JP2002365795A

JP2002365795A - カラー液晶表示装置用感放射線性組成物

Info

Publication number: JP2002365795A
Application number: JP2001171267A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Abe; 慈阿部; Takayoshi Koyama; 貴由小山
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2001-06-06
Filing date: 2001-06-06
Publication date: 2002-12-18
Also published as: SG102052A1; KR20020093587A; TW569043B

Abstract

(57)【要約】【課題】形成されたパターンの侵食率が小さく、現像
時にパターン形状が逆テーパー状になり難く、ラビング
布のパターン部分への引っ掛かりおよびパターンの剥が
れを有効に防止することができ、しかも焼き付き等の表
示不良を生じることがない、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上にスペーサ
ーおよび／またはブラックマトリックスを形成するため
に用いられるを提供する。【解決手段】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）アルカ
リ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光
重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、それ
から形成された２０μｍのドットパターンの浸食率が３
０％以下であることを特徴とする、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上にス
ペーサーおよび／またはブラックマトリックスを形成す
るために用いられる感放射線性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上にス
ペーサーおよび／またはブラックマトリックスを形成す
るために用いられる感放射線性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、黒色感放射線性組成物を用いてカ
ラーフィルタ用のスペーサーやブラックマトリックスを
製造するに当たっては、基板上に、黒色の着色剤が分散
された感放射線性組成物を塗布し、乾燥したのち、得ら
れた塗膜にフォトマスクを介して放射線を照射（以下、
「露光」という。）し、現像することにより、所望のパ
ターンを形成している。しかしながら、このような黒色
感放射線性組成物では、スペーサーやブラックマトリッ
クスの遮光性を十分高めるために、黒色の着色剤を相当
量使用する必要があるが、露光された放射線がその着色
剤により吸収されるために、塗膜中の放射線の有効強度
が、塗膜の表面から底部（即ち、基板表面近傍）に向か
って次第に小さくなる現象が必然的に生じ、そのため塗
膜内部における硬化反応も表面から底部に向かって次第
に不十分となりやすく、その結果、形成されたパターン
の下部が現像時に現像液によってえぐられ、最終的にパ
ターンのエッジ形状が逆テーパー状となりやすい。とこ
ろがエッジ形状が逆テーパー状であると、液晶を配向す
るためのラビング時に、ラビング布がエッジ部分に引っ
掛かって、パターンが剥がれたり、ラビング布が摩耗し
たりする不都合を生じるおそれがある。

【０００３】さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式
カラー液晶表示装置の駆動用基板上にカラーフィルタを
配置する方式では、ＩＴＯ（錫をドープした酸化インジ
ュウム）膜と電極とを導通させるため、カラーフィルタ
にスルーホールが設けられるが、カラーフィルタの形成
後にスペーサーやブラックマトリックスを形成すると、
スペーサーやブラックマトリックスを形成するための感
放射線性組成物の残滓が該スルーホール内に残りやすく
なる。しかし、その残滓を除くために現像条件を厳しく
すると、パターンの侵食が大きくなり、このような場合
も、ラビング布がパターン部分に引っ掛かって、パター
ンが剥がれたりするおそれがある。また、カラー液晶表
示装置用のスペーサーやブラックマトリックスには、表
示不良の原因となる焼き付きを生じないことも必要であ
る。しかしながら、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式カ
ラー液晶表示装置のスペーサーやブラックマトリックス
を形成するために使用される従来の感放射線性組成物で
は、これらの問題ないし課題を十分解決できなかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、形成
されたパターンの侵食率が小さく、現像時にパターン形
状が逆テーパー状になり難く、ラビング布のパターン部
分への引っ掛かりおよびパターンの剥がれを有効に防止
することができ、しかも焼き付き等の表示不良を生じる
ことがなく、かつ高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣や地汚
れを生じ難く、現像時のパターンの基板への密着性にも
優れた、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式カラー液晶表
示装置の駆動用基板上にスペーサーおよび／またはブラ
ックマトリックスを形成するために用いられる感放射線
性組成物を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）顔料を
含む着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能
性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射
線性組成物であって、それから形成された２０μｍのド
ットパターンの浸食率が３０％以下であることを特徴と
する、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示
装置の駆動用基板上にスペーサーおよび／またはブラッ
クマトリックスを形成するために用いられる感放射線性
組成物、からなる。本発明でいう「放射線」とは、可視
光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を含むものを
意味する。

【０００６】以下、本発明について詳細に説明する。（Ａ）着色剤本発明における着色剤は、顔料を含む着色剤からなる。
前記顔料は、カラー液晶表示装置の用途、所望の色相等
に応じて適宜選定することができ、無機顔料でも有機顔
料でもよく、また１種類の顔料でも２種類以上の顔料を
混合したものでもよいが、本発明における顔料として
は、発色性が高く、かつ耐熱性の高い顔料、特に耐熱分
解性の高い顔料が好ましく、特にカーボンブラックおよ
び／または２種以上の有機顔料を含むものが好ましい。

【０００７】前記カーボンブラックとしては、例えば、
ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳＡＦ−ＬＳ、Ｉ
ＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＬＳ、ＨＡＦ−ＨＳ、
ＮＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＳＲＦ、ＳＲＦ−Ｌ
Ｍ、ＳＲＦ−ＬＳ、ＧＰＦ、ＥＣＦ、Ｎ−３３９、Ｎ−
３５１等のファーネスブラック；ＦＴ、ＭＴ等のサーマ
ルブラック；アセチレンブラック等を挙げることができ
る。これらのカーボンブラックは、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。また、カーボンブ
ラック以外の無機顔料としては、例えば、チタンブラッ
ク、Ｃｕ−Ｆｅ−Ｍｎ系酸化物、合成鉄黒等の金属酸化
物等を挙げることができる。これらの無機顔料は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。

