JP2000227654A - ブラックレジスト用感放射線性組成物 - Google Patents
ブラックレジスト用感放射線性組成物Info
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- Materials For Photolithography (AREA)
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 特に表示パネルに組み立てとき、焼き付き等
の表示不良を生じることがなく、しかも高い膜硬度を有
し、パターン表面の平滑性に優れるとともに、未露光部
の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、かつ現像時のパタ
ーンの基板への密着性に優れたブラックレジスト用感放
射線性組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）黒色顔料を含む着色剤、（Ｂ）ア
ルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび
（Ｄ）光重合開始剤を含有するブラックレジスト用感放
射線性組成物であって、（Ａ）着色剤がウレタン結合を
有する化合物を含む分散剤により分散されていることを
特徴とするブラックレジスト用感放射線性組成物。
の表示不良を生じることがなく、しかも高い膜硬度を有
し、パターン表面の平滑性に優れるとともに、未露光部
の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、かつ現像時のパタ
ーンの基板への密着性に優れたブラックレジスト用感放
射線性組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）黒色顔料を含む着色剤、（Ｂ）ア
ルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび
（Ｄ）光重合開始剤を含有するブラックレジスト用感放
射線性組成物であって、（Ａ）着色剤がウレタン結合を
有する化合物を含む分散剤により分散されていることを
特徴とするブラックレジスト用感放射線性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置等に用いるカラーフィルタのブラックマトリックスお
よび／またはスペーサーに好適なブラックレジスト用感
放射線性組成物に関する。
置等に用いるカラーフィルタのブラックマトリックスお
よび／またはスペーサーに好適なブラックレジスト用感
放射線性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、黒色感放射線性組成物を用いてカ
ラーフィルタ用のブラックマトリックスやスペーサーを
製造するに当たっては、基板上に、黒色の着色剤が分散
された感放射線性組成物を塗布し、乾燥したのち、得ら
れた塗膜にフォトマスクを介して放射線を照射（以下、
「露光」という。）し、現像することにより、所望のパ
ターンを形成している。しかしながら、このような黒色
感放射線性組成物では、ブラックマトリックスやスペー
サーの遮光性を十分高めるために、黒色の着色剤を相当
量使用する必要があり、露光された放射線が着色剤によ
り吸収されるために、塗膜中の放射線の有効強度が、塗
膜の表面から底部（即ち、基板表面近傍）に向かって次
第に小さくなる現象が必然的に生じ、その結果塗膜内部
における硬化反応も表面から底部に向かって次第に不十
分となりやすく、その結果、形成されたパターンの基板
への密着性が低下して、現像後のパターンに剥がれ、欠
落、欠損等が生じたり、また現像後に加熱処理されたパ
ターンの塗膜物性にも劣ったりする問題があった。しか
も、従来の黒色感放射線性組成物では、未露光部の基板
上に残渣や地汚れを生じ易いという問題もあった。さら
に、得られたカラーフィルタを表示パネルに組み立てた
とき、焼き付き等の表示不良が起こりやすいと言う問題
があった。
ラーフィルタ用のブラックマトリックスやスペーサーを
製造するに当たっては、基板上に、黒色の着色剤が分散
された感放射線性組成物を塗布し、乾燥したのち、得ら
れた塗膜にフォトマスクを介して放射線を照射（以下、
「露光」という。）し、現像することにより、所望のパ
ターンを形成している。しかしながら、このような黒色
感放射線性組成物では、ブラックマトリックスやスペー
サーの遮光性を十分高めるために、黒色の着色剤を相当
量使用する必要があり、露光された放射線が着色剤によ
り吸収されるために、塗膜中の放射線の有効強度が、塗
膜の表面から底部（即ち、基板表面近傍）に向かって次
第に小さくなる現象が必然的に生じ、その結果塗膜内部
における硬化反応も表面から底部に向かって次第に不十
分となりやすく、その結果、形成されたパターンの基板
への密着性が低下して、現像後のパターンに剥がれ、欠
落、欠損等が生じたり、また現像後に加熱処理されたパ
ターンの塗膜物性にも劣ったりする問題があった。しか
も、従来の黒色感放射線性組成物では、未露光部の基板
上に残渣や地汚れを生じ易いという問題もあった。さら
に、得られたカラーフィルタを表示パネルに組み立てた
とき、焼き付き等の表示不良が起こりやすいと言う問題
があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、特に
表示パネルに組み立てとき、焼き付き等の表示不良を生
じることがなく、しかも高い膜硬度を有し、パターン表
面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣
や地汚れを生じ難く、かつ現像時のパターンの基板への
密着性に優れたブラックレジスト用感放射線性組成物を
提供することにある。
表示パネルに組み立てとき、焼き付き等の表示不良を生
じることがなく、しかも高い膜硬度を有し、パターン表
面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣
や地汚れを生じ難く、かつ現像時のパターンの基板への
密着性に優れたブラックレジスト用感放射線性組成物を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に、
（Ａ）黒色顔料を含む着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤
を含有するブラックレジスト用感放射線性組成物であっ
て、（Ａ）着色剤がウレタン結合を有する化合物を含む
分散剤により分散されていることを特徴とするブラック
レジスト用感放射線性組成物（以下、「第１発明」とも
いう。）、からなる。
（Ａ）黒色顔料を含む着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤
を含有するブラックレジスト用感放射線性組成物であっ
て、（Ａ）着色剤がウレタン結合を有する化合物を含む
分散剤により分散されていることを特徴とするブラック
レジスト用感放射線性組成物（以下、「第１発明」とも
いう。）、からなる。
【０００５】本発明は、第二に、分散剤であるウレタン
結合を有する化合物が、１５０℃以上の温度で３０分以
上熱処理したとき極性溶剤に不溶となる化合物からなる
ことを特徴とする第１発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第２発明」ともいう。）、からな
る。
結合を有する化合物が、１５０℃以上の温度で３０分以
上熱処理したとき極性溶剤に不溶となる化合物からなる
ことを特徴とする第１発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第２発明」ともいう。）、からな
る。
【０００６】本発明は、第三に、分散剤であるウレタン
結合を有する化合物が、酸価が５〜２５mgKOH/g でアミ
ン価が０mgKOH/g である化合物からなることを特徴とす
る第１発明または第２発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第３発明」ともいう。）、からな
る。
結合を有する化合物が、酸価が５〜２５mgKOH/g でアミ
ン価が０mgKOH/g である化合物からなることを特徴とす
る第１発明または第２発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第３発明」ともいう。）、からな
る。
【０００７】本発明は、第四に、分散剤であるウレタン
結合を有する化合物が、アミン価が５〜２５mgKOH/g で
酸価が０mgKOH/g である化合物からなることを特徴とす
る第１発明または第２発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第４発明」ともいう。）、からな
る。
結合を有する化合物が、アミン価が５〜２５mgKOH/g で
酸価が０mgKOH/g である化合物からなることを特徴とす
る第１発明または第２発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物（以下、「第４発明」ともいう。）、からな
る。
【０００８】本発明は、第五に、分散剤であるウレタン
結合を有する化合物が、電圧保持率が８０％以上の化合
物からなることを特徴とする第１発明、第２発明、第３
発明または第４発明のブラックレジスト用感放射線性組
成物（以下、「第５発明」ともいう。）、からなる。
結合を有する化合物が、電圧保持率が８０％以上の化合
物からなることを特徴とする第１発明、第２発明、第３
発明または第４発明のブラックレジスト用感放射線性組
成物（以下、「第５発明」ともいう。）、からなる。
【０００９】本発明は、第六に、（Ａ）着色剤が、C.I.
ピグメントレッド１７７とC.I.ピグメントブルー１５：
４および／またはC.I.ピグメントブルー１５：６とを含
むことを特徴とする第１発明、第２発明、第３発明、第
４発明または第５発明のブラックレジスト用感放射線性
組成物（以下、「第６発明」ともいう。）、からなる。
本発明でいう「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫
外線、電子線、Ｘ線等を含むものを意味する。
ピグメントレッド１７７とC.I.ピグメントブルー１５：
４および／またはC.I.ピグメントブルー１５：６とを含
むことを特徴とする第１発明、第２発明、第３発明、第
４発明または第５発明のブラックレジスト用感放射線性
組成物（以下、「第６発明」ともいう。）、からなる。
本発明でいう「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫
外線、電子線、Ｘ線等を含むものを意味する。
【００１０】以下、本発明について詳細に説明する。（Ａ）着色剤 本発明における着色剤は、黒色顔料を含む着色剤からな
るものである。前記黒色顔料は、カラーフィルタの用途
に応じて適宜選定することができ、無機顔料でも有機顔
料でもよく、また１種類の顔料でも２種類以上の顔料を
混合したものでもよいが、本発明における黒色顔料とし
ては、発色性が高く、かつ耐熱性の高い顔料、特に耐熱
分解性の高い顔料が好ましく、特にカーボンブラックお
よび／または２種以上の有機顔料の組み合せが好まし
い。
るものである。前記黒色顔料は、カラーフィルタの用途
に応じて適宜選定することができ、無機顔料でも有機顔
料でもよく、また１種類の顔料でも２種類以上の顔料を
混合したものでもよいが、本発明における黒色顔料とし
ては、発色性が高く、かつ耐熱性の高い顔料、特に耐熱
分解性の高い顔料が好ましく、特にカーボンブラックお
よび／または２種以上の有機顔料の組み合せが好まし
い。
【００１１】本発明に使用されるカーボンブラックとし
ては、例えば、ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳ
ＡＦ−ＬＳ、ＩＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＬＳ、
ＨＡＦ−ＨＳ、ＮＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＳＲ
Ｆ、ＳＲＦ−ＬＭ、ＳＲＦ−ＬＳ、ＧＰＦ、ＥＣＦ、Ｎ
−３３９、Ｎ−３５１等のファーネスブラック；ＦＴ、
ＭＴ等のサーマルブラック；アセチレンブラック等を挙
げることができる。これらのカーボンブラックは、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。ま
た、本発明に使用されるカーボンブラック以外の黒色の
無機顔料としては、例えば、チタンブラック、Ｃｕ−Ｆ
ｅ−Ｍｎ系酸化物、合成鉄黒等の金属酸化物等を挙げる
ことができる。これらの無機顔料は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。
ては、例えば、ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳ
ＡＦ−ＬＳ、ＩＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＬＳ、
ＨＡＦ−ＨＳ、ＮＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＳＲ
Ｆ、ＳＲＦ−ＬＭ、ＳＲＦ−ＬＳ、ＧＰＦ、ＥＣＦ、Ｎ
−３３９、Ｎ−３５１等のファーネスブラック；ＦＴ、
ＭＴ等のサーマルブラック；アセチレンブラック等を挙
げることができる。これらのカーボンブラックは、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。ま
た、本発明に使用されるカーボンブラック以外の黒色の
無機顔料としては、例えば、チタンブラック、Ｃｕ−Ｆ
ｅ−Ｍｎ系酸化物、合成鉄黒等の金属酸化物等を挙げる
ことができる。これらの無機顔料は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。
【００１２】さらに、本発明に使用される有機顔料して
は、例えば、カラーインデックス（C.I.；The Society
of Dyers and Colourists 社発行) においてピグメント
（Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記
のようなカラーインデックス（C.I.）番号が付されてい
るものを挙げることができる。C.I.ピグメントエロー１
２、C.I.ピグメントエロー１３、C.I.ピグメントエロー
１４、C.I.ピグメントエロー１７、C.I.ピグメントエロ
ー２０、C.I.ピグメントエロー２４、C.I.ピグメントエ
ロー３１、C.I.ピグメントエロー５５、C.I.ピグメント
エロー８３、C.I.ピグメントエロー９３、C.I.ピグメン
トエロー１０９、C.I.ピグメントエロー１１０、C.I.ピ
グメントエロー１３８、C.I.ピグメントエロー１３９、
C.I.ピグメントエロー１５０、C.I.ピグメントエロー１
５３、C.I.ピグメントエロー１５４、C.I.ピグメントエ
ロー１５５、C.I.ピグメントエロー１６６、C.I.ピグメ
ントエロー１６８；C.I.ピグメントオレンジ３６、C.I.
ピグメントオレンジ４３、C.I.ピグメントオレンジ５
１、C.I.ピグメントオレンジ６１、C.I.ピグメントオレ
ンジ７１；C.I.ピグメントレッド９、C.I.ピグメントレ
ッド９７、C.I.ピグメントレッド１２２、C.I.ピグメン
トレッド１２３、C.I.ピグメントレッド１４９、C.I.ピ
グメントレッド１６８、C.I.ピグメントレッド１７６、
C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメントレッド１
８０、C.I.ピグメントレッド２０９、C.I.ピグメントレ
ッド２１５、C.I.ピグメントレッド２２４、C.I.ピグメ
ントレッド２４２、C.I.ピグメントレッド２５４；C.I.
