JP4660985B2 - 垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材 - Google Patents

垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材に関する。
【0002】
【従来の技術】
カラー液晶表示パネルはフラットパネルディスプレーの中で今日最も広く使用されているが、特に、TFT(薄膜トランジスター)方式のカラー液晶表示パネル(TFT−LCD)が、パソコン、ワープロ等のOA機器や、液晶テレビ等の普及に伴って、表示品質に対する要求性能がますます厳しくなっている。
【0003】
TFT−LCDの中で現在最も利用されている方式はTN(Twisted Nematic)型LCDであり、この方式は、2枚の透明な電極の外側に配向方向が90度異なる偏光膜をそれぞれ配置し、2枚の透明な電極の内側に配向膜を配置するとともに、両配向膜間にネマチック型液晶を配置して、液晶の配向方向が一方の電極側から他方の電極側にかけて90度捩じれるようにしたものである。この状態で無偏光の光が入射すると、一方の偏光板を透過した直線偏光が液晶中を偏光方向がずれながら透過するため他方の偏光板を透過できて、明状態となる。次に、両電極に電圧を印加して液晶分子を直立させると、液晶に達した直線偏光がそのまま透過するため他方の偏光板を透過できず、暗状態となる。その後、再び電圧を印加しない状態にすると、明状態に戻ることになる。
【0004】
このようなTN型LCDは、近年における技術改良により、正面でのコントラストや色再現性などはCRTと同等あるいはそれ以上となっている。しかしながら、TN型LCDには視野角が狭いという大きな問題がある。
【0005】
このような問題を解決するものとして、STN(Super Twisted Nematic)型LCDやMVA(Multi-domain Vertically Aligned)型LCD(垂直配向型カラー液晶表示パネル)が開発されている。これらのうちSTN型LCDは、TN型LCDのネマチック型液晶中に光活性物質であるカイラル剤をブレンドして、液晶分子の配向軸が2枚の電極間で180度以上捩じれるようにしたものである。またMVA型LCDは、「液晶」Vol.3,No.2,117(1999)および特開平11−258605号公報に記載されているように、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わせて、TN型LCDの旋光モードではなく複屈折モードを利用したものであり、電圧を印加していない状態でも、配向膜に近い位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直に維持されるため、コントラスト、視野角などに優れ、また液晶を配向させるためのラビング処理を行なわなくてもよいなど製造工程の面でも優れている。
【0006】
MVA型LCDにおいては、1つの画素領域で液晶が複数の配向方向をとりうるようにするために、ドメイン規制手段として、表示側の電極を1つの画素領域内にスリットを有するものとするとともに、光の入射側の電極上の同一画素領域内に、電極のスリットと位置をずらして、斜面を有する突起(例えば、三角錐状等)を形成している。しかしながら、従来の突起材では、表示パネルとしたときの焼き付きや表示ムラなどのような表示性能への悪影響が問題となっており、このような悪影響を回避できる突起材用の材料が強く望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、高い膜硬度を有し、突起表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、しかも焼き付きや表示ムラなどの表示不良が起こり難い垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明によると、前記課題は、
(A)導電性粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物(以下、「突起材用感放射線性組成物(α)」ともいう。)からなる垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材、
によって達成される。
【0010】
本発明でいう「放射線」とは、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を含むものである。
【0011】
以下、本発明について詳細に説明する。
【0013】
(A)導電性粒子
本発明における導電性粒子は、感放射線性組成物の抵抗値を下げるためのものであり、その例としては、カーボンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子等を挙げることができ、中でもカーボンブラックが好ましい。
【0014】
前記カーボンブラックとしては、例えば、SAF、SAF−HS、ISAF、ISAF−LS、ISAF−HS、HAF、HAF−LS、HAF−HS、NAF、FEF、FEF−HS、SRF、SRF−LM、SRF−LS、GPF、ECF、N−339、N−351等のファーネスブラック;FT、MT等のサーマルブラック;アセチレンブラック等を挙げることができる。
【0015】
また、前記金属粒子としては、例えば、Cu、Fe、Ag、Au、Pt、Mg、Cr、Mn、Co、W、Al、Mo、Sn、Zn、Pb等の粒子を挙げることができる。
【0016】
さらに、前記金属酸化物粒子としては、例えば、ITO(錫をドープした酸化インジウム)粒子、五酸化アンチモン粒子、酸化錫粒子等を挙げることができる。
【0017】
これらの導電性粒子の直径は、通常、0.001〜10μm、好ましくは0.01〜5μm、さらに好ましくは0.1〜2μmである。また、導電性粒子の体積抵抗率は106 Ω・cm以下、好ましくは104 Ω・cm以下である。
【0018】
本発明において、導電性粒子は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0019】
突起材用感放射線性組成物(α)における導電性粒子の含有量は、導電性粒子の種類や感放射線性組成物中の他の成分の種類と使用量等に応じて適宜調整されるが、感放射線性組成物中の全固形分に対して、好ましくは0.1〜30重量%、さらに好ましくは0.5〜20重量%、特に好ましくは1〜15重量%である。この場合、導電性粒子の含有量が0.1重量%未満では、得られる硬化物の電気抵抗値が1012Ω・cmを超えるおそれがあり、一方30重量%を超えると、基板との密着性が損なわれたり、現像残渣が発生したりするおそれがある。
【0020】
本発明において、導電性粒子は、場合により、分散剤と共に使用することができる。
【0021】
このような分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。
【0022】
前記界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンn−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチレンイミン類のほか、以下商品名で、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社油脂化学工業(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子(株)製)等を挙げることができる。
【0023】
これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0024】
界面活性剤の使用量は、導電性粒子100重量部に対して、通常、50重量部以下、好ましくは0〜30重量部である。
(B)アルカリ可溶性樹脂
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、(A)導電性粒子に対してバインダーとして作用し、かつ突起を形成する際に用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可溶性である限り、適宜の樹脂を使用することができる。
【0025】
