JPH11174224A - カラーフィルタ用感放射線性組成物 - Google Patents
カラーフィルタ用感放射線性組成物Info
- Publication number
- JPH11174224A JPH11174224A JP36324397A JP36324397A JPH11174224A JP H11174224 A JPH11174224 A JP H11174224A JP 36324397 A JP36324397 A JP 36324397A JP 36324397 A JP36324397 A JP 36324397A JP H11174224 A JPH11174224 A JP H11174224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- monomer
- acrylate
- copolymer
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
示し、現像時に放射線未照射部の基板上および遮光層上
に残渣および地汚れを生じることがなく、かつ基板およ
び遮光層への密着性に優れた画素を与えることができる
新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタ用感放射線性組成物は、
(A)着色剤、(B)グリセロール(メタ)アクリレー
トと他の共重合可能な単量体との共重合体を含むアルカ
リ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、および(D)光
重合開始剤を含有することを特徴とする。
Description
射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用い
られるカラーフィルタを形成するためのカラーフィルタ
用感放射線性組成物に関し、より詳しくは、現像性等に
優れたカラーフィルタを容易に製造することができるカ
ラーフィルタ用感放射線性組成物に関する。
フィルタを製造するに当たっては、基板上あるいは予め
所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、感放射線
性組成物を塗布、乾燥したのち、乾燥した塗膜を所望の
パターンに放射線を照射(以下、「露光」という。)
し、現像することにより、各色の画素を得ている。この
ようにして製造されたカラーフィルタは、現像の際に、
未露光部の基板上あるいは遮光層上に残渣や地汚れを生
じやすいという問題があり、その程度は感放射線性組成
物に含まれる顔料濃度が高くなるにつれて著しくなる傾
向があり、そのため十分な色濃度を達成することが困難
であった。
を高濃度で含む場合でも良好な現像性を示すカラーフィ
ルタ用感放射線性組成物、具体的には、現像時に未露光
部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れを生じる
ことがなく、かつ基板および遮光層への密着性に優れた
画素を与える新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物
を提供することにある。
剤、(B)下記構造式(1)で表される単量体と他の共
重合可能な単量体との共重合体を含むアルカリ可溶性樹
脂、(C)多官能性モノマー、および(D)光重合開始
剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感放射
線性組成物、
またはメチル基を示す。〕からなる。
はなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選
定され、また有機着色剤でも無機着色剤でもよい。前記
有機着色剤は、具体的には染料、有機顔料、天然色素等
を意味し、また前記無機着色剤は、具体的には無機顔料
のほか、体質顔料と呼ばれる無機塩等を意味するが、カ
ラーフィルタには高精細な発色と耐熱性が求められるこ
とから、本発明における着色剤としては、発色性が高
く、かつ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い着
色剤が好ましく、通常、有機着色剤、特に好ましくは有
機顔料が用いられる。前記有機顔料としては、例えば、
カラーインデックス(C.I.;The Society ofDyers and
Colourists 社発行) においてピグメント(Pigment)に
分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラ
ーインデックス(C.I.)番号が付されているものを挙げ
ることができる。 C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイエロー
3、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエ
ロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメン
トイエロー15、C.I.ピグメントイエロー16、C.I.ピ
グメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、
C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー
31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイ
エロー60、C.I.ピグメントイエロー61、C.I.ピグメ
ントイエロー65、C.I.ピグメントイエロー71、C.I.
ピグメントイエロー73、C.I.ピグメントイエロー7
4、C.I.ピグメントイエロー81、C.I.ピグメントイエ
ロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメン
トイエロー95、C.I.ピグメントイエロー97、C.I.ピ
グメントイエロー98、C.I.ピグメントイエロー10
0、C.I.ピグメントイエロー101、C.I.ピグメントイ
エロー104、C.I.ピグメントイエロー106、C.I.ピ
グメントイエロー108、C.I.ピグメントイエロー10
9、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイ
エロー113、C.I.ピグメントイエロー114、C.I.ピ
グメントイエロー116、C.I.ピグメントイエロー11
7、C.I.ピグメントイエロー119、C.I.ピグメントイ
エロー120、C.I.ピグメントイエロー126、C.I.ピ
グメントイエロー127、C.I.ピグメントイエロー12
8、C.I.ピグメントイエロー129、C.I.ピグメントイ
エロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピ
グメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー15
1、C.I.ピグメントイエロー152、C.I.ピグメントイ
エロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピ
グメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー15
6、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイ
エロー168、C.I.ピグメントイエロー175; C.I.ピグメントオレンジ1、C.I.ピグメントオレンジ
5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレ
ンジ14、C.I.ピグメントオレンジ16、C.I.ピグメン
トオレンジ17、C.I.ピグメントオレンジ24、C.I.ピ
グメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレンジ36、
C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ
40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオ
レンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、C.I.ピグメ
ントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.
ピグメントオレンジ63、C.I.ピグメントオレンジ6
4、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレ
ンジ73; C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオ
レット19、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピ
グメントバイオレット29、C.I.ピグメントバイオレッ
ト32、C.I.ピグメントバイオレット36、C.I.ピグメ
ントバイオレット38; C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.
I.ピグメントレッド3、C.I.ピグメントレッド4、C.I.
ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッド6、C.I.ピ
グメントレッド7、C.I.ピグメントレッド8、C.I.ピグ
メントレッド9、C.I.ピグメントレッド10、C.I.ピグ
メントレッド11、C.I.ピグメントレッド12、C.I.ピ
グメントレッド14、C.I.ピグメントレッド15、C.I.
ピグメントレッド16、C.I.ピグメントレッド17、C.
I.ピグメントレッド18、C.I.ピグメントレッド19、
C.I.ピグメントレッド21、C.I.ピグメントレッド2
2、C.I.ピグメントレッド23、C.I.ピグメントレッド
30、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグメントレッ
ド32、C.I.ピグメントレッド37、C.I.ピグメントレ
ッド38、C.I.ピグメントレッド40、C.I.ピグメント
レッド41、C.I.ピグメントレッド42、C.I.ピグメン
トレッド48:1、C.I.ピグメントレッド48:2、C.
I.ピグメントレッド48:3、C.I.ピグメントレッド4
8:4、C.I.ピグメントレッド49:1、C.I.ピグメン
トレッド49:2、C.I.ピグメントレッド50:1、C.
