JPH10282334A - カラーフィルタ用感放射線性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素パターンが十分な硬度を有し、しかもパ
ターンの欠落や欠損、パターン断面のアンダーカット等
を生じることがなく、現像処理時の溶解性にも優れたカ
ラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタ用感放射線性組成物は、
（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダーポリマー、（Ｃ）多官
能性モノマー、（Ｄ）光重合開始剤、（Ｅ）熱酸発生剤
および（Ｆ）酸架橋性化合物を含有することを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置やカラー撮像管素子に用いられるカラーフィルタを製
造するために用いられるカラーフィルタ用感放射線性組
成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置（ＬＣＤ）やカラー
撮像管に用いられるカラーフィルタは、感光性樹脂の塗
膜にフォトマスクを介し放射線を照射して、放射線照射
部分を硬化させ、その後現像処理を行なって、塗膜の放
射線が照射されていない部分を除去してパターンを形成
したのち、染色する方法（染色法）や、感光性樹脂に赤
色、緑色または青色の着色剤を分散した組成物を順次用
いて、上記と同様に塗膜形成、放射線照射および現像処
理を行うフォトリソグラフィー法等により製造されてい
る。このようなカラーフィルタは、液晶層の厚さ（セル
ギャップ）を制御するためのスペーサー等により、局所
的な荷重を受けるため、それに耐えうる十分な硬度が必
要とされている。しかしながら、従来のカラーフィルタ
は、使用される感光性樹脂が、例えば、ゼラチン、カゼ
イン、ポリビニルアルコール等とクロム酸塩や重クロム
酸塩との組み合わせ、あるいは多官能性モノマーを含む
アクリル系モノマーと光重合開始剤との組み合わせ等で
あり、これらの感光性樹脂は柔らかいため、通常その表
面に保護層を形成する必要があった。これに対して、近
年、ＬＣＤの特性を改良するために、保護層を形成しな
いカラーフィルタが求められているが、従来のカラーフ
ィルタ用感光性樹脂では、硬度の不足という問題は解決
できない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑みてなされたものであり、その課題は、画素
パターンが十分な硬度を有し、しかもパターンの欠落や
欠損、パターン断面のアンダーカット等を生じることが
なく、現像処理時の溶解性にも優れたカラーフィルタ用
感放射線性組成物を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、（Ａ）
着色剤、（Ｂ）バインダーポリマー、（Ｃ）多官能性モ
ノマー、（Ｄ）光重合開始剤、（Ｅ）熱酸発生剤および
（Ｆ）酸架橋性化合物を含有することを特徴とするカラ
ーフィルタ用感放射線性組成物、からなる。

【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。（Ａ）着色剤 本発明における着色剤は、色調が特に限定されるもので
はなく、カラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、
また有機着色剤でも無機着色剤でもよい。前記有機着色
剤とは、具体的には染料、有機顔料、天然色素等を意味
し、また前記無機着色剤とは、具体的には無機顔料のほ
か、体質顔料と呼ばれる無機塩をも意味するものである
が、カラーフィルタには高精密な発色と耐熱性が求めら
れることから、本発明における着色剤としては、発色性
が高く、且つ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高
い着色剤が好ましく、通常有機着色剤、特に有機顔料が
好ましい。前記有機顔料としては、例えば、カラーイン
デックス（C.I.；The Society ofDyers and Colourists
社発行) においてピグメント（Pigment)に分類されて
いる化合物、具体的には、下記のようなカラーインデッ
クス（C.I.）番号が付されているものを挙げることがで
きる。C.I.ピグメントエロー１２、C.I.ピグメントエロ
ー１３、C.I.ピグメントエロー１４、C.I.ピグメントエ
ロー１７、C.I.ピグメントエロー２０、C.I.ピグメント
エロー２４、C.I.ピグメントエロー３１、C.I.ピグメン
トエロー５５、C.I.ピグメントエロー８３、C.I.ピグメ
ントエロー９３、C.I.ピグメントエロー１０９、C.I.ピ
グメントエロー１１０、C.I.ピグメントエロー１３９、
C.I.ピグメントエロー１５３、C.I.ピグメントエロー１
５４、C.I.ピグメントエロー１６６、C.I.ピグメントエ
ロー１６８；C.I.ピグメントオレンジ３６、C.I.ピグメ
ントオレンジ４３、C.I.ピグメントオレンジ５１；C.I.
ピグメントレッド９、C.I.ピグメントレッド９７、C.I.
ピグメントレッド１２２、C.I.ピグメントレッド１２
３、C.I.ピグメントレッド１４９、C.I.ピグメントレッ
ド１７６、C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメン
トレッド１８０、C.I.ピグメントレッド２１５；C.I.ピ
グメントバイオレット１９、ピグメントバイオレット２
３、ピグメントバイオレット２９；C.I.ピグメントブル
ー１５、C.I.ピグメントブルー１５：３、C.I.ピグメン
トブルー１５：６；C.I.ピグメントグリーン７、C.I.ピ
グメントグリーン３６；C.I.ピグメントブラウン２３、
C.I.ピグメントブラウン２５；C.I.ピグメントブラック
１、ピグメントブラック７。また、前記無機着色剤とし
ては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫
酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III))、
カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト
緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブ
ラック等を挙げることができる。本発明において、着色
剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することが
できる。本発明における着色剤は、所望により、分散剤
とともに使用することができる。このような分散剤とし
ては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、
両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げる
ことができる。前記界面活性剤としては、例えば、ポリ
オキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレン
ステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエー
テル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレングリコー
ルジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレー
ト等のポリエチレングリコールジエステル類；ソルビタ
ン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級
アミン変性ポリウレタン類；以下商品名で、ＫＰ（信越
化学工業製）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業製）、
エフトップ（トーケムプロダクツ製）、メガファック
（大日本インキ化学工業製）、フロラード（住友スリー
エム製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子製）等を
挙げることができる。これらの界面活性剤は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。界面活
性剤の使用量は、着色剤１００重量部に対して、通常、
３０重量部以下、好ましくは５〜２０重量部である。

【０００６】（Ｂ）バインダーポリマー 本発明におけるバインダーポリマーとしては、着色剤に
対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタ製
造時の現像処理工程において用いられる現像液、特に好
ましくはアルカリ現像液に可溶性である限り、適宜のポ
リマーを使用することができる。本発明における好まし
いバインダーポリマーは、カルボキシル基を含有するポ
リマーであり、特に、１個以上のカルボキシル基を有す
るエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「カルボキシ
ル基含有不飽和モノマー」という。）と他の共重合可能
なエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「他の不飽和
モノマー」という。）とからなるモノマー混合物の共重
合体（以下、単に「カルボキシル基含有共重合体
（ｂ）」という。）が好ましい。前記カルボキシル基含
有不飽和モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、エタク
リル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イ
タコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン
酸等の不飽和ジカルボン酸（無水物）類；３価以上の不
飽和多価カルボン酸（無水物）類等を挙げることができ
る。これらのカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノ
マーは、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。また、前記他の不飽和モノマーとしては、例
えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトル
エン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｏ−
クロルスチレン、ｍ−クロルスチレン、ｐ−クロルスチ
レン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物；
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルア
クリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアク
リレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメ
タクリレート、ｉ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブ
チルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチ
ルメタクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ
−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；２−
アミノエチルアクリレート、２−アミノエチルメタクリ
レート、２−アミノプロピルアクリレート、２−アミノ
プロピルメタクリレート、３−アミノプロピルアクリレ
ート、３−アミノプロピルメタクリレート等の不飽和カ
ルボン酸アミノアルキルエステル類；グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン
酸グリシジルエステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニ
ルエステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、メタリルグリシジ
ルエーテル等の不飽和エーテル類；アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シ
アン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；アクリル
アミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、マレイ
ミド等の不飽和アミドあるいは不飽和イミド類；１，３
−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共
役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、
ポリメチルメタクリレート、ポリｎ−ブチルアクリレー
ト、ポリｎ−ブチルメタクリレート、ポリシリコーン等
の重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル基あるいはモ
ノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等を挙げ
ることができる。これらの他の不飽和モノマーは、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。

【０００７】カルボキシル基含有共重合体（ｂ）として
は、アクリル酸および／またはメタクリル酸とメチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、ポリ
スチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレー
トマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも１種の他
の不飽和モノマーとの共重合体が好ましい。好ましいカ
ルボキシル基含有共重合体（ｂ）の具体例としては、ア
クリル酸／ベンジルアクリレート共重合体、アクリル酸
／ベンジルアクリレート／スチレン共重合体、アクリル
酸／メチルアクリレート／スチレン共重合体、アクリル
酸／ベンジルアクリレート／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、アクリル酸／ベンジルアクリレート／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリ
ル酸／メチルアクリレート／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、アクリル酸／メチルアクリレート／ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル
酸／ベンジルメタクリレート共重合体、アクリル酸／ベ
ンジルメタクリレート／スチレン共重合体、アクリル酸
／メチルメタクリレート／スチレン共重合体、アクリル
酸／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、アクリル酸／ベンジルメタクリレート／
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、ア
クリル酸／メチルメタクリレート／ポリスチレンマクロ
モノマー共重合体、アクリル酸／メチルメタクリレート
／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
アクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ベ
ンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、アクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート／ベンジルメタクリレート／ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体等のアクリル酸共重合体；
メタクリル酸／ベンジルアクリレート共重合体、メタク
リル酸／ベンジルアクリレート／スチレン共重合体、メ
タクリル酸／メチルアクリレート／スチレン共重合体、
メタクリル酸／ベンジルアクリレート／ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、メタクリル酸／ベンジルアクリ
レート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重
合体、メタクリル酸／メチルアクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／メチルアク
リレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共
重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合
体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン
共重合体、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチ
レン共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸
／ベンジルメタクリレート／ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、メタクリル酸／メチルメタク
リレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタ
クリル酸／メチルメタクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート／ベンジルメタクリレー
ト／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル
酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ベンジルメ
タクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマ
ー共重合体等のメタクリル酸共重合体等を挙げることが
できる。

【０００８】これらのカルボキシル基含有共重合体
（ｂ）のうち、特にメタクリル酸／ベンジルメタクリレ
ート共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート
／スチレン共重合体、メタクリル酸／メチルメタクリレ
ート／スチレン共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタ
クリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メ
タクリル酸／ベンジルメタクリレート／ポリメチルメタ
クリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／メ
チルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、メタクリル酸／メチルメタクリレート／ポリメチ
ルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル
酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ベンジルメ
タクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
ベンジルメタクリレート／ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体が好ましい。

【０００９】カルボキシル基含有共重合体（ｂ）におけ
るカルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、
通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％で
ある。この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの
共重合割合が５重量％未満では、得られる感放射線性組
成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向が
あり、また５０重量％を超えると、アルカリ現像液によ
る現像時に、形成された画素の基板からの脱落や画素表
面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。特にカルボ
キシル基含有不飽和モノマーを前記特定の共重合割合で
含有するカルボキシル基含有共重合体（ｂ）は、アルカ
リ現像液に対して優れた溶解性を有するものであり、当
該共重合体をバインダーとして用いた感放射線性組成物
は、アルカリ現像液による現像後に未溶解物が残存する
ことが極めて少なく、基板上の画素を形成する部分以外
の領域における地汚れ、膜残り等が発生し難く、しかも
該組成物から得られる画素は、アルカリ現像液に過剰に
溶解することがなく、基板に対して、優れた密着性を有
し、基板から脱落するおそれもないものとなる。バイン
ダーポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ；溶出溶媒テトラヒドロフラン）で測定し
たポリスチレン換算重量平均分子量（以下、単に「重量
平均分子量」という。）が３，０００〜３００，００
０、特に５，０００〜１００，０００であることが好ま
しい。このような特定の重量平均分子量を有するバイン
ダーポリマーを使用することにより、現像性に優れた感
放射線性組成物が得られ、それによりシャープなパター
ンエッジを有する画素アレイを形成することができると
ともに、現像処理時に基板上の画素を形成する部分以外
の領域における地汚れ、膜残り等が発生し難くなる。本
発明において、バインダーポリマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。本発明におけ
るバインダーポリマーの使用量は、（Ａ）着色剤１００
重量部に対して、通常、１０〜１０００重量部、好まし
くは２０〜５００重量部である。この場合、バインダー
ポリマーの使用量が１０重量部未満では、例えば、アル
カリ現像性が低下したり、画素が形成される部分以外の
領域での地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方
１０００重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下
するため、薄膜として目的とする色濃度を達成すること
が困難となる場合がある。

【００１０】（Ｃ）多官能性モノマー 本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類；グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の３価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類；ポリエステル、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、ス
ピラン樹脂等のオリゴアクリレートまたはオリゴメタク
リレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端
ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプ
ロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリ
レートまたはジメタクリレート類や、トリスアクリロイ
ルオキシエチルフォスフェート、トリスメタクリロイル
オキシエチルフォスフェート等を挙げることができる。
これらの多官能性モノマーのうち、３価以上の多価アル
コールのポリアクリレートまたはポリメタクリレート類
が好ましく、具体的にはトリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等
を挙げることができ、特にトリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、画
素強度が高く、画素表面の平滑性に優れ、かつ画素が形
成される部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し
難い点で好ましい。本発明において、多官能性モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。本発明における多官能性モノマーの使用量は、
（Ｂ）バインダーポリマー１００重量部に対して、通
常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部
である。この場合、多官能性モノマーの使用量が５重量
部未満では、画素強度あるいは画素表面の平滑性が不十
分となる傾向があり、一方５００重量部を超えると、例
えば、アルカリ現像性が低下したり、画素が形成される
部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすくなる
傾向がある。

【００１１】（Ｄ）光重合開始剤 本発明における光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠
紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射により、前記
（Ｃ）多官能性モノマーの重合を開始しうる活性種を発
生することができる化合物である。このような光重合開
始剤としては、下記式（１）、式（２）または式（３）
で表される主要骨格を少なくとも１種有するビイミダゾ
ール系化合物のほか、ベンゾイン系化合物、アセトフェ
ノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン
系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、
ジアゾ系化合物等を挙げることができ、これらのうちビ
イミダゾール系化合物が好ましい。

【００１２】

【化１】

【００１３】

【化２】

【００１４】

【化３】

【００１５】前記ビイミダゾール系化合物としては、例
えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’──トラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，
４’，５．５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シア
ノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メト
キシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−
ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカル
ボニルフェニル）ビイミダゾール、

【００１６】２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（２，４−ジエチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリエチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジフェニルフェニル）−４，４’，５，５’
−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリフェニルフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等を挙げるこ
とができる。

【００１７】これらのビイミダゾール系化合物のうち、
特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾールおよび２，２’−
ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが好ましい。
前記ビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に
優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、
しかも感度が高く、少ないエネルギー量の放射線照射に
より硬化反応を十分進行させるとともに、コントラスト
が高く、放射線未照射部で硬化反応が生じることがない
ため、放射線照射後の塗膜は、現像液に対して不溶性の
硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化
部分とに明確に区分され、パターンの欠落、欠損やアン
ダーカットのない優れたカラーフィルタを形成すること
ができる。

【００１８】また、前記ベンゾイン系化合物としては、
例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインｉ−プロピルエーテ
ル、ベンゾインｉ−ブチルエーテル、４，４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、メチル−２−ベン
ゾイルベンゾエート等を挙げることができる。前記アセ
トフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジメト
キシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−
（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−
メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケ
トン、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、２−メチル−（４−メチルチ
オフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−
オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、４−アジドアセト
フェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン等を挙げ
ることができる。前記ベンゾフェノン系化合物として
は、例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メト
キシベンゾフェノン等を挙げることができる。前記α−
ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベ
ンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げること
ができる。前記多核キノン系化合物としては、例えば、
アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−
ブチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等を挙げ
ることができる。前記キサントン系化合物としては、例
えば、キサントン、チオキサントン、２，４−ジエチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン等を挙げる
ことができる。前記ジアゾ系化合物としては、例えば、
４−ジアゾジフェニルアミン、４−ジアゾ−４’−メト
キシジフェニルアミン、４−ジアゾ−３−メトキシジフ
ェニルアミン等を挙げることができる。さらに、前記以
外の光重合開始剤として、４−アジドベンズアルデヒ
ド、アジドピレン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイ
ル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオ
キサイド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート等を使用することもできる。

【００１９】本発明において、光重合開始剤は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。本発
明における光重合開始剤の使用量は、（Ｃ）多官能性モ
ノマー１００重量部に対して、通常、０．０１〜２００
重量部、好ましくは１〜１２０重量部、特に好ましくは
１〜５０重量部である。この場合、光重合開始剤の使用
量が０．０１重量部未満では、放射線照射による硬化が
不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカット
を生じるおそれがあり、一方２００重量部を超えると、
形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、
またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜
残り等を生じやすくなる。

【００２０】さらに、本発明においては、前記光重合開
始剤と共に、増感剤、硬化促進剤、高分子光架橋・増感
剤等を併用することもできる。前記増感剤としては、例
えば、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチ
ルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４’−ジエチル
アミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミ
ノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、
４−（ジエチルアミノ）カルコン等を挙げることができ
る。これらの増感剤は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。前記硬化促進剤としては、例
えば、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカ
プトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾ
ール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール、２−メルカプト−４，６−ジメチルアミノピリジ
ン等の連鎖移動剤を挙げることができる。これらの硬化
促進剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用するこ
とができる。また、前記高分子光架橋・増感剤は、放射
線の照射により架橋剤および／または増感剤として作用
しうる少なくとも１種の官能基を主鎖および／または側
鎖中に有する高分子化合物であり、その例としては、４
−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコールとの
縮合物、４−アジドベンズアルデヒドとフェノールノボ
ラック樹脂との縮合物、４−アクリロイルフェニルシン
ナモイルエステルの単独重合体あるいは共重合体、１，
４−ポリブタジエン、１，２−ポリブタジエン等を挙げ
ることができる。これらの高分子光架橋・増感剤は、単
独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明における増感剤、硬化促進剤および高分子光架橋
・増感剤の合計使用量は、（Ｄ）光重合開始剤１００重
量部に対して、通常、３００重量部以下、好ましくは５
〜２００重量部、さらに好ましくは１０〜１００重量部
である。

【００２１】本発明においては、光重合開始剤として、
特にビイミダゾール系化合物とベンゾフェノン系光重合
開始剤および／またはチアゾール系硬化促進剤とを組み
合わせて使用することが、形成された画素が現像時に基
板から脱落し難く、画素強度および感度も高い点で好ま
しい。本発明において、光重合開始剤としてビイミダゾ
ール系化合物と他の成分とを併用する場合、他の成分の
使用量は、光重合開始剤全体の８０重量％以下であるこ
とが好ましい。本発明における特に好ましい光重合開始
剤を、その構成成分の組み合わせとして示すと、下記の
ものを挙げることができる。即ち、２，２’−ビス（２
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール／
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オ
ン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール／４，４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン／２−メルカプトベンゾチ
アゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール／
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２
−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォ
リノフェニル）ブタン−１−オン、２，２’−ビス
（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエ
チルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、２，２’−ビス（２，４，６−
トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフ
ェニルビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾール。

【００２２】（Ｅ）熱酸発生剤 本発明における熱酸発生剤は、加熱により酸を発生しう
る化合物である。前記熱酸発生剤としては、例えば、ス
ルホニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、アンモニウム
塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩等を挙げることがで
き、特にスルホニウム塩およびベンゾチアゾリウム塩が
好ましい。前記スルホニウム塩としては、下記式（４）
で表される化合物が好ましい。

【００２３】

【化４】

【００２４】〔式（４）において、R¹、R²およびR³は相
互に独立に炭素数１〜５の１価の炭化水素基またはその
置換誘導体を示し、かつR¹、R²およびR³の少なくとも１
つは炭素数６〜１０のアリール基またはその置換誘導体
であり、 X^- は１価のアニオンを示す。〕 式（４）におけるR¹、R²およびR³の炭素数１〜１０の１
価の炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２−メ
チルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフ
ェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフ
ェニル基、４−ｉ−プロピルフェニル基、ｎ−ｔ−ブチ
ルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ
メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，
５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェ
ニル基、３−メチル−５−ｉ−プロピルフェニル基、３
−メチル−５−ｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、８
−メチル−１−ナフチル基等のアリール基；ベンジル
基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４
−メチルベンジル基、４−エチルベンジル基、４−ｎ−
プロピルベンジル基、４−ｉ−プロピルベンジル基、４
−ｎ−ブチルベンジル基、４−ｔ−ブチルベンジル基、
２，４−ジメチルベンジル基、２，６−ジメチルベンジ
ル基、３，５−ジメチルベンジル基、２，４，６−トリ
メチルベンジル基、３−メチル−５−ｉ−プロピルベン
ジル基、３−メチル−５−ｔ−ブチルベンジル基、１−
ナフチルメチル基等のアラルキル基；メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオ
クチル基等の（シクロ）アルキル基等を挙げることがで
きる。

【００２５】また、R¹、R²およびR³の炭素数１〜１０の
１価の炭化水素基の置換誘導体における置換基として
は、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−OR
⁴ 、−COR⁵、−COOR⁶ 、−N(R⁷)(R⁸) 、−OCOOR⁹ 、−
OCOR¹⁰ (但し、R⁴〜R⁸は相互に独立に水素原子、炭素数
１〜５の（シクロ）アルキル基、炭素数６〜１０のアリ
ール基または炭素数７〜１１のアラルキル基を示し、R⁹
〜R¹⁰ は相互に独立に炭素数１〜５の（シクロ）アルキ
ル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１
１のアラルキル基を示す。）等を挙げることができる。

【００２６】このような１価の炭化水素基の置換誘導体
としては、例えば、２−クロロフェニル基、２−クロロ
−３−メチルフェニル基、２−クロロ−４−メチルフェ
ニル基、３−クロロフェニル基、３−クロロ−２−メチ
ルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、４
−クロロフェニル基、４−クロロ−２−メチルフェニル
基、４−クロロ−３−メチルフェニル基、３，５−ジク
ロロフェニル基、４−ニトロフェニル基、４−シアノフ
ェニル基、２−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシ
フェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２−メチル−
４−ヒドロキシフェニル基、３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル基、４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル基、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフ
ェニル基、２，４−ジヒドロキシフェニル基、２，６−
ジヒドロキシフェニル基、３，５−ジヒドロキシフェニ
ル基、２，４，６−トリヒドロキシフェニル基、４−メ
トキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−ｎ−
プロポキシフェニル基、４−ｉ−プロポキシフェニル
基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−ｔ−ブトキシフ
ェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−
フェノキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル
基、４−アルドフェニル基、４−アセトフェニル基、４
−エチルカルボニルフェニル基、４−ｎ−プロピルカル
ボニルフェニル基、４−ｉ−プロピルカルボニルフェニ
ル基、４−ｎ−ブチルカルボニルフェニル基、４−ｔ−
ブチルカルボニルフェニル基、４−シクロヘキシルカル
ボニルフェニル基、４−フェニルカルボニルフェニル
基、４−ベンジルカルボニルフェニル基、４−カルボキ
シフェニル基、４−メトキシカルボニルフェニル基、４
−エトキシカルボニルフェニル基、４−ｎ−プロポキシ
カルボニルフェニル基、４−ｉ−プロポキシカルボニル
フェニル基、４−ｎ−ブトキシカルボニルフェニル基、
４−ｔ−ブトキシカルボニルフェニル基、４−シクロヘ
キルオキシカルボニルフェニル基、４−フェノキシカル
ボニルフェニル基、４−ベンジルオキシカルボニルフェ
ニル基、４−アミノフェニル基、４−ジメチルアミノフ
ェニル基、４−ジエチルアミノフェニル基、４−ジ−ｎ
−プロピルアミノフェニル基、４−ジ−ｉ−プロピルア
ミノフェニル基、２−メトキシカルボニルオキシフェニ
ル基、４−メトキシカルボニルオキシフェニル基、４−
メトキシカルボニルオキシフェニル基、４−エトキシカ
ルボニルオキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシカルボ
ニルオキシフェニル基、４−ｉ−プロポキシカルボニル
オキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ
フェニル基、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニ
ル基、４−シクロヘキルオキシカルボニルオキシフェニ
ル基、４−フェノキシカルボニルオキシフェニル基、４
−ベンジルオキシカルボニルオキシフェニル基、４−ア
セトキシフェニル基、４−シクロヘキシルカルボニルオ
キシフェニル基、４−ベンゾイルオキシフェニル基、４
−ベンジルカルボニルオキシフェニル基、２−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル基、３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル基、２−クロロ−４−メトキシフェニル基、
３−クロロ−４−メトキシフェニル基、２−クロロ−４
−アセトフェニル基、３−クロロ−４−アセトフェニル
基、２−クロロ−４−カルボキシフェニル基、３−クロ
ロ−４−カルボキシフェニル基、２−クロロ−４−メト
キシカルボニルフェニル基、３−クロロ−４−メトキシ
カルボニルフェニル基、２−クロロ−４−ジメチルアミ
ノフェニル基、３−クロロ−４−ジメチルアミノフェニ
ル基、２−クロロ−４−メトキシカルボニルオキシフェ
ニル基、３−クロロ−４−メトキシカルボニルオキシフ
ェニル基、２−クロロ−４−アセトキシフェニル基、３
−クロロ−４−アセトキシフェニル基、２−ニトロ−４
−ヒドロキシフェニル基、３−ニトロ−４−ヒドロキシ
フェニル基、２−シアノ−４−ヒドロキシフェニル基、
３−シアノ−４−ヒドロキシフェニル基、２−メトキシ
−４−ヒドロキシフェニル基、３−メトキシ−４−ヒド
ロキシフェニル基、２−アセト−４−ヒドロキシフェニ
ル基、３−アセト−４−ヒドロキシベンジル基、２−メ
トキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニル基、３−メ
トキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニル基、２−ジ
メチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル基、３−ジメチ
ルアミノ−４−ヒドロキシフェニル基、２−メトキシカ
ルボニルオキシ−４−ヒドロキシフェニル基、３−メト
キシカルボニルオキシ−４−ヒドロキシフェニル基、２
−アセトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、３−アセト
キシ−４−ヒドロキシフェニル基、４−フルオロメチル
フェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−
クロロメチルフェニル基、４−（２−フルオロエチル）
フェニル基、４−（２，２，２−トリフルオロエチル）
フェニル基、４−ペンタフルオロエチルフェニル基、４
−（２−クロロエチル）フェニル基、４−（３−フルオ
ロプロピル）フェニル基、４−（３，３，３−トリフル
オロプロピル）フェニル基、４−ヘプタフルオロプロピ
ルフェニル基、４−（３−クロロプロピル）フェニル基
等の置換アリール基；

【００２７】２−クロロベンジル基、２−クロロ−３−
メチルベンジル基、２−クロロ−４−メチルベンジル
基、３−クロロベンジル基、３−クロロ−２−メチルベ
ンジル基、３−クロロ−４−メチルベンジル基、４−ク
ロロベンジル基、４−クロロ−２−メチルベンジル基、
４−クロロ−３−メチルベンジル基、３，５−ジクロロ
ベンジル基、４−ニトロベンジル基、４−シアノベンジ
ル基、２−ヒドロキシベンジル基、３−ヒドロキシベン
ジル基、４−ヒドロキシベンジル基、２−メチル−４−
ヒドロキシベンジル基、３−メチル−４−ヒドロキシ−
ベンジル基、４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルベンジル
基、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルベン
ジル基、２，４−ジヒドロキシベンジル基、２，６−ジ
ヒドロキシベンジル基、３，５−ジヒドロキシベンジル
基、２，４，６−トリヒドロキシベンジル基、２−メト
キシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキ
シベンジル基、４−エトキシベンジル基、４−ｎ−プロ
ポキシベンジル基、４−ｉ−プロポキシベンジル基、４
−ｎ−ブトキシベンジル基、４−ｔ−ブトキシベンジル
基、４−シクロヘキシルオキシベンジル基、４−フェノ
キシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジル基、４−
アルドベンジル基、４−アセトベンジル基、４−エチル
カルボニルベンジル基、４−ｎ−プロピルカルボニルベ
ンジル基、４−ｉ−プロピルカルボニルベンジル基、４
−ｎ−ブチルカルボニルベンジル基、４−ｔ−ブチルカ
ルボニルベンジル基、４−シクロヘキシルカルボニルベ
ンジル基、４−ベンゾイルベンジル基、４−ベンジルカ
ルボニルベンジル基、４−カルボキシベンジル基、４−
メトキシカルボニルベンジル基、４−エトキシカルボニ
ルベンジル基、４−ｎ−プロポキシカルボニルベンジル
基、４−ｉ−プロポキシカルボニルベンジル基、４−ｎ
−ブトキシカルボニルベンジル基、４−ｔ−ブトキシカ
ルボニルベンジル基、４−シクロヘキルオキシカルボニ
ルベンジル基、４−フェノキシカルボニルベンジル基、
４−ベンジルオキシカルボニルベンジル基、４−アミノ
ベンジル基、４−ジメチルアミノベンジル基、４−ジエ
チルアミノベンジル基、４−ジ−ｎ−プロピルアミノベ
ンジル基、４−ジ−ｉ−プロピルアミノベンジル基、４
−メトキシカルボニルオキシベンジル基、４−エトキシ
カルボニルオキシベンジル基、４−ｎ−プロポキシカル
ボニルオキシベンジル基、４−ｉ−プロポキシカルボニ
ルオキシベンジル基、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキ
シベンジル基、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシベン
ジル基、４−シクロヘキルオキシカルボニルオキシベン
ジル基、４−フェノキシカルボニルオキシベンジル基、
４−ベンジルオキシカルボニルオキシベンジル基、４−
アセトキシベンジル基、４−シクロヘキシルカルボニル
オキシベンジル基、４−ベンゾイルオキシベンジル基、
４−ベンジルカルボニルオキシベンジル基、２−クロロ
−４−ヒドロキシベンジル基、３−クロロ−４−ヒドロ
キシベンジル基、２−クロロ−４−メトキシベンジル
基、３−クロロ−４−メトキシベンジル基、２−クロロ
−４−エトキシベンジル基、３−クロロ−４−エトキシ
ベンジル基、２−クロロ−４−アセトベンジル基、３−
クロロ−４−アセトベンジル基、２−クロロ−４−カル
ボキシベンジル基、３−クロロ−４−カルボキシベンジ
ル基、２−クロロ−４−メトキシカルボニルベンジル
基、３−クロロ−４−メトキシカルボニルベンジル基、
２−クロロ−４−ジメチルアミノベンジル基、３−クロ
ロ−４−ジメチルアミノベンジル基、２−クロロ−４−
メトキシカルボニルオキシベンジル基、３−クロロ−４
−メトキシカルボニルオキシベンジル基、２−クロロ−
４−アセトキシベンジル基、３−クロロ−４−アセトキ
シベンジル基、２−ニトロ−４−ヒドロキシベンジル
基、３−ニトロ−４−ヒドロキシベンジル基、２−シア
ノ−４−ヒドロキシベンジル基、３−シアノ−４−ヒド
ロキシベンジル基、２−メトキシ−４−ヒドロキシベン
ジル基、３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、２
−アセト−４−ヒドロキシベンジル基、３−アセト−４
−ヒドロキシベンジル基、２−メトキシカルボニル−４
−ヒドロキシベンジル基、３−メトキシカルボニル−４
−ヒドロキシベンジル基、２−ジメチルアミノ−４−ヒ
ドロキシベンジル基、３−ジメチルアミノ−４−ヒドロ
キシベンジル基、２−メトキシカルボニルオキシ−４−
ヒドロキシベンジル基、３−メトキシカルボニルオキシ
−４−ヒドロキシベンジル基、２−アセトキシ−４−ヒ
ドロキシベンジル基、３−アセトキシ−４−ヒドロキシ
ベンジル基、４−フルオロメチルベンジル基、トリフル
オメチルベンジル基、クロロメチルベンジル基、４−
（２−フルオロエチル）ベンジル基、４−（２，２，２
−トリフルオロエチル）ベンジル基、４−ペンタフルオ
ロエチルベンジル基、４−（２−クロロエチル）ベンジ
ル基、４−（３−フルオロプロピル）ベンジル基、４−
（３，３，３−トリフルオロプロピル）ベンジル基、４
−ヘプタフルオロプロピルベンジル基、４−（３−クロ
ロプロピル）ベンジル基等の置換アラルキル基；

【００２８】フルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、クロロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２，
２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、
２−クロロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，
３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロ
ピル基、３−クロロプロピル基、４−クロロシクロヘキ
シル基、ニトロメチル基、２−ニトロエチル基、３−ニ
トロプロピル基、４−ニトロシクロヘキシル基、シアノ
メチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル
基、４−シアノシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル
基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル
基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシシクロ
ヘキシル基、メトキシメチル基、２−メトキシエチル
基、２−メトキシプロピル基、３−メトキシプロピル
基、４−メトキシブチル基、４−メトキシシクロヘキシ
ル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基、アセ
トメチル基、２−アセトエチル基、４−アセトシクロヘ
キシル基、シクロヘキシルカルボニルメチル基、２−シ
クロヘキシルカルボニルエチル基、フェニルカルボニル
メチル基、２−フェニルカルボニルエチル基、ベンジル
カルボニルメチル基、２−ベンジルカルボニルエチル
基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、４
−カルボキシシクロヘキシル基、メトキシカルボニルメ
チル基、２−メトキシカルボニルエチル基、ｎ−プロポ
キシカルボニルメチル基、２−ｎ−プロポキシカルボニ
ルエチル基、ｉ−プロポキシカルボニルメチル基、２−
ｉ−プロポキシカルボニルエチル基、ｎ−ブトキシカル
ボニルメチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル
基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、２−ｔ−ブトキ
シカルボニルエチル基、シクロヘキルオキシカルボニル
メチル基、２−シクロヘキルオキシカルボニルエチル
基、フェノキシカルボニルメチル基、２−フェノキシカ
ルボニルエチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル
基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、アミノメ
チル基、２−アミノエチル基、４−アミノシクロヘキシ
ル基、ジメチルアミノメチル基、２−ジメチルアミノエ
チル基、４−ジメチルアミノシクロヘキシル基、メトキ
シカルボニルオキシメチル基、２−メトキシカルボニル
オキシエチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、
２−エトキシカルボニルオキシエチル基、ｎ−プロポキ
シカルボニルオキシメチル基、２−ｎ−プロポキシカル
ボニルオキシエチル基、ｉ−プロポキシカルボニルオキ
シメチル基、２−ｉ−プロポキシカルボニルオキシエチ
ル基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシメチル基、２−ｎ
−ブトキシカルボニルオキシエチル基、ｔ−ブトキシカ
ルボニルオキシメチル基、２−ｔ−ブトキシカルボニル
オキシエチル基、シクロヘキルオキシカルボニルオキシ
メチル基、２−シクロヘキルオキシカルボニルオキシエ
チル基、フェノキシカルボニルオキシメチル基、２−フ
ェノキシカルボニルオキシエチル基、ベンジルオキシカ
ルボニルオキシメチル基、２−ベンジルオキシカルボニ
ルオキシエチル基、アセトキシメチル基、２−アセトキ
シエチル基、４−アセトキシシクロヘキシル基、シクロ
ヘキシルカルボニルオキシメチル基、２−シクロヘキシ
ルカルボニルオキシエチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、２−ベンゾイルオキシエチル基、ベンジルカルボニ
ルオキシメチル基、２−ベンジルカルボニルオキシエチ
ル基等の置換（シクロ）アルキル基等を挙げることがで
きる。

【００２９】また、式（４）におけるＸ^- の１価のアニ
オンとしては、例えば、 BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆
^- のほか、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸、１−
ナフタレンスルホン酸、１−ピレンスルホン酸等のスル
ホン酸類に由来するスルホン酸アニオン等を挙げること
ができる。