ピグメントバイオレット１９、ピグメントバイオレット
２３、ピグメントバイオレット２９；C.I.ピグメントブ
ルー１５、C.I.ピグメントブルー６０、C.I.ピグメント
ブルー１５：３、C.I.ピグメントブルー１５：４、C.I.
ピグメントブルー１５：６、C.I.ピグメントグリーン
７、C.I.ピグメントグリーン３６；C.I.ピグメントブラ
ウン２３、C.I.ピグメントブラウン２５；C.I.ピグメン
トブラック１、ピグメントブラック７。これらの有機顔
料は、ブラックレジストとしての所望の色相が得られる
ように適宜選定して使用することができる。本発明にお
いて、特に好ましい有機顔料は、C.I.ピグメントレッド
１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／または
C.I.ピグメントブルー１５：６との混合物である。
は、例えば、カラーインデックス（C.I.；The Society
of Dyers and Colourists 社発行) においてピグメント
（Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記
のようなカラーインデックス（C.I.）番号が付されてい
るものを挙げることができる。C.I.ピグメントエロー１
２、C.I.ピグメントエロー１３、C.I.ピグメントエロー
１４、C.I.ピグメントエロー１７、C.I.ピグメントエロ
ー２０、C.I.ピグメントエロー２４、C.I.ピグメントエ
ロー３１、C.I.ピグメントエロー５５、C.I.ピグメント
エロー８３、C.I.ピグメントエロー９３、C.I.ピグメン
トエロー１０９、C.I.ピグメントエロー１１０、C.I.ピ
グメントエロー１３８、C.I.ピグメントエロー１３９、
C.I.ピグメントエロー１５０、C.I.ピグメントエロー１
５３、C.I.ピグメントエロー１５４、C.I.ピグメントエ
ロー１５５、C.I.ピグメントエロー１６６、C.I.ピグメ
ントエロー１６８；C.I.ピグメントオレンジ３６、C.I.
ピグメントオレンジ４３、C.I.ピグメントオレンジ５
１、C.I.ピグメントオレンジ６１、C.I.ピグメントオレ
ンジ７１；C.I.ピグメントレッド９、C.I.ピグメントレ
ッド９７、C.I.ピグメントレッド１２２、C.I.ピグメン
トレッド１２３、C.I.ピグメントレッド１４９、C.I.ピ
グメントレッド１６８、C.I.ピグメントレッド１７６、
C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメントレッド１
８０、C.I.ピグメントレッド２０９、C.I.ピグメントレ
ッド２１５、C.I.ピグメントレッド２２４、C.I.ピグメ
ントレッド２４２、C.I.ピグメントレッド２５４；C.I.
ピグメントバイオレット１９、ピグメントバイオレット
２３、ピグメントバイオレット２９；C.I.ピグメントブ
ルー１５、C.I.ピグメントブルー６０、C.I.ピグメント
ブルー１５：３、C.I.ピグメントブルー１５：４、C.I.
ピグメントブルー１５：６、C.I.ピグメントグリーン
７、C.I.ピグメントグリーン３６；C.I.ピグメントブラ
ウン２３、C.I.ピグメントブラウン２５；C.I.ピグメン
トブラック１、ピグメントブラック７。これらの有機顔
料は、ブラックレジストとしての所望の色相が得られる
ように適宜選定して使用することができる。本発明にお
いて、特に好ましい有機顔料は、C.I.ピグメントレッド
１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／または
C.I.ピグメントブルー１５：６との混合物である。
【００１３】また、本発明における着色剤には、必要に
応じて体質顔料を添加してもよい。このような体質顔料
としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸
カルシウム、シリカ、塩基性炭酸マグネシウム、アルミ
ナ白、グロス白、サタン白、ハイドロタルサイト等を挙
げることができる。これらの体質顔料は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。体質顔料の
使用量は、黒色顔料１００重量部に対して、通常、０〜
１００重量部、好ましくは５〜５０重量部、さらに好ま
しくは１０〜４０重量部である。本発明において、前記
黒色顔料および体質顔料は、場合により、それらの表面
をポリマーで改質して使用することができる。
応じて体質顔料を添加してもよい。このような体質顔料
としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸
カルシウム、シリカ、塩基性炭酸マグネシウム、アルミ
ナ白、グロス白、サタン白、ハイドロタルサイト等を挙
げることができる。これらの体質顔料は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。体質顔料の
使用量は、黒色顔料１００重量部に対して、通常、０〜
１００重量部、好ましくは５〜５０重量部、さらに好ま
しくは１０〜４０重量部である。本発明において、前記
黒色顔料および体質顔料は、場合により、それらの表面
をポリマーで改質して使用することができる。
【００１４】−ウレタン系分散剤− 本発明における着色剤は、ウレタン結合を有する化合物
（以下、「ウレタン系分散剤」という。）を含む分散剤
により分散されている。ウレタン結合は、一般に、式Ｒ
−ＮＨ−ＣＯＯ−Ｒ’（但し、ＲおよびＲ’は脂肪族、
脂環族または芳香族の１価または多価の有機基であり、
その多価の有機基はさらにウレタン結合を有する基ある
いは他の基に結合している。）で表され、ウレタン系分
散剤中の親油性基および／または親水性基に存在するこ
とができ、またウレタン系分散剤の主鎖および／または
側鎖に存在することができ、さらにウレタン系分散剤中
に１個以上存在することができる。ウレタン結合がウレ
タン系分散剤中に２個以上存在するとき、各ウレタン結
合は同一でも異なってもよい。このようなウレタン系分
散剤は、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系
あるいは両性であることができ、またシリコーン系、フ
ッ素系等の構造をとることもできる。
（以下、「ウレタン系分散剤」という。）を含む分散剤
により分散されている。ウレタン結合は、一般に、式Ｒ
−ＮＨ−ＣＯＯ−Ｒ’（但し、ＲおよびＲ’は脂肪族、
脂環族または芳香族の１価または多価の有機基であり、
その多価の有機基はさらにウレタン結合を有する基ある
いは他の基に結合している。）で表され、ウレタン系分
散剤中の親油性基および／または親水性基に存在するこ
とができ、またウレタン系分散剤の主鎖および／または
側鎖に存在することができ、さらにウレタン系分散剤中
に１個以上存在することができる。ウレタン結合がウレ
タン系分散剤中に２個以上存在するとき、各ウレタン結
合は同一でも異なってもよい。このようなウレタン系分
散剤は、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系
あるいは両性であることができ、またシリコーン系、フ
ッ素系等の構造をとることもできる。
【００１５】ウレタン系分散剤は、熱処理による不溶化
の有無、酸価、アミン価および電圧保持率の何れか１つ
以上の性状により特徴づけることができる。ウレタン系
分散剤としては、１５０℃以上、好ましくは１５０〜２
５０℃で、３０分以上、好ましくは３０〜９０分間、熱
処理したとき、極性溶剤、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン、γ−ブチロラクトン等に不溶となるもの
が望ましい。また、ウレタン系分散剤としては、酸価が
５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０mgKOH/g でアミ
ン価が０mgKOH/g 、あるいはアミン価が５〜２５mgKOH/
g 、好ましくは８〜２０mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g で
あるものが望ましい。また、ウレタン系分散剤として
は、電圧保持率が８０％以上、好ましくは８５％以上で
あるものが望ましい。この場合の電圧保持率は、本発明
における感放射線性組成物から着色剤を除いた各成分の
混合物にウレタン系分散剤を１重量％溶解した溶液を、
表面に酸化インジウム（ＩＴＯ）膜を形成した基板に塗
布して乾燥塗膜を形成し、放射線を照射したのち、２０
０〜２５０℃程度の温度でポストベークを行なって得た
基板を用いて組み立てた液晶セルについて、保持時間１
６．７ミリ秒の条件で測定される。
の有無、酸価、アミン価および電圧保持率の何れか１つ
以上の性状により特徴づけることができる。ウレタン系
分散剤としては、１５０℃以上、好ましくは１５０〜２
５０℃で、３０分以上、好ましくは３０〜９０分間、熱
処理したとき、極性溶剤、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン、γ−ブチロラクトン等に不溶となるもの
が望ましい。また、ウレタン系分散剤としては、酸価が
５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０mgKOH/g でアミ
ン価が０mgKOH/g 、あるいはアミン価が５〜２５mgKOH/
g 、好ましくは８〜２０mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g で
あるものが望ましい。また、ウレタン系分散剤として
は、電圧保持率が８０％以上、好ましくは８５％以上で
あるものが望ましい。この場合の電圧保持率は、本発明
における感放射線性組成物から着色剤を除いた各成分の
混合物にウレタン系分散剤を１重量％溶解した溶液を、
表面に酸化インジウム（ＩＴＯ）膜を形成した基板に塗
布して乾燥塗膜を形成し、放射線を照射したのち、２０
０〜２５０℃程度の温度でポストベークを行なって得た
基板を用いて組み立てた液晶セルについて、保持時間１
６．７ミリ秒の条件で測定される。
【００１６】このようなウレタン系分散剤としては、例
えば、ジイソシアナート類および／またはトリイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリエステル類およ
び／または両末端に水酸基を有するポリエステル類との
反応生成物を挙げることができる。前記ジイソシアナー
ト類としては、例えば、ベンゼン−１，３−ジイソシア
ナート、ベンゼン−１，４−ジイソシアナート等のベン
ゼンジイソシアナート類；トルエン−２，４−ジイソシ
アナート、トルエン−２，５−ジイソシアナート、トル
エン−２，６−ジイソシアナート、トルエン−３，５−
ジイソシアナート等のトルエンジイソシアナート類；
１，２−キシレン−３，５−ジイソシアナート、１，２
−キシレン−３，６−ジイソシアナート、１，２−キシ
レン−４，６−ジイソシアナート、１，３−キシレン−
２，４−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，５
−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，６−ジイ
ソシアナート、１，３−キシレン−４，６−ジイソシア
ナート、１，４−キシレン−２，５−ジイソシアナー
ト、１，４−キシレン−２，６−ジイソシアナート等の
キシレンジイソシアナート類等の芳香族ジイソシアナー
ト類を挙げることができ、また前記トリイソシアナート
類としては、例えば、ベンゼン−１，２，４−トリイソ
シアナート、ベンゼン−１，２，５−トリイソシアナー
ト、ベンゼン−１，３，５−トリイソシアナート等のベ
ンゼントリイソシアナート類；トルエン−２，３，５−
トリイソシアナート、トルエン−２，３，６−トリイソ
シアナート、トルエン−２，４，５−トリイソシアナー
ト、トルエン−２，４，６−トリイソシアナート、トル
エン−３，４，６−トリイソシアナート、トルエン−
３，５，６−トリイソシアナート等のトルエントリイソ
シアナート類、１，２−キシレン−３，４，６−トリイ
ソシアナート、１，２−キシレン−３，５，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，５−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−３，４，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，６−トリイ
ソシアナート等のキシレントリイソシアナート類等の芳
香族トリイソシアナート類を挙げることができる。これ
らのジイソシアナート類およびトリイソシアナート類
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。
えば、ジイソシアナート類および／またはトリイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリエステル類およ
び／または両末端に水酸基を有するポリエステル類との
反応生成物を挙げることができる。前記ジイソシアナー
ト類としては、例えば、ベンゼン−１，３−ジイソシア
ナート、ベンゼン−１，４−ジイソシアナート等のベン
ゼンジイソシアナート類；トルエン−２，４−ジイソシ
アナート、トルエン−２，５−ジイソシアナート、トル
エン−２，６−ジイソシアナート、トルエン−３，５−
ジイソシアナート等のトルエンジイソシアナート類；
１，２−キシレン−３，５−ジイソシアナート、１，２
−キシレン−３，６−ジイソシアナート、１，２−キシ
レン−４，６−ジイソシアナート、１，３−キシレン−
２，４−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，５
−ジイソシアナート、１，３−キシレン−２，６−ジイ
ソシアナート、１，３−キシレン−４，６−ジイソシア
ナート、１，４−キシレン−２，５−ジイソシアナー
ト、１，４−キシレン−２，６−ジイソシアナート等の
キシレンジイソシアナート類等の芳香族ジイソシアナー
ト類を挙げることができ、また前記トリイソシアナート
類としては、例えば、ベンゼン−１，２，４−トリイソ
シアナート、ベンゼン−１，２，５−トリイソシアナー
ト、ベンゼン−１，３，５−トリイソシアナート等のベ
ンゼントリイソシアナート類；トルエン−２，３，５−
トリイソシアナート、トルエン−２，３，６−トリイソ
シアナート、トルエン−２，４，５−トリイソシアナー
ト、トルエン−２，４，６−トリイソシアナート、トル
エン−３，４，６−トリイソシアナート、トルエン−
３，５，６−トリイソシアナート等のトルエントリイソ
シアナート類、１，２−キシレン−３，４，６−トリイ
ソシアナート、１，２−キシレン−３，５，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，５−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−２，４，６−トリイ
ソシアナート、１，３−キシレン−３，４，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，５−トリイ
ソシアナート、１，４−キシレン−２，３，６−トリイ
ソシアナート等のキシレントリイソシアナート類等の芳
香族トリイソシアナート類を挙げることができる。これ
らのジイソシアナート類およびトリイソシアナート類
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。
【００１７】さらに、前記片末端に水酸基を有するポリ
エステル類または両末端に水酸基を有するポリエステル
類としては、例えば、片末端または両末端に水酸基を有
するポリカプロラクトン、片末端または両末端に水酸基
を有するポリバレロラクトン、片末端または両末端に水
酸基を有するポリプロピオラクトン等の片末端または両
末端に水酸基を有するポリラクトン類；片末端または両
末端に水酸基を有するポリエチレンテレフタレート、片
末端または両末端に水酸基を有するポリブチレンテレフ
タレート等の片末端または両末端に水酸基を有する重縮
合系ポリエステル類等を挙げることができる。これらの
片末端に水酸基を有するポリエステル類および両末端に
水酸基を有するポリエステル類は、それぞれ単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。
エステル類または両末端に水酸基を有するポリエステル
類としては、例えば、片末端または両末端に水酸基を有
するポリカプロラクトン、片末端または両末端に水酸基
を有するポリバレロラクトン、片末端または両末端に水
酸基を有するポリプロピオラクトン等の片末端または両
末端に水酸基を有するポリラクトン類；片末端または両
末端に水酸基を有するポリエチレンテレフタレート、片
末端または両末端に水酸基を有するポリブチレンテレフ
タレート等の片末端または両末端に水酸基を有する重縮
合系ポリエステル類等を挙げることができる。これらの
片末端に水酸基を有するポリエステル類および両末端に
水酸基を有するポリエステル類は、それぞれ単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。
【００１８】本発明におけるウレタン系分散剤として
は、芳香族ジイソシアナート類と片末端に水酸基を有す
るポリラクトン類および／または両末端に水酸基を有す
るポリラクトン類との反応生成物が好ましく、特にトル
エンジイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリ
カプロラクトンおよび／または両末端に水酸基を有する
ポリカプロラクトンとの反応生成物が好ましい。
は、芳香族ジイソシアナート類と片末端に水酸基を有す
るポリラクトン類および／または両末端に水酸基を有す
るポリラクトン類との反応生成物が好ましく、特にトル
エンジイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリ
カプロラクトンおよび／または両末端に水酸基を有する
ポリカプロラクトンとの反応生成物が好ましい。
【００１９】前記特性の少なくとも１つを有するウレタ
ン系分散剤の具体例としては、商品名で、例えば、ＥＦ
ＫＡ−４６、同４７（エフカーケミカルズビーブイ（Ｅ
ＦＫＡ）社製）、Disperbyk(ビックケミー（ＢＹＫ）社
製）、ディスパロン（楠本化成（株）製）等を挙げるこ
とができる。本発明におけるウレタン系分散剤のゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定
したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」
という。）は、通常、５，０００〜５０，０００、好ま
しくは７，０００〜２０，０００である。本発明におい
て、ウレタン系分散剤は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。ウレタン系分散剤の使用量
は、着色剤中の顔料１００重量部に対して、通常、０．
５〜１００重量部、好ましくは１〜７０重量部、さらに
好ましくは１０〜５０重量部である。この場合、ウレタ
ン系分散剤の使用量が０．５ 未満では、顔料分散液の
安定性が低下したりする傾向があり、一方１００重量部
を超えると、着色レジストとしての現像性等の性能が損
なわれるおそれがある。
ン系分散剤の具体例としては、商品名で、例えば、ＥＦ
ＫＡ−４６、同４７（エフカーケミカルズビーブイ（Ｅ
ＦＫＡ）社製）、Disperbyk(ビックケミー（ＢＹＫ）社
製）、ディスパロン（楠本化成（株）製）等を挙げるこ
とができる。本発明におけるウレタン系分散剤のゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定
したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」
という。）は、通常、５，０００〜５０，０００、好ま
しくは７，０００〜２０，０００である。本発明におい
て、ウレタン系分散剤は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。ウレタン系分散剤の使用量
は、着色剤中の顔料１００重量部に対して、通常、０．
５〜１００重量部、好ましくは１〜７０重量部、さらに
好ましくは１０〜５０重量部である。この場合、ウレタ
ン系分散剤の使用量が０．５ 未満では、顔料分散液の
安定性が低下したりする傾向があり、一方１００重量部
を超えると、着色レジストとしての現像性等の性能が損
なわれるおそれがある。
【００２０】また、本発明においては、分散助剤をウレ
タン系分散剤と併用することもできる。前記分散助剤と
しては、例えば、銅フタロシアニンスルホン酸化合物等
を挙げることができる。前記銅フタロシアニンスルホン
酸化合物の具体例としては、銅フタロシアニンスルホン
酸、銅フタロシアニンスルホン酸アンモニウム、銅フタ
ロシアニンスルホン酸テトラメチルアンモニウム、銅フ
タロシアニンスルホン酸テトラエチルアンモニウム、銅
フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｎ−プロピルアンモ
ニウム、銅フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｉ−プロ
ピルアンモニウム、銅フタロシアニンスルホン酸テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウム等を挙げることができる。こ
れらの銅フタロシアニンスルホン酸化合物は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。分散助
剤の使用量は、着色剤中の顔料１００重量部に対して、
通常、２０重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さ
らに好ましくは５重量部以下である。
タン系分散剤と併用することもできる。前記分散助剤と
しては、例えば、銅フタロシアニンスルホン酸化合物等
を挙げることができる。前記銅フタロシアニンスルホン
酸化合物の具体例としては、銅フタロシアニンスルホン
酸、銅フタロシアニンスルホン酸アンモニウム、銅フタ
ロシアニンスルホン酸テトラメチルアンモニウム、銅フ
タロシアニンスルホン酸テトラエチルアンモニウム、銅
フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｎ−プロピルアンモ
ニウム、銅フタロシアニンスルホン酸テトラ−ｉ−プロ
ピルアンモニウム、銅フタロシアニンスルホン酸テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウム等を挙げることができる。こ
れらの銅フタロシアニンスルホン酸化合物は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。分散助
剤の使用量は、着色剤中の顔料１００重量部に対して、
通常、２０重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さ
らに好ましくは５重量部以下である。
【００２１】（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ）着
色剤に対してバインダーとして作用し、かつブラックマ
トリックスおよびスペーサーを製造する際に用いられる
現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可溶性である
限り、適宜の樹脂を使用することができる。本発明にお
ける好ましいアルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を
有する樹脂であり、特に、１個以上のカルボキシル基を
有するエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「カルボ
キシル基含有不飽和モノマー」という。）と他の共重合
可能なエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「他の不
飽和モノマー」という。）との共重合体（以下、単に
「カルボキシル基含有共重合体」という。）が好まし
い。カルボキシル基含有不飽和モノマーとしては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロ
ルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メ
サコン酸等の不飽和ジカルボン酸（無水物）類；３価以
上の不飽和多価カルボン酸（無水物）類；こはく酸モノ
（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ（２−
メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アク
リロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロ
イロキシエチル）等の非重合性ジカルボン酸のモノ（２
−アクリロイロキシエチル）エステルまたはモノ（２−
アクリロイロキシエチル）エステル類；ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノメタクリレート等を挙げること
ができる。これらのカルボキシル基含有不飽和モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。
色剤に対してバインダーとして作用し、かつブラックマ
トリックスおよびスペーサーを製造する際に用いられる
現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可溶性である
限り、適宜の樹脂を使用することができる。本発明にお
ける好ましいアルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を
有する樹脂であり、特に、１個以上のカルボキシル基を
有するエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「カルボ
キシル基含有不飽和モノマー」という。）と他の共重合
可能なエチレン性不飽和モノマー（以下、単に「他の不
飽和モノマー」という。）との共重合体（以下、単に
「カルボキシル基含有共重合体」という。）が好まし
い。カルボキシル基含有不飽和モノマーとしては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロ
ルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メ
サコン酸等の不飽和ジカルボン酸（無水物）類；３価以
上の不飽和多価カルボン酸（無水物）類；こはく酸モノ
（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ（２−
メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アク
リロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロ
イロキシエチル）等の非重合性ジカルボン酸のモノ（２
−アクリロイロキシエチル）エステルまたはモノ（２−
アクリロイロキシエチル）エステル類；ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ
ポリカプロラクトンモノメタクリレート等を挙げること
ができる。これらのカルボキシル基含有不飽和モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。
【００２２】また、他の不飽和モノマーとしては、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−ク
ロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシス
チレン、ｐ−メトキシスチレン、インデン、ｐ−ビニル
ベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジ
ルエーテル等の芳香族ビニル化合物；メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プ
ロピルメタクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ
−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、
ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピル
アクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリ
レート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメ
タクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレ
ート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、
２−メトキシエチルアクリレート、２−メトキシエチル
メタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、メトキシジエチレングリコールメタクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メ
トキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキ
シジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプ
ロピレングリコールメタクリレート、グリセリンモノア
クリレート、グリセリンモノメタクリレート等の不飽和
カルボン酸エステル類；２−アミノエチルアクリレー
ト、２−アミノエチルメタクリレート、２−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、２−ジメチルアミノエチルメ
タクリレート、２−アミノプロピルアクリレート、２−
アミノプロピルメタクリレート、２−ジメチルアミノプ
ロピルアクリレート、２−ジメチルアミノプロピルメタ
クリレート、３−アミノプロピルアクリレート、３−ア
ミノプロピルメタクリレート、３−ジメチルアミノプロ
ピルアクリレート、３−ジメチルアミノプロピルメタク
リレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル
類；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；酢酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニ
ル等のカルボン酸ビニルエステル類；ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテ
ル、メタクリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル
類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロ
ロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化
ビニル化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド、α
−クロロアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メ
タクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−
メチロールメタクリルアミド等の不飽和アミド類；Ｎ−
シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、
Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒド
ロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニ
ルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ
−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェ
ニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミ
ド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メ
トキシフェニルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂
肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチルアクリレ
ート、ポリメチルメタクリレート、ポリ−ｎ−ブチルア
クリレート、ポリ−ｎ−ブチルメタクリレート、ポリシ
ロキサン等の重合体分子鎖末端にモノアクリロイル基あ
るいはモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類
等を挙げることができる。これらの他の不飽和モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−ク
ロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシス
チレン、ｐ−メトキシスチレン、インデン、ｐ−ビニル
ベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジ
ルエーテル等の芳香族ビニル化合物；メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プ
ロピルメタクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ
−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、
ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピル
アクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリ
レート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメ
タクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレ
ート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、
２−メトキシエチルアクリレート、２−メトキシエチル
メタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、メトキシジエチレングリコールメタクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メ
トキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキ
シジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプ
ロピレングリコールメタクリレート、グリセリンモノア
クリレート、グリセリンモノメタクリレート等の不飽和
カルボン酸エステル類；２−アミノエチルアクリレー
ト、２−アミノエチルメタクリレート、２−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、２−ジメチルアミノエチルメ
タクリレート、２−アミノプロピルアクリレート、２−
アミノプロピルメタクリレート、２−ジメチルアミノプ
ロピルアクリレート、２−ジメチルアミノプロピルメタ
クリレート、３−アミノプロピルアクリレート、３−ア
ミノプロピルメタクリレート、３−ジメチルアミノプロ
ピルアクリレート、３−ジメチルアミノプロピルメタク
リレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル
類；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；酢酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニ
ル等のカルボン酸ビニルエステル類；ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテ
ル、メタクリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル
類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロ
ロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化
ビニル化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド、α
−クロロアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メ
タクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−
メチロールメタクリルアミド等の不飽和アミド類；Ｎ−
シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、
Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒド
ロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニ
ルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ
−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェ
ニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミ
ド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メ
トキシフェニルマレイミド等のＮ−置換マレイミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂
肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチルアクリレ
ート、ポリメチルメタクリレート、ポリ−ｎ−ブチルア
クリレート、ポリ−ｎ−ブチルメタクリレート、ポリシ
ロキサン等の重合体分子鎖末端にモノアクリロイル基あ
るいはモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類
等を挙げることができる。これらの他の不飽和モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。
【００２３】カルボキシル基含有共重合体としては、特
に、アクリル酸および／またはメタクリル酸を必須成
分とし、場合により、こはく酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）および／またはこはく酸モノ（２−メタク
リロイロキシエチル）を含有するカルボキシル基含有不
飽和モノマーと、スチレン、メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリ
レート、フェニルメタクリレート、グリセリンモノアク
リレート、グリセリンモノメタクリレート、Ｎ−フェニ
ルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリ
メチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる
少なくとも１種との共重合体（以下、「カルボキシル基
含有共重合体（Ｉ）」という。）が好ましい。
に、アクリル酸および／またはメタクリル酸を必須成
分とし、場合により、こはく酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）および／またはこはく酸モノ（２−メタク
リロイロキシエチル）を含有するカルボキシル基含有不
飽和モノマーと、スチレン、メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリ
レート、フェニルメタクリレート、グリセリンモノアク
リレート、グリセリンモノメタクリレート、Ｎ−フェニ
ルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリ
メチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる
少なくとも１種との共重合体（以下、「カルボキシル基
含有共重合体（Ｉ）」という。）が好ましい。
【００２４】カルボキシル基含有共重合体（Ｉ）の具体
例としては、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／
メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合
体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタ
クリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル
（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレ
ート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体からなる二元ないし三元共重合体（以下、「カルボキ
シル基含有共重合体（Ｉａ）」という。）；
例としては、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／
メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合
体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタ
クリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル
（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレ
ート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体からなる二元ないし三元共重合体（以下、「カルボキ
シル基含有共重合体（Ｉａ）」という。）；
【００２５】（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレー
ト／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニ
ルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン
／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセ
リンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリ
レート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アク
リレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモ
ノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
共重合体、
ル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレー
ト／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニ
ルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン
／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセ
リンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリ
レート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アク
リレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモ
ノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
共重合体、
【００２６】（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル
メタクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェ
ニル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／フェニル（メタ）アクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）ア
クリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体からなる四元共重合体（以下、「カルボキシル基含有
共重合体（Ｉｂ）」という。）；
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル
メタクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェ
ニル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／フェニル（メタ）アクリレート／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）ア
クリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体からなる四元共重合体（以下、「カルボキシル基含有
共重合体（Ｉｂ）」という。）；
【００２７】（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／フェニ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／メチル（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／フェニ
ル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／メ
チル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共
重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）
アクリレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベ
ンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノ
マー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／フェニ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／メチル（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／フェニ
ル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／メ
チル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共
重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）
アクリレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベ
ンジル（メタ）アクリレート共重合体、
【００２８】（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）アクリ
レート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）ア
クリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチ
レン／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ
〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン
／フェニル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アク
リレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フ
ェニル（メタ）アクリレート共重合体、
タ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）アクリ
レート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）ア
クリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチ
レン／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ
〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン
／フェニル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリ
レートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アク
リレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フ
ェニル（メタ）アクリレート共重合体、
【００２９】（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アク
リル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロ
イロキシエチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレー
ト／メチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレー
ト／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレ
イミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
フェニル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
フェニル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こ
はく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミ
ド／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アク
リル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル
酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロ
イロキシエチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレー
ト／メチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレー
ト／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレ
イミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
フェニル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／
フェニル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こ
はく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／メチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミ
ド／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／メチ
ル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
【００３０】（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アク
リレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモ
ノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリ
レート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸
モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセ
リンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニ
ルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、
タ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕
／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アク
リレート共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモ
ノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリ
レート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸
モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセ
リンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニ
ルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、
【００３１】（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく
酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）ア
クリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モ
ノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリ
レート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）ア
クリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキ
シエチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベ
ンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２
−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく
酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリ
セリンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）ア
クリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル（メ
タ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アク
リレート／ベンジル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モ
ノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリ
ンモノ（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリ
レート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）ア
クリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキ
シエチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／ベ
ンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２
−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
【００３２】（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）
アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ
〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェ
ニル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマ
レイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）
アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／こ
はく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマ
レイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共
重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メ
タ）アクリロイロキシエチル〕／スチレン／ベンジル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体からなる五元共重合体（以下、「カルボキシル基含有
共重合体（Ｉｃ）」という。）；
タ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ
−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）
アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ
〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリン
モノ（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル〕／グリセリンモノ（メタ）アクリレート／フェ
ニル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−
（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレ
ート／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマ
レイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセリンモノ（メタ）アクリレート
／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）
アクリロイロキシエチル〕／グリセリンモノ（メタ）ア
クリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／こ
はく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／
グリセリンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマ
レイミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共
重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メ
タ）アクリロイロキシエチル〕／スチレン／ベンジル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体からなる五元共重合体（以下、「カルボキシル基含有
共重合体（Ｉｃ）」という。）；
【００３３】（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレ
ン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベン
ジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／スチレン／２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体からなる
六元共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｄ）」という。）等を挙げることができる。
ロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレ
ン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベン
ジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／スチレン／２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体からなる
六元共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｄ）」という。）等を挙げることができる。
【００３４】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、通常、
５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。
この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合
割合が５重量％未満では、得られる感放射線性組成物の
アルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、
一方５０重量％を超えると、アルカリ現像液による現像
時に、形成されたパターンの基板からの脱落やパターン
表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。本発明に
おけるアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、好ましくは１，０
００〜１，０００，０００、さらに好ましくは５，００
０〜１００，０００である。本発明において、アルカリ
可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の
使用量は、（Ａ）着色剤中の顔料１００重量部に対し
て、通常、１０〜１０００重量部、好ましくは２０〜５
００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使
用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が
低下したり、パターンが形成される部分以外の領域での
地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１０００
重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するた
め、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難
となる場合がある。
ボキシル基含有不飽和モノマーの共重合割合は、通常、
５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。
この場合、カルボキシル基含有不飽和モノマーの共重合
割合が５重量％未満では、得られる感放射線性組成物の
アルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、
一方５０重量％を超えると、アルカリ現像液による現像
時に、形成されたパターンの基板からの脱落やパターン
表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。本発明に
おけるアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、好ましくは１，０
００〜１，０００，０００、さらに好ましくは５，００
０〜１００，０００である。本発明において、アルカリ
可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の
使用量は、（Ａ）着色剤中の顔料１００重量部に対し
て、通常、１０〜１０００重量部、好ましくは２０〜５
００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使
用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が
低下したり、パターンが形成される部分以外の領域での
地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１０００
重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するた
め、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難
となる場合がある。
【００３５】（Ｃ）多官能性モノマー 本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類；グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の３価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性
物；ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴア
クリレートまたはオリゴメタクリレート類；両末端ヒド
ロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたは
ジメタクリレート類；トリス（２−アクリロイルオキシ
エチル）フォスフェート、トリス（２−メタクリロイル
オキシエチル）フォスフェート等を挙げることができ
る。
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類；グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の３価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性
物；ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴア
クリレートまたはオリゴメタクリレート類；両末端ヒド
ロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたは
ジメタクリレート類；トリス（２−アクリロイルオキシ
エチル）フォスフェート、トリス（２−メタクリロイル
オキシエチル）フォスフェート等を挙げることができ
る。
【００３６】これらの多官能性モノマーのうち、３価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好まし
く、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトール
トリメタクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好まし
く、特にトリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートが、パターン強度が高く、
パターン表面の平滑性に優れ、かつパターンが形成され
る部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点
で好ましい。前記多官能性モノマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好まし
く、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトール
トリメタクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好まし
く、特にトリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートが、パターン強度が高く、
パターン表面の平滑性に優れ、かつパターンが形成され
る部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点
で好ましい。前記多官能性モノマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。
【００３７】本発明における多官能性モノマーの使用量
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量
部である。この場合、多官能性モノマーの使用量が５重
量部未満では、パターン強度やパターン表面の平滑性が
低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例
えば、アルカリ現像性が低下したり、パターンが形成さ
れる部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすく
なる傾向がある。
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量
部である。この場合、多官能性モノマーの使用量が５重
量部未満では、パターン強度やパターン表面の平滑性が
低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例
えば、アルカリ現像性が低下したり、パターンが形成さ
れる部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすく
なる傾向がある。
【００３８】また、本発明においては、前記多官能性モ
ノマーの一部を単官能性モノマーで置き換えることもで
きる。このような単官能性モノマーとしては、例えば、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を構成するカルボキシル基含
有不飽和モノマーあるいは他の不飽和モノマーや、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート
のほか、市販品としてＭ−５３００（商品名、東亜合成
化学工業（株）製）等を挙げることができる。これらの
単官能性モノマーのうち、こはく酸モノ（２−アクリロ
イロキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイロ
キシエチル）、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ
アクリレート（Ｍ−５３００）、ω−カルボキシポリカ
プロラクトンモノメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタ
クリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート等が好ましい。前記単官能性モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。単官能性モノマーの使用割合は、多官能性モノマ
ーと単官能性モノマーの合計量に対して、通常、９０重
量％以下、好ましくは５０重量％以下である。
ノマーの一部を単官能性モノマーで置き換えることもで
きる。このような単官能性モノマーとしては、例えば、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を構成するカルボキシル基含
有不飽和モノマーあるいは他の不飽和モノマーや、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート
のほか、市販品としてＭ−５３００（商品名、東亜合成
化学工業（株）製）等を挙げることができる。これらの
単官能性モノマーのうち、こはく酸モノ（２−アクリロ
イロキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイロ
キシエチル）、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ
アクリレート（Ｍ−５３００）、ω−カルボキシポリカ
プロラクトンモノメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタ
クリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ルメタクリレート等が好ましい。前記単官能性モノマー
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。単官能性モノマーの使用割合は、多官能性モノマ
ーと単官能性モノマーの合計量に対して、通常、９０重
量％以下、好ましくは５０重量％以下である。
【００３９】（Ｄ）光重合開始剤 本発明における光重合開始剤とは、露光により分解また
は結合の開裂を生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等
の、前記（Ｃ）多官能性モノマーの重合を開始すること
ができる活性種を発生する化合物を意味する。このよう
な光重合開始剤としては、例えば、イミダゾール環を有
する化合物、ベンゾイン結合を有する化合物、他の光ラ
ジカル発生剤、トリハロメチル基を有する化合物等を挙
げることができる。前記イミダゾール環を有する化合物
の具体例としては、下記一般式（１）で表される化合物
（以下、「ビイミダゾール系化合物（１）」とい
う。）、下記一般式（２）で表される化合物（以下、
「ビイミダゾール系化合物（２）」という。）等を挙げ
ることができる。
は結合の開裂を生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等
の、前記（Ｃ）多官能性モノマーの重合を開始すること
ができる活性種を発生する化合物を意味する。このよう
な光重合開始剤としては、例えば、イミダゾール環を有
する化合物、ベンゾイン結合を有する化合物、他の光ラ
ジカル発生剤、トリハロメチル基を有する化合物等を挙
げることができる。前記イミダゾール環を有する化合物
の具体例としては、下記一般式（１）で表される化合物
（以下、「ビイミダゾール系化合物（１）」とい
う。）、下記一般式（２）で表される化合物（以下、
「ビイミダゾール系化合物（２）」という。）等を挙げ
ることができる。
【００４０】
【化１】 〔一般式（１）において、Ｘは水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数
６〜９のアリール基を示し、複数存在するＸは相互に同
一でも異なってもよく、Ａは−COO-Ｒ（但し、Ｒは炭素
数１〜４のアルキル基または炭素数６〜９のアリール基
を示す。）を示し、複数存在するＡは相互に同一でも異
なってもよく、ｉ、ｊおよびｋはそれぞれ１〜３の整数
である。〕
子、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数
６〜９のアリール基を示し、複数存在するＸは相互に同
一でも異なってもよく、Ａは−COO-Ｒ（但し、Ｒは炭素
数１〜４のアルキル基または炭素数６〜９のアリール基
を示す。）を示し、複数存在するＡは相互に同一でも異
なってもよく、ｉ、ｊおよびｋはそれぞれ１〜３の整数
である。〕
【００４１】
【化２】 〔一般式（２）において、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 は相互
に独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１
〜４のアルキル基または炭素数６〜９のアリール基を示
す。但し、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 のうち２個以上が同時
に水素原子をとることはない。〕
に独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１
〜４のアルキル基または炭素数６〜９のアリール基を示
す。但し、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 のうち２個以上が同時
に水素原子をとることはない。〕
【００４２】一般式（１）および一般式（２）における
Ｘ、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 のハロゲン原子としては、例
えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げること
ができ、炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔ−ブチル基等を挙げることができ、炭素数６〜９のア
リール基としては、例えば、フェニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等を挙げることができ
る。また、一般式（１）において、Ａの−COO-Ｒにおけ
るＲとしては、Ｘ、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 について例示
した炭素数１〜４のアルキル基および炭素数６〜９のア
リール基と同様の基を挙げることができる。一般式
（１）および一般式（２）は、２個のイミダゾール単位
が１位または２位で相互に結合した構造を一般的に表し
ている。したがって、ビイミダゾール系化合物（１）お
よびビイミダゾール系化合物（２）は、それらの主要骨
格が下記式（３）、式（４）または式（５）に相当する
化合物の単独あるいは２種以上の混合物である。
Ｘ、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 のハロゲン原子としては、例
えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げること
ができ、炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔ−ブチル基等を挙げることができ、炭素数６〜９のア
リール基としては、例えば、フェニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等を挙げることができ
る。また、一般式（１）において、Ａの−COO-Ｒにおけ
るＲとしては、Ｘ、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 について例示
した炭素数１〜４のアルキル基および炭素数６〜９のア
リール基と同様の基を挙げることができる。一般式
（１）および一般式（２）は、２個のイミダゾール単位
が１位または２位で相互に結合した構造を一般的に表し
ている。したがって、ビイミダゾール系化合物（１）お
よびビイミダゾール系化合物（２）は、それらの主要骨
格が下記式（３）、式（４）または式（５）に相当する
化合物の単独あるいは２種以上の混合物である。
【００４３】
【化３】
【００４４】
【化４】
【００４５】
【化５】
【００４６】ビイミダゾール系化合物（１）およびビイ
ミダゾール系化合物（２）の具体例を示すと、次のとお
りである。ビイミダゾール系化合物（１）としては、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキ
シカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニ
ルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−
ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカル
ボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリ
ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）
−４，４’，５．５’−テトラキス（４−エトキシカル
ボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−メトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’
−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニル
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メ
トキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
ミダゾール系化合物（２）の具体例を示すと、次のとお
りである。ビイミダゾール系化合物（１）としては、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキ
シカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニ
ルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−
ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカル
ボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリ
ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）
−４，４’，５．５’−テトラキス（４−エトキシカル
ボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−メトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’
−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニル
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メ
トキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
【００４７】また、ビイミダゾール系化合物（２）とし
ては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−
ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４，６−トリメチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’
−ビス（２，４−ジエチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリエチルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることが
できる。
ては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−
ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４，６−トリメチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’
−ビス（２，４−ジエチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリエチルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることが
できる。
【００４８】これらのうち、ビイミダゾール系化合物
（１）としては、特に２，２’−ビス（２−クロルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキ
シカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾールお
よび２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、ま
たビイミダゾール系化合物（２）としては、特に２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，
４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好まし
い。ビイミダゾール系化合物（１）およびビイミダゾー
ル系化合物（２）は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶
解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度
が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十
分進行させるとともに、コントラストが高く、未露光部
で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、
現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高
い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、パタ
ーンの欠落、欠損やアンダーカットのない優れたブラッ
クマトリックスおよびスペーサーを形成することができ
る。
（１）としては、特に２，２’−ビス（２−クロルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキ
シカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾールお
よび２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、ま
たビイミダゾール系化合物（２）としては、特に２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，
４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好まし
い。ビイミダゾール系化合物（１）およびビイミダゾー
ル系化合物（２）は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶
解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度
が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十
分進行させるとともに、コントラストが高く、未露光部
で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、
現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高
い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、パタ
ーンの欠落、欠損やアンダーカットのない優れたブラッ
クマトリックスおよびスペーサーを形成することができ
る。
【００４９】また、前記ベンゾイン結合を有する化合物
および他の光ラジカル発生剤の具体例としては、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−
モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、３，３’−ジ
メチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、４−アジドベンズアルデヒド、４−
アジドアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェ
ノン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４
−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジア
ゾ−３−メトキシジフェニルアミン、ビス（２，６−ジ
メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチ
ルフォスフィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、Ｎ−フェニルチオアクリドン、ト
リフェニルピリリウムパークロレート等を挙げることが
できる。さらに、前記トリハロメチル基を有する化合物
の具体例としては、１，３，５−トリス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメ
チル）−５−（２−クロロフェニル）−ｓ−トリアジ
ン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４−ク
ロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリ
クロロメチル）−５−（２−メトキシフェニル）−ｓ−
トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−
（４−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げる
ことができる。これらのベンゾイン結合を有する化合
物、他の光ラジカル発生剤およびトリハロメチル基を有
する化合物のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチ
ルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−
１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が、
形成されたパターンが現像時に基板から脱離し難く、パ
ターン強度および感度も高い点で好ましい。前記光重合
開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用するこ
とができる。
および他の光ラジカル発生剤の具体例としては、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−
モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、３，３’−ジ
メチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、４−アジドベンズアルデヒド、４−
アジドアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェ
ノン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４
−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジア
ゾ−３−メトキシジフェニルアミン、ビス（２，６−ジ
メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチ
ルフォスフィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、Ｎ−フェニルチオアクリドン、ト
リフェニルピリリウムパークロレート等を挙げることが
できる。さらに、前記トリハロメチル基を有する化合物
の具体例としては、１，３，５−トリス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメ
チル）−５−（２−クロロフェニル）−ｓ−トリアジ
ン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４−ク
ロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリ
クロロメチル）−５−（２−メトキシフェニル）−ｓ−
トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−
（４−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げる
ことができる。これらのベンゾイン結合を有する化合
物、他の光ラジカル発生剤およびトリハロメチル基を有
する化合物のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチ
ルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−
１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が、
形成されたパターンが現像時に基板から脱離し難く、パ
ターン強度および感度も高い点で好ましい。前記光重合
開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用するこ
とができる。
【００５０】本発明においては、必要に応じて、前記光
重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化
合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤（以下、「高分
子光架橋・増感剤」という。）の群から選ばれる１種以
上をさらに併用することもできる。前記増感剤の具体例
としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチ
ルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルア
ミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ
−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４
−（ジエチルアミノ）カルコン等を挙げることができ
る。また、前記硬化促進剤の具体例としては、２−メル
カプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２，５−
ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メル
カプト−４，６−ジメチルアミノピリジン、１−フェニ
ル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３−メルカ
プト−４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール等
の連鎖移動剤を挙げることができる。さらに、前記高分
子光架橋・増感剤は、光架橋剤および／または光増感剤
として機能しうる官能基を主鎖および／または側鎖中に
有する高分子化合物であり、その具体例としては、４−
アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコールとの縮
合物、４−アジドベンズアルデヒドとフェノールノボラ
ック樹脂との縮合物、４−アクリロイルフェニルシンナ
モイルエステルの単独重合体あるいは共重合体、１，４
−ポリブタジエン、１，２−ポリブタジエン等を挙げる
ことができる。前記増感剤、硬化促進剤および高分子光
架橋・増感剤のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンおよび２−メルカプトベンゾチアゾ
ールが、形成されたパターンが現像時に基板から脱落し
難く、パターン強度および感度も高い点で好ましい。
重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化
合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤（以下、「高分
子光架橋・増感剤」という。）の群から選ばれる１種以
上をさらに併用することもできる。前記増感剤の具体例
としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチ
ルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルア
ミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ
−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４
−（ジエチルアミノ）カルコン等を挙げることができ
る。また、前記硬化促進剤の具体例としては、２−メル
カプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２，５−
ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メル
カプト−４，６−ジメチルアミノピリジン、１−フェニ
ル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３−メルカ
プト−４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール等
の連鎖移動剤を挙げることができる。さらに、前記高分
子光架橋・増感剤は、光架橋剤および／または光増感剤
として機能しうる官能基を主鎖および／または側鎖中に
有する高分子化合物であり、その具体例としては、４−
アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコールとの縮
合物、４−アジドベンズアルデヒドとフェノールノボラ
ック樹脂との縮合物、４−アクリロイルフェニルシンナ
モイルエステルの単独重合体あるいは共重合体、１，４
−ポリブタジエン、１，２−ポリブタジエン等を挙げる
ことができる。前記増感剤、硬化促進剤および高分子光
架橋・増感剤のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンおよび２−メルカプトベンゾチアゾ
ールが、形成されたパターンが現像時に基板から脱落し
難く、パターン強度および感度も高い点で好ましい。
【００５１】本発明においては、光重合開始剤として、
ビイミダゾール系化合物（１）およびビイミダゾール系
化合物（２）の群から選ばれる１種以上と、ベンゾフェ
ノン系のベンゾイン結合を有する化合物、ベンゾフェノ
ン系の他の光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感
剤およびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１
種以上とを組み合わせて使用することが特に好ましい。
前記特に好ましい組み合わせの具体例としては、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾ
ール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２，２’−ビ
ス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケ０ン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’
−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン／２−メルカプトベ
ンゾチアゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス（２，４−ジブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１
−オン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビ
イミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾール等を挙げる
ことができる。
ビイミダゾール系化合物（１）およびビイミダゾール系
化合物（２）の群から選ばれる１種以上と、ベンゾフェ
ノン系のベンゾイン結合を有する化合物、ベンゾフェノ
ン系の他の光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感
剤およびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１
種以上とを組み合わせて使用することが特に好ましい。
前記特に好ましい組み合わせの具体例としては、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾ
ール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２，２’−ビ
ス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケ０ン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’
−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン／２−メルカプトベ
ンゾチアゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス（２，４−ジブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１
−オン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビ
イミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン／２−メルカプトベンゾチアゾール等を挙げる
ことができる。
【００５２】本発明において、ベンゾイン結合を有する
化合物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０
重量％以下であることが好ましく、また増感剤および硬
化促進剤の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０重
量％以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・
増感剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物（１）お
よびビイミダゾール系化合物（２）の合計１００重量部
に対して、通常、２００重量部以下、好ましくは１８０
重量部以下である。本発明における光重合開始剤の使用
量は、（Ｃ）多官能性モノマー１００重量部に対して、
通常、０．０１〜５００重量部、好ましくは１〜３００
重量部、特に好ましくは１０〜２００重量部である。こ
の場合、光重合開始剤の使用量が０．０１重量部未満で
は、露光による硬化が不十分となり、パターンに欠落、
欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５０
０重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基
板から脱落しやすく、またパターンが形成される部分以
外の領域で地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
化合物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０
重量％以下であることが好ましく、また増感剤および硬
化促進剤の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０重
量％以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・
増感剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物（１）お
よびビイミダゾール系化合物（２）の合計１００重量部
に対して、通常、２００重量部以下、好ましくは１８０
重量部以下である。本発明における光重合開始剤の使用
量は、（Ｃ）多官能性モノマー１００重量部に対して、
通常、０．０１〜５００重量部、好ましくは１〜３００
重量部、特に好ましくは１０〜２００重量部である。こ
の場合、光重合開始剤の使用量が０．０１重量部未満で
は、露光による硬化が不十分となり、パターンに欠落、
欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５０
０重量部を超えると、形成されたパターンが現像時に基
板から脱落しやすく、またパターンが形成される部分以
外の領域で地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
【００５３】添加剤 さらに、本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物
は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもでき
る。このような添加剤としては、例えば、ポリビニルア
ルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、ポリ（フロロアルキルアクリレート）類等の高分
子化合物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界
面活性剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シ
ラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノ
ール等の酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収
剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げ
ることができる。
は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもでき
る。このような添加剤としては、例えば、ポリビニルア
ルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、ポリ（フロロアルキルアクリレート）類等の高分
子化合物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界
面活性剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シ
ラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノ
ール等の酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収
剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げ
ることができる。
【００５４】また、本発明のブラックレジスト用感放射
線性組成物は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシ
ル基を有する樹脂である場合、該組成物から形成される
塗膜のアルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、か
つ現像処理後の未溶解物の残存をより抑制するために、
有機酸を含有するこもできる。このような有機酸として
は、分子量が１，０００以下である、脂肪族カルボン酸
あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。前記脂
肪族カルボン酸の具体例としては、ぎ酸、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチ
ル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸
類；しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチル
こはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等の
ジカルボン酸類；トリカルバリル酸、アコニット酸、カ
ンホロン酸等のトリカルボン酸類等を挙げることができ
る。また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、カ
ルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香族カルボ
ン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に
結合したカルボン酸を挙げることができ、それらの具体
例としては、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリ
ト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類；フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボ
ン酸類；トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン
酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリカルボン
酸類や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい
皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、け
い皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸等を
挙げることができる。これらの有機酸のうち、マロン
酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル
酸、メサコン酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類お
よび芳香族ジカルボン酸類が、アルカリ溶解性、後述す
る溶剤に対する溶解性、パターンが形成される部分以外
の領域での地汚れの防止等の観点から好ましい。前記有
機酸は、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に
対して、通常、１０重量％以下、好ましくは１重量％以
下である。この場合、有機酸の使用量が１０重量％を超
えると、形成されたパターンの基板に対する密着性が低
下する傾向がある。
線性組成物は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシ
ル基を有する樹脂である場合、該組成物から形成される
塗膜のアルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、か
つ現像処理後の未溶解物の残存をより抑制するために、
有機酸を含有するこもできる。このような有機酸として
は、分子量が１，０００以下である、脂肪族カルボン酸
あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。前記脂
肪族カルボン酸の具体例としては、ぎ酸、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチ
ル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸
類；しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチル
こはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等の
ジカルボン酸類；トリカルバリル酸、アコニット酸、カ
ンホロン酸等のトリカルボン酸類等を挙げることができ
る。また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、カ
ルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香族カルボ
ン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に
結合したカルボン酸を挙げることができ、それらの具体
例としては、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリ
ト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類；フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボ
ン酸類；トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン
酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリカルボン
酸類や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい
皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、け
い皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸等を
