0042】 実施例3 オラソル・ブラックCNの代わりに、オラソル・ブラックRLI (ORAS
OL Black RLI)(チバガイギー社、アカ・ソルベント・ブラック2
9(aka Solvent Black 29)を使用したことを除いて、実
施例1と全く同様に本発明のブラックマトリクスコーティング組成物を製造した
【0043】 実施例4 オラソル・ブラックCN0.6g(シリカ被覆顔料に基づいて1重量%)の代
わりに、ネオポン・ブラックX53(NEOPON Black X53)(B
ASF社、アカ・ソルベント・ブラック27/カチオン2(aka Solve
nt Black 27/Cation 2)を使用したことを除いて、実施例
1と全く同様に本発明のブラックマトリクスコーティング組成物を製造した。
【0044】 実施例5 オラソル・ブラックCN0.62gの代わりにサビニル・ブラックRLS(S
AVINYL Black RLS)1.2g(クラリアント社、アカ・ソルベ
ント・ブラック45(aka Solvent Black 45)(シリカ被
覆顔料に基づいて2重量%)を使用したことを除いて、実施例1と全く同様に本
発明のブラックマトリクスコーティング組成物を調製した。
【0045】 実施例6 染料を使用しないことを除いて、実施例1と全く同様に本発明のブラックマト
リクスコーティング組成物を調製した。
【0046】 実施例7 ソルベント・ブラック28の代わりに、ソルベント・ブラック35を使用した
ことを除いて、実施例1と全く同様に本発明のブラックマトリクスコーティング
組成物を調製した。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、本発明のブラックマトリクスコーティング組成物につい
ての使用の方法を説明する流れ図である。
【図2】 図2は、実施例1において製造したコーティング組成物の1μm
厚硬化薄膜の光透過スペクトルである。
【図3】 図3は、実施例1において製造したコーティング組成物の1μm
厚硬化薄膜の光吸収スペクトルを図示し、光学濃度は540nmでのコーティン
グ層の吸光度(A)として定義されるグラフである。
【図4】 図4は、実施例1のブラックマトリクスコーティングのリソグラ
フ性能を評価するために使用されたテストマスクでの解像度ダガー像の顕微鏡写
真である。
【図5】 図5は、実施例1において製造したコーティング組成物の硬化薄
膜の表面の走査電子顕微鏡写真である。
【図6】 図6は、実施例1において製造したコーティング組成物の硬化薄
膜の典型的な表面粗さを図示するグラフである。
【図7】 図7は、時間を増加させて230℃で焼成したときの実施例1の
組成物の1μm厚コーティングについての可視スペクトルにわたる透過百分率に
おける変化を図示する。7時間焼成後のスペクトルデータから計算したΔEab
熱安定性)は1.9であった。
【図8】 図8は、100万ルクス・時間の累積量で人工太陽光照射に露光
したときの実施例1の組成物の1μm厚コーティングについての可視スペクトル
にわたる透過百分率における変化を図示する。スペクトルデータから計算したΔ
ab(耐退色性)は1.23であった。
【手続補正書】
【提出日】平成13年4月6日(2001.4.6)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項5
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】 組成物の成分a.バインダー系 アルカリ可溶性ポリマーバインダーは好ましくは、アクリル酸またはメタクリ
ル酸、またはカルボン酸、スルホン酸、スルホンアミド、フェノール性基、もし
くはバインダーに水溶性塩基中での溶解性を付与することが可能な他の官能性基
を有する他のエチレン性不飽和モノマーを含むビニルポリマーまたはコポリマー
である。特に好ましいポリマーバインダーは、(a.)1種以上の上記酸性モノ
マー、特にメタクリル酸またはアクリル酸モノマーおよび(b.)1種以上の非
酸性(メタ)アクリルモノマーから配合されたコポリマーである。特に好ましい
コポリマーバインダーにおける酸性モノマーの望ましい濃度は、光画像形成、即
ちパターン付けの間に慣用のアルカリ現像溶液中でブラックマトリクス組成物全
体の残渣の無い湿式エッチングを効率的に可能にする量である。本発明における
使用について、この種の特に好ましい我々のポリマーバインダーは、ベンジルメ
タクリレート約70重量%およびメタクリル酸約30重量%を含むコポリマーで
ある。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】 実施例1中間顔料分散体の製造 プラスチックビーカー中に、N−メチルピロリドン(NMP)20g、シクロ
ヘキサノン111g、メチルトリメトキシシラン3.12g、ピグメント・ブラ
ック26(シリカ被覆)62.4gおよびポリマーバインダー溶液20gを添加
した。後者はベンジルメタクリレート70重量%およびメタクリル酸30重量%
を含むアクリルコポリマーの25重量%NMP溶液であった。該混合物を均質に
なるまで約5分間スパチュラで攪拌した。この顔料スラリーをその後、15分間
にわたり1000rpmで回転する粉砕ミル中に導入した。内容物をミル中への
NMP10gで洗浄した。粉砕速度を3000rpmへと徐々に増加させた。顔
料をその後2時間この速度で粉砕した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/033 G03F 7/033 7/075 501 7/075 501 (72)発明者 ブリューワー テリー エル アメリカ合衆国 ミズーリ 65401 ロラ 8440 カントリー ロード 17971 (72)発明者 ストロダー マイケル ディー アメリカ合衆国 ミズーリ 65809 スプ リングフィールド サウス ウィロー ヴ ィック トレイル 3412 (72)発明者 江間 希代巳 千葉県千葉市若葉区西都賀5−38−24 (72)発明者 曽根 靖久 千葉県船橋市習志野1−5−17−103 (72)発明者 仁平 貴康 東京都江戸川区船堀7−17−12 (72)発明者 青葉 和広 千葉県習志野市谷津8−18−17 (72)発明者 柳本 晄 東京都武蔵野市吉祥寺東町2−24−4 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA10 AA11 AA13 AA20 AB14 AB20 AC01 AD01 BC13 BC42 BJ00 CA00 CB42 CB43 CB52 CC03 CC12 CC13 CC17 FA17 2H048 BA11 BA45 BA47 BA48 4J002 BG011 BG031 CC031 EH076 EN059 EV319 EX038 EX058 FB077 FB097 FD097 GP03 HA05

