CN118235086A - 包含金属或类金属化合物的组合的辐射敏感组合物 - Google Patents

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CN118235086A CN202280075399.2A CN202280075399A CN118235086A CN 118235086 A CN118235086 A CN 118235086A CN 202280075399 A CN202280075399 A CN 202280075399A CN 118235086 A CN118235086 A CN 118235086A
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Abstract

本发明提供了辐射敏感组合物和涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组合物包含金属化合物和/或类金属化合物、官能化或未官能化的炔属化合物和其他任选的成分如改良剂的组合。本发明还提供了用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其包含涂覆有这些辐射敏感组合物的基材。所述辐射敏感组合物和装置可应用于牙科、无损检测、肿瘤学、放射学和放射疗法等。

Description

包含金属或类金属化合物的组合的辐射敏感组合物
技术领域
所公开和/或要求保护的发明构思提供了辐射敏感组合物
背景技术
在使用辐射源的设施中，例如，在癌症患者接受辐射治疗的医院中或在血液制品接受辐射的血库中，使用多种方法来定量地确定辐射暴露。实践的方法包括使用热释光剂量计(TLD)、电离型辐射探测器、感光胶片和辐射变色材料。TLD需要复杂且耗时的读出过程因此并不方便。电离型辐射探测器笨拙而不实用，并且需要复杂的设置。感光胶片在读出前需要耗时的化学处理过程。对于辐射变色材料，剂量的计算需要一系列复杂的步骤。
对辐射暴露有反应的光致变色聚乙炔已在若干美国专利中公开，即美国专利第4,066,676号；第4,581,315号；第3,501,302号；第3,501,297号；第3,501,303号；第3,501,308号；第3,772,028号；第3844791号和第3954816号。使用这些聚乙炔化合物记录图像或剂量信息存在几个问题和缺点，包括成像图案的分辨率、清晰度不足，颜色不稳定。其他缺陷包括图像显影相对较慢，以及在某些情况下，在极低温度或过高剂量水平下成像的需要是不切实际的。
辐射剂量计中优选的辐射敏感材料包括10,12-二十五碳二烯酸(PCDA)晶体的分散体。对单体PCDA晶体进行电离辐射会导致逐步聚合，聚合度随着辐射剂量的增加而增加。聚合量(由此，辐射剂量)可通过测量暴露的剂量计的光密度或光谱吸收来确定。然而，已经发现，这些参数也随着测量时装置的温度以及PCDA分散体的厚度而变化。剂量测量的最大精度必须考虑温度和厚度的影响。
辐射剂量测定胶片提供了测量某点处辐射暴露的手段，但其主要用途是获得辐射暴露的二维图，即二维阵列中多个点处的辐射暴露。典型的用户可以75dpi的空间分辨率测量8″×10″大小的胶片，生成450,000个点的辐射剂量图。当然，可以使用其他分辨率来生成辐射暴露图。
美国专利第637,876号公开了一种辐射剂量计，示例性地用于确定患者在辐射治疗期间受到的辐射水平，其包含设置有辐射敏感材料层的基材。辐射敏感材料具有根据辐射暴露的程度而系统地变化的光密度。剂量计可以采取卡片或柔性基材的形式，其可放置于患者或其他辐照对象上，并且还可放置于包括反射或透射密度计的剂量读取器中，或通过剂量读取器中的槽口滑动。
Muthamma等人在Journal of Applied Polymer Science,2019,volume 136(37),47949中研究了聚(乙烯醇)–氧化铋复合材料作为辐射屏蔽材料的功效。通过简单的溶液浇铸技术制备了具有不同铋重量百分比的聚乙烯醇复合材料。热重分析(TGA)显示这些复合材料的热稳定性增强。
Jamil等人在Radiation Physics and Chemistry,Volume 156,2019,272-282中使用不同浓度的PVA制造了静电纺聚(乙烯醇)–氧化铋和聚(乙烯醇)–三氧化钨纳米纤维垫。研究了所制造的静电纺样品的密度、厚度和质量衰减系数等X射线屏蔽标准，以考察其作为潜在X射线屏蔽材料的性能。
Abunahel等人在Applied Physics A,Volume 124,2018,828中使用乳房X射线照相术和普通X射线照相装置研究了填充有不同百分比的氧化铋纳米颗粒的环氧-聚乙烯醇的2mm基质复合材料的X射线衰减。
已经发现，根据所公开和/或要求保护的发明构思的组合物具有优异的性能，使得它们能够在用于检测和测量高能辐射的辐射敏感装置例如若干工业和保健应用中的化学传感器、生物传感器和剂量计中用作辐射敏感材料。这些化合物和组合物对广泛的能量源(如热、电磁辐射、电离辐射、γ射线、紫外线、红外线、可见辐射和X射线)都有很好的能量敏感性。
发明内容
在第一方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感涂料组合物，其包含组分(a)和组分(b)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，且所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物。
在第二方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)和组分(c)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在第三方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在第四方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在第五方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其包含涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在第六方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种涂覆辐射敏感组合物的方法，包括以下步骤：选择与所述组合物相容的基材，制备所述基材以将所述组合物施加于其上，在制备步骤后将所述组合物施加到所述基材上，任选地在所述施加步骤后暴露所述基材，并任选地在所述暴露步骤后显影所述基材，其中所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在第七方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种用于制备可印刷基材的方法，包括以下步骤：提供基材，任选地在所述基材上施加用作基层的层，在所述基材或所述基层上施加至少一层辐射敏感组合物，所述组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
具体实施方式
在详细解释所公开和/或要求保护的发明构思的至少一个方面之前，应当理解，所公开和/或要求保护的发明构思在其应用上并不限于以下描述中提出的或附图中示出的部件或步骤或方法的结构和安排的细节。所公开和/或要求保护的发明构思能够还可具有其他方面或者能够以多种方式实践或实施。同样，应当理解，本文采用的措词和术语是出于描述的目的，而不应被认为是限制性的。
除非本文另有定义，否则与所公开和/或要求保护的发明构思相关的技术术语应具有本领域普通技术人员通常理解的含义。此外，除非上下文另外要求，否则单数术语应包括复数，并且复数术语应包括单数。
在本申请的任何部分中引用的所有专利、公布的专利申请和非专利出版物均在此明确地以引用方式全部并入本文，其程度等同于具体地和单独地指出每个单独的专利或出版物以引用方式并入本文。
本文所公开的所有制品和/或方法均可根据本公开制成并实现，而无需过度的实验。尽管已经根据多个方面对所公开和/或要求保护的发明构思的制品和方法进行了描述，但是对于本领域普通技术人员来说显而易见的是，在不背离所公开和/或要求保护的发明构思的构思、精神和范围的情况下，可对本文所述的制品和/或方法以及在所述方法的步骤或步骤顺序进行变化。对本领域技术人员来说显而易见的所有这类相似的替代和改变都被视为在所公开和/或要求保护的发明构思的精神、范围和构思内。
如根据本公开所使用的，除非另有说明，否则以下术语应被理解为具有以下含义。
当与术语“包含”一起使用时，单词“一个(a)”或“一个(an)”的使用可表示“一个”，但是其也符合“一个或多个”、“至少一个”和“一个或多于一个”的意思。术语“或”的使用用于表示“和/或”，除非明确地指出当替代方案相互排斥时仅指替代方案，尽管本公开支持仅指替代方案和“和/或”的定义。
在整个本申请中，术语“约”用于表示值，包括量化设备和用于确定该值的方法的固有误差变化、或研究对象之间存在的变化。例如但并非用于限制，当使用术语“约”时，指定值可变化正负百分之十二、或百分之十一、或百分之十、或百分之九、或百分之八、或百分之七、或百分之六、或百分之五、或百分之四、或百分之三、或百分之二、或百分之一。
术语“至少一个”的使用将被理解为包括一个以及大于一个的任何数量，包括但不限于1、2、3、4、5、10、15、20、30、40、50、100等。术语“至少一个”可以扩展到100或1000或更多，这取决于其所连接的术语。另外，不应将100/1000的数量视为限制，因为更低或更高的限制也可能产生令人满意的结果。另外，术语“X、Y和Z中的至少一个”的使用将理解为包括单独的X，单独的Y和单独的Z，以及X、Y和Z的任何组合。序数术语(即“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等)的使用仅是为了区分两个或更多个项目，除非另有说明，否则并不意味着暗示一个项目相对于另一个项目的任何顺序、次序或重要性、或任何添加顺序。
如本文所用，单词“包含”(及其任何其他形式的表述)、“具有”(及其任何其他形式的表述)、“包括”(及其任何其他形式的表述)或“含有”(及其任何其他形式的表述)是包含性的或开放的，且不排除额外的、未列举的要素或方法步骤。如本文所使用的术语“或其组合”是指该术语之前的所列项目的所有排列和组合。例如，“A、BXn、BXn+1、或其组合”旨在包括以下的至少一项：A、BXn、BXn+1、ABXn、ABXn+1、BXnBXn+1、或ABXnBXn+1，并且如果在特定情况下顺序很重要，则还包括BXnA、BXn+1A、BXn+1BXn、BXn+1BXnA、BXnBXn+1A、ABXn+1BXn、BXnABXn+1或BXn+1ABXn。继续举例，明确包括是包含一个或多个项目或术语的重复的组合，例如BXnBXn、AAA、MBXn、BXnBXnBXn+1、AAABXnBXn+1BXn+1BXn+1BXn+1、BXn+1BXnBXnAAA、BXn+1ABXnABXnBXn等。本领域技术人员会理解，除非从上下文明显看出，否则通常对任何组合中的项目或术语的数量没有限制。
术语“各自独立地选自”是指当一个基团在结构中出现多于一次时，该基团可以在其每次出现时被独立地选择。
术语“烃基”包括直链和支化的烷基、烯基、炔基、环烷基、环烯基、芳基、以及它们与任选的杂原子的组合。烃基基团可以是单价的、二价的或多价的。
术语“烷基”是指任选地具有一个或多个杂原子的官能化或未官能化的单价的，直链的、支化的、或环状的C1-C60烃基基团。在一个非限制性实施方案中，烷基是C1-C45烃基基团。在另一个非限制性实施方案中，烷基是C1-C30烃基基团。烷基的非限制性实例包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、叔辛基、异降冰片基、正十二烷基、叔十二烷基、正十四烷基、正十六烷基、正十八烷基、正二十烷基、环丁基、环戊基、环己基等。“烷基”的定义还包括通过直链、支化和/或环状结构的组合获得的基团。
术语“芳基”是指任选地具有一个或多个杂原子的官能化或未官能化的单价芳烃基团。芳基的定义包括碳环芳族基团和杂环芳族基团。芳基基团的非限制性实例包括苯基、萘基、茚基、茚满基、甘菊环基(azulenyl)、芴基、蒽基、呋喃基、噻吩基、吡啶基、吡咯基、唑基、噻唑基、咪唑基、吡唑基、2-吡唑啉基、吡唑烷基、异唑基、异噻唑基、1,2,3-二唑基、1,2,3-三唑基、1,3,4-噻二唑基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、1,3,5-三嗪基、1,3,5-三噻烷基(1,3,5-trithianyl)、吲哚嗪基、吲哚基、异吲哚基、3H-吲哚基、二氢吲哚基、苯并[b]呋喃基、2,3-二氢苯并呋喃基、苯并[b]噻吩基、1H-吲唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、嘌呤基、4H-喹嗪基、异喹啉基、噌啉基、酞嗪基、喹唑啉基、喹喔啉基、1,8-萘啶基(naphthridinyl)、蝶啶基、咔唑基、吖啶基、吩嗪基、吩噻嗪基、吩嗪基(phenoxyazinyl)、吡唑并[1,5-c]三嗪基等。
术语“芳烷基”是指包含一个或多个芳基取代基的烷基，其中“芳基”和“烷基”的定义如上。芳烷基的非限制性实例包括苄基、2-苯基-乙基、3-苯基-丙基、4-苯基-丁基、5-苯基-戊基、4-苯基-环己基、4-苄基环己基、4-苯基环己基甲基、4-苄基环己基甲基等。
术语“亚烷基”是指任选地具有一个或多个杂原子的官能化或未官能化的二价的，直链、支化或环状的C1-C40烃。在一个非限制性实施方案中，亚烷基是C1-C30基团。在另一个非限制性实施方案中，亚烷基是C1-C20基团。亚烷基的非限制性实例包括：
术语“亚芳基”是指任选地具有一个或多个杂原子的官能化或未官能化的二价芳烃基团。亚芳基的定义包括碳环基团和杂环基团。亚芳基的非限制性实例包括亚苯基、亚萘基、亚吡啶基等。
术语“杂原子”是指氧、氮、硫、硅、磷或卤素。杂原子可以作为一个或多个含杂原子官能团的一部分而存在。含杂原子官能团的非限制性实例包括醚基、羟基、环氧基、羰基、羧酰胺基、羧酸酯基、羧基、亚胺基、酰亚胺基、胺基、磺酸基、磺酰胺基、膦酸基和硅烷基。杂原子也可以作为环的一部分存在，例如在杂芳基和杂亚芳基中。
术语“卤素”或“卤代”是指Cl、Br、I或F。
术语“铵”包括质子化的NH3和质子化的伯、仲和叔有机胺。
关于任何部分的术语“官能化”指的是该部分中存在一个或多个官能团。可以通过本领域普通技术人员已知的一种或多种官能化反应将多种官能团引入到该部分中。官能化反应的非限制性实例包括：烷基化、环氧化、磺化、水解、酰胺化、酯化、羟基化、二羟基化、胺化、氨解、酰化、硝化、氧化、脱水、消除、水合、脱氢、氢化、缩醛化、卤化、脱卤化氢、Michael加成、醇醛缩合、Canizzaro反应、Mannich反应、Clasien缩合、Suzuki偶联、羧化、磺化、羧酸盐形成、磺酸盐形成等。关于任何部分的术语“未官能化”是指该部分中不存在官能团。
术语“单体”是指在聚合过程中与相同或不同种类的一个或多个单体化学键合以形成聚合物的小分子。
术语“聚合物”是指包含通过共价化学键连接的一种或多种类型的单体残基(重复单元)的大分子。根据这一定义，聚合物包括其中单体单元的数量可以从非常少(通常称为低聚物)到非常多的化合物。聚合物的非限制性实例包括均聚物和非均聚物，如共聚物、三元共聚物、四元共聚物和更多元的类似物。该聚合物可以具有无规、嵌段和/或交替结构。该聚合物在性质上可以是非离子的，或者可以是阳离子的、阴离子的或两性的。
术语“均聚物”是指基本上由单一的单体类型组成的聚合物。
术语“非均聚物”是指包含多于一种单体类型的聚合物。
术语“共聚物”是指包含两种不同单体类型的非均聚物。
术语“三元共聚物”是指包含三种不同单体类型的非均聚物。
术语“支化的”是指任何非线性的分子结构。该术语包括支化的和超支化的结构。
术语“辐射敏感”是指响应于入射辐射而表现出一种或多种内在或外在性质改变的状况。
术语“金属”是指在新制备、抛光或破碎时，通常表现出有光泽的外观且是电和热的良导体的材料。金属的这一定义包括若干种科学上公认的金属类别，如碱金属、碱土金属、镧系元素、锕系元素、过渡金属和后过渡金属。
术语“碱金属”是指金属元素锂、钠、钾、铷、铯和钫。
术语“碱土金属”是指金属元素铍、镁、钙、锶、钡和镭。
术语“镧系元素”是指元素周期表中原子序数为57至71(包括57和71)的金属元素，从镧到镥。
术语“锕系元素”是指元素周期表中原子序数为89至103(包括89和103)的金属元素，从锕到铹。
术语“过渡金属”是指其原子具有部分填充的d子壳，或其可产生具有不完整d子壳的阳离子的金属元素。后过渡金属的具体的非限制性实例包括钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、铑和钯。
术语“后过渡金属”是指通常较软、机械强度差和/或熔点低于过渡金属元素的金属元素。后过渡金属的具体的非限制性实例包括铝、镓、铟、铊、锡、铅、铋和钋。
术语“类金属”是指表现出介于典型金属性质和典型非金属性质之间的性质的元素。例如，类金属可以是具有金属的物理外观和性质但在化学上表现为非金属的元素。类金属的具体的非限制性实例包括硅、硼、砷、锗、锑和碲。
术语“改良剂”是指在组合物或制剂中提供有益物理和/或化学效应的成分。
术语“涂料组合物”是指适于施用于基材表面的溶液、乳液、悬浮物或分散体等形式的组合物。
术语“基材”是指用作涂料组合物等组合物的基底的材料。
术语“装置”是指制造的材料。
除非另有说明，否则本文使用的所有百分比、比率和比例均以重量为基础。
在第一方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感涂料组合物，其包含组分(a)和组分(b)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，且所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物。在一个非限制性实施方案中，所述辐射敏感涂料组合物中的组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。在一个非限制性实施方案中，所述辐射敏感涂料组合物中的组分(b)选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合。
在一个非限制性实施方案中，辐射包括电离辐射或电磁辐射。在一个非限制性实施例中，所述电离辐射包括α射线、β射线或中子射线。在一个非限制性实施例中，所述电磁辐射包括可见辐射、紫外辐射、红外辐射、X射线或γ射线。
在一个非限制性实施方案中，铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、氢化铋、硒化铋、碲化铋、钋化铋、铋硫属化合物(bismuthchalconides)、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物(bismuth manganese oxide)、碘氧化铋(bismuth oxideiodide)、溴氧化铋(bismuth oxide bromide)及其组合。铋化合物的非限制性的具体实例可见于PCT申请WO 2007/057327中，其全部内容通过引用并入本文。
在一个非限制性实施方案中，铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合。Band等人在J.Phys.Chem.B(2004),108,33,12360–12367中合成了氧化铯并使用化学和结构分析技术的组合对氧化铯进行了表征。Ferguson和Gorrie在Cesium and Cesium Compounds,Kirk-OthmerEncyclopedia of Chemical Technology(2011)中描述了铯化合物的提取、合成、性质和应用方法。这些参考文献的全部内容通过引用并入本文。
在一个非限制性实施方案中，钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。Kresse等人在Barium and Barium Compounds,Ullmann's Encyclopedia ofIndustrial Chemistry(2007)中描述了钡和钡化合物的历史、生产、分析和用途，其全部内容通过引用并入本文。
在一个非限制性实施方案中，钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。Lassner等人在书中章节Tungsten Compounds and Their Application,Tungsten(1999)中总结了具有金属和非金属元素的钨化合物，其全部内容通过引用并入本文。
在一个非限制性实施方案中，铝化合物选自氧化铝、氢化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
在一个非限制性实施方案中，铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氧化铅、氯化铅、溴化铅、碘化铅及其组合。
在一个非限制性实施方案中，硅化合物选自二氧化硅(silicon dioxide)、硅石(silica)、气相硅石(fumed silica)、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、氢化铋、硒化铋、碲化铋、钋化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合的铋化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合的铝化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是氧化铋，且辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是氧化铝。
在第二方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)和组分(c)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，辐射敏感组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感组合物中的组分(b)是铝化合物，且辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感组合物中的组分(a)是选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、氢化铋、硒化铋、碲化铋、钋化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合的铋化合物，辐射敏感组合物中的组分(b)是选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合的铝化合物，且辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，所述组分(c)是包含炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。在另一个非限制性实施方案中，所述组分(c)是包含至少两个炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。
在一个非限制性实施方案中，所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。在一个非限制性实施方案中，所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
在一个非限制性实施方案中，所述组分(c)是选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是氧化铋，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是氧化铝，且辐射敏感涂料组合物中的组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，本文公开的盐通过官能化或未官能化的炔属化合物与选自有机酸、有机碱、无机酸、无机碱、络合物形成体、晶体形成体、共晶体形成体及其组合的物质的反应获得。在一个非限制性实施方案中，所述物质选自官能化或未官能化的脂族胺、脂环胺、杂环胺、芳胺、杂芳胺及其组合。在另一个非限制性实施方案中，所述物质选自官能化或未官能化的烷基胺、二烷基胺、三烷基胺、季胺、吡啶、偶氮吡啶、联吡啶、嘧啶、吡嗪、哌啶、联哌啶、吗啉及其组合。在另一个非限制性实施方案中，所述物质选自金属和无机碱。在又一个非限制性实施方案中，所述物质选自碱金属元素和碱土金属元素的氢化物、氧化物、氢氧化物、氰化物、碳酸盐和碳酸氢盐及其组合。
有机碱的非限制性的具体实例包括4,4’-偶氮吡啶、4,4’-联吡啶、反式-1,2-双(4-吡啶基)乙烯、4,4’-联哌啶、吗啉、二乙胺、正丁胺、及其组合。有机碱的其他合适实例可见于ULLMANN’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,7th Edition,2002,Wiley-VCHVerlag GmbH&Co.KGaA，其全部内容通过引用并入本文。
无机碱的非限制性的具体实例可见于ULLMANN’s Encyclopedia of IndustrialChemistry,7th Edition,2002,Wiley-VCH Verlag GmbH&Co.KGaA，其全部内容通过引用并入本文。
Hall等人在Chemical Science,2020,volume 11,8025-8035中公开了对辐射敏感的炔类化合物的性质、功能和应用的其他见解，其公开内容通过引用整体并入本文。
在第三方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是铋化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，辐射敏感涂料组合物中的组分(a)是氧化铋，辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是氧化铝，辐射敏感涂料组合物中的组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且辐射敏感涂料组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，所述改良剂选自吸附剂、粘合剂、染料、聚合物、保质期延长剂、溶剂、稳定剂、表面活性剂及其组合。
粘合剂的非限制性的具体实例包括均聚物、共聚物、接枝共聚物、嵌段共聚物、聚合物合金及其混合物。大量的单体和低聚物可用于制造这些聚合物粘合剂。此类单体的非限制性的具体实例包括不饱和单体，例如烯烃、乙烯基、丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸酯，例如甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸、丁二醇1,4-二甲基丙烯酸酯、二乙二醇双丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇-1,6-二甲基丙烯酸酯、甲基苯乙烯季戊四醇三丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、4-苯甲酸(乙烯氧基)丁酯、双[4-(乙烯氧基)丁基]己二酸酯、双[4-(乙烯氧基)丁基]琥珀酸酯、4-(乙烯氧基甲基)环己基甲基、双[4-(乙烯氧基)丁基]间苯二甲酸酯、双[4-(乙烯氧基甲基)环己基甲基]、三[4-(乙烯氧基)丁基]偏苯三甲酸酯、4-(乙烯氧基)硬脂酸丁酯、双[4-(乙烯氧基)丁基]己二基双氨基甲酸酯、双[[4-[(乙烯氧基)甲基]环己基]甲基]、双[[4-[(乙烯氧基)甲基]环己基]甲基]、双[4-(乙烯氧基)丁基](4-甲基-1,3-亚苯基)、及其组合。
粘合剂的进一步非限制性的具体实例包括乳胶乳液聚合物。对于乳胶乳液聚合物，组分包括作为一种或多种烯属不饱和单体的反应产物的聚合物。有用的烯属不饱和单体的非限制性的具体实例包括丙烯酸、丙烯腈、甲基丙烯酸乙酰乙酰氧基乙酯、丙烯酸乙酰乙酰氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丁二烯、甲基丙烯酸丁酯、丁基丙烯酰胺、氯甲基苯乙烯、巴豆酸、丙烯酸乙酯、乙基丙烯酰胺、乙烯、甲基丙烯酸乙酯、乙基己基丙烯酸酯、2-乙基己基丙烯酸酯、2-乙基己基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、羟乙基(甲基)丙烯酸酯、羟丙基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、异戊二烯、丙烯酸异辛酯、甲基丙烯酸异辛酯、衣康酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、α-甲基苯乙烯、苯乙烯、氯乙烯、乙烯基萘、乙烯基甲苯、偏二氯乙烯、乙酸乙烯酯等。
醇酸树脂通常包含可以是不饱和的多元酸、多元醇和脂肪酸。多元酸如芳香族、脂肪族和脂环族的饱和及不饱和化合物，如己二酸、氯菌酸、庚二酸、间苯二甲酸、马来酸、萘二甲酸、邻苯二甲酸、癸二酸、琥珀酸、偏苯三酸、对苯二甲酸和四氢邻苯二甲酸。多元醇组分包括1,3-丁二醇、二乙二醇、二季戊四醇、二丙二醇、乙二醇、甘油、1,6-己二醇、新戊二醇、季戊四醇、丙二醇、山梨醇、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷和三乙二醇。用于制造醇酸树脂的脂肪酸通常包括脱水蓖麻油、椰子油、棉籽油、鱼油、亚麻籽油、奥蒂油(oiticicaoil)、桐油、红花油、大豆油和妥尔油酸。
聚氨酯树脂由聚异氰酸酯(脂肪族聚异氰酸酯、芳香族聚异氰酸酯或其组合)化合物形成。脂肪族异氰酸酯的实例包括丁烷二异氰酸酯、4,4′-二异氰酸酯基二环己基甲烷、六亚甲基二异氰酸酯、六羟基亚苯基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1-甲基-2,4(2,6)-二异氰酸酯基环己烷、降冰片烷二异氰酸酯和四甲基亚苯基二异氰酸酯。脂肪族异氰酸酯和芳香族异氰酸酯的实例包括4,4’-亚联苯基二异氰酸酯、4-氯-1,3-亚苯基二异氰酸酯、1,4-亚环己基二异氰酸酯、1,10-癸-乙烯二异氰酸酯、亚甲基双(4-苯基异氰酸酯)、4,4-亚甲基双(环己基异氰酸酯)、1,5-萘二异氰酸酯、1,3-亚苯基二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、1,4-四亚甲基二异氰酸酯和1,5-四氢萘二异氰酸酯。
除异氰酸酯外，形成聚酯组合物的醇和羧酸也可用于制备聚氨酯树脂。多元羧酸可以具有脂肪族、脂环族、芳香族和/或杂环性质，并且可以包含卤素原子和/或不饱和部分。合适的酸包括己二酸、壬二酸、双-对苯二甲酸乙二醇酯、二聚脂肪酸、对苯二甲酸二甲酯、内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、富马酸、戊二酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、间苯二甲酸、马来酸、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、邻苯二甲酸、辛二酸、琥珀酸、癸二酸、四氢邻苯二甲酸酐和四氯邻苯二甲酸酐。多元醇的实例包括1,4-丁二醇、1,3-丁二醇和2,3-丁二醇、环己烷二甲醇(1,4-双-羟甲基环己烷)、二乙二醇、二丙二醇、二丁二醇、乙二醇、1,2-丙二醇和1,3-丙二醇、1,6-己二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、新戊二醇、1,8-辛二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、三乙二醇和四乙二醇。设想了包含羧基基团和末端羧基基团的聚酯。设想了适于支持离子基团或潜在离子基团的包含羧基基团或羧酸酯基团的二醇。此类部分可以由二羟基琥珀酸、二羟甲基乙酸、2,2-二羟甲基丙酸、2,2-二羟甲基丁酸和2,2-二羟甲基戊酸构成。由内酯构成的聚酯也是可以预见的。包含羟基的聚碳酸酯是有用的，并且是通过二醇与二碳酸酯如碳酸二苯酯或光气反应制备的。由衍生自环氧乙烷、环氧丙烷和/或四氢呋喃的聚合物形成的包含二醇的聚醚也是有用的。胺官能团可用于引入末端羟基官能团，使用化合物如二乙醇胺、乙醇胺、N-甲基乙醇胺、丙醇胺、N,N,N′-三-2-羟乙基乙二胺。
环氧树脂主要由线性链分子组成。这些分子是由双酚与卤代醇反应生成含有环氧基团的环氧树脂而形成的。常见的双酚包括双酚-A、双酚-F、双酚-S和4,4’二羟基双酚。常见的卤代醇包括环氧氯丙烷、二氯丙醇和1,2-二氯-3-羟基丙烷。
市售环氧树脂的非限制性的具体实例包括Dow Chemical环氧树脂DER 333、DER661，和Shell Chemical环氧树脂EPON 828、EPON 836和EPON 1001，Ciba-Geigy环氧树脂GT-7013、GT-7014、GT-7074、GT-259，和Air ProductsAR 555。
可从Air Products、BASF、Bayer、Celanese、Chemtura、Dow、Hexion、Styron和Wacker获得的商业乳胶乳液聚合物的非限制性的具体实例包括Acronal 296D、Aquamac 705、Aquamac588、AvanseTM、 EVERESTTMLatex Technology、ENVERSATM、FormashieldTM、FOUNDATIONSTMLatex、HPLTMLatex、LOMAXTMLatex、Rhoplex SG-30、Rhoplex HG-74P、Rhoplex SG-10M、Rhoplex AC2508、UCAR 313、UCAR 626、UCAR 379G、 等。这些乳胶乳液的组合也是可以预期的。也可以根据需要对乳胶进行功能化和进一步交联。
流变改性剂的非限制性的具体实例包括纤维素、改性脲、聚氨酯增稠剂和缔合增稠剂、碱溶胀性乳液(ASE)、疏水改性碱溶胀性乳液(HASE)、疏水改性聚氨酯(HEURS)、疏水改性聚醚(HMPE)、凹凸棒土(attapulgite)、丙烯酸酯增稠剂、酰胺和有机衍生物、气相硅石、合成层状硅酸盐、有机粘土、混合矿物、触变性促进剂、聚亚烃基醚衍生物、淀粉、聚丙烯酸酯、表面活性剂和疏水改性的聚合物和疏水改性的共聚物。
功能性粘合剂(包括流变改性)的非限制性的具体实例为聚乙烯吡咯烷酮、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-乙酸乙烯酯)、聚乙烯基己内酰胺、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-乙烯基己内酰胺)、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺)、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-乙烯基己内酰胺-共-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺)、聚(异丁烯-共-乙基马来酰亚胺-共-羟乙基马来酰亚胺)、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-甲基丙烯酸二甲氨基乙酯)、季铵化聚(乙烯基吡咯烷酮-共-甲基丙烯酸二甲氨基乙酯)、聚(乙烯基吡咯烷酮-共-乙烯基己内酰胺-共-甲基丙烯酸二甲氨基乙酯)、聚(乙酸乙烯酯-共-丁烯酸酯-共-新癸酸乙烯酯)、聚(2-乙基唑啉)、聚乙烯亚胺、聚(2-烷基唑啉)、聚(辛基丙烯酰胺-共-丙烯酸酯-共-丁基氨基乙基甲基丙烯酸酯)、聚乙烯醇、部分水解的聚乙烯醇、乙酰乙酰化的聚乙烯醇、聚亚烷基亚胺、聚二烯丙基二烷基氯化铵、淀粉、改性淀粉、聚氨酯、聚氨酯的丙烯酸酯化低聚物、丙烯酸酯化环氧丙基低聚物、多官能丙烯酸酯、纤维素、硅烷或硅酮聚合物、阴离子聚丙烯酸酯如聚丙烯酸、聚(马来酸酐-alt-甲基乙烯基醚)、聚(甲基乙烯基醚-alt-马来酸)、聚(甲基乙烯基醚-alt-马来酸)酯、聚(甲基乙烯基醚-alt-马来酸酐)酯共聚物、聚(苯乙烯-共-马来酸)、聚(苯乙烯-共-马来酸)酯、聚(苯乙烯-共-马来酸酐)、聚(苯乙烯-共-马来酸酐)酯、苯乙烯丙烯酸共聚物、苯乙烯丙烯酸酯共聚物、疏水改性聚缩醛聚醚、马来酰亚胺/马来酸共聚物、聚氨酯丙烯酸酯甲基丙烯酸酯、丙烯酸类聚合物、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物和疏水改性的乙氧基化聚氨酯。纤维素及其衍生物包括乙基纤维素(EC)、羟乙基纤维素(HEC)、羟丙基纤维素(HPC)、乙基羟乙基纤维素(EHEC)、羧甲基纤维素(CMC)、羧甲基羟乙基纤维素(CMHEC)、羟丙基羟乙基纤维素(HMHEC)、甲基纤维素(MC)、甲基羟丙基纤维素(MHPC)、甲基羟乙基纤维素(MHEC)、羧甲基甲基纤维素(CMMC)、疏水改性的羧甲基纤维素(HMCMC)、疏水改性的羟乙基纤维素(HMHEC)、疏水改性的羟丙基纤维素(HMHPC)、疏水改性的乙基羟乙基纤维素(HMHEC)、疏水改性的羧甲基羟乙基纤维素(HMCMHEC)、疏水改性的羟丙基羟乙基纤维素(HMHPHEC)、疏水改性的甲基纤维素(HMMC)、疏水改性的甲基羟丙基纤维素(HMMHPC)、疏水改性的甲基羟乙基纤维素(HMMHEC)、疏水改性的羧甲基甲基纤维素(HMCMMC)、阳离子羟乙基纤维素(阳离子HEC)、阳离子疏水改性的羟乙基纤维素(阳离子HMHEC)、纳米原纤化纤维素(NFC)和微原纤化纤维素(MFC)。瓜尔胶和瓜尔胶衍生物包括羧甲基瓜尔胶，羧甲基羟丙基瓜尔胶，阳离子羟丙基瓜尔胶，羟烷基瓜尔胶(包括羟乙基瓜尔胶、羟丙基瓜尔胶、羟丁基瓜尔胶和更高碳数羟烷基瓜尔胶)，羧烷基瓜尔胶(包括羧甲基瓜尔胶、羧丙基瓜尔胶、羧丁基瓜尔胶和更高碳数烷基羧基瓜尔胶)，瓜尔糖的羟乙基化衍生物、羟丙基化衍生物和羧甲基化衍生物，Carubin的羟乙基化衍生物和羧甲基化衍生物，以及决明胶(Cassia-Gum)的羟丙基化衍生物和羧甲基化衍生物。
溶剂的非限制性的具体实例包括水，高沸点溶剂如丁氧基-2-硬脂酸乙酯、丁内酯、富马酸二乙酯、马来酸二甲酯、碳酸二甲酯、邻苯二甲酸二辛酯、乙二醇二甲醚水杨酸乙酯、聚乙二醇二甲醚、碳酸丙烯酯、三乙酸甘油酯、苄基醚、十二烷基-1,2-甲基吡咯烷酮、乙氧基乙酸乙酯、乙二醇二乙酸酯、三氯乙酸乙酯、甲基吡咯烷酮、甲基亚砜、不同分子量的聚乙二醇、二甲基甲酰胺、环己烷、对二烷、四氢呋喃和对二甲苯。
染料的非限制性的具体实例包括新日落黄、品红氰化物、六羟基乙基紫氰化物、对玫瑰苯胺氰化物(pararose aniline cyanide)、无色结晶紫、无色孔雀绿、甲醇染料如孔雀绿碱和对玫瑰苯胺碱，以及美国专利第2,877,169号、第3,079,955号和第4,377,751号中描述的那些，在此通过引用将其全部公开内容并入本文。染料的其他实例可以在专利EP1529089B1中找到，该专利通过引用整体并入本文。
活化剂的非限制性的具体实例包括卤烃、卤代鎓、锍、三氯乙酸乙酯、七氯丙烷、三氯乙酸乙酯、氯乙酸、氯丙酸、六氯环己烷、三氯乙酰亚胺酸甲酯(methyltrichloroacetimidate)、三氯乙酸、三氯乙酰胺、三氯乙醇、三氯甲基苄基乙酸酯、三氯甲基丙醇水合物、三氯丙烷、氯化聚合物、二苯基碘鎓碘化物(diphenyliodiniumiodide)、二苯基碘鎓六氟砷酸盐(diphenyliodinium hexafluoroarsenate)、二苯基碘鎓氯化物、三甲基碘鎓碘化物和三苯基锍六氟锑酸盐。
在一个非限制性实施方案中，改良剂选自环状肟类。环状肟类的非限制性的具体实例包括含饱和环的肟类例如环戊酮肟、环己酮肟、环庚酮肟、2-甲基环己酮肟、3-甲基环己酮肟、4-甲基环己酮肟及其组合。
在一个非限制性实施方案中，改良剂是保质期延长剂。在一个非限制性实施方案中，保质期延长剂选自热稳定剂、活性物质猝灭剂、自由基清除剂、氧清除剂、抗氧化剂、所选活性物质的反应抑制剂、热氧化抑制剂、光氧化抑制剂、氢过氧化物分解剂、H供体、UV稳定剂、UV吸收剂、UV反射剂和荧光光学增白剂。
在一个非限制性实施方案中，作为改良剂的一种或多种聚合物选自聚丁烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯-共-(甲基)丙烯酸异丁酯、聚乙烯、聚(乙烯-共-丙烯酸)、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚乙烯-共-乙酸乙烯酯、聚(甲基)丙烯酸异丁酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚氯乙烯、聚硬脂酸乙烯酯、聚(乙烯-共-(甲基)丙烯酸)、聚丁二烯、聚乙酸乙烯酯、聚(乙烯-共-丙烯酸丁酯-共-一氧化碳)、聚(邻甲苯基缩水甘油醚)-甲醛、聚(乙烯-共-1-丁烯)、聚(乙烯-共-(甲基)丙烯酸酯)、聚己二酸六亚甲基酯、聚六亚甲基乙烯、其他功能聚合物及其组合。
改良剂的其他实例可见于专利美国专利第7,476,874号中，其全部内容通过引用并入本文。制备辐射敏感组合物的通用方法可见于美国专利第7,445,880中，其全部内容通过引用并入本文。
在第四方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(b)选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(a)中的铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(a)中的铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(a)中的钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(a)中的钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(b)中的铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(b)中的铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氯化铅、溴化铅、氧化铅、碘化铅及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(b)中的硅化合物选自二氧化硅、硅石、气相硅石、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(c)中的硅化合物是包含炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。在一个非限制性实施方案中，非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。在一个非限制性实施方案中，非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(c)中的硅化合物是包含至少两个炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。在一个非限制性实施方案中，非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。在一个非限制性实施方案中，非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)中的硅化合物是官能化的炔属化合物，选自十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物的组分(c)中的炔属化合物是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化的炔属化合物，选自十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化的炔属化合物，选自十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是铋化合物，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是铝化合物，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少一种官能化的炔属化合物，选自选自十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是氧化铋，涂覆在基材上的辐射敏感涂料组合物中的组分(b)是氧化铝，涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施例中，基材选自纸、聚合物、塑料、织物、金属、帆布、布、木材、皮革、陶瓷、玻璃及其组合。
在一个非限制性实施例中，所述纸选自普通纸、经涂覆纸、经处理纸、摄影质量纸及其组合。
在一个非限制性实施例中，所述塑料选自乙烯基类塑料、聚氨酯、聚碳酸酯、聚醚、聚酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚烯烃、聚乙酸乙烯酯、硅橡胶、橡胶、聚酯-聚醚共聚物、乙烯甲基丙烯酸酯、硅酮、尼龙、聚酰胺及其组合。
在第五方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其包含涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)是至少官能化的炔属化合物，选自十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(a)是氧化铋，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(b)是氧化铝，涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且涂覆在作为辐射敏感装置的一部分的基材上的辐射敏感组合物中的组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施例中，所述装置为膜、纤维、棒、板或块的形式。辐射敏感装置的常见类型和通用制备方法可见于专利EP1529089B1中，该专利通过引用整体并入本文。
高能辐射被用于多种应用，如涂层的固化和聚合物的交联、记录图像和信息、射线照相术、无损检测、诊断和放射治疗，其中其暴露需要进行监测。辐射既可用于治疗目的，也可作为一种非常有效的姑息治疗方式以减轻患者的癌症症状。放射疗法的其他适应症包括与其他治疗方式(如手术、化疗或免疫疗法)的联合策略。如果在手术前使用(新辅助治疗)，辐射的目的是缩小肿瘤。如果在手术后使用(辅助治疗)，辐射将破坏可能遗留下来的微小肿瘤细胞。众所周知，肿瘤对放射治疗的敏感性各不相同。
在一个非限制性实施方案中，根据所要求保护和/或公开的发明构思的辐射敏感组合物用于检测和/或测量牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中的辐射。
在一个非限制性实施方案中，根据所要求保护和/或公开的发明构思的涂覆有辐射敏感组合物的基材用于检测和/或测量牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中的辐射。
在一个非限制性实施例中，用于检测或测量辐射的辐射敏感装置被用于检测和/或测量在牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中的辐射，所述辐射敏感装置包含涂覆有根据所要求保护和/或公开的发明构思的辐射敏感组合物的基材。
肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用的非限制性实例包括放射疗法、手术、化疗、免疫疗法和激素疗法。可单独使用放射疗法治愈或将放射疗法与其他方式联用治愈的癌症的非限制性实例包括皮肤癌、前列腺癌、肺癌、宫颈癌、淋巴瘤(霍奇金淋巴瘤和低危非霍奇金淋巴瘤)、头颈癌、乳腺癌、直肠癌和肛门癌、局部晚期宫颈癌、膀胱癌、子宫内膜癌、CNS肿瘤、软组织肉瘤和儿科肿瘤。关于癌症和放射疗法及其当前进展和未来方向的更多信息可见于Baskar et al.,Int JMed Sci,2012(9),193-199中，该文献通过引用整体并入本文。在放射疗法期间，尤其是头颈部的放射治疗期间，需要监测口腔和牙齿健康，，以降低副作用的严重程度。
在一个非限制性实施方案中，使用根据要求保护和/或公开的发明构思的辐射敏感装置测量和/或检测辐射的方法本质上是无损的。一般来说，在放射学和射线照相术领域，无损的检测、测试和/或测量的方法是那些有助于保持暴露于辐射的材料或部件的完整性和特性，而不会对测试对象造成不当损害的方法。
在第六方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种用于涂覆辐射敏感组合物的方法，包括以下步骤：选择与所述组合物相容的基材，制备所述基材以将所述组合物施加于其上，在制备步骤后将所述组合物施加到所述基材上，任选地在所述施加步骤后暴露所述基材，并任选地在所述暴露步骤后显影所述基材，其中所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆辐射敏感组合物的方法包括以下步骤：选择与所述组合物相容的基材，制备所述基材以将所述组合物施加于其上，在制备步骤后将所述组合物施加到所述基材上，任选地在所述施加步骤后暴露所述基材，并任选地在所述暴露步骤后显影所述基材，其中所述辐射敏感组合物包含：作为组分(a)的选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物；作为组分(b)的选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物；作为组分(c)的至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合；和作为组分(d)的至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，涂覆辐射敏感组合物的方法包括以下步骤：选择与所述组合物相容的基材，制备所述基材以将所述组合物施加于其上，在制备步骤后将所述组合物施加到所述基材上，任选地在所述施加步骤后暴露所述基材，并任选地在所述暴露步骤后显影所述基材，其中所述辐射敏感组合物包含：作为组分(a)的氧化铋；作为组分(b)的氧化铝；作为组分(c)的选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合的官能化的炔属化合物；和作为组分(d)的至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，用于涂覆的方法选自辊涂、滑动涂覆、幕涂、棒涂、刮涂、气刀涂覆、旋涂、浸涂、狭缝涂覆或喷墨涂覆。
根据所公开和/或要求保护的发明构思的不同涂覆方法的细节可见于以下书籍：(i)由Gutoff E.B.和Cohen E.D.主编的Troubleshooting Operating Problems,2ndEdition(2006)和(ii)由Schweizer P.M.主编的Liquid Film Coating,ScientificPrinciples and Their Technological Implications(2012)，每本书的内容均通过引用整体并入本文。
在第七方面，所公开和/或要求保护的发明构思提供了一种用于制备可印刷基材的方法，包括以下步骤：提供基材，任选地在所述基材上施加用作基层的层，并在所述基材或所述基层上施加至少一层辐射敏感组合物，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，制备可印刷基材的方法包括以下步骤：提供基材，任选地在所述基材上施加用作基层的层，在所述基材或所述基层上施加至少一层辐射敏感组合物，其中所述辐射敏感组合物包含：作为组分(a)的选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物；作为组分(b)的选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物；作为组分(c)至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合；和作为组分(d)的至少一种改良剂。
在一个非限制性实施方案中，制备可印刷基材的方法包括以下步骤：提供基材，任选地在所述基材上施加用作基层的层，在所述基材或所述基层上施加至少一层辐射敏感组合物，其中所述辐射敏感组合物包含：作为组分(a)的氧化铋；作为组分(b)的氧化铝；作为组分(c)的选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合的官能化炔属化合物；和作为组分(d)的至少一种改良剂。
根据所公开和/或要求保护的发明概念的组合物可根据下面描述的实施例来制备。本文提供这些实施例是为了说明所公开和/或要求保护的发明构思，而不旨在限制例如加合物和组合物的制备。
实施例
实施例1
将炔属化合物(如10,12-二十五碳二炔酸的锂盐)的分散体(10.5g)与包含氧化铋(0.211kg)和氧化铝(0.014kg)的水性分散体、包含改良剂如表面活性剂(Triton X-100)(0.70kg)的水性溶液、染料如Sensient黄(0.5kg)的水性溶液、和乙烯基聚合物的水性溶液(0.736kg)混合。将足量的去离子水加入到合并的分散体中，使组合物的量达到21.4g，用作辐射敏感涂料组合物。
实施例2-97
用不同组合的组合物成分重复实施例1中的方法，以获得最终的辐射敏感涂料组合物。表1-3提供了实施例2-97中每一个的配方。诸如染料、表面活性剂和乙烯基聚合物等改良剂的量与实施例1中提供的量相同。表1-3中提供的所有成分的计量单位与实施例1中的一致。此处使用了以下缩写：
PCDA：10,12-二十五碳二炔酸；HDDA：5,7-十六碳二炔酸；TCDA：10,12-二十三碳二炔酸；ODDA：9,12-十八碳二炔酸；B：氧化铋；T：氧化钨；C：氧化铯；B：硫酸钡；A：氧化铝；S：硅石；L：氧化铅。表1.根据所公开和/或要求保护的发明构思的示例性辐射敏感组合物2-33。
表2.根据公开的和/或要求保护的发明构思的示例性辐射敏感组合物34-65。
表3.根据公开的和/或要求保护的发明构思的示例性辐射敏感组合物66-97

Claims (119)

1.一种辐射敏感涂料组合物，其包含组分(a)和组分(b)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，且所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物。
2.根据权利要求1所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。
3.根据权利要求1所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
4.根据权利要求1所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述辐射包括电离辐射或电磁辐射。
5.根据权利要求4所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述电离辐射包括α射线、β射线或中子射线。
6.根据权利要求4所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述电磁辐射包括可见辐射、紫外辐射、红外辐射、X射线或γ射线。
7.根据权利要求2所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合。
8.根据权利要求2所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合。
9.根据权利要求2所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。
10.根据权利要求2所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。
11.根据权利要求3所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
12.根据权利要求3所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氯化铅、溴化铅、氧化铅、碘化铅及其组合。
13.根据权利要求3所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述硅化合物选自二氧化硅、硅石、气相硅石、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
14.根据权利要求1所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，且所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
15.根据权利要求14所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，且所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
16.根据权利要求15所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，且所述组分(b)是铝化合物。
17.根据权利要求14、15或16所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合，且所述铝化合物选自选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
18.根据权利要求16所述的辐射敏感涂料组合物，其中所述组分(a)是氧化铋，且所述组分(b)是氧化铝。
19.一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)和组分(c)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
20.根据权利要求19所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。
21.根据权利要求19所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
22.根据权利要求20所述的辐射敏感组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合。
23.根据权利要求20所述的辐射敏感组合物，其中所述铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合。
24.根据权利要求20所述的辐射敏感组合物，其中所述钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。
25.根据权利要求20所述的辐射敏感组合物，其中所述钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。
26.根据权利要求21所述的辐射敏感组合物，其中所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
27.根据权利要求21所述的辐射敏感组合物，其中所述铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氯化铅、溴化铅、氧化铅、碘化铅及其组合。
28.根据权利要求21所述的辐射敏感组合物，其中所述硅化合物选自二氧化硅、硅石、气相硅石、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
29.根据权利要求19所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
30.根据权利要求29所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
31.根据权利要求30所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，且所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物。
32.根据权利要求29、30或31所述的辐射敏感组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合，且所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
33.根据权利要求19所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是包含炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。
34.根据权利要求33所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
35.根据权利要求34所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
36.根据权利要求19所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是包含至少两个炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化炔属化合物。
37.根据权利要求36所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
38.根据权利要求37所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
39.根据权利要求36所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
40.根据权利要求39所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
41.根据权利要求29所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
42.根据权利要求41所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，且所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
43.根据权利要求42所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，且所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
44.根据权利要求41、42或43所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
45.根据权利要求43所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，且所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合。
46.一种辐射敏感组合物，其包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
47.根据权利要求46所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。
48.根据权利要求46所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
49.根据权利要求47所述的辐射敏感组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合。
50.根据权利要求47所述的辐射敏感组合物，其中所述铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合。
51.根据权利要求47所述的辐射敏感组合物，其中所述钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。
52.根据权利要求47所述的辐射敏感组合物，其中所述钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。
53.根据权利要求48所述的辐射敏感组合物，其中所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
54.根据权利要求48所述的辐射敏感组合物，其中所述铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氯化铅、溴化铅、氧化铅、碘化铅及其组合。
55.根据权利要求48所述的辐射敏感组合物，其中所述硅化合物选自二氧化硅、、硅石、气相硅石、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
56.根据权利要求46所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
57.根据权利要求56所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
58.根据权利要求57所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
59.根据权利要求56、57或58所述的辐射敏感组合物，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合，且所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
60.根据权利要求46所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是包含炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化的炔属化合物。
61.根据权利要求60所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
62.根据权利要求61所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
63.根据权利要求46所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是包含至少两个炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化的炔属化合物。
64.根据权利要求63所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
65.根据权利要求64所述的辐射敏感组合物，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
66.根据权利要求63所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
67.根据权利要求66所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
68.根据权利要求56所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
69.根据权利要求68所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
70.根据权利要求69所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
71.根据权利要求68、69或70所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
72.根据权利要求70所述的辐射敏感组合物，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
73.根据权利要求72所述的辐射敏感组合物，其中所述改良剂选自吸附剂、粘合剂、染料、聚合物、保质期延长剂、溶剂、稳定剂、表面活性剂及其组合。
74.一种涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
75.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合。
76.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物。
77.根据权利要求75所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合。
78.根据权利要求75所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述铯化合物选自氯化铯、酒石酸氢铯、卤化铯、多卤化铯、多碘化铯、氧化铯、硫化铯、多硫化铯、碳酸铯及其组合。
79.根据权利要求75所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述钡化合物选自硫酸钡、氧化钡、连二硫酸钡及其组合。
80.根据权利要求75所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述钨化合物选自碳化钨、氧化钨及其组合。
81.根据权利要求76所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
82.根据权利要求76所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述铅化合物选自铅盐、硫酸铅、氯化铅、溴化铅、氧化铅、碘化铅及其组合。
83.根据权利要求76所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述硅化合物选自二氧化硅、硅石、气相硅石、硅胶、气凝胶、沉淀硅石及其组合。
84.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
85.根据权利要求84所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
86.根据权利要求85所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
87.根据权利要求84、85或86所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述铋化合物选自氧化铋、氯氧化铋、硫化铋、氢氧化铋、碳酸铋、硅酸铋、碱式碳酸铋、硒化铋、碲化铋、铋硫属化合物、氟化铋、氯化铋、溴化铋、碘化铋、铋盐、铋络合物、铋合金、钒酸铋、原钒酸铋、钒钼酸铋、硝酸铋、铋锰氧化物、碘氧化铋、溴氧化铋及其组合，且所述铝化合物选自氧化铝、硫酸铝、硫酸铝钾及其组合。
88.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(c)是包含炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化的炔属化合物。
89.根据权利要求88所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
90.根据权利要求89所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
91.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(c)是包含至少两个炔属部分和至少一个非炔属官能团的官能化的炔属化合物。
92.根据权利要求91所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述非属官能团选自羧基、羧酸酯基、羟基、氢氧根、烷氧基、烷氧化物、环氧基、氨基、铵基、醛基、酮基、酰胺基、酯基、腈基、氨基甲酸酯基、醚基及其组合。
93.根据权利要求92所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述非炔属官能团选自羧基、羧酸酯基及其组合。
94.根据权利要求91所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(c)是选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合。
95.根据权利要求94的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
96.根据权利要求84的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是选自以下的至少一种官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
97.根据权利要求96所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
98.根据权利要求97的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是铋化合物，所述组分(b)是铝化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
99.根据权利要求96、97或98所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(c)是10,12-二十五碳二炔酸或其盐。
100.根据权利要求98所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，所述组分(d)是至少一种改良剂。
101.根据权利要求100所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述改良剂选自吸附剂、粘合剂、染料、聚合物、保质期延长剂、溶剂、稳定剂、表面活性剂及其组合。
102.根据权利要求74或100所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述基材选自纸、聚合物、塑料、织物、金属、帆布、布、木材、皮革、陶瓷、玻璃及其组合。
103.根据权利要求102所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述纸选自普通纸、经涂覆纸、经处理纸、摄影质量纸及其组合。
104.根据权利要求102所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其中所述塑料选自乙烯基类塑料、聚氨酯、聚碳酸酯、聚醚、聚酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚烯烃、聚乙酸乙烯酯、硅橡胶、橡胶、聚酯-聚醚共聚物、乙烯甲基丙烯酸酯、硅酮、尼龙、聚酰胺及其组合。
105.一种用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其包含涂覆有辐射敏感组合物的基材，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
106.根据权利要求105所述的用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
107.根据权利要求106所述的用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
108.根据权利要求105所述的用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其中所述装置为膜、纤维、棒、板或块的形式。
109.根据权利要求1所述的辐射敏感涂料组合物，其用于牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中。
110.根据权利要求19或46所述的辐射敏感组合物，其用于牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中。
111.根据权利要求74所述的涂覆有辐射敏感组合物的基材，其用于牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中。
112.根据权利要求105所述的用于检测或测量辐射的辐射敏感装置，其用于牙科应用、无损检测应用、肿瘤学应用、放射学应用或放射治疗应用中。
113.一种用于涂覆辐射敏感组合物的方法，包括以下步骤：选择与所述组合物相容的基材，制备所述基材以将所述组合物施加于其上，在制备步骤后将所述组合物施加到所述基材上，任选地在所述施加步骤后暴露所述基材，并任选地在所述暴露步骤后显影所述基材，其中所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
114.根据权利要求113所述的用于涂覆辐射敏感组合物的方法，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
115.根据权利要求114所述的用于涂覆辐射敏感组合物的方法，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
116.根据权利要求113所述的用于涂覆辐射敏感组合物的方法，其中所述用于涂覆的方法选自辊涂、滑动涂覆、幕涂、棒涂、刮涂、气刀涂覆、旋涂、浸涂、狭缝涂覆或喷墨涂覆。
117.一种用于制备可印刷基材的方法，包括以下步骤：提供基材，任选地在所述基材上施加用作基层的层，并在所述基材或所述基层上施加至少一层辐射敏感组合物，所述辐射敏感组合物包含组分(a)、组分(b)、组分(c)和组分(d)，其中所述组分(a)是金属化合物或类金属化合物，所述组分(b)是至少一种不同的金属化合物或类金属化合物，所述组分(c)是至少一种官能化或未官能化的炔属化合物，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
118.根据权利要求117所述的制备可印刷基材的方法，其中所述组分(a)是选自铋化合物、铯化合物、钡化合物、钨化合物及其组合的化合物，所述组分(b)是选自铝化合物、铅化合物、硅化合物及其组合的化合物，所述组分(c)是至少一种选自以下的官能化的炔属化合物：十碳二炔酸、十一碳二炔酸、十二碳二炔酸、十三碳二炔酸、十四碳二炔酸、十五碳二炔酸、十六碳二炔酸、十七碳二炔酸、十八碳二炔酸、十九碳二炔酸、二十碳二炔酸、二十一碳二炔酸、二十二碳二炔酸、二十三碳二炔酸、二十四碳二炔酸、二十五碳二炔酸、二十六碳二炔酸、二十七碳二炔酸、二十八碳二炔酸、二十九碳二炔酸、三十碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
119.根据权利要求118所述的用于制备可印刷基材的方法，其中所述组分(a)是氧化铋，所述组分(b)是氧化铝，所述组分(c)选自10,12-二十五碳二炔酸、其盐及它们的组合，且所述组分(d)是至少一种改良剂。
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