JP2001006536A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡易な方法で精度の高いパターン形成が可能
なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】電極層が形成された基板２０上に、第１の
ガラス材料を含有した非感光性樹脂層２１とそれに積層
された第２のガラス材料を含有した感光性樹脂層２２を
設け、所定パターンを有するレジストマスク２３を用い
て露光して現像することにより感光性樹脂層２２に所定
のパターンを形成し、その後非感光性樹脂層２１及びパ
ターニングされた感光性樹脂層２２を同時に焼成するこ
とにより第１及び第２の絶縁層２５を形成する。
なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】電極層が形成された基板２０上に、第１の
ガラス材料を含有した非感光性樹脂層２１とそれに積層
された第２のガラス材料を含有した感光性樹脂層２２を
設け、所定パターンを有するレジストマスク２３を用い
て露光して現像することにより感光性樹脂層２２に所定
のパターンを形成し、その後非感光性樹脂層２１及びパ
ターニングされた感光性樹脂層２２を同時に焼成するこ
とにより第１及び第２の絶縁層２５を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（ＰＤＰ）の製造方法に関し、特にＰＤＰの誘電
体層又は隔壁の形成方法に関する。
パネル（ＰＤＰ）の製造方法に関し、特にＰＤＰの誘電
体層又は隔壁の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、面放電型プラズマディスプレイ
パネルの従来のセル構造を模式的に示す平面図であり、
図４は図３のＶ−Ｖ線における断面図、図５は図３のＷ
−Ｗ線における断面図である。この図３乃至図５におい
て、表示面である前面ガラス基板１０の背面に複数の行
電極対（Ｘ、Ｙ）が、行方向（水平方向、表示ラインＬ
方向）に延びるように配列されている。
パネルの従来のセル構造を模式的に示す平面図であり、
図４は図３のＶ−Ｖ線における断面図、図５は図３のＷ
−Ｗ線における断面図である。この図３乃至図５におい
て、表示面である前面ガラス基板１０の背面に複数の行
電極対（Ｘ、Ｙ）が、行方向（水平方向、表示ラインＬ
方向）に延びるように配列されている。
【０００３】行電極Ｘは、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯ
などの透明導電膜からなる透明電極Ｘａと行方向に伸び
て透明電極Ｘａの幅狭部の端部に接続された金属膜から
なるバス電極Ｘｂによって構成されている。行電極Ｙも
同様に、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯなどの透明導電膜
からなる透明電極Ｙａと行方向に伸びて透明電極Ｙａの
幅狭部の端部に接続された金属膜からなるバス電極Ｙｂ
によって構成されている。この行電極ＸとＹは、列方向
（垂直方向）に交互に配列されており、透明電極Ｘａと
Ｙａが放電セルＣ毎に互いに対向するように垂直方向に
延びて、透明電極ＸａとＹａの幅広部が放電ギャップＧ
を介して互いに対向している。
などの透明導電膜からなる透明電極Ｘａと行方向に伸び
て透明電極Ｘａの幅狭部の端部に接続された金属膜から
なるバス電極Ｘｂによって構成されている。行電極Ｙも
同様に、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯなどの透明導電膜
からなる透明電極Ｙａと行方向に伸びて透明電極Ｙａの
幅狭部の端部に接続された金属膜からなるバス電極Ｙｂ
によって構成されている。この行電極ＸとＹは、列方向
（垂直方向）に交互に配列されており、透明電極Ｘａと
Ｙａが放電セルＣ毎に互いに対向するように垂直方向に
延びて、透明電極ＸａとＹａの幅広部が放電ギャップＧ
を介して互いに対向している。
【０００４】前面ガラス基板１０の背面には、さらに、
行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆するように誘電体層１１が形
成されており、この誘電体層１１上には、バス電極Ｘｂ
とＹｂと対向する位置及び行電極対間（表示ラインＬ
間）のバス電極Ｘｂとバス電極Ｙｂで囲まれた領域（バ
ス電極間）と対向する位置に、嵩上げ誘電体層１１Ａが
水平方向に延びるように形成されている。この嵩上げ誘
