JP2002167404A - 着色感光性組成物 - Google Patents
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Abstract
面が矩形ないし順テーパー状の色画素またはブラックマ
トリックスを形成し得る着色感光性組成物を提供する。 【解決手段】着色剤、バインダーポリマー、光重合性化
合物、光重合開始剤および連鎖移動剤を含有する着色感
光性組成物。連鎖移動剤の含有量は着色感光性組成物の
全固形分に対して質量分率で通常0.5%以上5%以下
である。また、この着色感光性組成物からなる層1を基
板2上に形成し、該層1にフォトマスク3を介して光線
4を照射して露光したのち現像して色画素またはブラッ
クマトリックス5を形成することでカラーフィルターを
製造する。形成される画素等5はその断面が矩形または
順テーパー状である。
Description
関する。
ある着色感光性組成物は、カラー液晶表示装置、カラー
固体撮像装置などのカラーフィルターを構成する色画素
またはブラックマトリックスなどを形成するための原料
として有用であり、従来から着色剤(A)、バインダー
ポリマー(B)および光重合性化合物(C)および光重
合開始剤(D)を含有するものが知られている。
を形成するには、例えば着色感光性組成物からなる層
(1)を基板(2)上に形成し(図1(a))、該層
(1)にフォトマスク(3)を介して光線(4)を照射
して露光したのち(図1(b))、現像すればよい。現像
によって着色感光性組成物層(1)のうちの光線(4)
が照射されなかった未照射領域(11)が除去され、光
線が照射された照射領域(12)がそのまま残って、色
画素またはブラックマトリックス(5)が形成される
(図1(c))。かくして形成される色画素等(5)は、
機械的強度を向上するために、通常は現像後、加熱処理
されて硬化される。
く、断面形状が矩形(図2(a))ないし順テーパー状
(図2(b))であることが好ましい。厚みが小さくとも
十分に着色された色画素等(5)を形成するには、着色
感光性組成物に含まれる着色剤(A)の濃度を高くすれ
ばよい。
着色剤(A)の濃度を高くして、厚みの小さい色画素等
を形成しようとすると、得られる色画素等(5)の断面
形状が逆テーパー状となる傾向にあった(図2(c))。
色剤を高濃度で含有する場合であっても、断面が矩形な
いし順テーパー状の色画素またはブラックマトリックス
を形成し得る着色感光性組成物を開発するべく鋭意検討
した結果、連鎖移動剤(E)を含有することによって、
着色剤を高濃度で含む場合であっても、得られる色画素
等の断面形状を矩形ないし順テーパー状となし得ること
を見出し、本発明に至った。
剤(A)、バインダーポリマー(B)、光重合性化合物
(C)、光重合開始剤(D)および連鎖移動剤(E)を
含有することを特徴とする着色感光性組成物を提供する
ものである。
する着色剤(A)としては、有機物である有機着色剤で
あってもよいし、無機物である無機着色剤であってもよ
い。有機着色剤は、顔料であってもよいし、染料であっ
てもよいし、天然色素であってもよい。無機着色剤は、
金属酸化物、金属錯塩、硫酸バリウムの無機塩(体質顔
料)などの無機顔料であってもよい。かかる着色剤のな
かでも、耐熱性、発色性に優れる点で、有機着色剤、さ
らには有機顔料が好ましく用いられる。
ックス(The Society of Dyers andColourists出版)で
ピグメント(Pigment)に分類されている化合物が挙げ
られる。具体的にはC.I.ピグメントイエロー1、
C.I.ピグメントイエロー3、C.I.ピグメントイ
エロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.
I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエ
ロー15、C.I.ピグメントイエロー16、C.I.
ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー
20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグ
メントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー5
3、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメ
ントイエロー86、C.I.ピグメントイエロー93、
C.I.ピグメントイエロー94、C.I.ピグメント
イエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、
C.I.ピグメントイエロー117、C.I.ピグメン
トイエロー125、C.I.ピグメントイエロー12
8、C.I.ピグメントイエロー137、C.I.ピグ
メントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー1
39、C.I.ピグメントイエロー147、C.I.ピ
グメントイエロー148、C.I.ピグメントイエロー
150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.
ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロ
ー166、C.I.ピグメントイエロー173、
I.ピグメントオレンジ31、C.I.ピグメントオレ
ンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.
ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ
42、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグ
メントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ5
5、C.I.ピグメントオレンジ59、C.I.ピグメ
ントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ64、
C.I.ピグメントオレンジ65、C.I.ピグメント
オレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ73、
グメントレッド97、C.I.ピグメントレッド10
5、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメ
ントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、
C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメント
レッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.
I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッ
ド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.
ピグメントレッド192、C.I.ピグメントレッド2
15、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグ
メントレッド224、C.I.ピグメントレッド24
2、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメ
ンレッド264、C.I.ピグメントレッド265、
ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー
15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.
I.ピグメントブルー60、
I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメント
バイオレット23、C.I.ピグメントバイオレット2
9、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピ
グメントバイオレット36、C.I.ピグメントバイオ
レット38、
ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントブラウン
23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグ
メントブラック1、C.I.ピグメントブラック7など
が挙げられる。これらの有機顔料は、それぞれ単独で用
いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
性基または塩基性基が導入された顔料誘導体などを用い
た表面処理、高分子化合物などによる顔料表面へのグラ
フト処理、硫酸微粒化法などによる微粒化処理、あるい
は不純物を除去するための有機溶剤や水などによる洗浄
処理が施されていてもよい。
物の全固形分に対して質量分率で通常5%以上60%以
下、好ましくは10%以上50%以下の範囲で用いら
れ、さらには20%以上、特には30%以上である場合
に好適である。有機顔料を用いる場合、該有機顔料の使
用量は着色剤(A)の全量に対して質量分率で通常50
%以上、好ましくは55%以上である。
散し得、着色感光性組成物層に、その光線未照射領域
(11)を現像において除去し、光線照射領域(12)
を残す機能を付与するポリマーが使用される。かかるバ
インダーポリマーとしては、例えばカルボキシル基を有
する単量体単位からなるポリマーであることが好まし
い。
例えば不飽和モノカルボン酸や不飽和ジカルボン酸など
の分子中に少なくとも1個のカルボキシル基を有する不
飽和カルボン酸が挙げられ、具体的にはアクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フ
マル酸などが挙げられる。これらのカルボキシル基を有
する単量体は炭素−炭素不飽和結合を有する化合物であ
り、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて用い
ることができる。
ル基を有する単量体および他の単量体の共重合体である
ことが好ましい。他の単量体としては、炭素-炭素不飽
和結合を有し、カルボキシル基を有する単量体と共重合
し得る単量体であり、具体的には、例えばスチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル
化合物、メチル(メタ)アクリレートやエチル(メタ)
アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)
アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物、
アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミ
ノアルキルエステル化合物、グリシジル(メタ)アクリ
レートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合
物、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸
ビニルエステル化合物、(メタ)アクリロニトリル、α
−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合
物、3−メチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキ
セタン、3−エチル−3−(メタ)アクリロキシメチル
オキセタン、3−メチル−3−(メタ)アクリロキシエ
チルオキセタン、3−メチル−3−(メタ)アクリロキ
シエチルオキセタンのような不飽和カルボン酸オキセタ
ンエステル化合物などが挙げられる。これらの単量体は
それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられ
る。
ル−3−メタクリロキシメチルオキセタン/ベンジルメ
タクリレート/メタクリル酸共重合体、3−エチル−3