I.ピグメントレッド52:1、C.I.ピグメントレッド5
3:1、C.I.ピグメントレッド57、C.I.ピグメントレ
ッド57:1、C.I.ピグメントレッド58:2、C.I.ピ
グメントレッド58:4、C.I.ピグメントレッド60:
1、C.I.ピグメントレッド63:1、C.I.ピグメントレ
ッド63:2、C.I.ピグメントレッド64:1、C.I.ピ
グメントレッド81:1、C.I.ピグメントレッド83、
C.I.ピグメントレッド88、C.I.ピグメントレッド9
0:1、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレ
ッド101、C.I.ピグメントレッド102、C.I.ピグメ
ントレッド104、C.I.ピグメントレッド105、C.I.
ピグメントレッド106、C.I.ピグメントレッド10
8、C.I.ピグメントレッド112、C.I.ピグメントレッ
ド113、C.I.ピグメントレッド114、C.I.ピグメン
トレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピ
グメントレッド144、C.I.ピグメントレッド146、
C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド1
50、C.I.ピグメントレッド151、C.I.ピグメントレ
ッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメ
ントレッド170、C.I.ピグメントレッド171、C.I.
ピグメントレッド172、C.I.ピグメントレッド17
4、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメントレッ
ド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメン
トレッド178、C.I.ピグメントレッド179、C.I.ピ
グメントレッド180、C.I.ピグメントレッド185、
C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレッド1
88、C.I.ピグメントレッド190、C.I.ピグメントレ
ッド193、C.I.ピグメントレッド194、C.I.ピグメ
ントレッド202、C.I.ピグメントレッド206、C.I.
ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド20
8、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッ
ド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグメン
トレッド220、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピ
グメントレッド226、C.I.ピグメントレッド242、
C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレッド2
45、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレ
ッド255、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメ
ントレッド265; C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー1
5:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメン
トブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60; C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン3
6; C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン
25; C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。 これらの有機顔料は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、
硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(II
I))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバ
ルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボ
ンブラック等を挙げることができる。これらの無機着色
剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することが
できる。
により、その粒子表面をポリマーで改質して使用するこ
とができる。着色剤表面を改質するポリマーとしては、
例えば、特開平8−259876号公報等に記載された
ポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたは
オリゴマー等を挙げることができる。また、本発明にお
ける着色剤は、所望により、分散剤と共に使用すること
ができる。このような分散剤としては、例えば、カチオ
ン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、
フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。前記界
面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリ
ルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、
ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリ
エチレングリコールジステアレート等のポリエチレング
リコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;
脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタ
ン類;ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名で、
KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化
学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社
製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)
製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒ
ガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)等を挙げ
ることができる。これらの界面活性剤は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。界面活性剤
の使用量は、着色剤100重量部に対して、通常、50
重量部以下、好ましくは0〜30重量部である。
(1)で表される単量体(以下、「単量体(1)」とい
う。)と他の共重合可能な単量体との共重合体(以下、
「共重合体(1)」という。)を含むことを特徴とす
る。以下では、構造式(1)のR1 がメチル基である単
量体を、「グリセロールモノメタクリレート」という。
前記他の共重合可能な単量体としては、単量体(1)と
共重合でき、かつ得られる共重合体がアルカリ可溶性と
なる限り限定されるものではないが、特に、1個以上の
カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(以
下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量体」とい
う。)と前記以外の共重合可能なエチレン性不飽和単量
体(以下、単に「他の不飽和単量体」という。)とから
なる単量体混合物が好ましい。カルボキシル基含有不飽
和単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の
不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカル
ボン酸またはその無水物類;3価以上の不飽和多価カル
ボン酸またはその無水物類;こはく酸モノ(2−アクリ
ロイロキシエチル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイ
ロキシエチル)、フタル酸モノ(2−アクリロイロキシ
エチル)、フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチ
ル)等の2価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)ア
クリロイロキシアルキル〕エステル類;ω−カルボキシ
−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキ
シ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端
カルボキシポリマーのモノ(メタ)アクリレート類等を
挙げることができる。これらのカルボキシル基含有不飽
和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
ば、スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエ
ン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−ク
ロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシス
チレン、p−メトキシスチレン、インデン、o−ビニル
ベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエ
ーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエー
テル等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタ
クリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピル
メタクリレート、i−プロピルアクリレート、i−プロ
ピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブ
チルメタクリレート、i−ブチルアクリレート、i−ブ
チルメタクリレート、sec−ブチルアクリレート、s
ec−ブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレー
ト、t−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアク
リレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、3−ヒドロキシブチルメタクリレート、4−ヒドロ
キシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタク
リレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレー
ト、2−メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエ
チルメタクリレート、2−フェノキシエチルアクリレー
ト、2−フェノキシエチルメタクリレート、メトキシジ
エチレングルコールアクリレート、メトキシジエチレン
グルコールメタクリレート、メトキシトリエチレングル
コールアクリレート、メトキシトリエチレングルコール
メタクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリ
レート、メトキシプロピレングリコールメタクリレー
ト、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メ
トキシジプロピレングリコールメタクリレート、イソボ
ルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジ
シクロペンタジエニルアクリレート、ジシクロペンタジ
エニルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノ
キシプロピルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エス
テル類;2−アミノエチルアクリレート、2−アミノエ
チルメタクリレート、2−ジメチルアミノエチルアクリ
レート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2
−アミノプロピルアクリレート、2−アミノプロピルメ
タクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、2−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、3−
アミノプロピルアクリレート、3−アミノプロピルメタ
クリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、3−ジメチルアミノプロピルメタクリレート等の不
飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カ
ルボン酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン
酸ビニルエステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メタリルグ
リシジルエーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリ
ル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;ア
クリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリル
アミド、N−2−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−2−ヒドロキシエチルメタクリルアミド等の不飽和ア
ミド類;マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シ
クロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;1,3−
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役
ジエン類;ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポ
リメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルアクリレー
ト、ポリ−n−ブチルメタクリレート、ポリシロキサン
等の重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル基あるいは
モノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等を挙
げることができる。これらの他の不飽和単量体は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(1)と、アクリル酸および/またはメタクリル酸を
必須成分とし、場合により、こはく酸モノ(2−アクリ
ロイロキシエチル)および/またはこはく酸モノ(2−
メタクリロイロキシエチル)を含有するカルボキシル基
含有不飽和単量体と、スチレン、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベン
ジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニル
アクリレート、フェニルメタクリレート、N−フェニル
マレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメ
チルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少
なくとも1種との共重合体(以下、「アルカリ可溶性樹
脂(I)」という。)が好ましい。
は、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン共重
合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/メチル(メ
タ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量
体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/ベンジ
ル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸
/単量体(1)/フェニル(メタ)アクリレート共重合