電体層１１Ａにより、放電の広がりを抑制して隣接する
放電セルＣの誤放電を防止している。
行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆するように誘電体層１１が形
成されており、この誘電体層１１上には、バス電極Ｘｂ
とＹｂと対向する位置及び行電極対間（表示ラインＬ
間）のバス電極Ｘｂとバス電極Ｙｂで囲まれた領域（バ
ス電極間）と対向する位置に、嵩上げ誘電体層１１Ａが
水平方向に延びるように形成されている。この嵩上げ誘
電体層１１Ａにより、放電の広がりを抑制して隣接する
放電セルＣの誤放電を防止している。
【０００５】この誘電体層１１は、低融点ガラスペース
トを所定の厚さで一様に塗布して乾燥させ所定の温度で
焼成することにより形成され、嵩上げ誘電体層１１Ａは
誘電体層１１上に低融点ガラスペーストを所定の厚さで
スクリーン印刷して乾燥させ、その後焼成することによ
り形成される。そして、この誘電体層１１と嵩上げ誘電
体層１１Ａの表面には、ＭｇＯからなる保護層１２が形
成されている。
トを所定の厚さで一様に塗布して乾燥させ所定の温度で
焼成することにより形成され、嵩上げ誘電体層１１Ａは
誘電体層１１上に低融点ガラスペーストを所定の厚さで
スクリーン印刷して乾燥させ、その後焼成することによ
り形成される。そして、この誘電体層１１と嵩上げ誘電
体層１１Ａの表面には、ＭｇＯからなる保護層１２が形
成されている。
【０００６】一方、前面ガラス基板１０と放電空間Ｓを
介して対向配置された背面ガラス基板１３には、列電極
Ｄが、各行電極対（Ｘ、Ｙ）の互いに対となる透明電極
Ｘａ及びＹａに対向する位置において各行電極対（Ｘ、
Ｙ）と直交する方向（列方向、垂直方向）に延びて互い
に所定の間隔をおいて平行に配列されている。さらに、
背面ガラス基板１３には、背面ガラス基板１３の内面及
び列電極Ｄを被覆する白色の誘電体層１４が形成され、
この誘電体層１４上には隔壁１５が形成されている。白
色の誘電体層１４は、白色顔料を混入させたガラスペー
ストを背面ガラス基板１３の内面及び列電極Ｄに一様に
塗布して乾燥させ、その後所定の温度で焼成することに
より形成される。
介して対向配置された背面ガラス基板１３には、列電極
Ｄが、各行電極対（Ｘ、Ｙ）の互いに対となる透明電極
Ｘａ及びＹａに対向する位置において各行電極対（Ｘ、
Ｙ）と直交する方向（列方向、垂直方向）に延びて互い
に所定の間隔をおいて平行に配列されている。さらに、
背面ガラス基板１３には、背面ガラス基板１３の内面及
び列電極Ｄを被覆する白色の誘電体層１４が形成され、
この誘電体層１４上には隔壁１５が形成されている。白
色の誘電体層１４は、白色顔料を混入させたガラスペー
ストを背面ガラス基板１３の内面及び列電極Ｄに一様に
塗布して乾燥させ、その後所定の温度で焼成することに
より形成される。
【０００７】隔壁１５は、互いに平行に配列された各列
電極Ｄの間の位置に垂直方向に延びるように形成されて
いる。この隔壁１５により、放電空間Ｓが表示ラインＬ
に沿って放電セルＣ毎に区画される。この垂直方向に帯
状に延びる隔壁１５は、誘電体層１４上に白色顔料を混
入させたガラスペーストを所定の厚さで一様に塗布乾燥
させ、所定パターンのマスクを介してサンドブラスト処
理によりガラス層を選択的に切削し、隔壁パターンを形
成した後所定の温度で焼成することにより形成される。
放電空間Ｓに面する隔壁１５の側面及び誘電体層１４の
表面には、蛍光体層１６が形成されている。この蛍光体
層１６の色は、各放電セルＣ毎にR、Ｇ、Ｂの各色が表
示ラインＬ方向に順に並ぶように設定される。
電極Ｄの間の位置に垂直方向に延びるように形成されて
いる。この隔壁１５により、放電空間Ｓが表示ラインＬ
に沿って放電セルＣ毎に区画される。この垂直方向に帯
状に延びる隔壁１５は、誘電体層１４上に白色顔料を混
入させたガラスペーストを所定の厚さで一様に塗布乾燥
させ、所定パターンのマスクを介してサンドブラスト処
理によりガラス層を選択的に切削し、隔壁パターンを形
成した後所定の温度で焼成することにより形成される。
放電空間Ｓに面する隔壁１５の側面及び誘電体層１４の
表面には、蛍光体層１６が形成されている。この蛍光体
層１６の色は、各放電セルＣ毎にR、Ｇ、Ｂの各色が表
示ラインＬ方向に順に並ぶように設定される。
【０００８】上記プラズマディスプレイパネルは、行電
極対（Ｘ、Ｙ）がそれぞれマトリクス表示画面の１表示
ラインＬを構成し、行電極対（Ｘ、Ｙ）と列電極Ｄの各
交差部においてそれぞれ一つの放電セルＣが形成されて