本発明における好ましいアルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を含有する樹脂であり、特に、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(以下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体(以下、単に「他の不飽和単量体」という。)との共重合体(以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」という。)が好ましい。
【0026】
カルボキシル基含有不飽和単量体としては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸(無水物)類;3価以上の不飽和多価カルボン酸(無水物)類;
こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)等の非重合性ジカルボン酸のモノ(2−アクリロイロキシエチル)エステルまたはモノ(2−アクリロイロキシエチル)エステル類;
ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート
等を挙げることができる。
【0027】
これらのカルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0028】
また、他の不飽和単量体としては、例えば、
スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−クロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、p−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物;
インデン、1−メチルインデン等のインデン(誘導体)類;
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、i−プロピルアクリレート、i−プロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、i−ブチルアクリレート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロールモノメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類;
2−アミノエチルアクリレート、2−アミノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−アミノプロピルアクリレート、2−アミノプロピルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリレート、2−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、3−アミノプロピルアクリレート、3−アミノプロピルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリレート、3−ジメチルアミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類;
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;
アクリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等の不飽和アミド類;
N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−o−メチルフェニルマレイミド、N−m−メチルフェニルマレイミド、N−p−メチルフェニルマレイミド、N−o−メトキシフェニルマレイミド、N−m−メトキシフェニルマレイミド、N−p−メトキシフェニルマレイミド等のN−置換マレイミド類;
1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類;
ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルアクリレート、ポリ−n−ブチルメタクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖末端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類
等を挙げることができる。
【0029】
これらの他の不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0030】
カルボキシル基含有共重合体としては、特に、(ア)アクリル酸および/またはメタクリル酸を必須成分とし、場合により、こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)および/またはこはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)を含有するカルボキシル基含有不飽和単量体と、(イ)スチレン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロールモノメタクリレート、N−フェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも1種との共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体(I)」という。)が好ましい。
【0031】
カルボキシル基含有共重合体(I)の具体例としては、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体
等の二元ないし三元共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体(Ia)」という。);
(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/N−フェニルマレイミド共重合体
等の四元共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体(Ib)」という。);
(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/メチル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体
等の五元共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体(Ic)」という。);
(メタ)アクリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体
あるいは
(メタ)アクリル酸/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体
等の六元共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体(Id)」という。)等を挙げることができる。
【0032】
カルボキシル基含有共重合体におけるカルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。この場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方50重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時に、形成された突起の基板からの脱落や突起表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。
【0033】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC;溶出溶媒テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好ましくは1,000〜1,000,000、さらに好ましくは5,000〜100,000である。
【0034】
本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0035】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、(A)導電性粒子100重量部に対して、通常、300〜100,000重量部、好ましくは100〜10,000重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が300重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、突起が形成される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方100,000重量部を超えると、相対的に導電性粒子濃度が低下するため、表示パネルとしたときに焼き付きやムラなどの表示不良を発生するおそれがある。
(C)多官能性モノマー
本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート類;
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート類;
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物;
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴアクリレートまたはオリゴメタクリレート類;
両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたはジメタクリレート類や、
トリス(2−アクリロイルオキシエチル)フォスフェート、トリス(2−メタクリロイルオキシエチル)フォスフェート
等を挙げることができる。
【0036】
これらの多官能性モノマーのうち、3価以上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトールトリメタクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好ましく、特にトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、突起の強度が高く、突起表面の平滑性に優れ、かつ突起が形成される部分以外の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
【0037】
前記多官能性モノマーは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0038】
本発明における多官能性モノマーの使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜300重量部である。この場合、多官能性モノマーの使用量が5重量部未満では、突起の強度や突起表面の平滑性が不十分となる傾向があり、一方500重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、突起が形成される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすくなる傾向がある。
【0039】
また、本発明においては、前記多官能性モノマーの一部を単官能性モノマーで置き換えることもできる。
【0040】
このような単官能性モノマーとしては、例えば、(B)アルカリ可溶性樹脂を構成するカルボキシル基含有不飽和単量体あるいは他の不飽和単量体や、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレートのほか、市販品として、M−5300(商品名、東亜合成化学工業(株)製)等を挙げることができる。
【0041】
これらの単官能性モノマーのうち、こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート(M−5300)、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等が好ましい。
【0042】
前記単官能性モノマーは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0043】
単官能性モノマーの使用割合は、多官能性モノマーと単官能性モノマーの合計量に対して、通常、0〜90重量%、好ましくは0〜50重量%である。
(D)光重合開始剤
本発明における光重合開始剤とは、放射線の照射(以下、「露光」という。)により分解または結合の開裂を生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等の、前記(C)多官能性モノマーや場合により使用される単官能性モノマーの重合を開始することができる活性種を発生する化合物を意味する。
【0044】
このような光重合開始剤としては、例えば、ビイミダゾール系化合物、アセトフェノン系化合物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。
【0045】
前記ビイミダゾール系化合物の具体例としては、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
【0046】
これらのビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、欠落、欠損やアンダーカットのない優れた突起を形成することができる。
【0047】
また、前記アセトフェノン系化合物の具体例としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン等を挙げることができる。
【0048】
また、前記他の光ラジカル発生剤の具体例としては、ベンゾフェノン、3,
3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオキサントン、4−アジドベンズアルデヒド、4−アジドアセトフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノン、アジドピレン、4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−4’−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフェニルアミン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチルエーテル、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニルピリリウムパークロレート等を挙げることができる。
【0049】
さらに、前記トリハロメチル基を有する化合物の具体例としては、1,3,5−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2−メトキシフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4−メトキシフェニル)−s−トリアジン等を挙げることができる。
【0050】
これらのアセトフェノン系化合物、他の光ラジカル発生剤およびトリハロメチル基を有する化合物のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン等が、形成された突起が現像時に基板から脱離し難く、突起の強度および感度も高い点で好ましい。
【0051】
本発明において、光重合開始剤は、単独でまたは2種以上を組み合せて使用することができる。
【0052】
本発明においては、必要に応じて、前記光重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤(以下、「高分子光架橋・増感剤」という。)の群から選ばれる1種以上をさらに併用することもできる。
【0053】
前記増感剤の具体例としては、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベンゾエート、2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミノ)カルコン等を挙げることができる。
【0054】
また、前記硬化促進剤の具体例としては、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3−メルカプト−4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール等の連鎖移動剤を挙げることができる。
【0055】
さらに、前記高分子光架橋・増感剤は、光架橋剤および/または光増感剤として機能しうる官能基を主鎖および/または側鎖中に有する高分子化合物であり、その具体例としては、4−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアルコールとの縮合物、4−アジドベンズアルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、4−アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合体あるいは共重合体、1,4−ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン等を挙げることができる。
【0056】
前記増感剤、硬化促進剤および高分子光架橋・増感剤のうち、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンおよび2−メルカプトベンゾチアゾールが、形成された突起が現像時に基板から脱落し難く、突起の強度および感度も高い点で好ましい。
【0057】
本発明においては、光重合開始剤として、ビイミダゾール系化合物と、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系の増感剤およびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる1種以上とを組み合わせて使用することが特に好ましい。
【0058】
前記特に好ましい組み合わせの具体例としては、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン/2−メルカプトベンゾチアゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン/2−メルカプトベンゾチアゾール
等を挙げることができる。
【0059】
本発明において、アセトフェノン系化合物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有する化合物の合計使用割合は、光重合開始剤全体の80重量%以下であることが好ましく、また増感剤および硬化促進剤の合計使用割合は、光重合開始剤全体の80重量%以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・増感剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物100重量部に対して、通常、200重量部以下、好ましくは0.01〜200重量部、さらに好ましくは50〜180重量部である。
【0060】
本発明における光重合開始剤の使用量は、(C)多官能性モノマーと場合により使用される単官能性モノマーとの合計100重量部に対して、通常、0.01〜500重量部、好ましくは1〜300重量部、特に好ましくは10〜200重量部である。この場合、光重合開始剤の使用量が0.01重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、形成された突起に欠落、欠損やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方500重量部を超えると、形成された突起が現像時に基板から脱落しやすく、また突起が形成される部分以外の領域で地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
添加剤
さらに、突起材用感放射線性組成物(α)には、必要に応じて、種々の添加剤を配合することもできる。
【0061】
このような添加剤としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤;
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ(フロロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤;
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;
2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;
2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤
等を挙げることができる。
【0062】
また、突起材用感放射線性組成物(α)は、(B)アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基を有する共重合体である場合、該組成物から形成される塗膜のアルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像処理後の未溶解物の残存をより抑制するために、有機酸を含有するこもできる。
【0063】
このような有機酸としては、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。
【0064】
前記脂肪族カルボン酸の具体例としては、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸類;
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等のジカルボン酸類;
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。
【0065】
また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香族カルボン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合したカルボン酸を挙げることができ、それらの具体例としては、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類;
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類;
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の3価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸
等を挙げることができる。
【0066】
これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジカルボン酸類が、アルカリ溶解性、後述する溶剤に対する溶解性、突起が形成される部分以外の領域での地汚れの防止等の観点から好ましい。
【0067】
前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0068】
有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、10重量%以下、好ましくは0.001〜10重量%、さらに好ましくは0.01〜1重量%である。この場合、有機酸の使用量が10重量%を超えると、形成された突起の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
溶媒
突起材用感放射線性組成物(α)は、前記(A)導電性粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤を必須の成分とし、場合によりさらに前記添加剤を含有するが、通常、適当な溶媒に(A)成分を分散させるとともに、(A)成分以外の各成分を溶解させた液状組成物として調製される。
【0069】
前記溶媒としては、(A)〜(D)各成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
【0070】
このような溶媒の具体例としては、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル酪酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソ酪酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド類
等を挙げることができる。
【0071】
これらの溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0072】
さらに、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
【0073】
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0074】
前記溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましく、また高沸点溶媒としてはγ−ブチロラクトン等が好ましい。
【0075】
溶媒の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、100〜10,000重量部、好ましくは500〜5,000重量部である。
突起の作製方法
本発明における突起材用感放射線性組成物(α)を用いて突起を作製する際には、リソグラフィプロセスが採用される。以下、突起材用感放射線性組成物(α)を用いて突起を作製する方法について説明する。
【0076】
先ず、基板上に、突起材用感放射線性組成物(α)の液状組成物を塗布したのち、プリベークを行って溶媒を蒸発させて、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して所定形状に露光して硬化させたのち、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後好ましくはポストベークを行うことにより、所定形状の突起が配置された基板を得ることができる。
【0077】
前記基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。
【0078】
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
【0079】
突起材用感放射線性組成物(α)の液状組成物を基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法を採用することができる。
【0080】
塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.0μm、さらに好ましくは0.2〜3.0μmである。
【0081】
突起を形成する際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。
【0082】
放射線の照射エネルギー量は、好ましくは10〜10,000J/m2 である。
【0083】
また、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。
【0084】
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
【0085】
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。
【0086】
このようにして形成された突起の電気抵抗値は、硬化物として、1012Ω・cm以下、好ましくは1010Ω・cm以下、特に好ましくは108 Ω・cm以下である。なお、本発明における突起材用感放射線性組成物(α)から得られる硬化物の電気抵抗値の下限値は、感放射線性組成物中の導電性粒子や他の成分の種類と使用量等により変わるが、通常、104 Ω・cm程度である。
【0087】
本発明における突起材用感放射線性組成物(α)から形成された突起は、垂直配向型カラー液晶表示装置における液晶の配向方向を規制するドメイン規制手段として極めて有用である。
【0088】
【発明の実施の形態】
突起材用感放射線性組成物(α)は、(A)導電性粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤を必須成分として含有するものであるが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記(イ)〜(ヘ)のとおりである。
(イ) (B)アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基含有共重合体、さらに好ましくはカルボキシル基含有共重合体(I)、特に好ましくはカルボキシル基含有共重合体(Ia)、カルボキシル基含有共重合体(Ib)、カルボキシル基含有共重合体(Ic)およびカルボキシル基含有共重合体(Id)の群から選ばれる少なくとも1種を含む突起材用感放射線性組成物(α)。
(ロ) (C)多官能性単量体がトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群から選ばれる少なくとも1種からなる前記(イ)の突起材用感放射線性組成物(α)。
(ハ) (D)光重合開始剤がビイミダゾール系化合物と、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系の増感剤およびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる1種以上との組み合わせからなる前記(イ)または(ロ)の突起材用感放射線性組成物(α)。
(ニ) (D)光重合開始剤が
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン/2−メルカプトベンゾチアゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オンおよび
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン/2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン/2−メルカプトベンゾチアゾール
のいずれかの組み合わせからなる前記(ハ)の突起材用感放射線性組成物(α)。
(ホ) (A)導電性粒子がカーボンブラックを含む前記(イ)、(ロ)、(ハ)または(ニ)の突起材用感放射線性組成物(α)。
(ヘ) (A)導電性粒子の含有量が、感放射線性組成物中の全固形分に対して、0.1〜30重量%である前記(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)または(ホ)の突起材用感放射線性組成物(α)。
【0089】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に何ら制約されるものではない。
【0090】
【実施例】
実施例1
(A)導電性粒子としてカーボンブラック(電気抵抗値:102 Ω・cm)10重量部と、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:15/15/60/10、Mw:25,000)50重量部、(C)多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート40重量部、(D)光重合開始剤として2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール10重量部、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン10重量部および2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン20重量部、溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル1500重量部を混合して、感放射線性組成物の液状組成物を調製した。
【0091】
この液状組成物を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシリカ(SiO2)膜が形成されたソーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、90℃で4分間プリベークを行なって、膜厚1.3μmの塗膜を形成した。
【0092】
次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長365nmの紫外線を2,000J/m2 の露光量で露光して硬化させた。その後、基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液中に1分間浸漬して現像したのち、超純水で洗浄し、風乾した。その後、250℃で30分間ポストベークを行なって、基板上に所定形状の黒色の突起を形成した。
【0093】
得られた基板には、未露光部の基板上に残渣が認められず、また突起の剥がれ、欠落および欠損も認められず、しかも高い膜硬度を有し、突起表面の平滑性に優れていた。さらに、この基板を使用して垂直配向型液晶パネルを作製したところ、焼き付きや表示ムラなどの表示不良は認められなかった。
【0094】
また別途、この感放射線性組成物の液状組成物を用いて硬化物を形成して電気抵抗値を測定したところ、108 Ω・cmであった。
比較例1
(A)導電性粒子を使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、感放射線性組成物の液状組成物を調製して、基板上に突起を形成した。
【0095】
得られた基板を使用して垂直配向型液晶パネルを作成したところ、焼き付きや表示ムラなどの表示不良が認められた。
【0096】
また別途、この感放射線性組成物の液状組成物を用いて硬化物を形成して電気抵抗値を測定したところ、1014Ω・cmであった。
【0097】
【発明の効果】
本発明の垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材は、高い膜硬度を有し、突起表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、また現像時の突起の基板への密着性に優れており、突起の剥がれ、欠落および欠損を生じることがなく、しかも表示パネルとしたときに焼き付きや表示ムラなどの表示不良を起こし難いものである。

Claims (5)

  1. (A)導電性粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性モノマーおよび(D)光重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物からなる垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材。
  2. (A)導電性粒子がカーボンブラックを含む請求項に記載の垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材。
  3. (A)導電性粒子の含有量が、全固形分の0.1〜30重量%である請求項または請求項に記載の垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の突起材を用いて形成されてなる垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起。
  5. 請求項4に記載の突起を具備する垂直配向型カラー液晶表示パネル。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4739048B2 (ja) * 2005-03-11 2011-08-03 富士フイルム株式会社 液晶配向制御用突起及びその製造方法、感光性樹脂組成物、樹脂転写材料、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、及び液晶表示装置
JP4619835B2 (ja) * 2005-03-11 2011-01-26 富士フイルム株式会社 液晶配向制御用突起、この製造方法及び液晶表示装置
JP4739066B2 (ja) * 2005-03-29 2011-08-03 富士フイルム株式会社 液晶配向制御用突起、並びに、組成物、樹脂転写材料、液晶配向制御用突起の製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、および、液晶表示装置
JP4739065B2 (ja) * 2005-03-29 2011-08-03 富士フイルム株式会社 液晶配向制御用突起、並びに、組成物、樹脂転写材料、液晶配向制御用突起の製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、および、液晶表示装置
JP4715575B2 (ja) * 2006-03-20 2011-07-06 Jsr株式会社 スペーサー用感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子
JP5235305B2 (ja) * 2007-01-09 2013-07-10 早川ゴム株式会社 突起導電微粒子、異方性導電材料及び突起導電微粒子の製造方法
JP5764931B2 (ja) * 2010-02-02 2015-08-19 東レ株式会社 有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法
JP5461372B2 (ja) * 2010-11-26 2014-04-02 株式会社ジャパンディスプレイ 配向膜形成用溶媒、それを用いた配向膜材料および液晶表示装置の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10301114A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
JPH11249299A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性分散物、感光性シート、及び導電性パターンの製法
JPH11258605A (ja) * 1997-06-12 1999-09-24 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
JP2000056305A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
WO2000034830A1 (fr) * 1998-12-08 2000-06-15 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Composition photodurcissable a conduction anisotrope et motif a conduction anisotrope forme au moyen de ladite composition
JP2000227654A (ja) * 1998-11-30 2000-08-15 Jsr Corp ブラックレジスト用感放射線性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10301114A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
JPH11258605A (ja) * 1997-06-12 1999-09-24 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
JPH11249299A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性分散物、感光性シート、及び導電性パターンの製法
JP2000056305A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2000227654A (ja) * 1998-11-30 2000-08-15 Jsr Corp ブラックレジスト用感放射線性組成物
WO2000034830A1 (fr) * 1998-12-08 2000-06-15 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Composition photodurcissable a conduction anisotrope et motif a conduction anisotrope forme au moyen de ladite composition

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