挙げることができる。これらの有機酸のうち、マロン
酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル
酸、メサコン酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類お
よび芳香族ジカルボン酸類が、アルカリ溶解性、後述す
る溶剤に対する溶解性、パターンが形成される部分以外
の領域での地汚れの防止等の観点から好ましい。前記有
機酸は、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に
対して、通常、１０重量％以下、好ましくは１重量％以
下である。この場合、有機酸の使用量が１０重量％を超
えると、形成されたパターンの基板に対する密着性が低
下する傾向がある。
【００５５】溶剤 本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物は、前記
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官
能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を必須の成分と
し、場合によりさらに前記添加剤を含有するが、通常、
（Ａ）着色剤以外の各成分を適当な溶剤に溶解した液状
組成物として調製される。このような溶剤としては、
（Ａ）〜（Ｄ）の各成分や添加剤成分を分散または溶解
し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有す
るものである限り、適宜に選択して使用することができ
る。このような溶剤の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレ
ングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキル
エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプ
タノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシ
プロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−
メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒド
ロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メチル−３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢
酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸
ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪
酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−
プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−
オキソ酪酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド等のカルボン酸アミド類等を挙げることができ
る。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して
使用することができる。
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官
能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を必須の成分と
し、場合によりさらに前記添加剤を含有するが、通常、
（Ａ）着色剤以外の各成分を適当な溶剤に溶解した液状
組成物として調製される。このような溶剤としては、
（Ａ）〜（Ｄ）の各成分や添加剤成分を分散または溶解
し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有す
るものである限り、適宜に選択して使用することができ
る。このような溶剤の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレ
ングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキル
エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプ
タノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシ
プロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−
メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒド
ロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メチル−３−メト
キシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテー
ト、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢
酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸
ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪
酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−
プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−
オキソ酪酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド等のカルボン酸アミド類等を挙げることができ
る。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して
使用することができる。
【００５６】さらに、前記溶剤と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセ
トン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オク
タノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ルアセテート等の高沸点溶剤を併用することもできる。
これらの高沸点溶剤は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。
エーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセ
トン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オク
タノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ルアセテート等の高沸点溶剤を併用することもできる。
これらの高沸点溶剤は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。
【００５７】前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロ
ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、４−メトキシブチルアセ
テート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネー
ト、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢
酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、
酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル
等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチロラク
トン等が好ましい。溶剤の使用量は、（Ｂ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常、１００〜１００
００重量部、好ましくは５００〜５０００重量部であ
る。
布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロ
ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、４−メトキシブチルアセ
テート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネー
ト、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢
酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、
酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル
等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチロラク
トン等が好ましい。溶剤の使用量は、（Ｂ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常、１００〜１００
００重量部、好ましくは５００〜５０００重量部であ
る。
【００５８】ブラックマトリックスおよびスペーサーの
作製方法 次に、本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物を
用いて、ブラックマトリックスおよびスペーサーを作製
する方法について説明する。基板上に、本発明のブラッ
クレジスト用感放射線性組成物を塗布したのち、プリベ
ークを行って溶剤を蒸発させて、塗膜を形成する。次い
で、この塗膜にフォトマスクを介して所定のパターン形
状に露光したのち、アルカリ現像液を用いて現像して、
塗膜の未露光部を溶解除去し、その後好ましくはポスト
ベークを行うことにより、所定の黒色パターンが配置さ
れたブラックマトリックスあるいはスペーサーを得るこ
とができる。前記基板としては、例えば、ガラス、シリ
コン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリア
ミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることが
できる。また、これらの基板には、所望により、シラン
カップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオ
ンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空
蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。ブラ
ックレジスト用感放射線性組成物を基板に塗布する際に
は、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法
を採用することができる。塗布厚さは、乾燥後の膜厚と
して、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜
７．０μｍ、さらに好ましくは０．５〜６．０μｍであ
る。ブラックマトリックスおよびスペーサーを作製する
際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫
外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用することができ
るが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が
好ましい。放射線の照射エネルギー量は、好ましくは１
０〜１０，０００Ｊ／ｍ2 である。また、前記アルカリ
現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−
［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシ
クロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が好まし
い。前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタ
ノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加す
ることもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗
する。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー
現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現
像法等を適用することができ、現像条件は、常温で５〜
３００秒が好ましい。このようにして作製されたブラッ
クマトリックスおよびスペーサーは、例えば、カラー液
晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極
めて有用である。
作製方法 次に、本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物を
用いて、ブラックマトリックスおよびスペーサーを作製
する方法について説明する。基板上に、本発明のブラッ
クレジスト用感放射線性組成物を塗布したのち、プリベ
ークを行って溶剤を蒸発させて、塗膜を形成する。次い
で、この塗膜にフォトマスクを介して所定のパターン形
状に露光したのち、アルカリ現像液を用いて現像して、
塗膜の未露光部を溶解除去し、その後好ましくはポスト
ベークを行うことにより、所定の黒色パターンが配置さ
れたブラックマトリックスあるいはスペーサーを得るこ
とができる。前記基板としては、例えば、ガラス、シリ
コン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリア
ミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることが
できる。また、これらの基板には、所望により、シラン
カップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオ
ンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空
蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。ブラ
ックレジスト用感放射線性組成物を基板に塗布する際に
は、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法
を採用することができる。塗布厚さは、乾燥後の膜厚と
して、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜
７．０μｍ、さらに好ましくは０．５〜６．０μｍであ
る。ブラックマトリックスおよびスペーサーを作製する
際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫
外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用することができ
るが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が
好ましい。放射線の照射エネルギー量は、好ましくは１
０〜１０，０００Ｊ／ｍ2 である。また、前記アルカリ
現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−
［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシ
クロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が好まし
い。前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタ
ノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加す
ることもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗
する。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー
現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現
像法等を適用することができ、現像条件は、常温で５〜
３００秒が好ましい。このようにして作製されたブラッ
クマトリックスおよびスペーサーは、例えば、カラー液
晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極
めて有用である。
【００５９】
【発明の実施の形態】本発明のブラックレジスト用感放
射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性
樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始
剤を必須成分として含有し、かつ（Ａ）着色剤がウレタ
ン系分散剤を含む分散剤により分散されているものであ
るが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記
（イ）〜（リ）のとおりである。 （イ） （Ｄ）光重合開始剤が２，２’−ビス（２−ク
ロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４
−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダ
ゾールおよび２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾールの群から選
ばれる１種以上のビイミダゾール系化合物（１）を含有
するブラックレジスト用感放射線性組成物。 （ロ） （Ｄ）光重合開始剤が２，２’−ビス（２，４
−ジクロロフェニル）−４，４’，５、５’−テトラフ
ェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾールの群から選ばれる１種以上の
ビイミダゾール系化合物（２）を含有するブラックレジ
スト用感放射線性組成物。 （ハ） （Ｄ）光重合開始剤がさらに、ベンゾフェノン
系のベンゾイン結合を有する化合物、ベンゾフェノン系
の他の光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感剤お
よびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１種以
上の成分を含有する前記（イ）または（ロ）のブラック
レジスト用感放射線性組成物。 （ニ） （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、カルボキシル基
含有共重合体（Ｉａ）、カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｂ）、カルボキシル基含有共重合体（Ｉｃ）および
カルボキシル基含有共重合体（Ｉｄ）の群から選ばれる
少なくとも１種からなる前記（イ）、（ロ）または
（ハ）のブラックレジスト用感放射線性組成物。 （ホ） （Ｃ）多官能性モノマーがトリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記
（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）のブラックレジス
ト用感放射線性組成物。 （ヘ） （Ａ）着色剤がカーボンブラックおよび／また
は有機顔料を含有する前記（イ）、（ロ）、（ハ）、
（ニ）または（ホ）のブラックレジスト用感放射線性組
成物。 （ト） （Ａ）着色剤がさらに体質顔料を含有する前記
（ヘ）のブラックレジスト用感放射線性組成物。
射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性
樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始
剤を必須成分として含有し、かつ（Ａ）着色剤がウレタ
ン系分散剤を含む分散剤により分散されているものであ
るが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記
（イ）〜（リ）のとおりである。 （イ） （Ｄ）光重合開始剤が２，２’−ビス（２−ク
ロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４
−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダ
ゾールおよび２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボ
ニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾールの群から選
ばれる１種以上のビイミダゾール系化合物（１）を含有
するブラックレジスト用感放射線性組成物。 （ロ） （Ｄ）光重合開始剤が２，２’−ビス（２，４
−ジクロロフェニル）−４，４’，５、５’−テトラフ
ェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾールの群から選ばれる１種以上の
ビイミダゾール系化合物（２）を含有するブラックレジ
スト用感放射線性組成物。 （ハ） （Ｄ）光重合開始剤がさらに、ベンゾフェノン
系のベンゾイン結合を有する化合物、ベンゾフェノン系
の他の光ラジカル発生剤、ベンゾフェノン系の増感剤お
よびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１種以
上の成分を含有する前記（イ）または（ロ）のブラック
レジスト用感放射線性組成物。 （ニ） （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、カルボキシル基
含有共重合体（Ｉａ）、カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｂ）、カルボキシル基含有共重合体（Ｉｃ）および
カルボキシル基含有共重合体（Ｉｄ）の群から選ばれる
少なくとも１種からなる前記（イ）、（ロ）または
（ハ）のブラックレジスト用感放射線性組成物。 （ホ） （Ｃ）多官能性モノマーがトリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記
（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）のブラックレジス
ト用感放射線性組成物。 （ヘ） （Ａ）着色剤がカーボンブラックおよび／また
は有機顔料を含有する前記（イ）、（ロ）、（ハ）、
（ニ）または（ホ）のブラックレジスト用感放射線性組
成物。 （ト） （Ａ）着色剤がさらに体質顔料を含有する前記
（ヘ）のブラックレジスト用感放射線性組成物。
【００６０】（チ） ウレタン系分散剤が、下記〜
の特性のうち少なくとも１つを有する前記（イ）、
（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）、（ヘ）または（ト）
のブラックレジスト用感放射線性組成物（但し、と
とを同時に有することはない。）。 １５０℃以上の温度で３０分以上熱処理したとき極
性溶剤に不溶となる。 酸価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０mgKO
H/g でアミン価が０mgKOH/g である。 アミン価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０
mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g である。 電圧保持率が８０％以上、好ましくは８５％以上で
ある。
の特性のうち少なくとも１つを有する前記（イ）、
（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）、（ヘ）または（ト）
のブラックレジスト用感放射線性組成物（但し、と
とを同時に有することはない。）。 １５０℃以上の温度で３０分以上熱処理したとき極
性溶剤に不溶となる。 酸価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０mgKO
H/g でアミン価が０mgKOH/g である。 アミン価が５〜２５mgKOH/g 、好ましくは８〜２０
mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g である。 電圧保持率が８０％以上、好ましくは８５％以上で
ある。
【００６１】（リ） （Ａ）着色剤がC.I.ピグメントレ
ッド１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／ま
たはC.I.ピグメントブルー１５：６との混合物を含有す
る前記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）、
（ヘ）、（ト）または（チ）のブラックレジスト用感放
射線性組成物。
ッド１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／ま
たはC.I.ピグメントブルー１５：６との混合物を含有す
る前記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）、
（ヘ）、（ト）または（チ）のブラックレジスト用感放
射線性組成物。
【００６２】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実
施例に何ら制約されるものではない。
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実
施例に何ら制約されるものではない。
【実施例】実施例１ （Ａ）着色剤としてカーボンブラック１００重量部およ
び硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名
Disperbyk-182)３０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂
としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１
０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚１．３μｍの塗
膜を形成した。次いで、基板を室温に冷却したのち、高
圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波
長３６５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／ｍ2 露光した。
次いで、基板を２３℃の０．０４重量％水酸化カリウム
水溶液中に１分間浸漬して現像したのち、超純水で洗浄
し、風乾した。その後、２５０℃で３０分間ポストベー
クを行なって、基板上に黒色のパターンが形成されたブ
ラックマトリックスを作製した。ここで使用した分散剤
を、上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物
に１重量％溶解し、表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基
板上に、膜厚３μｍとなるようにスピンコートして、８
０℃で１０分間プリベークを行なったのち、上記と同様
の紫外線を２，０００Ｊ／ｍ2 照射し、その後２２０℃
で１時間ポストベークを行った。次いで、この塗布基板
を表面にＩＴＯ膜を形成した別のガラス基板と張り合わ
せ、基板間に液晶を注入して液晶セルを作製して、１０
０℃で１時間アニールを行った。得られた液晶セルにつ
いて、６０℃、保持時間１６．７ミリ秒の条件で電圧保
持率を測定したところ、８６％であった。また、ここで
使用した分散剤の酸価とアミン価を滴定法により測定し
たところ、酸価が０mgKOH/g 、アミン価が１４mgKOH/g
であった。得られた基板を表示パネルに組み立てて表示
テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良は認めら
れなかった。さらに、得られた基板は、未露光部の基板
上に残渣および地汚れが認められず、かつパターンの剥
がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度
を有し、パターン表面の平滑性に優れるものであった。
び硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名
Disperbyk-182)３０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂
としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１
０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚１．３μｍの塗
膜を形成した。次いで、基板を室温に冷却したのち、高
圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波
長３６５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／ｍ2 露光した。
次いで、基板を２３℃の０．０４重量％水酸化カリウム
水溶液中に１分間浸漬して現像したのち、超純水で洗浄
し、風乾した。その後、２５０℃で３０分間ポストベー
クを行なって、基板上に黒色のパターンが形成されたブ
ラックマトリックスを作製した。ここで使用した分散剤
を、上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物
に１重量％溶解し、表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基
板上に、膜厚３μｍとなるようにスピンコートして、８
０℃で１０分間プリベークを行なったのち、上記と同様
の紫外線を２，０００Ｊ／ｍ2 照射し、その後２２０℃
で１時間ポストベークを行った。次いで、この塗布基板
を表面にＩＴＯ膜を形成した別のガラス基板と張り合わ
せ、基板間に液晶を注入して液晶セルを作製して、１０
０℃で１時間アニールを行った。得られた液晶セルにつ
いて、６０℃、保持時間１６．７ミリ秒の条件で電圧保
持率を測定したところ、８６％であった。また、ここで
使用した分散剤の酸価とアミン価を滴定法により測定し
たところ、酸価が０mgKOH/g 、アミン価が１４mgKOH/g
であった。得られた基板を表示パネルに組み立てて表示
テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良は認めら
れなかった。さらに、得られた基板は、未露光部の基板
上に残渣および地汚れが認められず、かつパターンの剥
がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度
を有し、パターン表面の平滑性に優れるものであった。
【００６３】実施例２ （Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を１４
０重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を６０重量部
および硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商
品名Disperbyk-182)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性
樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタク
リレート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０
／１０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官
能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤と
して３−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部
を混合して、感放射線性組成物の液状組成物を調製し
た。この液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶
出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス
製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したの
ち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚７．０
μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを形成した。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
０重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を６０重量部
および硫酸バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商
品名Disperbyk-182)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性
樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタク
リレート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０
／１０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官
能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤と
して３−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部
を混合して、感放射線性組成物の液状組成物を調製し
た。この液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶
出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス
製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したの
ち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚７．０
μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを形成した。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
【００６４】実施例３ ウレタン系分散剤として、Disperbyk-182 に代えて、Di
sperbyk-170 を使用した以外は、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを作製した。ここで使用した
分散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混
合物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１
と同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、
電圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８
７％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とア
ミン価を滴定法により測定したところ、酸価が１１mgKO
H/g 、アミン価が０mgKOH/g であった。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
sperbyk-170 を使用した以外は、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを作製した。ここで使用した
分散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混
合物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１
と同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、
電圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８
７％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とア
ミン価を滴定法により測定したところ、酸価が１１mgKO
H/g 、アミン価が０mgKOH/g であった。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
【００６５】実施例４ ウレタン系分散剤として、Disperbyk-182 に代えて、Di
sperbyk-165 を使用した以外は、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを作製した。ここで使用した
分散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混
合物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１
と同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、
電圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８
７％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とア
ミン価を滴定法により測定したところ、酸価が０mgKOH/
g 、アミン価が１５mgKOH/g であった。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
sperbyk-165 を使用した以外は、実施例１と同様にし
て、ブラックマトリックスを作製した。ここで使用した
分散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混
合物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１
と同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、
電圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８
７％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とア
ミン価を滴定法により測定したところ、酸価が０mgKOH/
g 、アミン価が１５mgKOH/g であった。得られた基板を
表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼
き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得ら
れた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認
められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認
められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平
滑性に優れるものであった。
【００６６】実施例５ （Ａ）着色剤としてカーボンブラック５０重量部および
硫酸バリウム１５重量部、ウレタン系分散剤（商品名Di
sperbyk-162)２０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と
してメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１
０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚１．３μｍの塗
膜を形成した。次いで、実施例１と同様にして、ブラッ
クマトリックスを作製した。ここで使用した分散剤を、
上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物に１
重量％溶解し、表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板上
に、膜厚３μｍとなるようにスピンコートして、８０℃
で１０分間プリベークを行なったのち、上記と同様の紫
外線を２，０００Ｊ／ｍ2 照射し、その後２２０℃で１
時間ポストベークを行った。次いで、この塗布基板を表
面にＩＴＯ膜を形成した別のガラス基板と張り合わせ、
基板間に液晶を注入して液晶セルを作製して、１００℃
で１時間アニールを行った。得られた液晶セルについ
て、６０℃、保持時間１６．７ミリ秒の条件で電圧保持
率を測定したところ、８６％であった。また、ここで使
用した分散剤の酸価およびアミン価を滴定法により測定
したところ、酸価が０mgKOH/g 、アミン価が１４mgKOH/
g であった。また、この分散剤のＭｗは、１６，０００
であった。さらに、ここで使用した硫酸バリウムの平均
粒径を透過型電子顕微鏡で測定したところ、０．１μｍ
であった。得られた基板を表示パネルに組み立てて表示
テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良は認めら
れなかった。さらに、得られた基板は、未露光部の基板
上に残渣および地汚れが認められず、かつパターンの剥
がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度
を有し、パターン表面の平滑性に優れるものであった。
硫酸バリウム１５重量部、ウレタン系分散剤（商品名Di
sperbyk-162)２０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と
してメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト／ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１
０、Ｍｗ＝２５，０００）５０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚１．３μｍの塗
膜を形成した。次いで、実施例１と同様にして、ブラッ
クマトリックスを作製した。ここで使用した分散剤を、
上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物に１
重量％溶解し、表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板上
に、膜厚３μｍとなるようにスピンコートして、８０℃
で１０分間プリベークを行なったのち、上記と同様の紫
外線を２，０００Ｊ／ｍ2 照射し、その後２２０℃で１
時間ポストベークを行った。次いで、この塗布基板を表
面にＩＴＯ膜を形成した別のガラス基板と張り合わせ、
基板間に液晶を注入して液晶セルを作製して、１００℃
で１時間アニールを行った。得られた液晶セルについ
て、６０℃、保持時間１６．７ミリ秒の条件で電圧保持
率を測定したところ、８６％であった。また、ここで使
用した分散剤の酸価およびアミン価を滴定法により測定
したところ、酸価が０mgKOH/g 、アミン価が１４mgKOH/
g であった。また、この分散剤のＭｗは、１６，０００
であった。さらに、ここで使用した硫酸バリウムの平均
粒径を透過型電子顕微鏡で測定したところ、０．１μｍ
であった。得られた基板を表示パネルに組み立てて表示
テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良は認めら
れなかった。さらに、得られた基板は、未露光部の基板
上に残渣および地汚れが認められず、かつパターンの剥
がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度
を有し、パターン表面の平滑性に優れるものであった。
【００６７】実施例６ 実施例５と同様にして、感放射線性組成物の液状組成物
を調製した。この液状組成物を、表面にナトリウムイオ
ンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダ
ガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布
したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚
１．３μｍの塗膜を形成した。次いで、基板を室温に冷
却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介
して、塗膜に波長３６５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／
ｍ2 露光した。次いで、基板を２３℃の０．０４重量％
水酸化カリウム水溶液中に１分間浸漬して現像したの
ち、超純水で洗浄し、風乾した。その後、２５０℃で３
０分間ポストベークを行なって、基板上に、高さ５μ
ｍ、サイズ１８μｍ角の黒色のドットパターンが形成さ
れたブラックスペーサーを作製した。得られた基板を表
示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き
付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られ
た基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認め
られず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認め
られず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑
性に優れるものであった。
を調製した。この液状組成物を、表面にナトリウムイオ
ンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダ
ガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布
したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚
１．３μｍの塗膜を形成した。次いで、基板を室温に冷
却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介
して、塗膜に波長３６５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／
ｍ2 露光した。次いで、基板を２３℃の０．０４重量％
水酸化カリウム水溶液中に１分間浸漬して現像したの
ち、超純水で洗浄し、風乾した。その後、２５０℃で３
０分間ポストベークを行なって、基板上に、高さ５μ
ｍ、サイズ１８μｍ角の黒色のドットパターンが形成さ
れたブラックスペーサーを作製した。得られた基板を表
示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き
付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られ
た基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認め
られず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認め
られず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑
性に優れるものであった。
【００６８】実施例７ （Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を７５
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー
共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１０、Ｍ
ｗ＝２５，０００）７０重量部、（Ｃ）多官能性モノマ
ーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６
０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３−エト
キシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合して、
感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この液状性
組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシ
リカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の表面上
に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で４
分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗膜を形
成した。次いで、実施例１と同様にして、ブラックマト
リックスを形成した。得られた基板を表示パネルに組み
立てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表示不
良は認められなかった。さらに、得られた基板は、未露
光部の基板上に残渣および地汚れが認められず、かつパ
ターンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、しかも
高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れるもの
であった。
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー
共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１０、Ｍ
ｗ＝２５，０００）７０重量部、（Ｃ）多官能性モノマ
ーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６
０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３−エト
キシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合して、
感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この液状性
組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシ
リカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の表面上
に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で４
分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗膜を形
成した。次いで、実施例１と同様にして、ブラックマト
リックスを形成した。得られた基板を表示パネルに組み
立てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表示不
良は認められなかった。さらに、得られた基板は、未露
光部の基板上に残渣および地汚れが認められず、かつパ
ターンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、しかも
高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れるもの
であった。
【００６９】実施例８ 実施例７と同様にして、感放射線性組成物の液状組成物
を調製した。この液状組成物を、表面にナトリウムイオ
ンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダ
ガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布
したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚
７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と同様
にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた基板
を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、
焼き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得
られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが
認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も
認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の
平滑性に優れるものであった。
を調製した。この液状組成物を、表面にナトリウムイオ
ンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダ
ガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布
したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、膜厚
７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と同様
にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた基板
を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、
焼き付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得
られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが
認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も
認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の
平滑性に優れるものであった。
【００７０】実施例９ （Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を７５
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエ
チル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２／
１８／１５／３０、Ｍｗ＝２０，０００）７０重量部、
（Ｃ）多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート６０重量部、（Ｄ）光重合開始剤と
して２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０
重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン５０重
量部、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１，
５００重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成
物を調製した。この液状性組成物を、表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソ
ーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、
膜厚７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と
同様にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた
基板を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったとこ
ろ、焼き付き等の表示不良は認められなかった。さら
に、得られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地
汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および
欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン
表面の平滑性に優れるものであった。
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエ
チル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２／
１８／１５／３０、Ｍｗ＝２０，０００）７０重量部、
（Ｃ）多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート６０重量部、（Ｄ）光重合開始剤と
して２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０
重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン５０重
量部、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１，
５００重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成
物を調製した。この液状性組成物を、表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソ
ーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、
膜厚７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と
同様にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた
基板を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったとこ
ろ、焼き付き等の表示不良は認められなかった。さら
に、得られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地
汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および
欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン
表面の平滑性に優れるものであった。
【００７１】実施例１０ ウレタン系分散剤として、Disperbyk-162 に代えて、Di
sperbyk-170 を使用した以外は、実施例９と同様にし
て、ブラックスペーサーを作製した。ここで使用した分
散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合
物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１と
同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、電
圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８７
％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とアミ
ン価を滴定法により測定したところ、酸価が１１mgKOH/
g 、アミン価が０mgKOH/g であった。得られた基板を表
示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き
付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られ
た基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認め
られず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認め
られず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑
性に優れるものであった。
sperbyk-170 を使用した以外は、実施例９と同様にし
て、ブラックスペーサーを作製した。ここで使用した分
散剤を上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分および溶剤からなる混合
物に１重量％溶解した溶液を用いた以外は、実施例１と
同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルついて、電
圧保持率を実施例１と同様にして測定したところ、８７
％であった。また、ここで使用した分散剤の酸価とアミ
ン価を滴定法により測定したところ、酸価が１１mgKOH/
g 、アミン価が０mgKOH/g であった。得られた基板を表
示パネルに組み立てて表示テストを行ったところ、焼き
付き等の表示不良は認められなかった。さらに、得られ
た基板は、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認め
られず、かつパターンの剥がれ、欠落および欠損も認め
られず、しかも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑
性に優れるものであった。
【００７２】実施例１１ （Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を７５
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を２０重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー
共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１０、Ｍ
ｗ＝２５，０００）６０重量部およびメタクリル酸／こ
はく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン
／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共
重合体（共重合重量比：２５／１２／１８／１５／３
０、Ｍｗ＝２０，０００）１０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート６０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗
膜を形成した。次いで、実施例６と同様にして、ブラッ
クスペーサーを形成した。得られた基板を表示パネルに
組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表
示不良は認められなかった。さらに、得られた基板は、
未露光部の基板上に残渣および地汚れが認められず、か
つパターンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、し
かも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れる
ものであった。
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を２０重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／
ベンジルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー
共重合体（共重合重量比：１５／１５／６０／１０、Ｍ
ｗ＝２５，０００）６０重量部およびメタクリル酸／こ
はく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン
／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共
重合体（共重合重量比：２５／１２／１８／１５／３
０、Ｍｗ＝２０，０００）１０重量部、（Ｃ）多官能性
モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート６０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−
ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，
２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合
して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この
液状性組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止
するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の
表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０
℃で４分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗
膜を形成した。次いで、実施例６と同様にして、ブラッ
クスペーサーを形成した。得られた基板を表示パネルに
組み立てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表
示不良は認められなかった。さらに、得られた基板は、
未露光部の基板上に残渣および地汚れが認められず、か
つパターンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、し
かも高い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れる
ものであった。
【００７３】実施例１２ （Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド１７７を７５
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエ
チル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２／
８／１５／４０、Ｍｗ＝２０，０００）６０重量部およ
びメタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシ
エチル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２
／１８／１５／３０、Ｍｗ＝２０，０００）１０重量
部、（Ｃ）多官能性モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート６０重量部、（Ｄ）光重合開始
剤として２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０
重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン５０重
量部、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１，
５００重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成
物を調製した。この液状性組成物を、表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソ
ーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、
膜厚７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と
同様にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた
基板を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったとこ
ろ、焼き付き等の表示不良は認められなかった。さら
に、得られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地
汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および
欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン
表面の平滑性に優れるものであった。
重量部、C.I.ピグメントブルー１５：４を１５重量部、
C.I.ピグメントイエロー１５０を１０重量部および硫酸
バリウム３０重量部、ウレタン系分散剤（商品名Disper
byk-162)６０重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂として
メタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエ
チル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２／
８／１５／４０、Ｍｗ＝２０，０００）６０重量部およ
びメタクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシ
エチル）／スチレン／ベンジルメタクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド共重合体（共重合重量比：２５／１２
／１８／１５／３０、Ｍｗ＝２０，０００）１０重量
部、（Ｃ）多官能性モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート６０重量部、（Ｄ）光重合開始
剤として２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０
重量部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン５０重
量部、溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１，
５００重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成
物を調製した。この液状性組成物を、表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソ
ーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、
膜厚７．０μｍの塗膜を形成した。次いで、実施例６と
同様にして、ブラックスペーサーを形成した。得られた
基板を表示パネルに組み立てて表示テストを行ったとこ
ろ、焼き付き等の表示不良は認められなかった。さら
に、得られた基板は、未露光部の基板上に残渣および地
汚れが認められず、かつパターンの剥がれ、欠落および
欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、パターン
表面の平滑性に優れるものであった。
【００７４】実施例１３ （Ａ）着色剤としてカーボンブラック１０重量部、C.I.
ピグメントレッド１７７を５０重量部、C.I.ピグメント
ブルー１５：４を１５重量部、C.I.ピグメントイエロー
１５０を１０重量部および硫酸バリウム２０重量部、ウ
レタン系分散剤（商品名Disperbyk-162)６０重量部、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／こはく
酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン／ベ
ンジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体（共重合重量比：２５／１２／１８／１５／３０、Ｍ
ｗ＝２０，０００）７０重量部、（Ｃ）多官能性モノマ
ーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６
０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３−エト
キシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合して、
感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この液状性
組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシ
リカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の表面上
に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で４
分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗膜を形
成した。次いで、実施例６と同様にして、ブラックスペ
ーサーを形成した。得られた基板を表示パネルに組み立
てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良
は認められなかった。さらに、得られた基板は、未露光
部の基板上に残渣および地汚れが認められず、かつパタ
ーンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高
い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れるもので
あった。
ピグメントレッド１７７を５０重量部、C.I.ピグメント
ブルー１５：４を１５重量部、C.I.ピグメントイエロー
１５０を１０重量部および硫酸バリウム２０重量部、ウ
レタン系分散剤（商品名Disperbyk-162)６０重量部、
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／こはく
酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン／ベ
ンジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合
体（共重合重量比：２５／１２／１８／１５／３０、Ｍ
ｗ＝２０，０００）７０重量部、（Ｃ）多官能性モノマ
ーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６
０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール１０重量部、４，４’−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン１０重量部および２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン５０重量部、溶剤として３−エト
キシプロピオン酸エチル１，５００重量部を混合して、
感放射線性組成物の液状組成物を調製した。この液状性
組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシ
リカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の表面上
に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で４
分間プリベークを行なって、膜厚７．０μｍの塗膜を形
成した。次いで、実施例６と同様にして、ブラックスペ
ーサーを形成した。得られた基板を表示パネルに組み立
てて表示テストを行ったところ、焼き付き等の表示不良
は認められなかった。さらに、得られた基板は、未露光
部の基板上に残渣および地汚れが認められず、かつパタ
ーンの剥がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高
い膜硬度を有し、パターン表面の平滑性に優れるもので
あった。
【００７５】比較例１ 分散剤として、ウレタン系分散剤（商品名Disperbyk-18
2)に代えて、ポリエチレンイミン−ポリエステル系分散
剤（商品名Solsperse 24000 、ゼネカ（株）製）を使用
した以外は、実施例１と同様にして、ブラックマトリッ
クスを作製した。ここで使用した分散剤を上記（Ｂ）〜
（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物に１重量％溶解し
た溶液を用いた以外は、実施例１と同様にして液晶セル
を作製し、この液晶セルついて、電圧保持率を実施例１
と同様にして測定したところ、７１％であった。また、
ここで使用した分散剤の酸価とアミン価を滴定法により
測定したところ、酸価が２４mgKOH/g 、アミン価が４７
mgKOH/g であった。得られた基板を表示パネルに組み立
てて表示テストを行ったところ、焼き付きが発生した。
2)に代えて、ポリエチレンイミン−ポリエステル系分散
剤（商品名Solsperse 24000 、ゼネカ（株）製）を使用
した以外は、実施例１と同様にして、ブラックマトリッ
クスを作製した。ここで使用した分散剤を上記（Ｂ）〜
（Ｄ）成分および溶剤からなる混合物に１重量％溶解し
た溶液を用いた以外は、実施例１と同様にして液晶セル
を作製し、この液晶セルついて、電圧保持率を実施例１
と同様にして測定したところ、７１％であった。また、
ここで使用した分散剤の酸価とアミン価を滴定法により
測定したところ、酸価が２４mgKOH/g 、アミン価が４７
mgKOH/g であった。得られた基板を表示パネルに組み立
てて表示テストを行ったところ、焼き付きが発生した。
【００７６】
【発明の効果】本発明のブラックレジスト用感放射線性
組成物は、特に表示パネルに組み立てとき、焼き付き等
の表示不良を生じることがなく、しかも高い膜硬度を有
し、パターン表面の平滑性に優れるとともに、未露光部
の基板上に残渣および地汚れを生じ難く、かつ現像時の
パターンの基板への密着性に優れており、パターンの剥
がれ、欠落および欠損を生じることがない。したがっ
て、本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物は、
カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサ
ー等に用いるカラーフィルタのブラックマトリックスお
よび／またはスペーサーに極めて好適に使用することが
できる。
組成物は、特に表示パネルに組み立てとき、焼き付き等
の表示不良を生じることがなく、しかも高い膜硬度を有
し、パターン表面の平滑性に優れるとともに、未露光部
の基板上に残渣および地汚れを生じ難く、かつ現像時の
パターンの基板への密着性に優れており、パターンの剥
がれ、欠落および欠損を生じることがない。したがっ
て、本発明のブラックレジスト用感放射線性組成物は、
カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサ
ー等に用いるカラーフィルタのブラックマトリックスお
よび／またはスペーサーに極めて好適に使用することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ 7/028 7/028 7/033 7/033 (72)発明者 吉田 光一郎 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 浅井 知子 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）黒色顔料を含む着色剤、（Ｂ）ア
ルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび
（Ｄ）光重合開始剤を含有するブラックレジスト用感放
射線性組成物であって、（Ａ）着色剤がウレタン結合を
有する化合物を含む分散剤により分散されていることを
特徴とするブラックレジスト用感放射線性組成物。 - 【請求項２】 分散剤であるウレタン結合を有する化合
物が、１５０℃以上の温度で３０分以上熱処理したとき
極性溶剤に不溶となる化合物からなることを特徴とする
請求項１記載のブラックレジスト用感放射線性組成物。 - 【請求項３】 分散剤であるウレタン結合を有する化合
物が、酸価が５〜２５mgKOH/g でアミン価が０mgKOH/g
である化合物からなることを特徴とする請求項１または
請求項２記載のブラックレジスト用感放射線性組成物。 - 【請求項４】 分散剤であるウレタン結合を有する化合
物が、アミン価が５〜２５mgKOH/g で酸価が０mgKOH/g
である化合物からなることを特徴とする請求項１または
請求項２記載のブラックレジスト用感放射線性組成物。 - 【請求項５】 分散剤であるウレタン結合を有する化合
物が、電圧保持率が８０％以上の化合物からなることを
特徴とする請求項１、請求項２、請求項３または請求項
４記載のブラックレジスト用感放射線性組成物。 - 【請求項６】 （Ａ）着色剤が、C.I.ピグメントレッド
１７７とC.I.ピグメントブルー１５：４および／または
C.I.ピグメントブルー１５：６とを含むことを特徴とす
る請求項１、請求項２、請求項３、請求項４または請求
項５記載のブラックレジスト用感放射線性組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32374199A JP3940535B2 (ja) | 1998-11-30 | 1999-11-15 | ブラックレジスト用感放射線性組成物 |
| PCT/JP2000/004060 WO2001098831A1 (fr) | 1999-11-15 | 2000-06-21 | Composition radiosensible pour photoreserve noire |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33916498 | 1998-11-30 | ||
| JP10-339164 | 1998-11-30 | ||
| JP32374199A JP3940535B2 (ja) | 1998-11-30 | 1999-11-15 | ブラックレジスト用感放射線性組成物 |
| PCT/JP2000/004060 WO2001098831A1 (fr) | 1999-11-15 | 2000-06-21 | Composition radiosensible pour photoreserve noire |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000227654A true JP2000227654A (ja) | 2000-08-15 |
| JP3940535B2 JP3940535B2 (ja) | 2007-07-04 |
Family
ID=27278743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32374199A Expired - Lifetime JP3940535B2 (ja) | 1998-11-30 | 1999-11-15 | ブラックレジスト用感放射線性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3940535B2 (ja) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| SG89412A1 (en) * | 2000-07-27 | 2002-06-18 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition for forming spacers on the drive substrate on a thin film transistor color liquid crystal display device, drive substrate having spacers (refer to file) |
| JP2002303976A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-10-18 | Jsr Corp | 感放射線性組成物、スペーサーおよびカラー液晶表示装置 |
| JP2002365795A (ja) * | 2001-06-06 | 2002-12-18 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
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