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 108Ω・cmより大きい体積抵抗率および1μm以下の
    膜厚での3.0より大きい光学濃度を有し、溶液中で、全固形分20〜50重量
    %で配合された感光性ブラックマトリクス組成物であって、 a.1)アルカリ可溶性ポリマーバインダー、および 2)各々のコモノマーが分子当たり1つ以上のエチレン性不飽和二重結合
    を有する、光重合性多官能アクリレートまたはメタクリレートコモノマーまたは
    コモノマーの混合物 からなるバインダー系と、 b.有効粒子径でのシリカ被覆金属酸化物顔料または顔料類と、 c.トリアルコキシオルガノシランカップリング剤またはその混合物と、 d.露光波長400nm未満で有効に作用することが可能な遊離ラジカル生成
    光開始剤または光開始剤系またはその混合物と、 e.ガラスおよび半導体基材上にスピンコートするために適した乾燥特性を有
    する溶媒ビヒクルと、および f.乾燥顔料固形分の重量の3重量%未満の濃度での溶媒可溶性有機染料 を含み、高い光学濃度および低い導電性を有する他の光画像形成性有機ブラック
    マトリクスに比べて実質的に改良された貯蔵寿命を有する組成物。
  2. 【請求項2】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーは、アクリル酸、
    メタクリル酸、またはカルボン酸、スルホン酸、スルホンアミド、フェノール性
    基、もしくは前記バインダーに水溶性塩基中での溶解性を付与することが可能な
    他の酸性官能基を有する他のエチレン性不飽和モノマーを含むビニルポリマーま
    たはコポリマーである、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  3. 【請求項3】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーはさらに非酸性(
    メタ)アクリルモノマーを含む、請求項2記載のブラックマトリクス組成物。
  4. 【請求項4】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーは、メタクリル酸
    またはアクリル酸と1種以上の非酸性(メタ)アクリルモノマーとのコポリマー
    であり、また前記酸性モノマーはアルカリ現像溶液中で前記組成物の残渣の無い
    エッチングを可能にするに有効な量で存在する、請求項3記載のブラックマトリ
    クス組成物。
  5. 【請求項5】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーは、ベンジルメタ
    クリレート約70モル%およびメタクリル酸約30モル%を含むコポリマーであ
    る、請求項3記載のブラックマトリクス組成物。
  6. 【請求項6】 前記コモノマーは、分子当たり2つ以上のエチレン性不飽
    和二重結合を有する多官能(メタ)アクリルコモノマーまたはコモノマーの混合
    物である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  7. 【請求項7】 前記コモノマーまたはコモノマーの混合物は多官能アクリ
    レートモノマーからなる、請求項5記載のブラックマトリクス組成物。
  8. 【請求項8】 前記多官能アクリレートモノマーはペンタエリトリトール
    テトラアクリレートである、請求項6記載のブラックマトリクス組成物。
  9. 【請求項9】 前記シリカ被覆金属酸化物顔料または顔料類は0.01〜
    0.02μmの一次粒子径を有し、また粒子の少なくとも50重量%は0.02
    μm未満の一次粒子径を有する、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  10. 【請求項10】 前記シリカ被覆金属酸化物顔料または顔料類は、銅、マ
    ンガン、コバルト、ニッケル、クロムおよび鉄の酸化物またはそれらの混合物か
    らなる群より選択される、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  11. 【請求項11】 前記シリカ被覆金属酸化物顔料または顔料類は有機顔料
    との混合物において使用され、前記有機顔料は全コーティング固形物の5重量%
    未満の濃度である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  12. 【請求項12】 前記シリカ被覆金属酸化物顔料はピグメント・ブラック
    26である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  13. 【請求項13】 前記トリアルコキシオルガノシランカップリング剤は顔
    料固形分に基づいて約5重量%で存在する、請求項1記載のブラックマトリクス
    組成物。
  14. 【請求項14】 前記トリアルコキシオルガノシランカップリング剤はメ
    チルトリメトキシシランである、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  15. 【請求項15】 前記光開始剤または光開始剤系は、チオキサントンおよ
    びオクチルN,N−ジメチルアミノベンゾエートと組み合わせたアミン置換アセ
    トフェノンからなる、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  16. 【請求項16】 前記溶媒ビヒクルはN−メチル−2−ピロリドン(NM
    P)およびシクロヘキサノンの混合物である、請求項1記載のブラックマトリク
    ス組成物。
  17. 【請求項17】 前記溶媒可溶性有機染料はアゾ−1,2−クロム錯体染
    料である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  18. 【請求項18】 前記溶媒可溶性有機染料は、ソルベント・ブラック27
    、ソルベント・ブラック28、ソルベント・ブラック29およびソルベント・ブ
    ラック45からなる群より選択される、請求項1記載のブラックマトリクス組成
    物。
  19. 【請求項19】 前記溶媒可溶性有機染料は顔料固形分に基づいて1重量
    %でのソルベント・ブラック28である、請求項1記載のブラックマトリクス組
    成物。
  20. 【請求項20】 前記コーティング固形分は全コーティング組成物の30
    〜40重量%を成す、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  21. 【請求項21】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーは全固形分の5
    〜15重量%を構成し、前記多官能アクリレートまたはメタクリレートコモノマ
    ーは全固形分の2〜7重量%を構成し、前記顔料は全固形分の40〜70重量%
    を構成し、前記トリアルコキシオルガノシランは全固形分の1〜5重量%を構成
    し、前記光開始剤は全固形分の10〜40重量%を構成し、また前記溶媒可溶性
    染料は顔料添加量に基づいて0.2〜3.0重量%を構成する、請求項1記載の
    ブラックマトリクス組成物。
  22. 【請求項22】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーは全固形分の8
    〜12重量%を構成し、前記多官能アクリレートまたはメタクリレートコモノマ
    ーは全固形分の3〜5重量%を構成し、前記顔料は全固形分の50〜60重量%
    を構成し、前記トリアルコキシオルガノシランは全固形分の3〜4重量%を構成
    し、前記光開始剤は全固形分の20〜30重量%を構成し、また前記溶媒可溶性
    染料は顔料添加量に基づいて1.0〜2.0重量%を構成する、請求項1記載の
    ブラックマトリクス組成物。
  23. 【請求項23】 前記溶媒可溶性有機染料の濃度は顔料固形分に基づいて
    0.2〜3.0重量%である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  24. 【請求項24】 前記溶媒可溶性有機染料の濃度は顔料固形分に基づいて
    1.0〜2.0重量%である、請求項1記載のブラックマトリクス組成物。
  25. 【請求項25】 108Ω・cmより大きい体積抵抗率および1μm以下
    の膜厚での3.0より大きい光学濃度を有する感光性ブラックマトリクス組成物
    の製造方法であって、アルカリ可溶性ポリマーバインダーおよび付加光重合性多
    官能アクリレートまたはメタクリレートコモノマーまたはコモノマーの混合物か
    らなり、前記コモノマーまたはコモノマーの混合物は遊離ラジカル開始重合が可
    能なエチレン性不飽和二重結合を分子当り少なくとも1つ有するバインダー系と
    、シリカ被覆金属酸化物顔料または顔料類と、トリアルコキシオルガノシランカ
    ップリング剤または混合物と、露光波長400nm未満で有効に作用することが
    可能な遊離ラジカル生成光開始剤または光開始剤系または混合物と、ガラスおよ
    び半導体基材上にスピンコートするために適した乾燥特性を有する溶媒ビヒクル
    と、および顔料固形分に基づいて3重量%未満の濃度での溶媒可溶性有機染料を
    混合することからなる方法。
  26. 【請求項26】 前記アルカリ可溶性ポリマーバインダーはベンジルメタ
    クリレート約70モル%およびメタクリル酸約30モル%を含むコポリマーであ
    り、前記多官能アクリレートコモノマーはペンタエリトリトールテトラアクリレ
    ートであり、前記シリカ被覆金属酸化物顔料は、0.01〜0.02μmの一次
    粒子径を有しかつ粒子の少なくとも50重量%が0.02μm未満の一次粒子径
    を有するピグメント・ブラック26であり、前記トリアルコキシオルガノシラン
    カップリング剤はメチルトリメトキシシランであり、前記光開始剤または光開始
    剤系はチオキサントンおよびオクチルN,N−ジメチルアミノベンゾエートと組
    み合わせたアミン置換アセトフェノンからなり、前記溶媒ビヒクルはN−メチル
    −2−ピロリドン(NMP)およびシクロヘキサノンの混合物であり、また前記
    溶媒可溶性有機染料は顔料固形分に基づいて1重量%でのソルベント・ブラック
    28である、請求項23記載の方法。
JP2000560487A 1998-07-14 1999-07-14 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法 Pending JP2002520679A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11514298A 1998-07-14 1998-07-14
US09/115,142 1998-07-14
PCT/US1999/015904 WO2000004421A1 (en) 1998-07-14 1999-07-14 Photosensitive black matrix composition and process of making it

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002520679A true JP2002520679A (ja) 2002-07-09

Family

ID=22359536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000560487A Pending JP2002520679A (ja) 1998-07-14 1999-07-14 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20020182522A1 (ja)
EP (1) EP1012671B1 (ja)
JP (1) JP2002520679A (ja)
KR (1) KR100664496B1 (ja)
CN (1) CN1274432A (ja)
DE (1) DE69911558T2 (ja)
TW (1) TW575799B (ja)
WO (1) WO2000004421A1 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002047423A (ja) * 2000-08-02 2002-02-12 Toray Ind Inc 黒色ペースト
JP2006317910A (ja) * 2005-04-15 2006-11-24 Fujifilm Holdings Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びそれを有する表示装置
JP2006330695A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 濃色離画壁及びその製造方法、その濃色離画壁を有するカラーフィルタ及びその製造方法、並びに、それを有する表示装置
JP2006330690A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びそれを有する表示装置
WO2007032552A1 (en) * 2005-09-16 2007-03-22 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, transfer material, light shielding film and production method thereof, color filter for display device, substrate for display device, and display device
JP2009020520A (ja) * 2007-07-16 2009-01-29 Korea Electrotechnology Research Inst 有無機ハイブリッド感光性樹脂組成物およびその硬化体を用いた液晶表示素子
JP2013015828A (ja) * 2011-06-08 2013-01-24 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd カラーフィルター、顔料の製造方法、顔料、高濃度顔料着色組成物、顔料着色剤、カラーフィルターの形成方法及びカラーディスプレー
JP2013072882A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP2017535409A (ja) * 2014-09-12 2017-11-30 エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH 構造化コーティングの製造方法
WO2018061525A1 (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子及び表示装置、並びにその製造方法
JPWO2017208771A1 (ja) * 2016-05-31 2019-03-28 富士フイルム株式会社 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置及び画像表示装置
JP2022534874A (ja) * 2020-03-04 2022-08-04 エルジー・ケム・リミテッド 光学フィルムおよびこれを含むディスプレイ装置

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1150165A1 (en) * 2000-04-25 2001-10-31 JSR Corporation Radiation sensitive resin composition for forming barrier ribs for an el display element, barrier ribs and el display element
JP4831885B2 (ja) 2001-04-27 2011-12-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP2003107697A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料、フォトマスク材料、フォトマスクおよびフォトマスクの製造方法
CN100422274C (zh) 2001-11-08 2008-10-01 东丽株式会社 黑色浆料及等离子体显示板及其制造方法
TWI285298B (en) * 2003-01-14 2007-08-11 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
JP2004334181A (ja) * 2003-04-18 2004-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 表示装置用遮光膜
JP4528548B2 (ja) * 2003-04-18 2010-08-18 富士フイルム株式会社 表示装置用遮光膜
JP4214005B2 (ja) * 2003-06-17 2009-01-28 太陽インキ製造株式会社 光硬化性樹脂組成物及びプラズマディスプレイパネル用前面基板
US8334012B2 (en) * 2004-12-20 2012-12-18 Palo Alto Research Center Incorporated Method for preprinting and/or reliquifying subpixels to achieve color uniformity in color filters
EP1909142B1 (en) * 2005-06-30 2015-06-24 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition and adhesion enhancer
JP4745093B2 (ja) * 2006-03-17 2011-08-10 東京応化工業株式会社 黒色感光性組成物
KR100907255B1 (ko) * 2007-09-18 2009-07-10 한국전자통신연구원 유기 박막 트랜지스터를 구비하는 표시 장치
KR20090108781A (ko) * 2008-04-14 2009-10-19 주식회사 동진쎄미켐 흑색 도전성 페이스트 조성물, 이를 포함하는 전자파차폐용 필터 및 표시 장치
KR101298464B1 (ko) * 2008-12-24 2013-08-23 엘지디스플레이 주식회사 레지스트 용액 및 이를 이용한 패턴 형성방법
EP2475687B1 (en) * 2009-09-08 2014-11-12 Sun Chemical B.V. A photoinitiator composition
CN101870788B (zh) * 2010-06-17 2013-04-03 东南大学 基于分子印迹纳米球的传感介质膜及其制备方法和应用
KR20140031737A (ko) 2012-09-05 2014-03-13 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 형성 방법
DE102014218292A1 (de) * 2014-09-12 2016-03-17 Evonik Degussa Gmbh Flüssige Beschichtungszusammensetzungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JP2016213202A (ja) * 2016-08-24 2016-12-15 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
KR102007149B1 (ko) 2016-11-24 2019-08-05 주식회사 삼양사 흑색 아조-금속 착물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 경화막
GB2572796A (en) * 2018-04-11 2019-10-16 Performance Masterbatches Ltd Composition for darkening the colour of polymers
CN112513163B (zh) * 2018-07-19 2023-02-28 巴斯夫欧洲公司 黑色聚酰胺组合物、其制法和用途
CN109254445B (zh) * 2018-10-15 2020-12-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种黑色矩阵分散液及其制备方法、显示面板
CN118235086A (zh) * 2021-10-11 2024-06-21 埃斯普投资有限公司 包含金属或类金属化合物的组合的辐射敏感组合物

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0727912A (ja) * 1993-07-09 1995-01-31 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 遮光性薄膜形成用樹脂
JPH0836257A (ja) * 1994-07-21 1996-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 着色レジスト組成物
JPH0834923A (ja) * 1994-07-21 1996-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物及びブラックマトリクスの製造法
JPH0943844A (ja) * 1995-07-27 1997-02-14 Aitesu:Kk 着色感光性組成物およびカラーフィルタ
JPH0954431A (ja) * 1995-08-18 1997-02-25 Nippon Kayaku Co Ltd 高抵抗黒色感放射線性樹脂組成物及び黒色硬化膜並びにその黒色画像形成方法
JPH09160243A (ja) * 1995-12-09 1997-06-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法
JPH09237570A (ja) * 1996-02-28 1997-09-09 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd ブラックマトリックス用着色組成物、ブラックマトリックスの製造方法及び遮光性ブッラクマトリックスを付した発光型フラットパネルディスプレイパネル
JPH09263654A (ja) * 1996-03-27 1997-10-07 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフィルター
JPH1090512A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH1090511A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH10133370A (ja) * 1996-11-01 1998-05-22 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用レジスト組成物及びカラーフィルター
JPH10142794A (ja) * 1996-11-14 1998-05-29 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
JPH10160926A (ja) * 1996-11-26 1998-06-19 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性多層シート及び遮光性多色画像シートの製造方法
JPH10282325A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター
JPH1138226A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5176971A (en) * 1985-02-05 1993-01-05 Kyodo Printing Co., Ltd. Color filter
US5489621A (en) * 1993-05-12 1996-02-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for forming colored partial picture element and light-shielding light-sensitive resin composition used therefor
US5593802A (en) * 1993-10-07 1997-01-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming a spacer for use in a liquid crystal panel

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0727912A (ja) * 1993-07-09 1995-01-31 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 遮光性薄膜形成用樹脂
JPH0836257A (ja) * 1994-07-21 1996-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 着色レジスト組成物
JPH0834923A (ja) * 1994-07-21 1996-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物及びブラックマトリクスの製造法
JPH0943844A (ja) * 1995-07-27 1997-02-14 Aitesu:Kk 着色感光性組成物およびカラーフィルタ
JPH0954431A (ja) * 1995-08-18 1997-02-25 Nippon Kayaku Co Ltd 高抵抗黒色感放射線性樹脂組成物及び黒色硬化膜並びにその黒色画像形成方法
JPH09160243A (ja) * 1995-12-09 1997-06-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 遮光膜形成用感光性樹脂組成物、これを用いたブラックマトリックス及びその製造方法
JPH09237570A (ja) * 1996-02-28 1997-09-09 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd ブラックマトリックス用着色組成物、ブラックマトリックスの製造方法及び遮光性ブッラクマトリックスを付した発光型フラットパネルディスプレイパネル
JPH09263654A (ja) * 1996-03-27 1997-10-07 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフィルター
JPH1090512A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH1090511A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Dainippon Printing Co Ltd 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH10133370A (ja) * 1996-11-01 1998-05-22 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用レジスト組成物及びカラーフィルター
JPH10142794A (ja) * 1996-11-14 1998-05-29 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成用感光液、これを用いたカラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
JPH10160926A (ja) * 1996-11-26 1998-06-19 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性多層シート及び遮光性多色画像シートの製造方法
JPH10282325A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター
JPH1138226A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002047423A (ja) * 2000-08-02 2002-02-12 Toray Ind Inc 黒色ペースト
JP2006317910A (ja) * 2005-04-15 2006-11-24 Fujifilm Holdings Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びそれを有する表示装置
JP2006330695A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 濃色離画壁及びその製造方法、その濃色離画壁を有するカラーフィルタ及びその製造方法、並びに、それを有する表示装置
JP2006330690A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及びそれを有する表示装置
WO2007032552A1 (en) * 2005-09-16 2007-03-22 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, transfer material, light shielding film and production method thereof, color filter for display device, substrate for display device, and display device
JP2009020520A (ja) * 2007-07-16 2009-01-29 Korea Electrotechnology Research Inst 有無機ハイブリッド感光性樹脂組成物およびその硬化体を用いた液晶表示素子
JP2013015828A (ja) * 2011-06-08 2013-01-24 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd カラーフィルター、顔料の製造方法、顔料、高濃度顔料着色組成物、顔料着色剤、カラーフィルターの形成方法及びカラーディスプレー
JP2013072882A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置
JP2017535409A (ja) * 2014-09-12 2017-11-30 エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH 構造化コーティングの製造方法
JPWO2017208771A1 (ja) * 2016-05-31 2019-03-28 富士フイルム株式会社 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置及び画像表示装置
JP2021128345A (ja) * 2016-05-31 2021-09-02 富士フイルム株式会社 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置及び画像表示装置
JP7109624B2 (ja) 2016-05-31 2022-07-29 富士フイルム株式会社 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置及び画像表示装置
WO2018061525A1 (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子及び表示装置、並びにその製造方法
JPWO2018061525A1 (ja) * 2016-09-30 2019-07-11 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子及び表示装置、並びにその製造方法
JP7010208B2 (ja) 2016-09-30 2022-01-26 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子及び表示装置、並びにその製造方法
JP2022534874A (ja) * 2020-03-04 2022-08-04 エルジー・ケム・リミテッド 光学フィルムおよびこれを含むディスプレイ装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000004421A1 (en) 2000-01-27
EP1012671A4 (en) 2000-12-06
EP1012671B1 (en) 2003-09-24
CN1274432A (zh) 2000-11-22
US20020182522A1 (en) 2002-12-05
DE69911558T2 (de) 2004-06-24
KR20010030594A (ko) 2001-04-16
DE69911558D1 (de) 2003-10-30
TW575799B (en) 2004-02-11
KR100664496B1 (ko) 2007-01-03
EP1012671A1 (en) 2000-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002520679A (ja) 感光性ブラックマトリクス組成物およびその製造方法
US5368976A (en) Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
US6087050A (en) Radiation sensitive composition and color filter
JP3940547B2 (ja) カラーフィルタ
EP0564168A2 (en) Pigment-dispersed color-filter composition
JP3940535B2 (ja) ブラックレジスト用感放射線性組成物
CN102566265A (zh) 光敏树脂组合物和使用其的彩色滤光片
TW200937118A (en) Photosensitive resin composition with good stripper-resistance for color filter and color filter formed using the same
JPH09133806A (ja) 感光性黒色樹脂組成物及びカラーフイルター
TW200424219A (en) Photosensitive resin composition using photopolymer
US20040048197A1 (en) Photosensitive black matrix
TW200916535A (en) High optical contrast pigment and colorful photosensitive composition employing the same and fabrication method thereof
JP2001147315A (ja) 青色カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JPH10260310A (ja) カラーフィルター用着色組成物
US6756418B2 (en) Photosensitive resin compositions for color filter applications
JPH10104412A (ja) 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルター
KR100930671B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JPH0836260A (ja) 黒色感光性樹脂組成物
JPH09269409A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフイルター
JPH1172616A (ja) カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH10152536A (ja) カラーフイルター用感光性着色組成物及びカラーフイルター
JPH0968608A (ja) カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JPH09166708A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフイルター
JPH0996718A (ja) 光重合性黒色塗液
JPH10282334A (ja) カラーフィルタ用感放射線性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090303

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090422