体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)
アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)共重合体、
(メタ)アクリル酸/単量体(1)/N−フェニルマレ
イミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、あるいは(メ
タ)アクリル酸/単量体(1)/ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体からなる三元共重合体(以
下、「アルカリ可溶性樹脂(Ia)」という。);
レン/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)
アクリル酸/単量体(1)/スチレン/2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/単量体(1)/スチレン/ベンジル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)
/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アク
リロイロキシエチル〕/単量体(1)/スチレン共重合
体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/N
−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/
単量体(1)/スチレン/ポリスチレンマクロモノマー
共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレ
ン/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/メチル(メ
タ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)
/メチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)
/メチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ
〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メ
タ)アクリル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリ
レート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)ア
クリル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート
/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/単量体(1)/2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレ
ート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル
(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/
こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕
/単量体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/N−フェ
ニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/単量体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体、
ジル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレ
ート共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2
−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/
ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/ベンジル(メタ)アクリレート
/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル
酸/単量体(1)/ベンジル(メタ)アクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル
酸/単量体(1)/ベンジル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロ
イロキシエチル〕/単量体(1)/フェニル(メタ)ア
クリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニル
マレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/フェニル(メタ)アクリレート/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/フェニル(メタ)アクリレート/ポリメチルメ
タクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエ
チル〕/単量体(1)/N−フェニルマレイミド共重合
体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)
アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こは
く酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単
量体(1)/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/N−フ
ェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、あるいは(メタ)アクリル酸/単量体(1)/N−
フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロ
モノマー共重合体からなる四元共重合体(以下、「アル
カリ可溶性樹脂(Ib)」という。);
レン/メチル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル
酸/単量体(1)/スチレン/メチル(メタ)アクリレ
ート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メ
タ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/メチル(メ
タ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/スチレ
ン/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)ア
クリル酸/単量体(1)/スチレン/メチル(メタ)ア
クリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メ
タ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/メチル(メ
タ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/メ
チル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メ
タ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/こは
く酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単
量体(1)/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/スチレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)
アクリル酸/単量体(1)/スチレン/2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/ス
チレン/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/ベンジ
ル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレー
ト共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−
(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ス
チレン/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メ
タ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/ベンジル
(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合
体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/スチレン/ベ
ンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/ス
チレン/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメ
タクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエ
チル〕/単量体(1)/スチレン/フェニル(メタ)ア
クリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/スチレン/フェニル(メタ)アクリレート/N
−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/
単量体(1)/スチレン/フェニル(メタ)アクリレー
ト/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)ア
クリル酸/単量体(1)/スチレン/フェニル(メタ)
アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマ
ー共重合体、
(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ス
チレン/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)ア
クリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキ
シエチル〕/単量体(1)/スチレン/ポリスチレンマ
クロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸
モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/スチレン/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
スチレン/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/スチレン/N−フェニルマレイミド/ポリメチ
ルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)ア
クリル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート
/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジ
ル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸
/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メ
タ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/こは
く酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単
量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)ア
クリル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート
/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/N−フ
ェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量
体(1)/メチル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
メチル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマク
ロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/メチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/メチル
(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート
共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/メチル
(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート
/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル
酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/ベン
ジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/メチ
ル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレー
ト/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、
(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/メ
チル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレ
ート共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/メ
チル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレ
ート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/
フェニル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
メチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリ
レート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/メチル
(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合
体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)
アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/メチル(メ
タ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)
アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/メチル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/
メチル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド
/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/メチル(メタ)アクリレート/
N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体
(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
ベンジル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ
〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フ
ェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量
体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロ
モノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)