【０００８】さらに、前記有機顔料しては、例えば、カ
ラーインデックス（C.I.；The Society of Dyers and C
olourists 社発行) においてピグメント（Pigment)に分
類されている化合物、具体的には、下記のようなカラー
インデックス（C.I.）番号が付されているものを挙げる
ことができる。C.I.ピグメントイエロー１２、C.I.ピグ
メントイエロー１３、C.I.ピグメントイエロー１４、C.
I.ピグメントイエロー１７、C.I.ピグメントイエロー２
０、C.I.ピグメントイエロー２４、C.I.ピグメントイエ
ロー３１、C.I.ピグメントイエロー５５、C.I.ピグメン
トイエロー８３、C.I.ピグメントイエロー９３、C.I.ピ
グメントイエロー１０９、C.I.ピグメントイエロー１１
０、C.I.ピグメントイエロー１３８、C.I.ピグメントイ
エロー１３９、C.I.ピグメントイエロー１５０、C.I.ピ
グメントイエロー１５３、C.I.ピグメントイエロー１５
４、C.I.ピグメントイエロー１５５、C.I.ピグメントイ
エロー１６６、C.I.ピグメントイエロー１６８；C.I.ピ
グメントオレンジ３６、C.I.ピグメントオレンジ４３、
C.I.ピグメントオレンジ５１、C.I.ピグメントオレンジ
６１、C.I.ピグメントオレンジ７１；C.I.ピグメントレ
ッド９、C.I.ピグメントレッド９７、C.I.ピグメントレ
ッド１２２、C.I.ピグメントレッド１２３、C.I.ピグメ
ントレッド１４９、C.I.ピグメントレッド１６８、C.I.
ピグメントレッド１７６、C.I.ピグメントレッド１７
７、C.I.ピグメントレッド１８０、C.I.ピグメントレッ
ド２０９、C.I.ピグメントレッド２１５、C.I.ピグメン
トレッド２２４、C.I.ピグメントレッド２４２、C.I.ピ
グメントレッド２５４；C.I.ピグメントバイオレット１
９、ピグメントバイオレット２３、ピグメントバイオレ
ット２９；C.I.ピグメントブルー１５、C.I.ピグメント
ブルー６０、C.I.ピグメントブルー１５：３、C.I.ピグ
メントブルー１５：４、C.I.ピグメントブルー１５：
６、C.I.ピグメントグリーン７、C.I.ピグメントグリー
ン３６；C.I.ピグメントブラウン２３、C.I.ピグメント
ブラウン２５；C.I.ピグメントブラック１、ピグメント
ブラック７。前記有機顔料は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。これらの有機顔料のう
ち、特に好ましいのは、C.I.ピグメントレッド１７７と
C.I.ピグメントブルー１５：４および／またはC.I.ピグ
メントブルー１５：６との混合物である。

【０００９】また、本発明における着色剤には、必要に
応じて体質顔料を添加することもできる。前記体質顔料
としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸
カルシウム、シリカ、塩基性炭酸マグネシウム、アルミ
ナ白、グロス白、サタン白、ハイドロタルサイト等を挙
げることができる。これらの体質顔料は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。体質顔料の
使用量は、全顔料１００重量部に対して、通常、０〜１
００重量部、好ましくは５〜５０重量部、さらに好まし
くは１０〜４０重量部である。本発明において、前記各
顔料は、場合により、それらの表面をポリマーで改質し
て使用することができる。また、顔料以外の着色剤とし
ては、染料、天然色素等を挙げることができる。

【００１０】−ウレタン系分散剤− 本発明においては、着色剤中の顔料を分散剤、特に好ま
しくはウレタン結合を有する分散剤（以下、「ウレタン
系分散剤」という。）により分散させることが望まし
い。以下、ウレタン系分散剤について説明する。ウレタ
ン系分散剤のウレタン結合は、一般に、式Ｒ−ＮＨ−Ｃ
ＯＯ−Ｒ’（但し、ＲおよびＲ’は脂肪族、脂環族また
は芳香族の１価または多価の有機基であり、その多価の
有機基はさらにウレタン結合を有する基あるいは他の基
に結合している。）で表され、ウレタン系分散剤中の親
油性基および／または親水性基に存在することができ、
またウレタン系分散剤の主鎖および／または側鎖に存在
することができ、さらにウレタン系分散剤中に１個以上
存在することができる。ウレタン結合がウレタン系分散
剤中に２個以上存在するとき、各ウレタン結合は同一で
も異なってもよい。このようなウレタン系分散剤は、例
えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系あるいは両
性であることができ、またシリコーン系、フッ素系等の
構造をとることもできる。

【００１１】このようなウレタン系分散剤としては、例
えば、ジイソシアナート類および／またはトリイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリエステル類およ
び／または両末端に水酸基を有するポリエステル類との
反応生成物を挙げることができる。前記ジイソシアナー
ト類としては、例えば、ベンゼン−１，３−ジイソシア
ナート、ベンゼン−１，４−ジイソシアナート等のベン
ゼンジイソシアナート類；トルエン−２，４−ジイソシ
アナート、トルエン−２，５−ジイソシアナート、トル
エン−２，６−ジイソシアナート、トルエン−３，５−
ジイソシアナート等のトルエンジイソシアナート類；
１，２−キシレン−３，５−ジイソシアナート、１，２
−キシレン−３，６−ジイソシアナート、１，２−キシ
レン−４，６−ジイソシアナート、１，３−キシレン−
２，４−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，５
−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，６−ジイ
ソシアナート、１，３−キシレン−４，６−ジイソシア
ナート、１，４−キシレン−２，５−ジイソシアナー
ト、１，４−キシレン−２，６−ジイソシアナート等の
キシレンジイソシアナート類等の芳香族ジイソシアナー
ト類を挙げることができ、また前記トリイソシアナート
類としては、例えば、ベンゼン−１，２，４−トリイソ
シアナート、ベンゼン−１，２，５−トリイソシアナー
ト、ベンゼン−１，３，５−トリイソシアナート等のベ
ンゼントリイソシアナート類；トルエン−２，３，５−
トリイソシアナート、トルエン−２，３，６−トリイソ
シアナート、トルエン−２，４，５−トリイソシアナー
ト、トルエン−２，４，６−トリイソシアナート、トル
エン−３，４，６−トリイソシアナート、トルエン−
３，５，６−トリイソシアナート等のトルエントリイソ
シアナート類、１，２−キシレン−３，４，６−トリイ
ソシアナート、１，２−キシレン−３，５，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，５−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−３，４，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，６−トリイ
ソシアナート等のキシレントリイソシアナート類等の芳
香族トリイソシアナート類を挙げることができる。これ
らのジイソシアナート類およびトリイソシアナート類
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。

【００１２】さらに、前記片末端に水酸基を有するポリ
エステル類または両末端に水酸基を有するポリエステル
類としては、例えば、片末端または両末端に水酸基を有
するポリカプロラクトン、片末端または両末端に水酸基
を有するポリバレロラクトン、片末端または両末端に水
酸基を有するポリプロピオラクトン等の片末端または両
末端に水酸基を有するポリラクトン類；片末端または両
末端に水酸基を有するポリエチレンテレフタレート、片
末端または両末端に水酸基を有するポリブチレンテレフ
タレート等の片末端または両末端に水酸基を有する重縮
合系ポリエステル類等を挙げることができる。これらの
片末端に水酸基を有するポリエステル類および両末端に
水酸基を有するポリエステル類は、それぞれ単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。

【００１３】本発明におけるウレタン系分散剤として
は、芳香族ジイソシアナート類と片末端に水酸基を有す
るポリラクトン類および／または両末端に水酸基を有す
るポリラクトン類との反応生成物が好ましく、特にトル
エンジイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリ
カプロラクトンおよび／または両末端に水酸基を有する
ポリカプロラクトンとの反応生成物が好ましい。

【００１４】ウレタン系分散剤は、熱処理による不溶化
の有無、酸価、アミン価および電圧保持率の何れか１つ
以上の特性により特徴づけることができる。熱処理によ
る不溶化の有無については、１５０℃以上、好ましくは
１５０〜２５０℃で、３０分以上、好ましくは３０〜９
０分間、熱処理したとき、極性溶剤、例えば、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等に不
溶となるものが望ましい。また、酸価およびアミン価に
ついては、（ｉ）酸価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは
８〜２０mgKOH/g でアミン価が０mgKOH/g 、（ii）アミ
ン価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０mgKOH/g
で酸価が０mgKOH/g であるものが望ましい。但し、
（ｉ）と（ii）とを同時に満足することはない。

【００１５】また、電圧保持率については、下記する方
法で測定した電圧保持率が８０％以上、好ましくは８５
％以上となるものが望ましい。電圧保持率の測定方法：本発明における（Ｂ）成分、
（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を溶剤に溶解した溶液にウ
レタン系分散剤を１重量％添加し、この溶液を表面に酸
化インジウム（ＩＴＯ）膜を形成した基板に塗布して膜
厚３μｍの乾燥塗膜を形成し、露光したのち、２００〜
２５０℃程度の温度でポストベークを行なって得た基板
を用いて組み立てた液晶セルについて、６０℃、保持時
間１６．７ミリ秒の条件で測定される。本発明における
ウレタン系分散剤が、熱処理による不溶化の有無、酸
価、アミン価あるいは電圧保持率が前記条件を満たすこ
とにより、液晶セルとしたときの焼き付きを著しく低減
させることが可能となる。

【００１６】前記特性の少なくとも１つを有するウレタ
ン系分散剤の具体例としては、商品名で、例えば、ＥＦ
ＫＡ−４６、同４７（エフカーケミカルズビーブイ（Ｅ
ＦＫＡ）社製）、Disperbyk(ビックケミー（ＢＹＫ）社
製）、ディスパロン（楠本化成（株）製）等を挙げるこ
とができる。本発明におけるウレタン系分散剤のゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定
したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」
という。）は、通常、５，０００〜５０，０００、好ま
しくは７，０００〜２０，０００である。本発明におい
て、ウレタン系分散剤は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。

【００１７】ウレタン系分散剤の使用量は、着色剤中の
顔料１００重量部に対して、通常、０．５〜１００重量
部、好ましくは１〜７０重量部、さらに好ましくは１０
〜５０重量部である。この場合、ウレタン系分散剤の使
用量が０．５未満では、顔料分散液の安定性が低下し
たりする傾向があり、一方１００重量部を超えると、感
放射線性組成物としたときの現像性等の性能が損なわれ
るおそれがある。

【００１８】また、本発明においては、分散助剤を分散
剤と併用することもできる。前記分散助剤としては、例
えば、銅フタロシアニンスルホン酸化合物等を挙げるこ
とができる。前記銅フタロシアニンスルホン酸化合物の
具体例としては、銅フタロシアニンスルホン酸、銅フタ
ロシアニンスルホン酸アンモニウム、銅フタロシアニン
スルホン酸テトラメチルアンモニウム、銅フタロシアニ
ンスルホン酸テトラエチルアンモニウム、銅フタロシア
ニンスルホン酸テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム、銅
フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｉ−プロピルアンモ
ニウム、銅フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウム等を挙げることができる。これらの銅フ
タロシアニンスルホン酸化合物は、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。分散助剤の使用量
は、着色剤中の顔料１００重量部に対して、通常、２０
重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さらに好まし
くは５重量部以下である。