−メタクリロキシメチルオキセタン/ベンジルメタクリ
レート/メタクリル酸/スチレン共重合体、3−エチル
−3−メタクリロキシメチルオキセタン/メチルメタク
リレート/メタクリル酸共重合体、3−エチル−3−メ
タクリロキシメチルオキセタン/メチルメタクリレート
/メタクリル酸/スチレン共重合体などが挙げられる。
かかる共重合体におけるカルボキシル基を有する単量体
単位の含有量は質量分率で5〜50%、好ましくは10
〜40%である。
ンを標準としてゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー(GPC)で求められる重量平均分子量が5,000
〜400,000の範囲、さらには10,000〜30
0,000の範囲にあるのが好ましい。
物の全固形分に対して質量分率で通常5〜90%の範
囲、好ましくは20〜70%の範囲で用いられる。
ことによって光重合開始剤(D)から発生した活性ラジ
カル、酸などによって重合し得る化合物であって、例え
ば重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げら
れる。かかる化合物は、単官能の光重合性化合物であっ
てもよいし、2官能または3官能以上の多官能の光重合
性化合物であってもよい。単官能光重合性化合物として
は、例えばノニルフェニルカルビトールアクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリド
ンなどが挙げられる。
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAの
ビス(アクリロイロキシエチル)エーテル、3−メチル
ペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げら
れる。3官能以上の多官能光重合性化合物としては、例
えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなど
が挙げられる。
たは2種以上を組み合わせて用いられるが、2官能以上
の多官能光重合性化合物が好ましく用いられ、2種以上
の光重合性化合物を用いる場合には1以上の多官能光重
合性化合物を用いることが好ましい。かかる光重合性化
合物(C)の含有量は、バインダーポリマー(B)およ
び光重合性化合物(C)の合計量100質量部あたり通
常は0.1質量部以上70質量部以下、好ましくは1質
量部以上60質量部以下である。
とによって活性ラジカルを発生する活性ラジカル発生
剤、酸を発生する酸発生剤などが挙げられ、例えば活性
ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系光重合開始
剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重
合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン
系光重合開始剤などが挙げられる。
例えばジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジル
ジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン
−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチル
チオフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2
−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブ
タン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパン−1−
オンのオリゴマーなどが挙げられる。
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。ベンゾ
フェノン系光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノ
ン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベン
ゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニル
サルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert
−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,
4,6−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
例えば2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロ
ピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4
−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
ば2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メト
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビ
ス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチ
ル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリク
ロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メ
トキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−
ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフ
ラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−
(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリア
ジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−
(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニ
ル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリク
ロロメチル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)エテニル〕−1,3,5−トリアジンなどが挙げら
れる。
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2
−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナ
ンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキ
シル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもで
きる。活性ラジカル発生剤として、市販のものを用いる
こともできる。市販の光重合開始剤としては、例えば商
品名「Irgacure−907」(アセトフェノン系
光重合開始剤、CIBA−GEIGY社製)などが挙げ
られる。
フェニルジメチルスルホニウムp−トルエンスルホナー
ト、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジ
メチルスルホニウムp−トルエンスルホナート、4−ア
セトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム
p−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウ
ムp−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロアンチモネートなどのオニウム塩類や、
ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレート類
などを挙げることができる。
化合物の中には、活性ラジカルと同時に酸を発生する化
合物もあり、例えばトリアジン系光重合開始剤は、酸発
生剤としても使用される。
たは2種以上を組み合わせて用いることができる。
助剤を含有していてもよい。光重合開始助剤は、光重合
開始剤と組み合わせて、光重合開始剤によって開始した
光重合性化合物(C)の重合を促進するために用いられ
る化合物である。光重合開始助剤としては、例えばアミ
ン系光重合開始助剤、アルコキシアントラセン系光重合
開始助剤などが挙げられる。
トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ト
リイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香
酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2−ジメチ
ルアミノエチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチ
ルヘキシル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミ
ヒラーズケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン、4,4’−ビス(エチルメチルアミ
ノ)ベンゾフェノンなどが挙げられる。
としては、例えば9,10−ジメトキシアントラセン、
2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,
10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10
−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。光重合開
始助剤として市販のものを用いることもでき、市販の光
重合開始助剤としては、例えば商品名「EAB−F」
(保土谷化学工業(株)製)などが挙げられる。
含有量は、光重合開始剤1モルあたり通常10モル以
下、好ましくは0.01モル以上5モル以下である。光
重合開始剤および光重合開始助剤はその合計量がバイン
ダーポリマー(A)および光重合性化合物の合計量10
0質量部に対して通常3質量部以上30質量部以下、好
ましくは5質量部以上25質量部以下である。
ェニル−4−メチル−1−ペンテン、n−ドデシルメル
カプタン、t−ドデシルメルカプタンn−オクチルメル
カプタン、リモネンなどが挙げられる。かかる連鎖移動
剤の含有量は、着色剤の種類、色画素等の製造条件など
によって適宜選択する必要があるが、着色感光性組成物
の全固形分に対して質量分率で通常0.5%以上5%以
下である。0.5%未満であると着色剤の種類によって
は逆テーパー状となる場合があり、好ましくは1%以上
である。また5%を超えると着色感光性組成物の感度が
低下する場合があり、好ましくは3%以下である。
希釈されていてもよい。溶剤としては、通常の着色感光
性組成物に用いられると同様の溶剤が用いられ、例えば
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエー
テルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジプロピルエーテル及びジエチレングリコールジブチル
エーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類、
ソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエ
ーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート及び
メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類、
族炭化水素類、メチルエチルケトン、アセトン、メチル
アミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン類、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレン
グリコール、グリセリンなどのアルコール類、
トキシプロピオン酸メチルなどのエステル類、γ−ブチ
ロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。か
かる溶剤は、それぞれ単独でまたは2種類以上を組み合
わせて用いることができ、溶剤で希釈された状態の着色
感光性組成物における含有量が質量分率で通常50%以
上90%以下、好ましくは60%以上85%以下となる
ように使用される。
(G)を含有していてもよい。添加剤としては、例えば
充填剤、バインダーポリマー(A)以外の高分子化合
物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、凝集防止剤、有機酸、有機アミノ化合物、硬化剤な
どが挙げられる。
などが挙げられる。高分子化合物としては、例えばポリ
ビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリ
コールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアク
リレートなどが挙げられる。界面活性剤としては、例え
ばノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニ
オン系界面活性剤などが挙げられる。
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
ス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノ
エチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルト
リメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
6−ジ−t−ブチルフェノールなどが挙げられる。紫外
線吸収剤としては、例えば2−(3−t−ブチル−5−
メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げら
れる。凝集防止剤としては、例えばポリアクリル酸ナト
リウムなどが挙げられる。
ピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエ
チル酢酸、エナント酸、カプリル酸などの脂肪族モノカ
ルボン酸類、しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン
酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチル
マロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラ
メチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコ
ン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン
酸などの脂肪族ジカルボン酸類、トリカルバリル酸、ア
コニット酸、カンホロン酸などの脂肪族トリカルボン酸
類、
ト酸、メシチレン酸などの芳香族モノカルボン酸類、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカ
ルボン酸類、トリメリット酸、トリメシン酸、メロファ
ン酸、ピロメリット酸などの芳香族ポリカルボン酸類な
どが挙げられる。
ロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、i−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、t−ブ
チルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミ
ン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノ
ニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミ
ン、n−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、2−
メチルシクロヘキシルアミン、3−メチルシクロヘキシ
ルアミン、4−メチルシクロヘキシルアミンなどのモノ
(シクロ)アルキルアミン類、
チルn−プロピルアミン、エチルn−プロピルアミン、
ジn−プロピルアミン、ジi−プロピルアミン、ジn−
ブチルアミン、ジi−ブチルアミン、ジsec−ブチル
アミン、ジt−ブチルアミン、ジn−ペンチルアミン、
ジn−ヘキシルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、
エチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン
などのジ(シクロ)アルキルアミン類、
ミン、トリエチルアミン、ジメチルn−プロピルアミ
ン、ジエチルn−プロピルアミン、メチルジn−プロピ
ルアミン、エチルジn−プロピルアミン、トリn−プロ
ピルアミン、トリi−プロピルアミン、トリn−ブチル
アミン、トリi−ブチルアミン、トリsec−ブチルア
ミン、トリt−ブチルアミン、トリn−ペンチルアミ
ン、トリn−ヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、メチルジシク
ロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、ト
リシクロヘキシルアミンなどのトリ(シクロ)アルキル
アミン類、
プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−ア
ミノ−1−ブタノール、5−アミノ−1−ペンタノー
ル、6−アミノ−1−ヘキサノール、4−アミノ−1−
シクロヘキサノールなどのモノ(シクロ)アルカノール
アミン類、
アミン、ジi−プロパノールアミン、ジn−ブタノール
アミン、ジi−ブタノールアミン、ジn−ペンタノール
アミン、ジn−ヘキサノールアミン、ジ(4−シクロヘ
キサノール)アミンなどのジ(シクロ)アルカノールア
ミン類、
ールアミン、トリi−プロパノールアミン、トリn−ブ
タノールアミン、トリi−ブタノールアミン、トリn−
ペンタノールアミン、トリn−ヘキサノールアミン、ト
リ(4−シクロヘキサノール)アミンなどのトリ(シク
ロ)アルカノールアミン類、
2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−
1,2−ブタンジオール、4−アミノ−1,3−ブタン
ジオール、4−アミノ−1,2−シクロヘキサンジオー
ル、4−アミノ−1,3−シクロヘキサンジオール、3
−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジ
エチルアミノ−1,2−プロパンジオール、2−ジメチ
ルアミノ−1,3−プロパンジオール、2−ジエチルア
ミノ−1,3−プロパンジオールなどのアミノ(シク
ロ)アルカンジオール類、
4−アミノシクロペンタノンメタノール、1−アミノシ
クロヘキサノンメタノール、4−アミノシクロヘキサノ
ンメタノール、4−ジメチルアミノシクロペンタンメタ
ノール、4−ジエチルアミノシクロペンタンメタノー
ル、4−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、4
−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノールなどのアミ
ノ基含有シクロアルカンメタノール類、
ノ酪酸、4−アミノ酪酸、2−アミノイソ酢酸、3−ア
ミノイソ酢酸、2−アミノ吉草酸、5−アミノ吉草酸、
6−アミノカプロン酸、1−アミノシクロプロパンカル
ボン酸、1−アミノシクロヘキサンカルボン酸、4−ア
ミノシクロヘキサンカルボン酸などのアミノカルボン酸
類、
ルアニリン、p−メチルアニリン、p−エチルアニリ
ン、p−n−プロピルアニリン、p−i−プロピルアニ
リン、p−n−ブチルアニリン、p−t−ブチルアニリ
ン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−
メチル−N,N−ジメチルアニリンなどの芳香族アミン
類、
ノベンジルアルコール、p−アミノベンジルアルコー
ル、p−ジメチルアミノベンジルアルコール、p−ジエ
チルアミノベンジルアルコールなどのアミノベンジルア
ルコール類、o−アミノフェノール、m−アミノフェノ
ール、p−アミノフェノール、p−ジメチルアミノフェ
ノール、p−ジエチルアミノフェノールなどのアミノフ
ェノール類、
酸、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ
安息香酸などのアミノ安息香酸類などが挙げられる。
素等を硬化させてその機械的強度を向上するために用い
られる。かかる硬化剤としては、例えば加熱されること
によってバインダーポリマーのカルボキシル基と反応し
てバインダーポリマーを架橋させ得る化合物が挙げら
れ、バインダーポリマーを架橋させることにより色画素
等を硬化させる。また、加熱されることによってそれ単
独で重合し得る化合物であってもよく、単独で重合する
ことにより色画素等が硬化する。かかる化合物として
は、例えばエポキシ化合物、オキセタン化合物などが挙
げられる。
ノールA系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールA系エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF系エポキシ樹脂、水素化
ビスフェノールF系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂、他の芳香族系エポキシ樹脂、脂環族系エポキシ
樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系樹
脂、グリシジルアミン系樹脂、エポキシ化油等のエポキ
シ樹脂や、これらのエポキシ樹脂の臭素化誘導体、エポ
キシ樹脂およびその臭素化誘導体以外の脂肪族、脂環族
または芳香族のエポキシ化合物、ブタジエンの(共)重
合体のエポキシ化物、イソプレンの(共)重合体のエポ
キシ化物、グリシジル(メタ)アクリレートの(共)重
合体、トリグリシジルイソシアヌレートなどが挙げられ
る。
ネートビスオキセタン、キシリレンビスオキセタン、ア
ジペートビスオキセタン、テレフタレートビスオキセタ
ン、シクロヘキサンジカルボン酸ビスオキセタンなどが
挙げられる。
にエポキシ化合物のエポキシ基、オキセタン化合物のオ
キセタン骨格を開環重合させ得る化合物を含んでいても
よい。かかる化合物としては、例えば多価カルボン酸
類、多価カルボン酸無水物類、酸発生剤などが挙げられ
る。
酸、3,4−ジメチルフタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、1,4,
5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族多
価カルボン酸類、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸などの脂肪族多価カルボン酸
類、ヘキサヒドロフタル酸、3,4−ジメチルテトラヒ
ドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒド
ロテレフタル酸、1,2,4−シクロペンタントリカル
ボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、
シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸などの脂環族多価カルボ
ン酸類などが挙げられる。
ば、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリ
ット酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物
類、無水イタコン酸、無水こはく酸、無水シトラコン
酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバリル酸、
無水マレイン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物などの脂肪族多価カルボン酸無水物類、
チルテトラヒドロフタル酸無水物、1,2,4−シクロ
ペンタントリカルボン酸無水物、1,2,4−シクロヘ
キサントリカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテ
トラカルボン酸二無水物、無水ハイミック酸、無水ナジ
ン酸などの脂環族多価カルボン酸無水物類、エチレング
リコールビストリメリテイト酸、グリセリントリストリ
メリテイト無水物などのエステル基含有カルボン酸無水
物類などが挙げられる。
硬化剤として市販されているものを用いてもよい。かか
るエポキシ樹脂硬化剤としては、例えば商品名「アデカ
ハードナーEH−700」(旭電化工業(株))、商品名
「リカシッドHH」(新日本理化(株))、商品名「MH
−700」(新日本理化(株))などが挙げられる。
種以上を組み合わせて用いることができる。
(F)中で着色剤(A)、バインダーポリマー(B)、
光重合性化合物(C)、光重合開始剤(D)および連鎖
移動剤(E)を混合することにより製造でき、添加剤
(G)を含有する場合には、溶媒中(F)で着色剤
(A)バインダーポリマー(B)、光重合性化合物
(C)、光重合開始剤(D)、連鎖移動剤(E)および
添加剤(G)を混合すればよい。
フィルターを構成する色画素またはブラックマトリック
ス(5)を形成するには、例えば本発明の着色感光性組
成物からなる層(1)を基板(2)上に形成し(図1
(a))、該層(1)にフォトマスク(3)を介して光線
(4)を照射して露光したのち(図1(b))、現像すれ
ばよい。
リコンウェハー、プラスチック板などが挙げられる。基
板としてシリコンウエハーなどを用いる場合、該シリコ
ンウェハーの表面には電荷結合素子(CCD)などが形
成されていてもよい。
(2)上に形成するには、例えば溶剤で希釈された着色
感光性樹脂組成物を回転塗布法(スピンコート法)によ
り基板上に塗布し、次いで溶剤を揮発させればよい。
光線(4)としては通常、g線(波長436nm)、i
線(波長365nm)などの紫外線が用いられる。光線
は、フォトマスク(3)を介して照射されるが、ここで
フォトマスクは、例えばガラス板(31)の表面に光線
を遮蔽する遮光層(32)が設けられたものである。光
線(4)は遮光層(32)によって遮蔽される。ガラス
板(31)のうちの遮光層が設けられていない部分は光
線を透過する透光部(33)であって、この透光部(3
3)のパターンに従って着色感光性組成物層(2)が露
光される。光線の照射量は、用いたバインダーポリマー
(A)の種類や含有量、顔料(B)の色や含有量、光重
合性化合物(C)の種類や含有量、光重合開始剤(D)
の種類や含有量などに応じて適宜選択される。
露光後の着色感光性組成物層を現像液に浸漬すればよ
い。現像液としては、例えば炭酸ナトリム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、テトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイドなどのアルカリ性化合
物の水溶液が用いられる。
の光線が照射されない光線未照射領域(11)は除去さ
れる。その一方で光線が照射された光線照射領域(1
2)は残って色画素等(5)を構成する。
り、目的とする色画素等(5)を得ることができる。
をすることにより、形成された色画素等が硬化して、そ
の機械的強度が向上する。着色感光性組成物として硬化
剤を含有するものを用いた場合には、加熱処理によって
色画素等の機械的強度をより向上できるので、好まし
い。加熱温度は通常180℃以上であり、好ましくは2
00℃以上250℃以下程度である。
厚みは、例えば1μm以上であり3μm以下であるが、
2μm以下、さらには1.8μm以下であっても、断面
形状が矩形ないし順テーパー状であり、色画素の上面の
幅(W1)が色画素の底面(基板面)の幅(W2)と同じ
か(図2(a))、小さいので(図2(b))、色画素等の上
に、例えばインジウム−スズ複合酸化物(ITO)など
の透明導電膜を形成しても、該透明導電膜が断線するこ
とがほとんどない。
クスを形成してカラーフィルターを得るには、着色剤
(A)の色を代えながら上記操作を行なうことによっ
て、順次各色の色画素、ブラックマトリックスを形成す
ればよい。
濃度で着色剤を含有する着色感光性組成物を用いて断面
が矩形または順テーパー状である色画素またはブラック
マトリックスを形成することができる。
明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
ない。
の表面上に表1に示す組成の着色感光性組成物をスピン
コート法によって塗布した後、100℃で3分間乾燥し
て着色感光性組成物層(1)を形成した。冷却後、形成
された着色感光性組成物層(1)にフォトマスク(3)
を介してg線(波長365nm)を照射した。g線の光
源には超高圧水銀ランプを用い、照射光量は150mJ
/cm2とした。フォトマスクとしては、線幅3μm、4
μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10
μm、20μm、30μm、40μm、50μmおよび
100μmの線状の画素を同時に形成するためのフォト
マスクを用いた。次いで、現像液(質量分率で水酸化カ
リウムを0.05%およびブチルナフタレンスルホン酸
ナトリウムを0.2%それぞれ含む水溶液)に浸漬して
現像し、純水で洗浄したのち、230℃で20分間加熱
して、緑色画素(5)を形成した。
ー状であり、厚みは1.6μmであった。また、目的と
する形状で形成されていた色画素の線幅の最小値(解像
度)は20μmであった。
レート共重合体)に代えて、3−エチル−3−メタクリ
ロキシメチルオキセタン/ベンジルメタクリレート/メ
タクリル酸共重合体〔重量平均分子量は53000、3
−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタン単位と
ベンジルメタクリレート単位とメタクリル酸単位との物
質量比は0.10/0.50/0.30〕5.00質量
部を用いる以外は実施例1と同様に操作して、緑色画素
(5)を形成した。この緑色画素の断面形状は順テーパ
ー状であり、厚みは1.6μmであり、解像度は20μ
mであった。
例1と同様に操作して緑色画素を形成した。この緑色画
素の断面形状は順テーパー状であり、厚みは1.6μm
であり、解像度は100μmであった。
る以外は実施例1と同様に操作して、緑色画素を形成し
た。この緑色画素の断面形状は逆テーパー状であり、厚
みは1.6μmであり、解像度は7μmであった。
量部を用いる以外は実施例1と同様に操作して、緑色画
素を形成した。この緑色画素の断面形状は逆テーパー状
であり、厚みは1.6μmであり、解像度は7μmであ
った。
程を示す模式図である。
る。
Claims (5)
- 【請求項1】着色剤(A)、バインダーポリマー
(B)、光重合性化合物(C)、光重合開始剤(D)お
よび連鎖移動剤(E)を含有することを特徴とする着色
感光性組成物。 - 【請求項2】連鎖移動剤(E)の含有量が着色感光性組
成物の全固形分に対して質量分率で0.5%以上5%以
下である請求項1に記載の着色感光性組成物。 - 【請求項3】着色剤(A)の含有量が着色感光性組成物
の全固形分に対して質量分率で10%以上60%以下で
ある請求項1または請求項2に記載の着色感光性組成
物。 - 【請求項4】請求項1〜請求項3のいずれかに記載の着
色感光性組成物からなる層を基板上に形成し、該層にフ
ォトマスクを介して光線を照射して露光したのち現像し
て色画素またはブラックマトリックスを形成することを
特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項5】色画素またはブラックマトリックスの厚み
が3μm以下である請求項4に記載の製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002287337A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物およびカラー液晶表示装置 |
JP2002365795A (ja) * | 2001-06-06 | 2002-12-18 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
JP2007071995A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
KR100863794B1 (ko) * | 2000-11-29 | 2008-10-16 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 착색된 감광성 조성물 |
KR101180552B1 (ko) * | 2004-06-28 | 2012-09-06 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 착색 감광성 수지 조성물 |
KR101541542B1 (ko) * | 2008-08-19 | 2015-08-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 이를 구비한 액정표시장치 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040222080A1 (en) * | 2002-12-17 | 2004-11-11 | William Marsh Rice University | Use of microwaves to crosslink carbon nanotubes to facilitate modification |
KR101176101B1 (ko) * | 2004-06-18 | 2012-08-22 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 감광성 수지 조성물, 착색 감광성 수지 조성물의 도포막, 감광성 수지 전사 재료, 감광성 수지층의 형성방법, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법 및 액정표시장치 |
JP4208145B2 (ja) * | 2004-11-12 | 2009-01-14 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成用組成物、パターン形成材料、及びパターン形成装置並びにパターン形成方法 |
JP4428231B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-03-10 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、電気光学装置、および電子機器 |
JP4676325B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2011-04-27 | 富士通株式会社 | レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
JP2007177179A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Fujifilm Corp | インク、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
JP4801477B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-10-26 | 富士通株式会社 | レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
JP4809705B2 (ja) * | 2006-03-28 | 2011-11-09 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US8815472B2 (en) * | 2006-10-25 | 2014-08-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Volume hologram optical recording medium, composition for volume hologram recording layer formation, and volume hologram recording material |
US8575234B2 (en) | 2010-09-06 | 2013-11-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Ink composition, and method of forming pattern, color filter and method of preparing color filter using the same |
KR101290249B1 (ko) | 2010-09-06 | 2013-07-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 잉크 조성물, 이를 이용한 패턴 형성방법, 컬러필터 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4859551A (en) * | 1987-11-04 | 1989-08-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing positive and negative images using photohardenable electrostatic master |
JPH08123016A (ja) | 1994-10-27 | 1996-05-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性ソルダーレジスト組成物、これを用いたプリント回路板の製造法、プリント回路板及びこのプリント回路板を用いた機器 |
JP3564836B2 (ja) * | 1995-11-22 | 2004-09-15 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JPH09208611A (ja) | 1996-02-06 | 1997-08-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 螢光体分散感放射線性組成物 |
JPH10207055A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-07 | Konica Corp | 転写画像形成材料および転写画像作成方法 |
JP3829412B2 (ja) * | 1997-05-28 | 2006-10-04 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
JP2002167404A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性組成物 |
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2000
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KR100863794B1 (ko) * | 2000-11-29 | 2008-10-16 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 착색된 감광성 조성물 |
JP2002287337A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物およびカラー液晶表示装置 |
JP2002365795A (ja) * | 2001-06-06 | 2002-12-18 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
KR101180552B1 (ko) * | 2004-06-28 | 2012-09-06 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 착색 감광성 수지 조성물 |
JP2007071995A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
KR101541542B1 (ko) * | 2008-08-19 | 2015-08-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 이를 구비한 액정표시장치 |
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