/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジ
ル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸
モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
フェニル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート/N−フ
ェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/単量
体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
/フェニル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロ
モノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)
/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニ
ル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸
モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/
N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸
/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチ
ル〕/単量体(1)/2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アク
リロイロキシエチル〕/単量体(1)/2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/N−フェニル
マレイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/単量体(1)/2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アク
リロイロキシエチル〕/単量体(1)/ベンジル(メ
タ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート共重
合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/ベンジル
(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート
/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル
酸/単量体(1)/ベンジル(メタ)アクリレート/フ
ェニル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノ
マー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/ベ
ンジル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリ
レート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ベンジ
ル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ベンジ
ル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー
共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−
(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体(1)/ベ
ンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、
ジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/単量体(1)/ベンジル(メタ)アクリレート/
N−フェニルマレイミド/ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸
モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/フェニル(メタ)アクリレート/N−フェニル
マレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モ
ノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量体
(1)/フェニル(メタ)アクリレート/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく
酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/単量
体(1)/フェニル(メタ)アクリレート/ポリメチル
メタクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アク
リル酸/単量体(1)/フェニル(メタ)アクリレート
/N−フェニルマレイミド/ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、(メタ)アクリル酸/単量体(1)/フェ
ニル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アク
リロイロキシエチル〕/単量体(1)/N−フェニルマ
レイミド/ポリスチレンマクロモノマー共重合体あるい
は(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)ア
クリロイロキシエチル〕/単量体(1)/N−フェニル
マレイミド/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体からなる五元共重合体(以下、「アルカリ可溶
性樹脂(Ic)」という。)等を挙げることができる。
重合割合は、通常、5〜35重量%、好ましくは10〜
25重量%である。この場合、単量体(1)の共重合割
合が5重量%未満では、未露光部の基板上あるいは遮光
層上に残渣、地汚れ等を生じるおそれがあり、一方35
重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時に、形
成された画素が基板から脱落しやすくなる傾向がある。
また、共重合体(1)が単量体(1)とカルボキシル基
含有不飽和単量体と他の不飽和単量体との共重合体であ
る場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合
は、通常、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量
%であり、他の不飽和単量体の共重合割合は、通常、1
5〜90重量%、好ましくは35〜80重量%である。
この場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割
合が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のア
ルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一
方50重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時
に、形成された画素の基板からの脱落や画素表面の膜荒
れを来たしやすくなる傾向がある。特にカルボキシル基
含有不飽和単量体を前記特定の共重合割合で含有する共
重合体(1)は、アルカリ現像液に対して優れた溶解性
を有するものであり、当該共重合体をバインダーとして
用いた感放射線性組成物は、アルカリ現像液による現像
後に未溶解物が残存することが極めて少なく、未露光部
の基板上あるいは遮光層上に残渣、地汚れ等が発生し難
く、しかも該組成物から得られる画素は、アルカリ現像
液に過剰に溶解することがなく、基板に対して、優れた
密着性を有し、基板から脱落するおそれもないものとな
る。前記共重合体(1)は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
合体(1)と共に、他のアルカリ可溶性樹脂を併用する
こともできる。前記他のアルカリ可溶性樹脂としては、
例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基等の酸性
官能基を含有する樹脂を挙げることができる。このよう
な他のアルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を
含有する樹脂が好ましく、さらに好ましくは共重合体
(1)について例示した前記カルボキシル基含有不飽和
単量体と前記他の不飽和単量体との共重合体であり、特
に好ましくはアクリル酸および/またはメタクリル酸
を必須成分とし、場合により、こはく酸モノ(2−アク
リロイロキシエチル)および/またはこはく酸モノ(2
−メタクリロイロキシエチル)を含有するカルボキシル
基含有不飽和単量体と、スチレン、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリ
ルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート、N−フェニルマレ
イミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチル
メタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少なく
とも1種との共重合体(以下、「アルカリ可溶性樹脂
(II)」という。)である。
は、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート
共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アク
リレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メ
タ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート
/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリ
ル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタ
クリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル
酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベン
ジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル
酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベン
ジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレー
ト/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合
体、メタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート
/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル
酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチ
ル〕/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−
フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/こ
はく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/
スチレン/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニル
マレイミド共重合体等を挙げることができる。これらの
アルカリ可溶性樹脂(II) は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。前記他のアルカリ可溶
性樹脂を使用する際の該樹脂の使用量は、アルカリ可溶
性樹脂の合計量に対して、通常、50重量%以下、好ま
しくは30重量%以下である。この場合、他のアルカリ
可溶性樹脂の使用量が50重量%を超えると、未露光部
の基板上あるいは遮光層上に残渣、地汚れ等が発生しや
すくなる傾向がある。
重合体(1)を必須成分として含むものであるが、該ア
ルカリ可溶性樹脂を構成する各成分のゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィ(GPC;溶出溶媒テトラヒドロ
フラン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量
(以下、単に「重量平均分子量」という。)は、好まし
くは3,000〜300,000、特に好ましくは5,
000〜100,000である。このような特定の重量
平均分子量を有するアルカリ可溶性樹脂を使用すること
により、現像性に優れた感放射線性組成物が得られ、そ
れによりシャープなパターンエッジを有する画素を形成
することができるとともに、現像時に未露光部の基板上
あるいは遮光層上に残渣、地汚れ、膜残り等が発生し難
くなる。本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量
は、(A)着色剤100重量部に対して、通常、10〜
1000重量部、好ましくは20〜500重量部であ
る。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が10重量
部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未
露光部の基板上あるいは遮光層上に残渣、地汚れ等が発
生するおそれがあり、一方1000重量部を超えると、
相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的と
する色濃度を達成することが困難となる場合がある。
飽和結合を有する単量体であり、その例としては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール等のアルキレン
グリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類;グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の3価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性
物;ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴア
クリレートまたはオリゴメタクリレート類;両末端ヒド
ロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたは
ジメタクリレート類や、トリス(2−アクリロイロキシ
エチル)フォスフェート、トリス(2−メタクリロイロ
キシエチル)フォスフェート等を挙げることができる。
の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタク
リレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好ましく、
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレート、下記式(2)で表される
化合物等が好ましく、特に、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
トおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
が、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優れ、かつ未
露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等を
発生し難い点で好ましい。前記多官能性単量体は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。
記多官能性単量体と共に、単官能性単量体を併用するこ
ともできる。このような単官能性単量体の具体例として
は、共重合体(1)について例示した前記カルボキシル
基含有不飽和単量体や前記他の不飽和単量体のほか、市
販品としてM−5300(商品名、東亞合成(株)製)
等を挙げることができる。これらの単官能性単量体は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。前記単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体
と単官能性単量体との合計に対して、通常、90重量%