いる。
極対（Ｘ、Ｙ）がそれぞれマトリクス表示画面の１表示
ラインＬを構成し、行電極対（Ｘ、Ｙ）と列電極Ｄの各
交差部においてそれぞれ一つの放電セルＣが形成されて
いる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述のように従来のプ
ラズマディスプレイパネルにおいては、前面ガラス基板
１０上に誘電体層１１及び嵩上げ誘電体層１１Ａを形成
する際、ガラスペーストの塗布、乾燥、焼成を独立に繰
り返して行っていた。同様に、背面ガラス基板１３上に
誘電体層１４及び隔壁１５を形成する際にも、ガラスペ
ーストの塗布、乾燥、焼成を独立に繰り返して行ってい
る行っていた。従って、製造工程数が多くなり、コスト
高となり、作業効率が悪いという問題があった。また、
焼成工程が繰り返し行われるため、ガラス基板の変形、
収縮による電極パターンと嵩上げ誘電体層及び隔壁の間
の位置ずれが問題となる。本発明は、上記の問題を解決
するためになされたものであり、簡易な方法で精度の高
いパターン形成が可能なプラズマディスプレイパネルの
製造方法を提供することを目的とする。
ラズマディスプレイパネルにおいては、前面ガラス基板
１０上に誘電体層１１及び嵩上げ誘電体層１１Ａを形成
する際、ガラスペーストの塗布、乾燥、焼成を独立に繰
り返して行っていた。同様に、背面ガラス基板１３上に
誘電体層１４及び隔壁１５を形成する際にも、ガラスペ
ーストの塗布、乾燥、焼成を独立に繰り返して行ってい
る行っていた。従って、製造工程数が多くなり、コスト
高となり、作業効率が悪いという問題があった。また、
焼成工程が繰り返し行われるため、ガラス基板の変形、
収縮による電極パターンと嵩上げ誘電体層及び隔壁の間
の位置ずれが問題となる。本発明は、上記の問題を解決
するためになされたものであり、簡易な方法で精度の高
いパターン形成が可能なプラズマディスプレイパネルの
製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】 本発明によるプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法は、上記目的を達成する
ために、プラズマディスプレイパネルの一方の基板上に
所定パターンの電極層を形成し、その上に第１の絶縁層
及び所定パターンの放電領域を制限する第２絶縁層を積
層形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であ
って、前記電極層が形成された基板上に、第１のガラス
材料を含有した非感光性樹脂層とそれに積層された第２
のガラス材料を含有した感光性樹脂層を設け、前記感光
性樹脂層を所定パターンを有するマスクを用いて露光し
て現像することにより前記感光性樹脂層に所定のパター
ンを形成し、その後前記非感光性樹脂層及び前記パター
ニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することにより
前記第１及び第２の絶縁層を形成することを特徴とす
る。
ディスプレイパネルの製造方法は、上記目的を達成する
ために、プラズマディスプレイパネルの一方の基板上に
所定パターンの電極層を形成し、その上に第１の絶縁層
及び所定パターンの放電領域を制限する第２絶縁層を積
層形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であ
って、前記電極層が形成された基板上に、第１のガラス
材料を含有した非感光性樹脂層とそれに積層された第２
のガラス材料を含有した感光性樹脂層を設け、前記感光
性樹脂層を所定パターンを有するマスクを用いて露光し
て現像することにより前記感光性樹脂層に所定のパター
ンを形成し、その後前記非感光性樹脂層及び前記パター
ニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することにより
前記第１及び第２の絶縁層を形成することを特徴とす
る。
【００１１】係る構成によれば、非感光性樹脂層及びパ
ターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することに
より第１及び第２の絶縁層を形成しているので、よっ
て、焼成工程が簡素化され、作業効率を向上させ、精度
の高いパターン形成が可能となる。
ターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することに
より第１及び第２の絶縁層を形成しているので、よっ
て、焼成工程が簡素化され、作業効率を向上させ、精度
の高いパターン形成が可能となる。
【００１２】また、本発明によるプラズマディスプレイ
パネルの製造方法は、上記目的を達成するために、プラ
ズマディスプレイパネルの一方の基板上に所定パターン
の電極層を形成し、その上に第１の絶縁層及び所定パタ
ーンの放電領域を制限する第２絶縁層を積層形成するプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電
極層が形成された基板上に、第１のガラス材料を含有し
た非感光性樹脂層とそれに積層された第２のガラス材料
を含有した感光性樹脂層からなる多層樹脂フィルムを積
層し、前記感光性樹脂層を所定パターンを有するマスク
を用いて露光して現像することにより前記感光性樹脂層
に所定のパターンを形成し、その後前記非感光性樹脂層
及び前記パターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成
することにより前記第１及び第２の絶縁層を形成するこ
とを特徴とする。
パネルの製造方法は、上記目的を達成するために、プラ
ズマディスプレイパネルの一方の基板上に所定パターン
の電極層を形成し、その上に第１の絶縁層及び所定パタ
ーンの放電領域を制限する第２絶縁層を積層形成するプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電
極層が形成された基板上に、第１のガラス材料を含有し
た非感光性樹脂層とそれに積層された第２のガラス材料
を含有した感光性樹脂層からなる多層樹脂フィルムを積
層し、前記感光性樹脂層を所定パターンを有するマスク
を用いて露光して現像することにより前記感光性樹脂層
に所定のパターンを形成し、その後前記非感光性樹脂層
及び前記パターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成
することにより前記第１及び第２の絶縁層を形成するこ
とを特徴とする。
【００１３】係る構成によれば、非感光性樹脂層及びパ
ターニングされた感光性樹脂層からなる多層樹脂フィル
ムを使用し且つ両樹脂層を同時に焼成することにより第
１及び第２の絶縁層を形成しているので、焼成工程が大
幅に簡素化され、作業効率を向上させ、精度の高いパタ
ーン形成が可能となる。
ターニングされた感光性樹脂層からなる多層樹脂フィル
ムを使用し且つ両樹脂層を同時に焼成することにより第
１及び第２の絶縁層を形成しているので、焼成工程が大
幅に簡素化され、作業効率を向上させ、精度の高いパタ
ーン形成が可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。図１（ａ）〜図１（ｃ）は、
本発明の第１の実施形態を説明する工程順に示した断面
図である。先ず、ガラス基板２０上に所定のパターンに
形成された電極（図示せず）を形成する。この電極が表
示面となる前面ガラス基板に形成される行電極対（Ｘ、
Ｙ）である場合には、ＩＴＯなどの透明導電膜を基板表
面に蒸着し、フォトリソ法により図３に示されるように
Ｔ字形状にパターニングし、次に感光性銀ペーストを塗
布して乾燥し、次いでフォトリソ法によりパターニング
して焼成することにより形成される。また、この電極が
背面ガラス基板に形成される列電極Ｄである場合には、
例えばＡｌ合金を基板表面に蒸着し、フォトリソ法によ
りパターニングすることにより形成される。
図面を参照して説明する。図１（ａ）〜図１（ｃ）は、
本発明の第１の実施形態を説明する工程順に示した断面
図である。先ず、ガラス基板２０上に所定のパターンに
形成された電極（図示せず）を形成する。この電極が表
示面となる前面ガラス基板に形成される行電極対（Ｘ、
Ｙ）である場合には、ＩＴＯなどの透明導電膜を基板表
面に蒸着し、フォトリソ法により図３に示されるように
Ｔ字形状にパターニングし、次に感光性銀ペーストを塗
布して乾燥し、次いでフォトリソ法によりパターニング
して焼成することにより形成される。また、この電極が
背面ガラス基板に形成される列電極Ｄである場合には、
例えばＡｌ合金を基板表面に蒸着し、フォトリソ法によ
りパターニングすることにより形成される。
【００１５】次に、図１（ａ）に示すように、ガラス基
板２０の電極形成面に第１のガラス材料を含有した非感
光性樹脂層２１とそれに積層された第２のガラス材料を
含有したネガ型の感光性樹脂層２２をこの順に形成す
る。非感光性樹脂層２１は、軟化点が約５８０℃の第１
のガラス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成分とするガラ
ス材料）とアクリル系ポリマーからなる非感光性樹脂と
を主成分とする低融点ガラスペースト（すなわち、第１
のガラス材料を含有した非感光性樹脂ペースト）をスク
リーン印刷法により塗布し乾燥させて形成される。ま
た、感光性樹脂層２２は、軟化点が第１のガラス材料と
略等しい第２のガラス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成
分とするガラス材料）とアクリル系モノマー又はオリゴ
マーからなる感光性樹脂とを主成分とする低融点ガラス
ペースト（すなわち、第２のガラス材料を含有した感光
性樹脂ペースト）をスクリーン印刷法により塗布し乾燥
させて形成される。
板２０の電極形成面に第１のガラス材料を含有した非感
光性樹脂層２１とそれに積層された第２のガラス材料を
含有したネガ型の感光性樹脂層２２をこの順に形成す
る。非感光性樹脂層２１は、軟化点が約５８０℃の第１
のガラス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成分とするガラ
ス材料）とアクリル系ポリマーからなる非感光性樹脂と
を主成分とする低融点ガラスペースト（すなわち、第１
のガラス材料を含有した非感光性樹脂ペースト）をスク
リーン印刷法により塗布し乾燥させて形成される。ま
た、感光性樹脂層２２は、軟化点が第１のガラス材料と
略等しい第２のガラス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成
分とするガラス材料）とアクリル系モノマー又はオリゴ
マーからなる感光性樹脂とを主成分とする低融点ガラス
ペースト（すなわち、第２のガラス材料を含有した感光
性樹脂ペースト）をスクリーン印刷法により塗布し乾燥
させて形成される。
【００１６】次に、図１（ｂ）に示すように、所定パタ
ーンのマスク２３を用いて露光及び現像を行い、感光性
樹脂層２２をパターニングする。そして、図１（ｃ）に
示すように、非感光性樹脂層及びパターニングされた感
光性樹脂層を軟化点近傍の温度（例えば５６０℃〜５８
０℃）で同時に焼成することにより、電極を一様に覆う
第１の絶縁層２４とパターニングされた第２の絶縁層２
５が同時形成される。
ーンのマスク２３を用いて露光及び現像を行い、感光性
樹脂層２２をパターニングする。そして、図１（ｃ）に
示すように、非感光性樹脂層及びパターニングされた感
光性樹脂層を軟化点近傍の温度（例えば５６０℃〜５８
０℃）で同時に焼成することにより、電極を一様に覆う
第１の絶縁層２４とパターニングされた第２の絶縁層２
５が同時形成される。
【００１７】ガラス基板２０が表示面となる前面ガラス
基板である場合には、第１の絶縁層２４は図４に示され
る誘電体層１１に相当し、パターニングされた第２の絶
縁層２５は図４に示される嵩上げ誘電体層１１Ａに相当
する。また、ガラス基板２０が背面ガラス基板である場
合には、第１の絶縁層２４は図５に示される誘電体層１
４に相当し、パターニングされた第２の絶縁層２５は図
５に示される隔壁１５に相当する。
基板である場合には、第１の絶縁層２４は図４に示され
る誘電体層１１に相当し、パターニングされた第２の絶
縁層２５は図４に示される嵩上げ誘電体層１１Ａに相当
する。また、ガラス基板２０が背面ガラス基板である場
合には、第１の絶縁層２４は図５に示される誘電体層１
４に相当し、パターニングされた第２の絶縁層２５は図
５に示される隔壁１５に相当する。
【００１８】次に、図２（ａ）〜図２（ｃ）は、本発明
の第２の実施形態を説明する工程順に示した断面図であ
る。本実施形態においては、ベースフィルム３０上に軟
化点が約５８０℃の第１のガラス材料（酸化鉛、二酸化
珪素を主成分とするガラス材料）とアクリル系ポリマー
からなる非感光性樹脂とを主成分とする低融点ガラスペ
ースト（すなわち、第１のガラス材料を含有した非感光
性樹脂ペースト）を塗布し乾燥させた非感光性樹脂層３
１と、軟化点が第１のガラス材料と略等しい第２のガラ
ス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成分とするガラス材
料）とアクリル系モノマー又はオリゴマーからなる感光
性樹脂とを主成分とする低融点ガラスペースト（すなわ
ち、第２のガラス材料を含有した感光性樹脂ペースト）
を塗布し乾燥させた感光性樹脂層３２を積層し、さらに
感光性樹脂層３２上に保護フィルム３３を積層した多層
フィルムを作成し、この多層フィルムを用いて基板上に