【００３０】このようなスルホニウム塩の具体例として
は、フェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、２−メチルフェニル・ジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、３−メチルフェニル・
ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４
−メチルフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、２−クロロフェニル・ジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、３−クロロフェニ
ル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−クロロフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、２，４−ジクロロフェニル・ジ
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２，
６−ジクロロフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、３，５−ジクロロフェニル・ジメ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ニ
トロフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−シアノフェニル・ジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、２−ヒドロキシフェニ
ル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−ヒドロキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・
ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２
−メチル−４−ヒドロキシフェニル・ジメチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ
−ブチルフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロヘキサフルオロアルセネート、２，４−ジヒドロキシ
フェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、２，６−ジヒドロキシフェニル・ジメチルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、３，５−ジヒド
ロキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−メトキシフェニル・ジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェノキシフ
ェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−ベンジルオキシフェニル・ジメチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトフェニル
・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、
４−ベンゾイルフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、４−ベンジルカルボニルフェニ
ル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシカルボニルフェニル・ジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェノキシカ
ルボニルフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−ベンジルオキシカルボニルフェニ
ル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−ジメチルアミノフェニル・ジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシカルボニ
ルオキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェノキシカルボニルオキシフェ
ニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−ベンジルオキシカルボニルオキシフェニル・ジ
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−
アセトキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、４−ベンゾイルオキシフェニル・ジ
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２−
クロロ−４−ヒドロキシフェニル・ジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート等の（置換）アリール・ジアルキルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート類；

【００３１】フェニル・ベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、２−メチルフェニル・ベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−メチルフェニル・ベンジル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−メチルフェニル・
ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、フェニル・４−メチルベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・１−ナフ
チルメチル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、２−クロロフェニル・ベンジル・メチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、２−クロロフェニ
ル・４−メチルベンジル・メチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、３−クロロフェニル・ベンジル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−
クロロフェニル・４−メチルベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−クロロフェニル
・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−クロロフェニル・４−メチルベンジル・メ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ク
ロロフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、２−クロロ−３−メチ
ルフェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、３−クロロ−４−メチルフェニル・
ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−クロロ−２−メチルフェニル・ベンジル・メ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ク
ロロ−３−メチルフェニル・ベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−ニトロフェニル
・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−ニトロフェニル・４−メチルベンジル・メ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ニ
トロフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−シアノフェニル・
ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−シアノフェニル・４−メチルベンジル・メチ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−シア
ノフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル
・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、２−メチル−４−ヒドロキシフェニル・ベンジ
ル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、
３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・メチ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒド
ロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・ベンジル・メチルス
ルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−メチル−
４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・ベンジル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−
ヒドロキシフェニル・４−メチルベンジル・メチルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシ
フェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニル・ベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシフェニル・４−メチルベンジル・メチ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メト
キシフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトフェニル・
ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−アセトフェニル・４−メチルベンジル・メチ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセ
トフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシカルボニル
フェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−メトキシカルボニルフェニル・４
−メチルベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−メトキシカルボニルフェニル・１−
ナフチルメチル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−ジメチルアミノフェニル・ベンジル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−
ジメチルアミノフェニル・４−メチルベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ジメチ
ルアミノフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシカル
ボニルオキシフェニル・ベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシカルボニル
オキシフェニル・４−メチルベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシカルボ
ニルオキシフェニル・１−ナフチルメチル・メチルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトキシ
フェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−アセトキシフェニル・４−メチル
ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−アセトキシフェニル・１−ナフチルメチル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−
ベンゾイルオキシフェニル・ベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−ベンゾイルオキ
シフェニル・４−メチルベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−ベンゾイルオキシフ
ェニル・１−ナフチルメチル・メチルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシ
フェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート等の（置換）フェニル・ベンジル・アルキルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート類；

【００３２】フェニル・２−クロロベンジル・メチルス
ルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・３
−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、フェニル・４−クロロベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・
３，５−ジクロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、フェニル・４−ニトロベンジル
・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フ
ェニル・４−シアノベンジル・メチルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、フェニル・４−ヒドロキシベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、フェニル・４−メトキシベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・４−アセ
トベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、フェニル・４−メトキシカルボニルベンジル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フェ
ニル・４−ジメチルアミノベンジル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・４−メトキ
シカルボニルオキシベンジル・メチルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、フェニル・４−アセトキシベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、２−クロロフェニル・２−クロロベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２−クロロ
フェニル・３−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、２−クロロフェニル・４−
クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、２−クロロフェニル・３，５−ジクロロベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−クロロフェニル・２−クロロベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−クロロ
フェニル・３−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、３−クロロフェニル・４−
クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、３−クロロフェニル・３，５−ジクロロベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−クロロフェニル・２−クロロベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−クロロ
フェニル・３−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−クロロフェニル・４−
クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−クロロフェニル・３，５−ジクロロベ
ンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３，５−ジクロロフェニル・２−クロロベンジル・
メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３，
５−ジクロロフェニル・３−クロロベンジル・メチルス
ルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３，５−ジク
ロロフェニル・４−クロロベンジル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、３，５−ジクロロフェ
ニル・３，５−ジクロロベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−ニトロフェニル・２
−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−ニトロフェニル・３−クロロベンジ
ル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、
４−ニトロフェニル・４−クロロベンジル・メチルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−シアノフェ
ニル・２−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、４−シアノフェニル・３−クロ
ロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−シアノフェニル・４−クロロベンジル・メ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒ
ドロキシフェニル・２−クロロベンジル・メチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフ
ェニル・３−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・４
−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−ヒドロキシフェニル・３，５−ジク
ロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアル
セネート、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・２−
クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・３
−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・
４−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
・３，５−ジクロロベンジル・メチルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシ
−５−ｔ−ブチルフェニル・２−クロロベンジル・メチ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・３−ク
ロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアル
セネート、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチ
ルフェニル・４−クロロベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロ
キシ−５−ｔ−ブチルフェニル・３，５−ジクロロベン
ジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−ヒドロキシフェニル・４−ニトロベンジル・メ
チルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒ
ドロキシフェニル・４−シアノベンジル・メチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフ
ェニル・４−ヒドロキシベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル
・４−メトキシベンジル・メチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・４−ア
セトベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアル
セネート、４−ヒドロキシフェニル・４−メトキシカル
ボニルベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−ヒドロキシフェニル・４−ジメチルア
ミノベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアル
セネート、４−ヒドロキシフェニル・４−メトキシカル
ボニルオキシベンジル・メチルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・４−アセ
トキシベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・２
−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・
３−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
・４−クロロベンジル・メチルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル・３，５−ジクロロベンジル・メチルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル・２−クロロベンジル・メチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロ
キシフェニル・３−クロロベンジル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニル・４−クロロベンジル・メチルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒ
ドロキシフェニル・３，５−ジクロロベンジル・メチル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート等の（置換）
フェニル・置換ベンジル・アルキルヘキサフルオロアル
セネート類；

【００３３】フェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、２−クロロフェニル・ジベンジ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−クロ
ロフェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−クロロフェニル・ジベンジルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、３，５−ジクロロフ
ェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−ニトロフェニル・ジベンジルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−シアノフェニル・ジ
ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４
−ヒドロキシフェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・ジ
ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、３
−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・
ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、
４−メトキシフェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、４−アセトフェニル・ジベンジ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メト
キシカルボニルフェニル・ジベンジルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−ジメチルアミノフェニル
・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシカルボニルオキシフェニル・ジベンジ
ルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセ
トキシフェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・ジベンジル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート等の（置換）
フェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアル
セネート類；

【００３４】フェニル・ベンジル・２−クロロベンジル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル・
ベンジル・３−クロロベンジルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、フェニル・ベンジル・４−クロロベ
ンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、フェ
ニル・ベンジル・３，５−ジクロロベンジルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−ニトロフェニル・
ベンジル・２−クロロベンジルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、４−ニトロフェニル・ベンジル・３
−クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−ニトロフェニル・ベンジル・４−クロロベン
ジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−シ
アノフェニル・ベンジル・２−クロロベンジルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、４−シアノフェニル
・ベンジル・３−クロロベンジルスルホニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、４−シアノフェニル・ベンジル・
４−クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・２−クロ
ロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、
３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・２−
クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェ
ニル・ベンジル・２−クロロベンジルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・ベ
ンジル・３−クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
・ベンジル・３−クロロベンジルスルホニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔ−ブチルフェニル・ベンジル・３−クロロベンジル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロ
キシフェニル・ベンジル・４−クロロベンジルスルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル・ベンジル・４−クロロベンジルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、３−メチル−４
−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル・ベンジル・４
−クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・３，５−ジ
クロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−メチル−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・
３，５−ジクロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−
ブチルフェニル・ベンジル・３，５−ジクロロベンジル
スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・２−クロロベン
ジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２−ク
ロロ−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・３−クロロ
ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、２
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・４−ク
ロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・ベンジル・
３，５−ジクロロベンジルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル・
ベンジル・２−クロロベンジルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル・ベンジル・３−クロロベンジルスルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキシフ
ェニル・ベンジル・４−クロロベンジルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル・ベンジル・３，５−ジクロロベンジルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート等の（置換）フェ
ニル・ベンジル・置換ベンジルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート類のほか、前記各スルホニウムヘキサ
フルオロアルセネート類中のアニオン（AsF₆ ^- ) を BF₄
^- 、 PF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、トリフルオロメタンスルホン酸ア
ニオンまたはｐ−トルエンスルホン酸アニオンに置き換
えた化合物等を挙げることができる。

【００３５】これらのスルホニウム塩のうち、４−アセ
トキシフェニル・ジメチルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−アセトキシフェニル・ジメチルスル
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキ
シフェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフル
オロアルセネート、４−ヒドロキシフェニル・ベンジル
・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−アセトキシフェニル・ベンジル・メチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトキシフェニ
ル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、４−ヒドロキシフェニル・ジベンジルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシ
フェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、４−アセトキシフェニル・ジベンジルスル
ホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトキシ
フェニル・ジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート等が好ましく、特に４−ヒドロキシフェニル
・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネートが好ましい。

【００３６】また、前記ベンゾチアゾリウム塩として
は、下記式（５）で表される化合物が好ましい。

【００３７】

【化５】

【００３８】〔式（５）において、 R¹¹は１価の置換基
を示し、ｎは０〜４の整数であり、Y^- は１価のアニオ
ンを示す。〕 式（５）において、 R¹¹の１価の置換基としては、例え
ば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜５
の炭化水素基もしくはその置換誘導体、−OR¹²、−COR
¹³ 、−COOR¹⁴、−N(R¹⁵)(R¹⁶) 、−OCOOR¹⁷ 、−OCOR
¹⁸ (但し、 R¹²〜R¹⁶ は相互に独立に水素原子、炭素数
１〜５の（シクロ）アルキル基、炭素数６〜１０のアリ
ール基または炭素数７〜１１のアラルキル基を示し、 R
¹⁷〜R¹⁸ は相互に独立に炭素数１〜５の（シクロ）アル
キル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜
１１のアラルキル基を示す。）等を挙げることができ、
Y^-の１価のアニオンとしては、例えば、 BF₄ ^- 、 PF₆
^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆ ^- のほか、トリフルオロメタンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−ドデシルベンゼン
スルホン酸、１−ナフタレンスルホン酸、１−ピレンス
ルホン酸等のスルホン酸類に由来するスルホン酸アニオ
ン等を挙げることができる。

【００３９】このようなベンゾチアゾリウム塩の具体例
としては、３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロアルセネート、３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチア
ゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベ
ンゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、３−ベンジ
ルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、３−ベンジルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスル
ホネート、３−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロアルセネート、３−（４−メトキ
シベンジル）ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチ
モネート、３−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロホスフェート、３−（４−メトキ
シベンジル）ベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレー
ト、３−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾリウム
トリフルオロメタンスルホネート、３−（４−メトキシ
ベンジル）ベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネー
ト、３−ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアルセネート、３−ベンジル−２−メチルベ
ンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、３−
ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロホスフェート、３−ベンジル−２−メチルベンゾチア
ゾリウムテトラフルオロボレート、３−ベンジル−２−
メチルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、３−ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムｐ
−トルエンスルホネート、３−ベンジル−２−クロロベ
ンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、３−ベ
ンジル−２−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロ
アンチモネート、３−ベンジル−２−クロロベンゾチア
ゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジル−
２−クロロベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスル
ホネート、３−ベンジル−２−クロロベンゾチアゾリウ
ムｐ−トルエンスルホネート、３−ベンジル−５−クロ
ロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、３
−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジ
ル−５−クロロベンゾチアゾリウムトリフルオロメタン
スルホネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾ
リウムｐ−トルエンスルホネート等の３−（置換）ベン
ジルベンゾチアゾリウム塩類；

【００４０】４−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフ
ルオロアルセネート、４−ベンジルベンゾチアゾリウム
ヘキサフルオロアンチモネート、４−ベンジルベンゾチ
アゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−ベンジル
ベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、４−ベン
ジルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、４−ベンジルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスル
ホネート、４−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロアルセネート、４−（４−メトキ
シベンジル）ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチ
モネート、４−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロホスフェート、４−（４−メトキ
シベンジル）ベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレー
ト、４−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾリウム
トリフルオロメタンスルホネート、４−（４−メトキシ
ベンジル）ベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネー
ト、４−ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−ベンジル−２−メチルベ
ンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、４−
ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロホスフェート、４−ベンジル−２−メチルベンゾチア
ゾリウムテトラフルオロボレート、４−ベンジル−２−
メチルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、４−ベンジル−２−メチルベンゾチアゾリウムｐ
−トルエンスルホネート、４−ベンジル−３−クロロベ
ンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、４−ベ
ンジル−３−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロ
アンチモネート、４−ベンジル−３−クロロベンゾチア
ゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−ベンジル−
３−クロロベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスル
ホネート、４−ベンジル−３−クロロベンゾチアゾリウ
ムｐ−トルエンスルホネート、４−ベンジル−２−クロ
ロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、４
−ベンジル−２−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロアンチモネート、４−ベンジル−２−クロロベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−ベンジ
ル−２−クロロベンゾチアゾリウムトリフルオロメタン
スルホネート、４−ベンジル−２−クロロベンゾチアゾ
リウムｐ−トルエンスルホネート等の４−（置換）ベン
ジルベンゾチアゾリウム塩類のほか、

【００４１】３−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロアルセネート、３−クロロベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアンチモネート、３−クロロベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロホスフェート、３−クロロベンゾチ
アゾリウムテトラフルオロボレート、３−クロロベンゾ
チアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、３−ク
ロロベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、３
−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネー
ト、３−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアン
チモネート、３−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロホスフェート、３−ニトロベンゾチアゾリウムテト
ラフルオロボレート、３−ニトロベンゾチアゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート、３−ニトロベンゾチア
ゾリウムｐ−トルエンスルホネート、３−シアノベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、３−シアノ
ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、３
−シアノベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェー
ト、３−シアノベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレ
ート、３−シアノベンゾチアゾリウムトリフルオロメタ
ンスルホネート、３−シアノベンゾチアゾリウムｐ−ト
ルエンスルホネート、３−メチルベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアルセネート、３−メチルベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、３−メチルベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−メチル
ベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、３−メチ
ルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、３−メチルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホ
ネート、３−フェニルベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロアルセネート、３−フェニルベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアンチモネート、３−フェニルベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロホスフェート、３−フェニルベン
ゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、３−フェニル
ベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
３−フェニルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネ
ート、３−メトキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロ
アルセネート、３−メトキシベンゾチアゾリウムヘキサ
フルオロアンチモネート、３−メトキシベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロホスフェート、３−メトキシベンゾ
チアゾリウムテトラフルオロボレート、３−メトキシベ
ンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、３
−メトキシベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネー
ト、３−アセトベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアル
セネート、３−アセトベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、３−アセトベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロホスフェート、３−アセトベンゾチアゾリウ
ムテトラフルオロボレート、３−アセトベンゾチアゾリ
ウムトリフルオロメタンスルホネート、３−アセトベン
ゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、３−メトキ
シカルボニルベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセ
ネート、３−メトキシカルボニルベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアンチモネート、３−メトキシカルボニル
ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−
メトキシカルボニルベンゾチアゾリウムテトラフルオロ
ボレート、３−メトキシカルボニルベンゾチアゾリウム
トリフルオロメタンスルホネート、３−メトキシカルボ
ニルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、３
−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムヘキサフルオロア
ルセネート、３−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアンチモネート、３−ジメチルアミノベン
ゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、３−ジメ
チルアミノベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレー
ト、３−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、３−ジメチルアミノベンゾチア
ゾリウムｐ−トルエンスルホネート、３−メトキシカル
ボニルオキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセ
ネート、３−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、３−メトキシカル
ボニルオキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフ
ェート、３−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリ
ウムテトラフルオロボレート、３−メトキシカルボニル
オキシベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、３−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリウ
ムｐ−トルエンスルホネート、３−アセトキシベンゾチ
アゾリウムヘキサフルオロアルセネート、３−アセトキ
シベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、
３−アセトキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホス
フェート、３−アセトキシベンゾチアゾリウムテトラフ
ルオロボレート、３−アセトキシベンゾチアゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート、３−アセトキシベンゾ
チアゾリウムｐ−トルエンスルホネート等の３−置換ベ
ンゾチアゾリウム塩類；

【００４２】４−クロロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロアルセネート、４−クロロベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアンチモネート、４−クロロベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロロベンゾチ
アゾリウムテトラフルオロボレート、４−クロロベンゾ
チアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ク
ロロベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、４
−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアン
チモネート、４−ニトロベンゾチアゾリウムヘキサフル
オロホスフェート、４−ニトロベンゾチアゾリウムテト
ラフルオロボレート、４−ニトロベンゾチアゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート、４−ニトロベンゾチア
ゾリウムｐ−トルエンスルホネート、４−シアノベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロアルセネート、４−シアノ
ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、４
−シアノベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェー
ト、４−シアノベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレ
ート、４−シアノベンゾチアゾリウムトリフルオロメタ
ンスルホネート、４−シアノベンゾチアゾリウムｐ−ト
ルエンスルホネート、４−メチルベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−メチルベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルベンゾ
チアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−メチル
ベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、４−メチ
ルベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、４−メチルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホ
ネート、４−フェニルベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロアンチモネート、４−フェニルベンゾチアゾ
リウムヘキサフルオロホスフェート、４−フェニルベン
ゾチアゾリウムテトラフルオロボレート、４−フェニル
ベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−フェニルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネ
ート、４−メトキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−メトキシベンゾチアゾリウムヘキサ
フルオロアンチモネート、４−メトキシベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−メトキシベンゾ
チアゾリウムテトラフルオロボレート、４−メトキシベ
ンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、４
−メトキシベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネー
ト、４−アセトベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアル
セネート、４−アセトベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、４−アセトベンゾチアゾリウムヘキ
サフルオロホスフェート、４−アセトベンゾチアゾリウ
ムテトラフルオロボレート、４−アセトベンゾチアゾリ
ウムトリフルオロメタンスルホネート、４−アセトベン
ゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、４−メトキ
シカルボニルベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−メトキシカルボニルベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアンチモネート、４−メトキシカルボニル
ベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−
メトキシカルボニルベンゾチアゾリウムテトラフルオロ
ボレート、４−メトキシカルボニルベンゾチアゾリウム
トリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシカルボ
ニルベンゾチアゾリウムｐ−トルエンスルホネート、４
−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムヘキサフルオロア
ルセネート、４−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムヘ
キサフルオロアンチモネート、４−ジメチルアミノベン
ゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフェート、４−ジメ
チルアミノベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレー
ト、４−ジメチルアミノベンゾチアゾリウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、４−ジメチルアミノベンゾチア
ゾリウムｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシカル
ボニルオキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアルセ
ネート、４−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、４−メトキシカル
ボニルオキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホスフ
ェート、４−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリ
ウムテトラフルオロボレート、４−メトキシカルボニル
オキシベンゾチアゾリウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、４−メトキシカルボニルオキシベンゾチアゾリウ
ムｐ−トルエンスルホネート、４−アセトキシベンゾチ
アゾリウムヘキサフルオロアルセネート、４−アセトキ
シベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−アセトキシベンゾチアゾリウムヘキサフルオロホス
フェート、４−アセトキシベンゾチアゾリウムテトラフ
ルオロボレート、４−アセトキシベンゾチアゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート、４−アセトキシベンゾ
チアゾリウムｐ−トルエンスルホネート等の４−置換ベ
ンゾチアゾリウム塩類等を挙げることができる。

【００４３】これらのベンゾチアゾリウム塩のうち、３
−（置換）ベンジルベンゾチアゾリウム塩類が好まし
く、特に３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフルオ
ロアンチモネートが好ましい。また、前記式（４）で表
されるスルホニウム塩あるいは前記式（５）で表される
ベンゾチアゾリウム塩の市販品には、商品名で、サンエ
イドＳＩ−Ｌ８５、同ＳＩ−Ｌ１１０、同ＳＩ−Ｌ１４
５、同ＳＩ−Ｌ１５０、同ＳＩ−Ｌ１６０（以上、三新
化学工業（株）製）等があり、これらを本発明における
熱酸発生剤として使用することもできる。本発明におい
て、熱酸発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。本発明における熱酸発生剤の使用
量は、後述する（Ｆ）熱架橋性化合物１００重量部に対
して、通常、５〜５０重量部、好ましくは１０〜３０重
量部である。この場合、熱酸発生剤の使用量が５重量部
未満では、酸の発生量が少なくなって架橋密度が低下
し、膜硬度が低くなる傾向があり、一方５０重量部を超
えると、熱酸発生剤として作用しなかった残留物により
膜強度が低下する傾向がある。

【００４４】（Ｆ）酸架橋性化合物 本発明における酸架橋性化合物は、前記（Ｅ）熱酸発生
剤が加熱により発生する酸の作用により架橋反応を生じ
る化合物である。このような酸架橋性化合物としては、
式−CH₂O-R¹⁶（式中、R¹⁶ は水素原子または炭素数が、
通常、１〜６、好ましくは１〜４のアルキル基を示
す。）で表される１価の有機基（以下、「メチロール基
等」という。）を分子中に好ましくは２個以上有する化
合物が好ましく、特にメチロール基等が窒素原子に結合
する化合物、即ちＮ−メチロール基および／またはＮ−
アルコキシメチル基を含有する化合物が好ましい。酸架
橋性化合物中にメチロール基等が２個以上存在すると
き、各基は相互に同一でも異なってもよい。本発明にお
いては、酸架橋性化合物中のメチロール基等が、前記
（Ｅ）熱酸発生剤に由来する酸の存在下で、好ましくは
カルボキシル基含有共重合体（ｂ）からなる前記（Ｂ）
バインダーポリマーが有するカルボキシル基と反応し
て、架橋構造を形成するものである。酸架橋性化合物と
しては、例えば、下記式（６）

【００４５】

【化６】

【００４６】〔式（６）において、 R¹⁹〜R²⁴ は相互に
独立に、炭素数が、通常、１〜６、好ましくは１〜４の
アルキル基を示す。〕で表されるＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，
Ｎ−ヘキサ（アルコキシメチル）メラミン等のアルコキ
シメチル化メラミン、下記式（７）

【００４７】

【化７】

【００４８】〔式（７）において、 R²⁵〜R²⁸ は相互に
独立に、炭素数が、通常、１〜６、好ましくは１〜４の
アルキル基を示す。〕で表されるＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テト
ラ（アルコキシメチル）グリコールウリル等のアルコキ
シメチル化グリコールウリルのほか、尿素−ホルムアル
デヒド樹脂、チオ尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂、グアナミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、
グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、ポリ（ｏ−
ビニルフェノール）、ポリ（ｍ−ビニルフェノール）、
ポリ（ｐ−ビニルフェノール）等の樹脂に、メチロール
基等を導入した化合物等挙げることができる。これらの
酸架橋性化合物のうち、アルコキシメチル化メラミンお
よびアルコキシメチル化グリコールウリルが好ましく、
特にアルコキシメチル化メラミンが好ましい。また、組
成物の光架橋性、耐熱性および耐溶剤性のバランスに優
れ、かつ低誘電率の硬化物が得られるという観点から、
酸架橋性化合物として、アルコキシメチル化メラミンと
アルコキシメチル化グリコールウリルとを併用するのも
好ましく、この場合のアルコキシメチル化メラミンとア
ルコキシメチル化グリコールウリルとの重量比は、通
常、５／９５〜９５／５、好ましくは１０／９０〜９０
／１０である。

【００４９】他の添加剤 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物には、溶剤
を配合することができる。前記溶剤としては、前記
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）
成分や、所望により配合される他の添加剤成分を溶解ま
たは分散し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発
性を有するものである限り、適宜に選択して使用するこ
とができる。このような溶剤としては、例えば、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレン
グリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ
−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ−ブ
チルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルア
セテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等
のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−
ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステ
ル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、
３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチ
ルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルア
セテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネ
ート、酢酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸
ｉ−アミル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸ｎ−ブチ
ル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸エチル、酪酸ｎ−ブチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−
プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−
オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用
することができる。さらに、前記溶剤とともに、ベンジ
ルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルア
セトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オ
クタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢
酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレ
イン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、
炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高
沸点溶剤を併用することもできる。これらの高沸点溶剤
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等
の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シ
クロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メ
トキシブチルプロピオネート、３−メトキシプロピオン
酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エト
キシプロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ぎ酸ｎ−ア
ミル、酢酸ｉ−アミル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸
ｎ−ブチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸エチル、酪酸ブチ
ル、ピルビン酸エチル等が好ましく、また高沸点溶剤と
してはγ−ブチロラクトン等が好ましい。本発明におけ
る溶剤の使用量は、（Ｂ）バインダーポリマー１００重
量部に対して、通常、１００〜１００００重量部、好ま
しくは５００〜５０００重量部である。

【００５０】さらに、本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、必要に応じて溶剤以外の種々の添加剤を
含有することもできる。このような添加剤としては、例
えば、ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、
ポリ（フロロアルキルアクリレート）等の高分子化合
物；ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤等の界面活性剤；ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２
−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止
剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコ
キシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；ポリアクリル酸
ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げることができる。

【００５１】カラーフィルタの形成方法 次に、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を用
いて、カラーフィルタを形成する方法について説明す
る。まず、透明基板の表面上の画素パターンを形成する
部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、
例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物を塗布
したのち、プリベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を
形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して放
射線を照射したのち、アルカリ現像液で現像処理を行
い、塗膜の放射線未照射部を溶解除去することによっ
て、赤色の画素が所定のパターンで配置された画素アレ
イを形成する。その後、緑色または青色の顔料が分散さ
れた各感放射線性組成物を用い、上記と同様にして、各
組成物の塗布、プリベーク、放射線照射および現像処理
を行い、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同
一基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および
青色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラー
フィルタを得る。カラーフィルタを形成する際に使用さ
れる透明基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポ
リカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポ
リアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。
これらの透明基板には、所望により、シランカップリン
グ剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適
宜の前処理を施しておくこともできる。感放射線性組成
物を透明基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、
ロール塗布等の適宜の塗布法を採用することができる。
塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、０．１〜１０
μｍ、好ましくは０．２〜１．５μｍである。カラーフ
ィルタを形成する際に使用される放射線としては、可視
光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用するこ
とができるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある
放射線が好ましい。放射線の照射エネルギー量は、好ま
しくは１〜１０００ｍＪ／ｃｍ² である。また、前記ア
ルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシ
クロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジア
ザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が
好ましい。前記アルカリ現像液には、例えば、メタノー
ル、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適
量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通
常、水洗する。現像処理法としては、シャワー現像法、
スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液
盛り）現像法等を適用することができ、現像条件は、常
温で５〜３００秒が好ましい。このようにして形成され
たカラーフィルタは、例えば、カラー液晶表示装置、カ
ラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて好適に使用
することができる。

【００５２】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダーポリマ
ー、（Ｃ）多官能性モノマー、（Ｄ）光重合開始剤、
（Ｅ）熱酸発生剤および（Ｆ）酸架橋性化合物を必須成
分として含有するものであるが、特に好ましい組成物を
具体的に例示すると、下記（イ）〜（ヘ）のとおりであ
る。 （イ） （Ｂ）成分がカルボキシル基含有共重合体
（ｂ）からなり、（Ｄ）成分が２，２’−ビス（２−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４
−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾールおよび
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾールの群から選ばれる１種以上を含有す
るカラーフィルタ用感放射線性組成物。 （ロ） （Ｂ）成分がカルボキシル基含有共重合体
（ｂ）からなり、（Ｄ）成分が２，２’−ビス（２，４
−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフ
ェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブ
ロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−ト
リブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニルビイミダゾールの群から選ばれる１種以上を含有す
るカラーフィルタ用感放射線性組成物。 （ハ） （Ｄ）成分がさらに他の光重合開始剤、増感
剤、硬化促進剤および高分子光架橋・増感剤の群から選
ばれる１種以上の成分を含む前記（イ）または（ロ）の
カラーフィルタ用感放射線性組成物。 （ニ） （Ｂ）成分であるカルボキシル基含有共重合体
（ｂ）が、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重
合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレ
ン共重合体、メタクリル酸／メチルメタクリレート／ス
チレン共重合体、メタクリル酸／ベンジルメタクリレー
ト／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル
酸／ベンジルメタクリレート／ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／メチルメタ
クリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メ
タクリル酸／メチルメタクリレート／ポリメチルメタク
リレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／２−
ヒドロキシエチルメタクリレート／ベンジルメタクリレ
ート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体およびメタ
クリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ベン
ジルメタクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロ
モノマー共重合体の群から選ばれる少なくとも１種の共
重合体である前記（イ）、（ロ）または（ハ）のカラー
フィルタ用感放射線性組成物。 （ホ） （Ｃ）成分がトリメチロールプロパントリアク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群
から選ばれる少なくとも１種の多価アクリレートである
前記（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）のカラーフィ
ルタ用感放射線性組成物。 （ヘ） （Ａ）成分が有機顔料である前記（イ）、
（ロ）、（ハ）、（ニ）または（ホ）のカラーフィルタ
用感放射線性組成物。

【００５３】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これら
の実施例に何ら制約されるものではない。 比較例１ （Ａ）成分として赤色顔料（C.I.ピグメントレッド１７
７) １２０重量部、（Ｂ）成分としてメタクリル酸／ベ
ンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体（共重合重量比＝２５／６５／１０、重量平均分
子量＝５５，０００）５０重量部、（Ｃ）成分としてジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート４０重量部、
（Ｄ）成分として２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール１０重量部と４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノン１０重量部、および溶剤としてエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート８００重量部を
混合して感放射線性組成物を調製した。次いで、表面に
ナトリウムイオンの溶出を防止するシリカ(SiO₂)膜が形
成されたソーダガラス製透明基板の表面上に、画素パタ
ーンを形成する部分を区画するように遮光層を設けたの
ち、スピンコーターを用いて前記感放射線性組成物を塗
布し、８０℃で２分間プリベークを行なって、膜厚１．
５μｍの塗膜を形成した。その後、基板を冷却したの
ち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗
膜に波長３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの光
を含む１００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を１秒間照射した。
次いで、基板を２５℃の０．１重量％テトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液中に１分間浸漬して現像処
理を行い、超純水で洗浄し、風乾したのち、さらに１８
０℃で３０分間ポストベークを行なって、各辺２０μｍ
×２０μｍの大きさの赤色の画素パターンが形成された
画素アレイを作製した。得られた画素アレイと同様の塗
膜に対して、鉛筆硬度測定法により鉛筆硬度を測定した
ところ、３ＨＢの鉛筆針硬度で塗膜が完全に削り取ら
れ、カラーフィルタとして十分な硬度が得られなかっ
た。

【００５４】

【実施例】

実施例１ （Ａ）成分として赤色顔料（C.I.ピグメントレッド１７
７) １２０重量部、（Ｂ）成分としてメタクリル酸／ベ
ンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体（共重合重量比＝２５／６５／１０、重量平均分
子量＝５５，０００）５０重量部、（Ｃ）成分としてジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート４０重量部、
（Ｄ）成分として２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール１０重量部と４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量
部、（Ｅ）成分として４−ヒドロキシフェニル・ベンジ
ル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
１．６重量部、（Ｆ）成分としてヘキサ（メトキシメチ
ル）メラミン８重量部、および溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート８００重量部を混
合して感放射線性組成物を調製した。この感放射線性組
成物を用い、比較例１と同様にして、基板上に赤色の画
素パターンが形成された画素アレイを作製した。得られ
た画素アレイにはパターンの欠落や欠損は認められず、
パターン断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ア
ンダーカットは認められなかった。また画素アレイを光
学顕微鏡で観察したところ、基板上のパターンが形成さ
れていない領域に未溶解物の残存は認められなかった。
さらに、得られた画素アレイと同様の塗膜に対して、比
較例１と同様にして、鉛筆硬度測定法により鉛筆硬度を
測定したところ、８ＨＢの鉛筆針硬度でも塗膜が削り取
られることがなく、カラーフィルタとして十分な硬度を
有していた。

【００５５】実施例２ （Ａ）成分として赤色顔料（C.I.ピグメントレッド１７
７) １２０重量部、（Ｂ）成分としてメタクリル酸／ベ
ンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体（共重合重量比＝２５／６５／１０、重量平均分
子量＝５５，０００）５０重量部、（Ｃ）成分としてジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート４０重量部、
（Ｄ）成分として２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール１０重量部と４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量
部、（Ｅ）成分として４−ヒドロキシフェニル・ベンジ
ル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
１．６重量部、（Ｆ）成分としてヘキサ（メトキシメチ
ル）メラミン８重量部、および溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート８００重量部を混
合して感放射線性組成物を調製した。この感放射線性組
成物を用い、比較例１と同様にして、基板上に赤色の画
素パターンが形成された画素アレイを作製した。得られ
た画素アレイにはパターンの欠落や欠損は認められず、
パターン断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ア
ンダーカットは認められなかった。また画素アレイを光
学顕微鏡で観察したところ、基板上のパターンが形成さ
れていない領域に未溶解物の残存は認められなかった。
さらに、得られた画素アレイと同様の塗膜に対して、比
較例１と同様にして、鉛筆硬度測定法により鉛筆硬度を
測定したところ、７ＨＢの鉛筆針硬度でも塗膜が削り取
られることがなく、カラーフィルタとして十分な硬度を
有していた。

【００５６】実施例３ （Ａ）成分として赤色顔料（C.I.ピグメントレッド１７
７) １２０重量部、（Ｂ）成分としてメタクリル酸／ベ
ンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体（共重合重量比＝２５／６５／１０、重量平均分
子量＝５５，０００）５０重量部、（Ｃ）成分としてジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート４０重量部、
（Ｄ）成分として２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール１０重量部と４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量
部、（Ｅ）成分として４−ヒドロキシフェニル・ベンジ
ル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
１．６重量部、（Ｆ）成分としてヘキサ（メトキシメチ
ル）メラミン８重量部、および溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート８００重量部を混
合して感放射線性組成物を調製した。この感放射線性組
成物を用い、比較例１と同様にして、基板上に赤色の画
素パターンが形成された画素アレイを作製した。得られ
た画素アレイにはパターンの欠落や欠損は認められず、
パターン断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、ア
ンダーカットは認められなかった。また画素アレイを光
学顕微鏡で観察したところ、基板上のパターンが形成さ
れていない領域に未溶解物の残存は認められなかった。
さらに、得られた画素アレイと同様の塗膜に対して、比
較例１と同様にして、鉛筆硬度測定法により鉛筆硬度を
測定したところ、７ＨＢの鉛筆針硬度でも塗膜が削り取
られることがなく、カラーフィルタとして十分な硬度を
有していた。

【００５７】

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ用感放射線性組
成物は、（Ｅ）熱酸発生剤および（Ｆ）酸架橋性化合物
を必須成分として含有するため、例えばカラー液晶表示
装置（ＬＣＤ）やカラー撮像管素子におけるカラーフィ
ルタを形成する際に、得られる塗膜が十分な硬度を有し
ており、しかもパターンの欠落や欠損、パターン断面の
アンダーカット、未溶解物の残存等を生じることがな
く、優れた画素アレイを得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダーポリマ
   ー、（Ｃ）多官能性モノマー、（Ｄ）光重合開始剤、
   （Ｅ）熱酸発生剤および（Ｆ）酸架橋性化合物を含有す
   ることを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成
   物。