以下、好ましくは0〜50重量%である。この場合、単
官能性単量体の使用割合が90重量%を超えると、得ら
れる画素の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがあ
る。本発明における多官能性単量体と単官能性単量体と
の合計の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重
量部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは2
0〜300重量部である。この場合、前記使用量が5重
量部未満では、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向
があり、一方500重量部を超えると、例えば、アルカ
リ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光
層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向があ
る。
遠紫外線、電子線、X線等の露光により分解または結合
の開裂を生じ、ラジカル、カチオン、アニオン等の前記
(C)多官能性単量体の重合を開始することができる活
性種を発生する化合物を意味する。このような光重合開
始剤としては、下記式(3)、式(4)または式(5)
で表される主要骨格を少なくとも1種有するイミダゾー
ル系化合物のほか、ベンゾイン系化合物、アセトフェノ
ン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系
化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ト
リアジン系化合物等を挙げることができる。
ては、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’
−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−
ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
メトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシ
カルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブ
ロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4
−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキ
ス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノ
キシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシ
カルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2−シアノフェニル)−4,4’,5.5’−テ
トラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−シアノフ
ェニル)−4,4’,5.5’−テトラキス(4−エト
キシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−シアノフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テ
トラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−メチルフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エト
キシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−メチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2−エチルフェニル)−4,4’,5,5’−テ
トラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−エチルフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エト
キシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2−フェニルフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フェニル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エ
トキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−フェニルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニ
ルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリ
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−
ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,
4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−シアノフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジシアノフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリシアノ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−メチ
ルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェ
ニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリメチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジエチルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリエチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フェ
ニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4
−ジフェニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリフェニルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
特に、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,
6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’
−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールおよび
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾールが好ましい。前記ビイミダゾール系化合物
は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の
異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエ
ネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとと
もに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じ
ることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不
溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する
未硬化部分とに明確に区分され、これにより、アンダー
カットのない画素パターンが所定の配列に従って配置さ
れた高精細な画素アレイを形成することができる。
しては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインi−プロピルエーテ
ル、ベンゾインi−ブチルエーテル、メチル−2−ベン
ゾイルベンゾエート等を挙げることができる。前記アセ
トフェノン系化合物の具体例としては、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−
(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン、2−メチル−(4−メチルチ
オフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−1−
オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン等を挙げるこ
とができる。前記ベンゾフェノン系化合物の具体例とし
ては、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
等を挙げることができる。前記α−ジケトン系化合物の
具体例としては、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベ
ンゾイルホルメート等を挙げることができる。前記多核
キノン系化合物の具体例としては、アントラキノン、2
−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノ
ン、1,4−ナフトキノン等を挙げることができる。前
記キサントン系化合物の具体例としては、キサントン、
チオキサントン、2−クロロチオキサントン等を挙げる
ことができる。前記トリアジン系化合物の具体例として
は、1,3,5−トリス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−
(2’−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−
ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−クロロフェニ
ル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチ
ル)−5−(2’−メトキシフェニル)−s−トリアジ
ン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−
メトキシフェニル)−s−トリアジン、2−(2’−フ
リルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(4’−メトキシスチリル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’
−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(2’−ブロモ−4’−メ
チルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(2’−チオフェニルエチリデ
ン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン等を挙げることができる。
種以上を混合して使用することができる。本発明におけ
る光重合開始剤の使用量は、(C)多官能性単量体と場
合により使用される多官能性単量体の合計100重量部
に対して、通常、0.01〜200重量部、好ましくは
1〜120重量部、特に好ましくは1〜100重量部で
ある。この場合、光重合開始剤の使用量が0.01重量
部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パタ
ーンが所定の配列に従って配置された画素アレイを得る
ことが困難となるおそれがあり、一方200重量部を超
えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやす
くなり、また未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚
れ、膜残り等を生じやすくなる。さらに、本発明におい
ては、前記光重合開始剤と共に、必要に応じて、増感
剤、硬化促進剤あるいは高分子光架橋・増感剤の1種以
上を併用することもできる。
特に、ビイミダゾール系化合物とアセトフェノン系化合
物および/またはベンゾフェノン系化合物とを組み合わ
せて使用することが、形成された画素が現像時に基板か
ら脱落し難く、画素強度および感度も高い点で好まし
い。本発明において、光重合開始剤としてビイミダゾー
ル系化合物と他の成分とを併用する場合、他の成分の使
用割合は、光重合開始剤全体の80重量%以下であるこ
とが好ましい。ここで、本発明における特に好ましい光
重合開始剤を、その構成成分の組み合わせとして示す
と、下記のものを挙げることができる。2,2’−ビス
(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−
ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール/4,
4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベ
ンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)ブタン−1−オン、2,2’−ビス(2−ク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン/2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、2,
2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフ
ォリノフェニル)ブタン−1−オン、2,2’−ビス
(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/4,4’
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン。
応じて種々の添加剤を含有することもできる。前記添加
剤としては、カラーフィルタ用感放射線性組成物のアル
カリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像後の
未溶解物の残存をより抑制する作用を示す有機酸を挙げ
ることができる。このような有機酸としては、分子量が
1000以下である、脂肪族カルボン酸あるいはフェニ
ル基含有カルボン酸が好ましい。前記脂肪族カルボン酸
の具体例としては、ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、
吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナン
ト酸、カプリル酸等のモノカルボン酸類;しゅう酸、マ
ロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル
酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン
酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘ
キサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレ
イン酸、フマル酸、メサコン酸等のジカルボン酸類;ト
リカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリ
カルボン酸類等を挙げることができる。また、前記フェ
ニル基含有カルボン酸としては、カルボキシル基が直接
フェニル基に結合した芳香族カルボン酸や、カルボキシ
ル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合したカルボン酸
等を挙げることができ、それらの具体例としては、安息
香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン
酸等の芳香族モノカルボン酸類;フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類;トリメリ
ット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸
等の3価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、フェニル酢
酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、
フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリ
デン酸、クマル酸、ウンベル酸等を挙げることができ
る。これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピン酸、イ
タコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、フタ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジカルボン
酸類が、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解
性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れ
や膜残りの防止等の観点から好ましい。前記有機酸は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対し
て、通常、10重量%以下、好ましくは5重量%以下、
さらに好ましくは1重量%以下である。この場合、有機
酸の使用量が10重量%を超えると、形成された画素の
基板に対する密着性が低下する傾向がある。
しては、銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や
黄色顔料誘導体等の分散助剤;ガラス、アルミナ等の充
填剤;ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール
モノアルキルエーテル類、ポリ(フロロアルキルアクリ
レート)類等の高分子化合物;ノニオン系、カチオン
系、アニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−
メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)
−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−
クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6
−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3
−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフ
ェノン類等の紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム
等の凝集防止剤;エポキシ化合物、メラミン化合物、ビ
スアジド化合物等の熱架橋剤等を挙げることができる。
(A)〜(D)成分を必須成分とし、必要に応じて前記
添加剤成分を含有するが、通常、溶媒を配合して液状組
成物として調製される。前記溶媒としては、感放射線性
組成物を構成する(A)〜(D)成分や添加剤成分を分
散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の
揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用す
ることができる。このような溶媒の具体例としては、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n
−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコール
モノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコール
モノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−
ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸
メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸ア
ルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピ
オン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−
メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン
酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ
酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−
3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシ
ブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプ
ロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i
−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n
−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、
酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪
酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、
ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢
酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル
類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メ
チルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を挙げること
ができる。
性、塗布性等の観点から、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘ
キサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチ
ルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、
ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブ
チル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチ
ル、ピルビン酸エチル等が好ましい。前記溶媒は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。さ
らに、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジヘ
キシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カ
プロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノ
ール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エ
チル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブ
チロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸
点溶媒を併用することもできる。これらの高沸点溶媒の
うち、γ−ブチロラクトン等が好ましい。前記高沸点溶
媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することが
できる。溶媒の使用量は、特に限定されるものではない
が、得られる感放射線性組成物の塗布性、安定性等の観
点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度
が、通常、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量
%となる量が望ましい。
いて、カラーフィルタを形成する方法について説明す
る。まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成
する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上
に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物の
液状組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶剤を
蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォト
マスクを介して放射線を露光したのち、アルカリ現像液
を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その
後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが
所定の配列で配置された画素アレイを形成する。その
後、緑色または青色の顔料が分散された各感放射線性組
成物の液状組成物を用い、前記と同様にして、各液状組
成物の塗布、プレベーク、露光および現像を行い、その
後ポストベークを行って、緑色の画素アレイおよび青色
の画素アレイを同一基板上に順次形成することにより、
赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に
配置されたカラーフィルタを得る。カラーフィルタを形
成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、
シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げるこ
とができる。これらの基板には、所望により、シランカ
ップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオン
プレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸
着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。感放射
線性組成物の液状組成物を基板に塗布する際には、回転
塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法を採用す
ることができる。塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通
常、0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.0μ
m、特に好ましくは0.2〜3.0μmである。カラー
フィルタを作製する際に使用される放射線としては、例
えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を
使用することができるが、波長が190〜450nmの
範囲にある放射線が好ましい。放射線の照射エネルギー
量は、好ましくは1〜1000mJ/cm2 である。ま
た、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−
ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、
1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン
等の水溶液が好ましい。前記アルカリ現像液には、例え
ばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活
性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現
像後は、通常、水洗する。現像処理法としては、シャワ
ー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、
パドル(液盛り)現像法等を適用することができ、現像
条件は、常温で5〜300秒が好ましい。このようにし
て形成されたカラーフィルタは、例えば、透過型あるい
は反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カ
ラーセンサー等に極めて有用である。
線性組成物は、前記(A)〜(D)成分を必須成分とし
て含有するものであるが、特に好ましい組成物を具体的
に例示すると、下記(イ)〜(ヘ)のとおりである。 (イ) (B)アルカリ可溶性樹脂がアルカリ可溶性樹
脂(I)を含み、(D)光重合開始剤が2,2’−ビス
(2−クロルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−
ビイミダゾールおよび2,2’−ビス(2−ブロモフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾールの
群から選ばれる1種以上のビイミダゾール系化合物
(2)を含むカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ロ) (B)アルカリ可溶性樹脂がアルカリ可溶性樹
脂(I)を含み、(D)光重合開始剤が2,2’−ビス
(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5、5’−
テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビ
イミダゾールおよび2,2’−ビス(2,4,6−トリ
ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾールの群から選ばれる1種以
上のビイミダゾール系化合物(3)を含むカラーフィル
タ用感放射線性組成物。 (ハ) (D)光重合開始剤がさらに、アセトフェノン
系化合物および/またはベンゾフェノン系化合物を含む
前記(イ)または(ロ)のカラーフィルタ用感放射線性
組成物。 (ニ) (B)アルカリ可溶性樹脂(I)がアルカリ可
溶性樹脂(Ia)、アルカリ可溶性樹脂(Ib)および
アルカリ可溶性樹脂(Ic)の群から選ばれる少なくと
も1種の樹脂を含む前記(イ)、(ロ)または(ハ)の
カラーフィルタ用感放射線性組成物。 (ホ) (C)多官能性単量体がトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トの群から選ばれる少なくとも1種からなる前記
(イ)、(ロ)、(ハ)または(ニ)のカラーフィルタ
用感放射線性組成物。 (ヘ) (A)着色剤が有機顔料を含む前記(イ)、
(ロ)、(ハ)、(ニ)または(ホ)のカラーフィルタ
用感放射線性組成物。
をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施
例に限定されるものではない。
0重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル
酸/グリセロールモノメタクリレート/スチレン/ベン
ジルメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体
(共重合重量比=15/10/15/35/25、重量
平均分子量=28,000)60重量部、(C)多官能
性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート40重量部、(D)光重合開始剤として2,2’−
ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール10
重量部と4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン10重量部と2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−
1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン5
0重量部、および溶媒として3−エトキシプロピオン酸
エチル1000重量部を混合して、感放射線性組成物の
液状組成物を調製した。この液状組成物の溶媒を除いた
各成分の合計量に対する(A)着色剤の濃度は、約43
重量%である。 〈カラーフィルタの形成〉前記液状組成物を、表面にナ
トリウムイオンの溶出を防止するSiO2 膜が形成され
たソーダガラス基板表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、80℃で10分間プレベークを行って、
膜厚2.0μmの塗膜を形成した。その後、この基板を
室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマ
スクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび4
36nmの各波長を含む紫外線を100mJ/cm2 の
露光量で露光した。次いで、この基板を23℃の0.0
4重量%水酸化カリウム水溶液に1分間浸漬して、現像
したのち、超純水で洗浄し、風乾した。その後、230
℃のクリーンオーブン内で30分間ポストベークを行な
って、基板上に赤色のストライプ状カラーフィルタを形
成した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡により観
察したところ、未露光部の基板上および遮光層上に残渣
が認められず、また投光器を用いて観察したところ、未
露光部の基板上および遮光層上に地汚れも認められなか
った。さらに、このカラーフィルタの未露光部の基板表