第１の絶縁層とパターニングされた第２の絶縁層を形成
するようにしている。
の第２の実施形態を説明する工程順に示した断面図であ
る。本実施形態においては、ベースフィルム３０上に軟
化点が約５８０℃の第１のガラス材料（酸化鉛、二酸化
珪素を主成分とするガラス材料）とアクリル系ポリマー
からなる非感光性樹脂とを主成分とする低融点ガラスペ
ースト（すなわち、第１のガラス材料を含有した非感光
性樹脂ペースト）を塗布し乾燥させた非感光性樹脂層３
１と、軟化点が第１のガラス材料と略等しい第２のガラ
ス材料（酸化鉛、二酸化珪素を主成分とするガラス材
料）とアクリル系モノマー又はオリゴマーからなる感光
性樹脂とを主成分とする低融点ガラスペースト（すなわ
ち、第２のガラス材料を含有した感光性樹脂ペースト）
を塗布し乾燥させた感光性樹脂層３２を積層し、さらに
感光性樹脂層３２上に保護フィルム３３を積層した多層
フィルムを作成し、この多層フィルムを用いて基板上に
第１の絶縁層とパターニングされた第２の絶縁層を形成
するようにしている。
【００１９】先ず、第１の実施形態の場合と同様に、ガ
ラス基板２０上に所定のパターンに形成された電極（図
示せず）を形成する。次に、図２（ａ）に示されるよう
に、ベースフィルム３０を剥離しつつ、上記多層フィル
ムをローラ３５により加熱加圧して熱圧着する。その
後、保護フィルム３３を剥離する。以後の工程は、第１
の実施形態と同様に、図２（ｂ）に示すように、所定パ
ターンのマスク３４を用いて露光及び現像を行い、感光
性樹脂層３２をパターニングする。そして、図２（ｃ）
に示すように、非感光性樹脂層及びパターニングされた
感光性樹脂層を軟化点近傍の温度（例えば５６０℃〜５
８０℃）で同時に焼成することにより、電極を一様に覆
う第１の絶縁層３６とパターニングされた第２の絶縁層
３７が同時形成される。
ラス基板２０上に所定のパターンに形成された電極（図
示せず）を形成する。次に、図２（ａ）に示されるよう
に、ベースフィルム３０を剥離しつつ、上記多層フィル
ムをローラ３５により加熱加圧して熱圧着する。その
後、保護フィルム３３を剥離する。以後の工程は、第１
の実施形態と同様に、図２（ｂ）に示すように、所定パ
ターンのマスク３４を用いて露光及び現像を行い、感光
性樹脂層３２をパターニングする。そして、図２（ｃ）
に示すように、非感光性樹脂層及びパターニングされた
感光性樹脂層を軟化点近傍の温度（例えば５６０℃〜５
８０℃）で同時に焼成することにより、電極を一様に覆
う第１の絶縁層３６とパターニングされた第２の絶縁層
３７が同時形成される。
【００２０】本実施形態においては、多層フィルムを用
いることにより、非感光性樹脂層及び感光性樹脂層の積
層工程が簡略化される。また、第１の実施形態と同様
に、両樹脂層を同時に焼成することにより第１及び第２
の絶縁層を形成しているので、焼成工程が大幅に簡素化
され、作業効率が向上する。
いることにより、非感光性樹脂層及び感光性樹脂層の積
層工程が簡略化される。また、第１の実施形態と同様
に、両樹脂層を同時に焼成することにより第１及び第２
の絶縁層を形成しているので、焼成工程が大幅に簡素化
され、作業効率が向上する。
【００２１】また、上述の各実施形態においては、２層
構造の絶縁体層（誘電体層）としたが、これに限らず３
層以上の構造をとることも可能である。例えば、第１層
及び第２層を非感光性樹脂層とし、第３層（最上層）を
感光性樹脂層としても良い。
構造の絶縁体層（誘電体層）としたが、これに限らず３
層以上の構造をとることも可能である。例えば、第１層
及び第２層を非感光性樹脂層とし、第３層（最上層）を
感光性樹脂層としても良い。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、非感光性樹脂層及びパ
ターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することに
より第１及び第２の絶縁層を形成しているので、精度の
高いパターン形成が可能となる。また、多層フィルムを
用いることにより、焼成工程が大幅に簡素化され、作業
効率が向上する。
ターニングされた感光性樹脂層を同時に焼成することに
より第１及び第２の絶縁層を形成しているので、精度の
高いパターン形成が可能となる。また、多層フィルムを
用いることにより、焼成工程が大幅に簡素化され、作業
効率が向上する。
【図１】本発明の第１の実施形態を説明する工程順に示
した断面図である。
した断面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態を説明する工程順に示
した断面図である。
した断面図である。
【図３】従来例における面放電型プラズマディスプレイ
パネルのセル構造を模式的に示す平面図。
パネルのセル構造を模式的に示す平面図。
【図４】図３のＶ−Ｖ線における断面図。
【図５】図３のＷ−Ｗ線における断面図
２０・・・ガラス基板 ２１・・・非感光性樹脂層 ２２・・・感光性樹脂層 ２３・・・マスク ２４・・・絶縁層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5C027 AA05 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD09 GF19 JA15 KA08 KA16 MA26
Claims (4)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルの一方の基
板上に所定パターンの電極層を形成し、その上に第１の
絶縁層及び所定パターンの放電領域を制限する第２絶縁
層を積層形成するプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、 前記電極層が形成された基板上に、第１のガラス材料を
含有した非感光性樹脂層とそれに積層された第２のガラ
ス材料を含有した感光性樹脂層を設け、前記感光性樹脂
層を所定パターンを有するマスクを用いて露光して現像
することにより前記感光性樹脂層に所定のパターンを形
成し、その後前記非感光性樹脂層及び前記パターニング
された感光性樹脂層を同時に焼成することにより前記第
１及び第２の絶縁層を形成することを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項２】 前記第２のガラス材料として、軟化点が
前記第１のガラス材料と略等しいガラス材料を用いるこ
とを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。 - 【請求項３】 プラズマディスプレイパネルの一方の基
板上に所定パターンの電極層を形成し、その上に第１の
絶縁層及び所定パターンの放電領域を制限する第２絶縁
層を積層形成するプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、 前記電極層が形成された基板上に、第１のガラス材料を
含有した非感光性樹脂層とそれに積層された第２のガラ
ス材料を含有した感光性樹脂層からなる多層樹脂フィル
ムを積層し、前記感光性樹脂層を所定パターンを有する
マスクを用いて露光して現像することにより前記感光性
樹脂層に所定のパターンを形成し、その後前記非感光性
樹脂層及び前記パターニングされた感光性樹脂層を同時
に焼成することにより前記第１及び第２の絶縁層を形成
することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製
造方法。 - 【請求項４】 前記第２のガラス材料として、軟化点が
前記第１のガラス材料と略等しいガラス材料を用いるこ
とを特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17374199A JP2001006536A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17374199A JP2001006536A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001006536A true JP2001006536A (ja) | 2001-01-12 |
Family
ID=15966278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17374199A Pending JP2001006536A (ja) | 1999-06-21 | 1999-06-21 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001006536A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1999
- 1999-06-21 JP JP17374199A patent/JP2001006536A/ja active Pending
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