【００１９】（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ）着
色剤に対してバインダーとして作用し、かつスペーサー
あるいはブラックマトリックスを形成する際に用いられ
る現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可溶性であ
る限り、適宜の樹脂を使用することができる。本発明に
おける好ましいアルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基
を含有する樹脂であり、特に、１個以上のカルボキシル
基を有するエチレン性不飽和モノマー（以下、「カルボ
キシル基含有不飽和モノマー」という。）と他の共重合
可能なエチレン性不飽和モノマー（以下、「他の不飽和
モノマー」という。）との共重合体（以下、単に「カル
ボキシル基含有共重合体」という。）が好ましい。

【００２０】カルボキシル基含有不飽和モノマーとして
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボ
ン酸類；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコ
ン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸（無水物）
類；３価以上の不飽和多価カルボン酸（無水物）類；こ
はく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸
モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ
（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−
メタクリロイロキシエチル）等の非重合性ジカルボン酸
のモノ（２−アクリロイロキシエチル）エステルまたは
モノ（２−アクリロイロキシエチル）エステル類；ω−
カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω
−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート
等を挙げることができる。これらのカルボキシル基含有
エチレン性不飽和モノマーは、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。

【００２１】また、他の不飽和モノマーとしては、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−ク
ロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシス
チレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ビニルベンジルメ
チルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル
等の芳香族ビニル化合物；インデン、１−メチルインデ
ン等のインデン（誘導体）類；メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタ
クリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピル
メタクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロ
ピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブ
チルメタクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブ
チルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓ
ｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアク
リレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロ
キシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタク
リレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、メト
キシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエ
チレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタ
クリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロ
ールモノメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル
類；

【００２２】２−アミノエチルアクリレート、２−アミ
ノエチルメタクリレート、２−ジメチルアミノエチルア
クリレート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、２−アミノプロピルアクリレート、２−アミノプロ
ピルメタクリレート、２−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、２−ジメチルアミノプロピルメタクリレー
ト、３−アミノプロピルアクリレート、３−アミノプロ
ピルメタクリレート、３−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレート
等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不
飽和カルボン酸グリシジルエステル類；酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカ
ルボン酸ビニルエステル類；ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メタ
クリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；アク
リロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリ
ロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化
合物；

【００２３】アクリルアミド、メタクリルアミド、α−
クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド等の不飽和アミド類；Ｎ−シクロヘキシ
ルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒド
ロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニ
ルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミ
ド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチ
ルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイ
ミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−
メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニ
ルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；１，３−ブタ
ジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエ
ン類；ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメ
チルメタクリレート、ポリ−ｎ−ブチルアクリレート、
ポリ−ｎ−ブチルメタクリレート、ポリシロキサン等の
重合体分子鎖末端にモノアクリロイル基あるいはモノメ
タクリロイル基を有するマクロモノマー類等を挙げるこ
とができる。これらの他の不飽和モノマーは、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。

【００２４】カルボキシル基含有共重合体としては、特
に、アクリル酸および／またはメタクリル酸を必須成
分とし、場合により、こはく酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）および／またはこはく酸モノ（２−メタク
リロイロキシエチル）を含有するカルボキシル基含有不
飽和モノマーと、スチレン、メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリ
レート、フェニルメタクリレート、グリセロールモノア
クリレート、グリセロールモノメタクリレート、Ｎ−フ
ェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよび
ポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ば
れる少なくとも１種との共重合体（以下、「カルボキシ
ル基含有共重合体（Ｉ）」という。）が好ましい。

【００２５】カルボキシル基含有共重合体（Ｉ）の具体
例としては、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／
ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アク
リル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体等の二元ないし三元共重合体（以
下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉａ）」とい
う。）；

【００２６】（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレー
ト／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニ
ルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン
／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体等の四元共重合体（以下、「カルボキシル
基含有共重合体（Ｉｂ）」という。）；

【００２７】（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／フェニ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモ
ノ（メタ）アクリレート／スチレン／メチル（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）アクリレー
ト／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、

【００２８】（メタ）アクリル酸／グリセロールモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）アクリレー
ト／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／こは
く酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グ
リセロールモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グ
リセロールモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）
アクリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等の五
元共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉ
ｃ）」という。）；

【００２９】（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレ
ン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベン
ジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／スチレン／２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等の六元
共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉ
ｄ）」という。）等を挙げることができる。

【００３０】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、通常、
５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。
この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合
割合が５重量％未満では、得られる感放射線性組成物の
アルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、
一方５０重量％を超えると、アルカリ現像液による現像
時に、形成されたパターンの基板からの脱落や表面の膜
荒れを来たしやすくなる傾向がある。本発明におけるア
ルカリ可溶性樹脂のＭｗは、好ましくは１，０００〜
１，０００，０００、さらに好ましくは５，０００〜１
００，０００である。本発明において、アルカリ可溶性
樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。

【００３１】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用
量は、（Ａ）着色剤１００重量部に対して、通常、１０
〜１，０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部で
ある。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が１０重
量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、
パターンが形成される部分以外の領域での地汚れや膜残
りが発生するおそれがあり、一方１，０００重量部を超
えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜とし
て目的とする色濃度を達成することが困難となる場合が
ある。

【００３２】（Ｃ）多官能性モノマー本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類；グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の３価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性
物；ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴア
クリレートまたはオリゴメタクリレート類；両末端ヒド
ロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたは
ジメタクリレート類や、トリス（２−アクリロイルオキ
シエチル）フォスフェート、トリス（２−メタクリロイ
ルオキシエチル）フォスフェート等を挙げることができ
る。

【００３３】これらの多官能性モノマーのうち、３価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好まし
く、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトール
トリメタクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好まし
く、特にトリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートが、パターン強度が高く、
パターン表面の平滑性に優れ、かつパターンが形成され
る部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点
で好ましい。前記多官能性モノマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。

【００３４】本発明における多官能性モノマーの使用量
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量
部である。この場合、多官能性モノマーの使用量が５重
量部未満では、パターンの強度や表面平滑性が低下する
傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、ア
ルカリ現像性が低下したり、パターンが形成される部分
以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすくなる傾向
がある。

【００３５】また、本発明においては、前記多官能性モ
ノマーの一部を単官能性モノマーで置き換えることもで
きる。前記単官能性モノマーとしては、例えば、（Ｂ）
アルカリ可溶性樹脂について例示したカルボキシル基含
有不飽和モノマーあるいは他の不飽和モノマーや、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート
のほか、市販品としてＭ−５３００（商品名、東亜合成
化学工業（株）製）等を挙げることができる。これらの
単官能性モノマーのうち、こはく酸モノ（２−アクリロ
イロキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイロ
キシエチル）、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ
アクリレート（Ｍ−５３００）、ω−カルボキシポリカ
プロラクトンモノメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタ
クリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート等が好ましい。前記単官能性モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。単官能性モノマーの使用割合は、多官能性モノマ
ーと単官能性モノマーの合計量に対して、通常、９０重
量％以下、好ましくは５０重量％以下である。

【００３６】（Ｄ）光重合開始剤本発明における光重合開始剤とは、露光により分解また
は結合の開裂を生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等
の、前記（Ｃ）多官能性モノマーや場合により使用され
る単官能性モノマーの重合を開始することができる活性
種を発生する化合物を意味する。このような光重合開始
剤としては、例えば、ビイミダゾール系化合物、ベンゾ
イン結合を有する化合物、他の光ラジカル発生剤、トリ
ハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。

【００３７】前記ビイミダゾール系化合物の具体例とし
ては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’
−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール等を挙げることができる。これらのビイミダゾー
ル系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、
析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高
く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進
行させるとともに、コントラストが高く、未露光部で硬
化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、現像
液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶
解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、欠落、欠
損やアンダーカットのない優れたパターンを形成するこ
とができる。

【００３８】また、前記ベンゾイン結合を有する化合物
および他の光ラジカル発生剤の具体例としては、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−
モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、３，３’−ジ
メチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、４−アジドベンズアルデヒド、４−
アジドアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェ
ノン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４
−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジア
ゾ−３−メトキシジフェニルアミン、ビス（２，６−ジ
メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチ
ルフォスフィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、Ｎ−フェニルチオアクリドン、ト
リフェニルピリリウムパークロレート等を挙げることが
できる。さらに、前記トリハロメチル基を有する化合物
の具体例としては、１，３，５−トリス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメ
チル）−５−（２−クロロフェニル）−ｓ−トリアジ
ン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４−ク
ロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリ
クロロメチル）−５−（２−メトキシフェニル）−ｓ−
トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−
（４−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げる
ことができる。

【００３９】これらのベンゾイン結合を有する化合物、
他の光ラジカル発生剤およびトリハロメチル基を有する
化合物のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチルチ
オフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−
オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が、形成さ
れたパターンが現像時に基板から脱離し難く、パターン
強度および感度も高い点で好ましい。前記光重合開始剤
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００４０】本発明においては、必要に応じて、前記光
重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化
合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤（以下、「高分
子光架橋・増感剤」という。）の群から選ばれる１種以
上をさらに併用することもできる。前記増感剤の具体例
としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチ
ルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルア
ミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ
−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４
−（ジエチルアミノ）カルコン等を挙げることができ
る。また、前記硬化促進剤の具体例としては、２−メル
カプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２，５−
ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メル
カプト−４，６−ジメチルアミノピリジン、１−フェニ
ル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３−メルカ
プト−４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール等
の連鎖移動剤を挙げることができる。

【００４１】さらに、前記高分子光架橋・増感剤は、光
架橋剤および／または光増感剤として機能しうる官能基
を主鎖および／または側鎖中に有する高分子化合物であ
り、その具体例としては、４−アジドベンズアルデヒド
とポリビニルアルコールとの縮合物、４−アジドベンズ
アルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、４
−アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重
合体あるいは共重合体、１，４−ポリブタジエン、１，
２−ポリブタジエン等を挙げることができる。これらの
増感剤、硬化促進剤および高分子光架橋・増感剤のう
ち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
および２−メルカプトベンゾチアゾールが、形成された
パターンが現像時に基板から脱落し難く、パターン強度
および感度も高い点で好ましい。

【００４２】本発明における光重合開始剤としては、特
に、ビイミダゾール系化合物と、ベンゾフェノン系のベ
ンゾイン結合を有する化合物、ベンゾフェノン系の他の
光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感剤およびチ
アゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１種以上との
組み合わせを含むものが好ましい。前記特に好ましい組
み合わせの具体例としては、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾ
ール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、２，２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エト
キシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール
／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン／２−メルカプトベンゾチアゾール等を挙げることが
できる。

【００４３】本発明において、ベンゾイン結合を有する
化合物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０
重量％以下であることが好ましく、また増感剤および硬
化促進剤の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０重
量％以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・
増感剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物１００重
量部に対して、通常、２００重量部以下、好ましくは１
８０重量部以下である。本発明における光重合開始剤の
使用量は、（Ｃ）多官能性モノマーと場合により使用さ
れる単官能性モノマーとの合計１００重量部に対して、
通常、０．０１〜５００重量部、好ましくは１〜３００
重量部、特に好ましくは１０〜２００重量部である。こ
の場合、光重合開始剤の使用量が０．０１重量部未満で
は、露光による硬化が不十分となり、パターンに欠落、
欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５０
０重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基
板から脱落しやすく、またパターンが形成される部分以
外の領域で地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。

【００４４】添加剤さらに、本発明における感放射線性組成物は、必要に応
じて、種々の添加剤を含有することもできる。前記添加
剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエチ
レングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ（フロロ
アルキルアクリレート）類等の高分子化合物；ノニオン
系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル
トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキ
シシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；
２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防
止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アル
コキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；ポリアクリ
ル酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げることができ
る。

【００４５】また、本発明における感放射線性組成物
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基を有す
る樹脂である場合、該組成物から形成される塗膜のアル
カリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像処理
後の未溶解物の残存をより抑制するために、有機酸を含
有することが好ましい。このような有機酸としては、脂
肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好
ましい。

【００４６】前記脂肪族カルボン酸の具体例としては、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、
カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等
のモノカルボン酸類；しゅう酸、マロン酸、こはく酸、
グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン
酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく
酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル
酸、メサコン酸等のジカルボン酸類；トリカルバリル
酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。

【００４７】また、前記フェニル基含有カルボン酸とし
ては、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香
族カルボン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェ
ニル基に結合したカルボン酸を挙げることができ、それ
らの具体例としては、安息香酸、トルイル酸、クミン
酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン
酸類；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸類；トリメリット酸、トリメシン酸、メ
ロファン酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリ
カルボン酸類や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒ
ドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロ
パ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベ
ル酸等を挙げることができる。

【００４８】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、後述する溶剤に対す
る溶解性、パターンが形成される部分以外の領域での地
汚れの防止等の観点から好ましい。前記有機酸は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。有
機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通
常、１０重量％以下、好ましくは１重量％以下である。
この場合、有機酸の使用量が１０重量％を超えると、形
成されたパターンの基板に対する密着性が低下する傾向
がある。

【００４９】本発明における感放射線性組成物は、膜厚
が５μｍの乾燥塗膜から形成された２０μｍのドットパ
ターンについて、下記する方法により測定した浸食率が
３０％以下、好ましくは−６０〜＋３０％、さらに好ま
しくは−４０〜＋２０％、特に好ましくは−３０〜＋１
０％である特性を有する。浸食率の測定方法；図１に示すドットパターンにおい
て、上端の幅をａと、パターンの高さ（Ｌ）の下からＬ
／２の位置での幅をｂとを測定し、下記式で定義される
浸食率を算出する。浸食率（％）＝（ａ−ｂ）×１００／ａ本発明における感放射線性組成物から形成された膜厚が
５μｍである２０μｍのドットパターンの浸食率が前記
要件を満たすことにより、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上にカラーフィル
タとスペーサーおよび／またはブラックマトリックスと
を形成する際に、スルーホール内に残存する残滓を有効
に除去するため現像条件を厳しくしても、スペーサーお
よびブラックマトリックスとしてのパターンの過大な侵
食を防止することができ、ラビング布のパターン部分へ
の引っ掛かりおよびパターンの剥がれを有効に防止する
ことができる。

【００５０】また、本発明における感放射線性組成物
は、乾燥塗膜の光学密度（ＯＤ値）が１μｍあたり、通
常、０．５以上、好ましくは０．６以上、さらに好まし
くは０．７以上、特に好ましくは０．８以上である特性
を有する。

【００５１】溶剤本発明における感放射線性組成物は、前記（Ａ）着色
剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマ
ーおよび（Ｄ）光重合開始剤を必須の成分とし、場合に
よりさらに前記添加剤を含有するが、通常、顔料以外の
各成分を適当な溶剤に溶解した液状組成物として調製さ
れる。前記溶剤としては、（Ａ）〜（Ｄ）の各成分や添
加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応
せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選
択して使用することができる。

【００５２】このような溶剤の具体例としては、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレング
リコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアル
キルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアル
キルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等の他のエーテル類；

【００５３】メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタ
ノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキ
ルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エ
チル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシ
プロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチ
ル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エ
チル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メ
チル酪酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセ
テート、４−メトキシブチルアセテート、３−メチル−
３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸
ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢
酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロ
ピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、
酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチ
ル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセ
ト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソ酪酸エチ
ル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のカル
ボン酸アミド類等を挙げることができる。これらの溶剤
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００５４】さらに、前記溶剤と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセ
トン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オク
タノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ルアセテート等の高沸点溶剤を併用することもできる。
これらの高沸点溶剤は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。

【００５５】前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロ
ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、４−メトキシブチルアセ
テート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネー
ト、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢
酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、
酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル
等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチロラク
トン等が好ましい。溶剤の使用量は、（Ｂ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常、１００〜１０，
０００重量部、好ましくは５００〜５，０００重量部で
ある。

【００５６】スペーサーおよびブラックマトリックスの
作製方法次に、本発明における感放射線性組成物を用いて、スペ
ーサーおよびブラックマトリックスを作製する方法につ
いて説明する。薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式カラー
液晶表示装置の駆動用基板（以下、「ＴＦＴ方式駆動用
基板」という。）上に、感放射線性組成物の液状組成物
を塗布したのち、プリベークを行って溶剤を蒸発させ
て、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスク
を介して所定のパターン形状に露光したのち、アルカリ
現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去
し、その後好ましくはポストベークを行うことにより、
所定のパターンが配置されたスペーサーを得ることがで
きる。感放射線性組成物の液状組成物をＴＦＴ方式駆動
用基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール
塗布等の適宜の塗布法を採用することができる。塗布厚
さは、乾燥後の膜厚として、通常、０．１〜１０μｍ、
好ましくは０．２〜７．０μｍ、さらに好ましくは０．
５〜６．０μｍである。また、ポストベーク後の塗膜の
膜厚は、通常、０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜８μ
ｍ、さらに好ましくは２〜６μｍである。スペーサーを
作製する際に使用される放射線としては、例えば、可視
光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用するこ
とができるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある
放射線が好ましい。放射線の露光エネルギー量は、好ま
しくは１０〜１０，０００Ｊ／ｍ²である。

【００５７】また、前記アルカリ現像液としては、例え
ば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コ
リン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−
ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］
−５−ノネン等の水溶液が好ましい。前記アルカリ現像
液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機
溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。な
お、アルカリ現像後は、通常、水洗する。現像処理法と
しては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ
（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用する
ことができ、現像条件は、常温で５〜３００秒が好まし
い。

【００５８】また、本発明における感放射線性組成物を
用いてブラックマトリックスを作製する際も、前述した
ようにしてスペーサーが形成されたＴＦＴ方式駆動用基
板を用い、あるいはスペーサーが形成されていないＴＦ
Ｔ方式駆動用基板を用いて、前記スペーサーの場合と同
様にして実施することができる。なお、同一のＴＦＴ方
式駆動用基板上にスペーサーおよびブラックマトリック
スを作製する際には、スペーサーとブラックマトリック
スの作製順は何れが先であってもよい。このようにして
作製されたスペーサーおよび／またはブラックマトリッ
クスを備えたＴＦＴ方式駆動用基板は、例えば、カラー
液晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に
極めて有用である。

【００５９】

【発明の実施の形態】本発明における感放射線性組成物
は、（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤
を必須成分として含有し、それから形成された２０μｍ
のドットパターンの浸食率が３０％以下であるものであ
るが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記
（イ）〜（リ）のとおりである。（イ）（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、カルボキシル基
含有共重合体（Ｉａ）、カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｂ）、カルボキシル基含有共重合体（Ｉｃ）および
カルボキシル基含有共重合体（Ｉｄ）の群から選ばれる
少なくとも１種からなる感放射線性組成物。（ロ）（Ｃ）多官能性モノマーがトリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記
（イ）の感放射線性組成物。（ハ）（Ｄ）光重合開始剤が、ビイミダゾール系化合
物と、ベンゾフェノン系のベンゾイン結合を有する化合
物、ベンゾフェノン系の他の光ラジカル発生剤、ベンゾ
フェノン系の増感剤およびチアゾール系の硬化促進剤の
群から選ばれる１種以上との組み合わせを含む前記
（イ）または（ロ）の感放射線性組成物。（ニ）（Ａ）着色剤がカーボンブラックおよび／また
は２種以上の有機顔料を含む前記（イ）、（ロ）または
（ハ）の感放射線性組成物。（ホ）（Ａ）着色剤がさらに体質顔料を含む前記
（ニ）の感放射線性組成物。（ヘ）（Ａ）着色剤が、C.I.ピグメントレッド１７７
とC.I.ピグメントブルー１５：４および／またはC.I.ピ
グメントブルー１５：６とを含む前記（イ）、（ロ）、
（ハ）、（ニ）または（ホ）の感放射線性組成物。

【００６０】（ト）乾燥塗膜の光学密度（ＯＤ値）が
１μｍあたり０．５以上である前記（イ）、（ロ）、
（ハ）、（ニ）、（ホ）または（ヘ）の感放射線性組成
物。（チ）（Ａ）着色剤中の顔料がウレタン系分散剤によ
り分散されている前記（イ）、（ロ）、（ハ）、
（ニ）、（ホ）、（ヘ）または（ト）の感放射線性組成
物。（リ）ウレタン系分散剤が、下記〜の特性のうち
少なくとも１つを有する前記（チ）の感放射線性組成
物。１５０以上の温度で３０分以上熱処理したとき極性
溶剤に不溶となる。酸価が５〜２５mgKOH/g でアミン価が０mgKOH/g で
ある。アミン価が５〜２５mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g で
ある。電圧保持率が８０％以上である。

【００６１】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実
施例に何ら制約されるものではない。

【実施例】実施例１（Ａ）着色剤としてカーボンブラック１００重量部およ
び硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名
Disperbyk-182)３０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂
としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１
０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物（Ｉ）を調製し
た。液状組成物（Ｉ）をＴＦＴ方式駆動用基板上に、ス
ピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で４分間プ
リベークを行なって、膜厚６．７μｍの塗膜を形成し
た。その後、この基板を室温に冷却したのち、高圧水銀
ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長３６
５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で露光し
た。その後、この基板を２３℃の０．０４重量％水酸化
カリウム水溶液中に１分間浸漬して現像したのち、超純
水で洗浄し、風乾した。その後、２５０℃で３０分間ポ
ストベークを行なって、ＴＦＴ方式駆動用基板上に、膜
厚が５μｍである２０μｍの黒色ドットパターンが形成
されたスペーサーを作製した。得られたＴＦＴ方式駆動
用基板を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったと
ころ、焼き付き等の表示不良は認められなかった。さら
に、得られたＴＦＴ方式駆動用基板は、未露光部の基板
上に残渣および地汚れが認められず、かつパターンの剥
がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度
を有し、パターン表面の平滑性に優れるものであった。

【００６２】ここで形成された膜厚が５μｍである２０
μｍの黒色ドットパターンの浸食率を算出したところ、
１０％であった。また、液状組成物（Ｉ）から形成した
乾燥塗膜の光学密度（ＯＤ値）は、１μｍあたり０．６
７であった。また、ここで使用したウレタン系分散剤
を、上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物
に１重量％溶解した溶液を、表面にＩＴＯ膜を形成した
ガラス基板上に、乾燥塗膜の膜厚が６μｍとなるように
スピンコートして、８０℃で１０分間プリベークを行な
ったのち、波長３６５ｎｍのの紫外線を２，０００Ｊ／
ｍ²の露光量で露し、その後、２２０℃で１時間ポスト
ベークを行ったのち、この基板を、表面にＩＴＯ膜を形
成した別のガラス基板と張り合わせ、基板間に液晶を注
入して液晶セルを作製して、１００℃で１時間アニール
を行った。得られた液晶セルについて、６０℃、保持時
間１６．７ミリ秒の条件で電圧保持率を測定したとこ
ろ、８６％であった。

【００６３】実施例２（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を１４
０重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を６０重量部
および硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤とし
てDisperbyk-182(商品名) ６０重量部、（Ｂ）アルカリ
可溶性樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチル
メタクリレート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５
／６０／１０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、
（Ｃ）多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤と
して２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０
重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン２０重
量部、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１５
００重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成物
（II) を調製した。この液状組成物（II) をＴＦＴ方式
駆動用基板上に、スピンコーターを用いて塗布したの
ち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚７．０
μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例１と同様にし
て、スペーサーを作製した。

【００６４】得られたＴＦＴ方式駆動用基板を表示パネ
ルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付き等
の表示不良は認められなかった。さらに、得られたＴＦ
Ｔ方式駆動用基板は、未露光部の基板上に残渣および地
汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および
欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン
表面の平滑性に優れるものであった。ここで形成された
膜厚が５μｍである２０μｍのドットパターンの浸食率
を算出したところ、５％であった。また、液状組成物
（II）から形成した乾燥塗膜の光学密度（ＯＤ値）は、
１μｍあたり０．７２であった。

【００６５】実施例３ウレタン系分散剤として、Disperbyk-182 に代えて、Di
sperbyk-170(商品名)を使用した以外は、実施例１と同
様にして、感放射線性組成物の液状組成物（III)を調製
した。その後、液状性組成物（Ｉ）に代えて液状組成物
（III)を用いた以外は、実施例１と同様にして、スペー
サーを作製した。得られたＴＦＴ方式駆動用基板を表示
パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付
き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られた
ＴＦＴ方式駆動用基板は、未露光部の基板上に残渣およ
び地汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落お
よび欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パタ
ーン表面の平滑性に優れるものであった。ここで形成さ
れた膜厚が５μｍである２０μｍのドットパターンの浸
食率を算出したところ、−１２％であった。また、ここ
で使用したウレタン系分散剤を用いた場合について、実
施例１と同様にして電圧保持率を測定したところ、９２
％であった。

【００６６】実施例４ウレタン系分散剤として、Disperbyk-182 に代えて、Di
sperbyk-165(商品名)を使用した以外は、実施例１と同
様にして、感放射線性組成物の液状組成物（IV) を調製
した。その後、液状性組成物（Ｉ）に代えて液状組成物
（IV) を用いた以外は、実施例１と同様にして、スペー
サーを作製した。得られたＴＦＴ方式駆動用基板を表示
パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付
き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られた
ＴＦＴ方式駆動用基板は、未露光部の基板上に残渣およ
び地汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落お
よび欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パタ
ーン表面の平滑性に優れるものであった。ここで形成さ
れた膜厚が５μｍである２０μｍのドットパターンの浸
食率を算出したところ、−３％であった。また、ここで
使用したウレタン系分散剤を用いた場合について、実施
例１と同様にして電圧保持率を測定したところ、８７％
であった。

【００６７】比較例１分散剤として、Disperbyk-182 に代えて、ポリエチレン
イミン−ポリエステル系分散剤（商品名Solsperse 2400
0 、ゼネカ（株）製）を使用した以外は、実施例１と同
様にして、感放射線性組成物の液状組成物（ｉ) を調製
した。その後、液状性組成物（Ｉ）に代えて液状組成物
（ｉ) を用いた以外は、実施例１と同様にして、スペー
サーを作製した。得られたＴＦＴ方式駆動用基板を表示
パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付
きが発生した。ここで形成された膜厚が５μｍである２
０μｍのドットパターンの浸食率を算出したところ、３
５％であった。また、ここで使用したウレタン系分散剤
を用いた場合について、実施例１と同様にして電圧保持
率を測定したところ、７１％であった。

【００６８】

【発明の効果】本発明における感放射線性組成物は、形
成されたパターンの侵食率が小さく、厳しい現像条件下
においても、パターンの過大な侵食を防止することがで
き、パターン形状が逆テーパー状になり難く、ラビング
布のパターン部分への引っ掛かりおよびパターンの剥が
れを有効に防止することができ、しかも焼き付き等の表
示不良を生じることがなく、かつ高い膜硬度を有し、パ
ターン表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板
上に残渣や地汚れを生じ難く、現像時のパターンの基板
への密着性にも優れている。したがって、当該感放射線
性組成物は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式カラー液
晶表示装置の駆動用基板上にスペーサーおよび／または
ブラックマトリックスを形成するために極めて好適に使
用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ドットパターンの浸食率の測定方法を説明する
図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｆターム(参考） 2H025 AA03 AA04 AA13 AA14 AA18 AB13 AC01 AD01 BC13 BC42 CA00 CB42 CC12 FA17 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BA48 BB01 BB08 2H091 FA34Y FC23 FC26 GA08 GA13 LA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）アルカ
リ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光
重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、それ
から形成された２０μｍのドットパターンの浸食率が３
０％以下であることを特徴とする、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上にス
ペーサーおよび／またはブラックマトリックスを形成す
るために用いられる感放射線性組成物。
【請求項２】乾燥塗膜の光学密度（ＯＤ値）が１μｍ
あたり０．５以上である請求項１に記載の感放射線性組
成物
【請求項３】（Ａ）着色剤が、C.I.ピグメントレッド
１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／または
C.I.ピグメントブルー１５：６とを含む請求項１または
請求項２に記載の感放射線性組成物。
【請求項４】（Ａ）着色剤中の顔料がウレタン結合を
有する分散剤により分散されている請求項１、請求項２
または請求項３に記載の感放射線性組成物。
【請求項５】ウレタン結合を有する分散剤が、本文に
定義する方法で測定した電圧保持率が８０％以上となる
特性を有する請求項４に記載の感放射線性組成物。