面を、エタノールを含ませたトレシー(商品名、東レ
(株)製レンズクリーナー))にて10回擦ったとこ
ろ、トレシーが赤色に着色されることはなかった。しか
も、このカラーフィルタの画素と基板との密着性も優れ
ていた。
て、アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート
共重合体(共重合重量比=15/15/70、重量平均
分子量=28,000)60重量部を用いた以外は、実
施例1と同様にして、感放射線性組成物の液状組成物の
調製して、基板上に赤色のストライプ状カラーフィルタ
を形成した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡によ
り観察したところ、未露光部の基板上および遮光層上に
残渣が認められ、また投光器を用いて観察したところ、
未露光部の基板上および遮光層上に地汚れも認められ
た。さらに、このカラーフィルタの未露光部の基板表面
を、エタノールを含ませたトレシーにて10回擦ったと
ころ、トレシーが赤色に着色した。
組成物は、顔料を高濃度で含む場合でも優れた現像性を
示し、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣
および地汚れを生じることがなく、かつ基板および遮光
層への密着性に優れた画素を与えることができる。した
がって、本発明のカラーフィルター用感放射線性組成物
は、電子工業分野におけるカラー液晶表示装置用カラー
フィルターを始めとする各種のカラーフィルターの製造
に極めて好適に使用することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)着色剤、(B)下記構造式(1)
で表される単量体と他の共重合可能な単量体との共重合
体を含むアルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、
および(D)光重合開始剤を含有することを特徴とする
カラーフィルタ用感放射線性組成物。 【化1】 〔構造式(1)において、R1 は水素原子またはメチル
基を示す。〕
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36324397A JP4282783B2 (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
US09/210,794 US6013415A (en) | 1997-12-16 | 1998-12-15 | Radiation sensitive composition |
TW087120857A TW550395B (en) | 1997-12-16 | 1998-12-15 | Radiation sensitive composition |
KR10-1998-0055148A KR100423220B1 (ko) | 1997-12-16 | 1998-12-15 | 감방사선성조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36324397A JP4282783B2 (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11174224A true JPH11174224A (ja) | 1999-07-02 |
JP4282783B2 JP4282783B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=18478853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36324397A Expired - Lifetime JP4282783B2 (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6013415A (ja) |
JP (1) | JP4282783B2 (ja) |
KR (1) | KR100423220B1 (ja) |
TW (1) | TW550395B (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001108817A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JP2001154013A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-08 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
KR20010066952A (ko) * | 1999-07-23 | 2001-07-11 | 마쯔모또 에이찌 | 칼라 필터용 감방사선성 조성물 및 칼라 필터 |
JP2002182388A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性熱硬化性樹脂組成物、ネガ型感光性熱硬化性樹脂層転写材料、及びネガ型耐性画像形成方法 |
JP2003002924A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Hitachi Chem Co Ltd | アルカリ可溶型アクリル樹脂組成物、感光性透明絶縁膜形成材料、カラーフィルタ保護膜の製造法、反射下地層の製造法、着色画像形成材料、カラーフィルタの製造法及びカラーフィルタ |
JP2007304614A (ja) * | 2007-06-28 | 2007-11-22 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用着色層の形成方法 |
CN100354661C (zh) * | 2002-10-04 | 2007-12-12 | 三星电子株式会社 | 控制溶解度的感光树脂组合物及其双层结构的图案形成方法 |
JP2009067900A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | The Inctec Inc | アルカリ可溶型樹脂、アルカリ可溶型感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
EP3085661A1 (en) | 2015-04-21 | 2016-10-26 | JSR Corporation | Method of producing microfluidic device, microfluidic device, and photosensitive resin composition |
EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
WO2019096891A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
WO2021058320A1 (en) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | Altana Ag | Composition for preparing a color filter |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6255034B1 (en) * | 1997-09-09 | 2001-07-03 | Jsr Corporation | Radiation sensitive composition |
TWI289238B (en) * | 2000-01-13 | 2007-11-01 | Fujifilm Corp | Negative resist compositions using for electronic irradiation |
EP1150165A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | JSR Corporation | Radiation sensitive resin composition for forming barrier ribs for an el display element, barrier ribs and el display element |
TWI230321B (en) * | 2000-08-10 | 2005-04-01 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive coloring composition, and color filter and liquid crystal display panel using the same |
TW546541B (en) * | 2001-06-15 | 2003-08-11 | Jsr Corp | Radiation sensitive resin composition, color filter and color liquid crystal display element |
EP1421141B1 (en) * | 2001-08-13 | 2005-03-09 | Ciba SC Holding AG | Polyester compositions of low residual aldehyde content |
MXPA04002550A (es) * | 2001-10-19 | 2004-06-18 | Ciba Sc Holding Ag | Proceso para producir composiciones de pigmento verde utiles para filtros de color y exhibidores de cristal liquido. |
TWI312882B (en) * | 2003-03-24 | 2009-08-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Curable resin composition, curable resin composition for photo-process patterning, color filter, substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel |
US7011529B2 (en) * | 2004-03-01 | 2006-03-14 | Anritsu Company | Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation |
US20050253917A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | Quanyuan Shang | Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting |
US20050255253A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | White John M | Apparatus and methods for curing ink on a substrate using an electron beam |
KR101176101B1 (ko) * | 2004-06-18 | 2012-08-22 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 감광성 수지 조성물, 착색 감광성 수지 조성물의 도포막, 감광성 수지 전사 재료, 감광성 수지층의 형성방법, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법 및 액정표시장치 |
US20060092218A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-04 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet printing |
US20060109296A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Bassam Shamoun | Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays |
US7413272B2 (en) * | 2004-11-04 | 2008-08-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for precision control of print head assemblies |
US20070042113A1 (en) * | 2004-11-04 | 2007-02-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays using pattern data |
US7556334B2 (en) * | 2004-11-04 | 2009-07-07 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for aligning print heads |
US20060093751A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-04 | Applied Materials, Inc. | System and methods for inkjet printing for flat panel displays |
US7090962B2 (en) * | 2004-12-03 | 2006-08-15 | Industrial Technology Research Institute | Alkali-soluble resin with polyaromatic group and photosensitive composition comprising the resin |
US20060159843A1 (en) * | 2005-01-18 | 2006-07-20 | Applied Materials, Inc. | Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems |
US20060185587A1 (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing |
US20070015847A1 (en) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | Applied Materials, Inc. | Red printing ink for color filter applications |
US7544723B2 (en) * | 2005-07-15 | 2009-06-09 | Applied Materials, Inc. | Blue printing ink for color filter applications |
US7460267B2 (en) * | 2005-07-15 | 2008-12-02 | Applied Materials, Inc. | Green printing ink for color filter applications |
TWI318685B (en) * | 2005-07-28 | 2009-12-21 | Applied Materials Inc | Methods and apparatus for concurrent inkjet printing and defect inspection |
US20070070132A1 (en) * | 2005-09-27 | 2007-03-29 | Fan-Cheung Sze | Inkjet delivery module |
US20070068560A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for inkjet print head cleaning |
US20070076040A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet nozzle calibration |
US20080018677A1 (en) * | 2005-09-29 | 2008-01-24 | White John M | Methods and apparatus for inkjet print head cleaning using an inflatable bladder |
US7611217B2 (en) * | 2005-09-29 | 2009-11-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems for inkjet drop positioning |
US20070070109A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | White John M | Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning |
JP2007177179A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Fujifilm Corp | インク、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
TWI328520B (en) * | 2006-02-07 | 2010-08-11 | Applied Materials Inc | Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters |
US20070256709A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-08 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for operating an inkjet printing system |
US20070252863A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-01 | Lizhong Sun | Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures with spray mechanisms |
US20070263026A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-15 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures |
US20080024532A1 (en) * | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Si-Kyoung Kim | Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance |
US20080022885A1 (en) * | 2006-07-27 | 2008-01-31 | Applied Materials, Inc. | Inks for display device manufacturing and methods of manufacturing and using the same |
WO2008013902A2 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for improved manufacturing of color filters |
US20080030562A1 (en) * | 2006-08-02 | 2008-02-07 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for improved ink for inkjet printing |
US20080204501A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-08-28 | Shinichi Kurita | Inkjet print head pressure regulator |
US7803420B2 (en) * | 2006-12-01 | 2010-09-28 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjetting spacers in a flat panel display |
JP4967644B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2012-07-04 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタおよび液晶表示装置 |
US7857413B2 (en) | 2007-03-01 | 2010-12-28 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads |
JP5083540B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2012-11-28 | Jsr株式会社 | 感放射線性保護膜形成用樹脂組成物およびその組成物から保護膜を形成する方法、ならびに液晶表示素子および固体撮像素子 |
CN101688070B (zh) * | 2007-04-24 | 2014-02-12 | 卡伯特公司 | 引入了低结构炭黑的涂料组合物和由其形成的器件 |
US7637587B2 (en) * | 2007-08-29 | 2009-12-29 | Applied Materials, Inc. | System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers |
US20140010971A1 (en) * | 2011-01-04 | 2014-01-09 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Method for preparing antistatic uv curable hardcoatings on optical articles |
US9828514B2 (en) | 2016-04-07 | 2017-11-28 | Eastman Kodak Company | Preparation of aqueous green dispersions |
WO2017176471A1 (en) * | 2016-04-07 | 2017-10-12 | Eastman Kodak Company | Aqueous green pigment dispersions and inkjet compositions |
US9605169B1 (en) | 2016-04-07 | 2017-03-28 | Eastman Kodak Company | Method of inkjet printing green images |
US9828513B2 (en) | 2016-04-07 | 2017-11-28 | Eastman Kodak Company | Aqueous green pigment dispersions and inkjet compositions |
KR20190141000A (ko) * | 2017-05-11 | 2019-12-20 | 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 | 블루 라이트 차단 필름용 자외선 경화형 수지 조성물 및 이것을 이용한 블루 라이트 차단 필름 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3514768C1 (de) * | 1985-04-24 | 1986-07-24 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
JP3329877B2 (ja) * | 1993-03-02 | 2002-09-30 | 互応化学工業株式会社 | プリント回路基板製造用レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板 |
US5478681A (en) * | 1993-11-10 | 1995-12-26 | Nippon Oil Co., Ltd. | Method for producing color filter |
JPH08259876A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-08 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フィルタ−用有機顔料分散液 |
-
1997
- 1997-12-16 JP JP36324397A patent/JP4282783B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-12-15 US US09/210,794 patent/US6013415A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-15 KR KR10-1998-0055148A patent/KR100423220B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-12-15 TW TW087120857A patent/TW550395B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010066952A (ko) * | 1999-07-23 | 2001-07-11 | 마쯔모또 에이찌 | 칼라 필터용 감방사선성 조성물 및 칼라 필터 |
JP2001108817A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JP2001154013A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-08 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
JP2002182388A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性熱硬化性樹脂組成物、ネガ型感光性熱硬化性樹脂層転写材料、及びネガ型耐性画像形成方法 |
JP2003002924A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Hitachi Chem Co Ltd | アルカリ可溶型アクリル樹脂組成物、感光性透明絶縁膜形成材料、カラーフィルタ保護膜の製造法、反射下地層の製造法、着色画像形成材料、カラーフィルタの製造法及びカラーフィルタ |
CN100354661C (zh) * | 2002-10-04 | 2007-12-12 | 三星电子株式会社 | 控制溶解度的感光树脂组合物及其双层结构的图案形成方法 |
JP2007304614A (ja) * | 2007-06-28 | 2007-11-22 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用着色層の形成方法 |
JP2009067900A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | The Inctec Inc | アルカリ可溶型樹脂、アルカリ可溶型感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
EP3085661A1 (en) | 2015-04-21 | 2016-10-26 | JSR Corporation | Method of producing microfluidic device, microfluidic device, and photosensitive resin composition |
US10272426B2 (en) | 2015-04-21 | 2019-04-30 | Jsr Corporation | Method of producing microfluidic device, microfluidic device, and photosensitive resin composition |
EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
WO2019096891A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
WO2021058320A1 (en) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | Altana Ag | Composition for preparing a color filter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW550395B (en) | 2003-09-01 |
JP4282783B2 (ja) | 2009-06-24 |
US6013415A (en) | 2000-01-11 |
KR100423220B1 (ko) | 2005-01-15 |
KR19990063073A (ko) | 1999-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4282783B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP3867177B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP3564836B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ | |
JP4428911B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | |
JP2000227654A (ja) | ブラックレジスト用感放射線性組成物 | |
JP3807108B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JPH11149153A (ja) | ブラックレジスト用感放射線性組成物 | |
JP4075243B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ | |
JP3661399B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP2002258027A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物とその製造方法、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | |
JPH11211911A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP2001264530A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ | |
JP2000131519A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JPH1138225A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JPH1172615A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP2003302515A (ja) | 放射線性組成物、カラーフィルタ、ブラックマトリクスおよび液晶表示素子 | |
JP2001033620A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ | |
JP2003029018A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示素子、 | |
JP3915271B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP2001108817A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ | |
JPH11231124A (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP4385432B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびそれを用いたカラーフィルタ | |
JP3875642B2 (ja) | 着色画像形成用材料、着色画像形成用感光液及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法 | |
JP3956448B2 (ja) | カラーフィルタ用感放射線性組成物 | |
JP2002023352A (ja) | 着色画像形成用感光液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 19991124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 19991125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20020607 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20020611 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070123 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070703 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081225 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090318 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |