JP3449572B2 - 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な感光性樹脂組成物
およびこれを用いた感光性ドライフィルムに関し、特に
ドライフィルムとしたときに従来品に比べて塗膜性が良
好でコールドフローの影響がなく長期保存が可能であ
り、被処理体上に適用した際には密着性に優れ、現像性
にも秀でた感光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくはサ
ンドブラスト処理を行なうに際してマスク材として好適
な物性を備える感光性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ガラス、セラミックス等の被
処理体を選択的に切削する場合、被処理体上にマスク材
としてパターニングされた感光性樹脂層を設け、しかる
後、研磨剤を吹き付けて非マスク部を選択的に切削する
サンドブラスト処理方法が知られている。

【０００３】このようなサンドブラスト処理用のマスク
材として用いられる感光性樹脂組成物としては、例えば
特開昭５５−１０３５５４号公報に提案されているよう
な不飽和ポリエステルと不飽和モノマーおよび光重合開
始剤からなる感光性樹脂組成物や、特開平２−６９７５
４号公報に提案されているようなポリビニルアルコール
とジアゾ樹脂からなる感光性樹脂組成物や、特開昭６０
−２０８６２号公報、特開昭６０−２０８６１号公報に
提案されているような末端にアクリレート基又はメタク
リレート基をもつウレタンポリマーと不飽和モノマーお
よび光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物、液状感光
性樹脂組成物等が従来より良く知られている。

【０００４】ところで、近年のホトリソグラフィー技術
の微細化に伴い、サンドブラスト法による被処理体の切
削においても、例えば１００μｍ以下の微細パターンが
形成可能であることや、その他取り扱い性等を含めた種
々の性能を複合的に備えることがマスク材としての感光
性樹脂組成物に要望されてきている。

【０００５】すなわち、いわゆるサンドブラスト用の感
光性樹脂組成物に求められる性能としては、取り扱いの
容易さや、セラミックや蛍光体等の被処理体の加工の際
に感光性樹脂組成物が染み込んで加工不良を起こさぬよ
うにドライフィルムに形成できること、近年の環境問題
からアルカリ現像性に優れていること、ドライフィルム
としたときにコールドフロー等の問題が起こらず長期保
存が可能なこと、１００μｍ以下のレジストパターンが
形成可能なように感度、解像度に優れていること、１０
０μｍ以下の微細パターンの切削が被処理体上に形成で
きるよう、弾性、柔軟性が高く耐ブラスト性に優れてい
ること、被処理体への密着性が良いこと等が要望されて
いる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の感光性樹脂組成物では、ドライフィルム状に形
成することができず取り扱いが著しく困難であったり、
ドライフィルム状に形成できたとしても膜厚を薄くする
ことが難しく長期保存ができなかったり、アルカリ現像
性が悪く微細パターンを形成するのが困難であったり、
被処理体への密着性が十分でなくすぐに剥がれてしまう
等の問題が生じていた。耐サンドブラスト性についても
さらなる向上が望まれていた。

【０００７】本発明はこのような実情のもとに創案され
たものであって、その目的は、均一な膜厚を形成するこ
とが可能であり、被処理体に対する密着性に優れ、実用
性に優れたドライフィルムが形成でき、ドライフィルム
としたときにコールドフロー等の問題が起こらず長期の
保存が可能であり、高感度で微細なパターンが形成可能
であり、アルカリ現像性に優れ、耐サンドブラスト性に
優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】 本出願に係る発明者ら
が、このような課題を解決するために鋭意研究を重ねた
ところ、特定の酸価と硬化後のガラス転移点を有するカ
ルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合物と、
特定の酸価のアルカリ可溶高分子化合物と、さらには光
重合開始剤、特定量の光重合性単量体とを組み合せるこ
とにより上述した課題を解決できることを見いだし、本
発明を完成するに至ったのである。

【０００９】 すなわち、本発明の感光性樹脂組成物
は、少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を有
し、酸価が２０〜７０ｍｇ／ＫＯＨ、硬化後のガラス転
移点が５℃以上９５℃以下であるカルボキシ変性ウレタ
ン（メタ）アクリレート化合物と、酸価が５０〜２５０
ｍｇ／ＫＯＨであるアルカリ可溶高分子化合物と、光重
合開始剤と、光重合性単量体を前記カルボキシ変性ウレ
タン（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対し２
０重量部を超えない範囲で含有して構成される。

【００１０】また、本発明の感光性ドライフィルムは、
このような感光性樹脂組成物を可撓性フィルムと離型フ
ィルムとの間に感光性樹脂組成物層として設け、構成さ
れる。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１２】本発明の感光性樹脂組成物に使用されるカ
ルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、
最初に、ジイソシアネート化合物と、カルボキシル基を
有するジオール化合物とを両末端に−ＮＣＯ基（イソシ
アネート基）が残るように反応させ、次いでこの反応物
の末端−ＮＣＯ基に、ヒドロキシル基を有する（メタ）
アクリレート化合物を反応させることによって得ること
ができる。なお、ジイソシアネート化合物とジオール化
合物との反応に際しては、反応物の両末端に−ＮＣＯ基
を残すためにジイソシアネート化合物を過剰とする。

【００１３】具体的には冷却器、かく拌器を備えた丸底
フラスコ内にジイソシアネート化合物およびカルボキシ
ル基を有するジオール化合物を加え、ジオキサン等の溶
媒および触媒を加えて、２〜１５時間加熱、かくはんし
たものに、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシ基を有す
る（メタ）アクリレート化合物、ヒドロキノン等の重合
禁止剤を加えてさらに１〜８時間加熱、かくはんするこ
とによって得ることができる。なお、ジイソシアネート
化合物とカルボキシル基を有するジオール化合物とを反
応させる際に、ジカルボン酸化合物やカルボキシル基を
有さないジオール化合物を加えて反応させてもよい。ジ
カルボン酸化合物を加えることにより、エステル結合を
形成するため強度を増すことができ、サンドブラスト耐
性を向上させることができる。

【００１４】ジイソシアネート化合物としては、ヘキサ
メチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシア
ネート、２，２−ジメチルペンタン−１，５−ジイソシ
アネート、オクタメチレンジイソシアネート、２，５−
ジメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２，
２，４−トリメチルペンタン−１，５−ジイソシアネー
ト、ノナメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリ
メチルヘキサンジイソシアネート、２，４，４−トリメ
チルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシ
アネート、ウンデカメチレンジイソシアネート、ドデカ
メチレンジイソシアネート、トリデカメチレンジイソシ
アネート、ペンタデカメチレンジイソシアネート、ヘキ
サデカメチレンジイソシアネート、ブテンジイソシアネ
ート、１，３−ブタジエン−１，４−ジイソシアネー
ト、２−ブチニレンジイソシアネート、２，４−トリレ
ンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリ
レンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物が耐
サンドブラスト性に優れるため好ましく用いることがで
きる。

【００１５】カルボキシル基を有するジオール化合物と
しては、酒石酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、３，
５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシ
メチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシ
エチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシ
プロピル）プロピオン酸、ジヒドロキシメチル酢酸、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、４，４−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、ホモゲンチジン酸
等が挙げられる。

【００１６】この中でも２，２−ビス（ヒドロキシメチ
ル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロ
ピル）プロピオン酸はジイソシアネート化合物との反応
性がよく、反応後のカルボキシ変性ウレタン（メタ）ア
クリレート化合物はアルカリ溶液に対して溶解性が良好
であるため好適である。特に好ましくは２，２−ビス
（ヒドロキシメチル）プロピオン酸である。

【００１７】ジカルボン酸化合物としては、シュウ酸、
マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、イタコン酸、マレイン
酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ムコン酸、カ
ラクタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、ウンデカン二酸、１，１−シクロプロパン
ジカルボン酸、１，２−シクロプロパンジカルボン酸、
１，１−シクロブタンジカルボン酸、１，２−シクロブ
タンジカルボン酸、１，１−シクロペンタンジカルボン
酸、１，２−シクロぺンタンジカルボン酸、１，３−シ
クロペンタンジカルボン酸、１，１−シクロヘキサンジ
カルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、
１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、２，３−ビフェニルジカルボン酸、２，３’
−ビフェニルジカルボン酸、３，３’−ビフェニルジカ
ルボン酸、３，４’−ビフェニルジカルボン酸、４，
４’−ビフェニルジカルボン酸、２，２’−メチレン二
安息香酸、２，３’−メチレン二安息香酸、３，３’−
メチレン二安息香酸、３，４’−メチレン二安息香酸、
４，４’−メチレン二安息香酸、４，４’−イソプロピ
リデン二安息香酸、３−カルボキシ桂皮酸、４−カルボ
キシ桂皮酸、３，３’フェニレンジアクリル酸、３−オ
キシアジピン酸などが挙げられる。前述したようにジカ
ルボン酸化合物を加えることにより、エステル結合を形
成するため強度を増すことができ、サンドブラスト耐性
を向上させることができる。

【００１８】また、カルボキシル基を有さないジオール
化合物の一例としては、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、１，３−ブチレングリコール、１，６ヘキサンジオ
ール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−ト
リメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−
β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサ
ンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添
ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、水添ビスフ
ェノールＳ、パラキシリレングリコール等が挙げられ
る。

【００１９】本発明のカルボキシ変性ウレタン（メタ）
アクリレート化合物は、前述のごとく、ヒドロキシル基
を有する（メタ）アクリレート化合物を上記分子末端の
イソシアネート基と反応させることによって合成され
る。

【００２０】ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレ
ート化合物としてはヒドロキシメチルアクリレート、ヒ
ドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、エチレングリコールモノメチ
ルアクリレート、エチレングリコールモノメチルメタク
リレート、エチレングリコールモノエチルアクリレー
ト、エチレングリコールモノエチルメタクリレート、グ
リセロールアクリレート、グリセロールメタクリレー
ト、ジペンタエリトリトールモノヒドロキシメタクリレ
ート、ジペンタエリトリトールモノヒドロキシアクリレ
ート等のヒドロキシ基を有するモノマーが挙げられる。
このヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合
物は前述のごとく分子の末端の−ＮＣＯ基と反応するこ
とにより末端に二重結合が修飾された形でカルボキシ変
性ウレタン（メタ）アクリレート化合物が合成される。

【００２１】このように本発明において最終的に合成さ
れたカルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合
物の酸価は、２０〜７０ｍｇ／ＫＯＨ、より好ましくは
２０〜５０ｍｇ／ＫＯＨである。酸価が２０ｍｇ／ＫＯ
Ｈ未満になると現像時に現像不良をおこすことがあり、
また７０ｍｇ／ＫＯＨを超えると、柔軟性がなくなった
り耐水性に劣るなどして好ましくない。

【００２２】さらに上記カルボキシ変性ウレタン（メ
タ）アクリレート化合物の紫外線照射硬化後のガラス転
移点は、５〜９５℃、より好ましくは１０〜８０℃であ
る。このガラス転移点が５℃未満になると、感光性樹脂
組成物の塗膜性が悪くなり、耐サンドブラスト性も低下
するので好ましくない。また、ガラス転移点が９５℃を
超えると硬化後の感光性樹脂の柔軟性が失われるため耐
サンドブラスト性が低下し、好ましくない。

【００２３】合成後のカルボキシ変性ウレタン（メタ）
アクリレート化合物の平均分子量は１０００〜５０００
０の範囲、特に２０００〜３００００の範囲が好まし
い。この範囲が１０００未満になると硬化後の被膜の結
合力が小さくなり結果として耐サンドブラスト性が低下
するので好ましくない。逆に５００００を超えると塗膜
性が悪くなるのでやはり好適ではない。

【００２４】本発明の感光性樹脂組成物に含有されるア
ルカリ可溶高分子化合物は、（メタ）アクリル酸と（メ
タ）アクリル酸エステルとの共重合物や、カルボキシル
基含有セルロース等が好適である。

【００２５】この（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリ
ル酸エステルとの共重合物としては、モノマーとして、
アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、ク
ロトン酸、ケイ皮酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モ
ノエチル、フマル酸モノプロピル、マレイン酸モノメチ
ル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、
ソルビン酸等、および２−ヒドロキシメチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルメタクリレート、エチレングリコ
ールモノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコ
ールモノエチルエーテルメタクリレート、グリセロール
アクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタ
エリトリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリト
リトールペンタアクリレート、アクリル酸ジメチルアミ
ノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル
エステル、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、アクリル酸アミ
ド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチ
ルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルア
クリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
アクリル酸カルビトール、メタクリル酸カルビトール、
ε−カプロラクトン変性テトラフルフリルアクリレー
ト、ε−カプロラクトン変性テトラフルフリルメタクリ
レート、ジエチレングリコールエトキシルアクリレー
ト、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレー
ト、オクチルアクリレート、オクチルメタクリレート、
ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、トリ
デシルアクリレート、トリデシルメタクリレート、ステ
アリルアクリレート、ステアリルメタクリレート等、か
ら選ばれた少なくとも一種を共重合したものである。

【００２６】これら複数のモノマーの重合については、
ランダムに重合したものであってもよく、ブロック重
合、グラフト重合したものでもよい。

【００２７】好ましいモノマーの選択としては、アクリ
ル酸またはメタクリル酸／メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレートまたはエチルメタ
クリレートの組み合わせが好ましく、特に好ましくは前
記組み合わせにさらに、ｎ−ブチルアクリレートまたは
ｎ−ブチルメタクリレート／アクリロニトリルまたはメ
タアクリロニトリルを組み合わせたものが挙げられる。

【００２８】カルボキシル基含有セルロースとしては、
ヒドロキシエチル・カルボキシメチルセルロース、セル
ロースアセテートフタレートなどが好適であり、中でも
上記カルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合
物との相容性がよく、ドライフィルムとしたときの被膜
形成能に優れ、アルカリ現像性も良好なことからセルロ
ースアセテートフタレートが好適に用いられる。

【００２９】このようなアルカリ可溶高分子化合物の酸
価は、５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨ、より好ましくは８０
〜２００ｍｇ／ＫＯＨである。この酸価が５０ｍｇ／Ｋ
ＯＨ未満になると現像不良をおこすことがあり、また、
２５０ｍｇ／ＫＯＨを超えると、柔軟性がなくなったり
耐水性に劣るなどして好ましくない。

【００３０】なお、前記カルボキシ変性ウレタン（メ
タ）アクリレート化合物と、アルカリ可溶高分子化合物
との配合重量比は、１：１〜１９：１の範囲、より好ま
しくは５：２〜１０：１の範囲である。アルカリ可溶高
分子化合物１に対し、カルボキシ変性ウレタン（メタ）
アクリレート化合物が１未満になると耐サンドブラスト
性が低下するという不都合が生じ、逆に１９を超える
と、フィルム状とした時に形成能に欠けコールドフロー
等の問題点を生ずるため好ましくない。

【００３１】光重合開始剤としては、従来公知のもの、
例えば、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン
誘導体、３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−１−〔４−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノンなどのアセトフェノン誘導体、ベンゾインプロ
ピルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル誘導
体、ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン誘導
体、ミヒラーズケトン、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、９−フェニル
アクリジン、ジメチルベンジルケタール、トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、トリブロモメ
チルフェニルスルホン、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１
−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシドなどから選ばれた少なくとも一種が
一例として挙げられる。

【００３２】光重合開始剤は感光性樹脂固形分１００重
量部中に、０．１〜２０重量部の範囲で含有することが
できる。

【００３３】 本発明ではさらに光重合性単量体を添加
することによって感度を向上させ、現像時の膜減りや膨
潤を防ぐことができる。

【００３４】このような光重合性単量体としては、アク
リル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル
酸モノメチル、フマル酸モノエチル、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタ
クリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート等の単官能モノマ
ー、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、カルドエポキシジア
クリレート等の多官能モノマーを使用することができ
る。

【００３５】 本発明では、このような光重合性単量体
は、カルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合
物１００重量部に対し、２０重量部を超えない範囲で配
合する。２０重量部を超えるとコールドフローが起こり
易くなるとともに、紫外線照射硬化後の感光性樹脂組成
物の弾性が少なくなるため耐サンドブラスト性の低下を
もたらすという不都合が生じる。

【００３６】本発明では上記成分の他に粘度調整などの
目的のために必要に応じて、アルコール類、ケトン類、
酢酸エステル類、グリコールエーテル類、グリコールエ
ーテルエステル類、石油系溶剤などを適宜加えることが
できる。

【００３７】具体的には、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
ベンジルアルコール、メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２−メト
キシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテー
ト、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−
メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルア
セテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキ
シブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテー
ト、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペ
ンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、
２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メ
チル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−
４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メ
トキシペンチルアセテート、メチルラクテート、エチル
ラクケート、メチルアセテート、エチルアセテート、プ
ロピルアセテート、ブチルアセテート、プロピレンブリ
コールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、メチルプロピオ
ネート、エチルプロピオネート、安息香酸メチル、安息
香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、メチ
ルブチレート、エチルブチレート、プロピルブチレート
等のほか、「スワゾール」（丸善石油化学（株）製）、
「ソルベッツ」（東燃石油化学（株）製）等の製品名で
入手可能な石油系溶剤等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。

【００３８】以上述べてきたような本発明の感光性樹脂
組成物は用途に応じて、液状のまま被処理体の上に塗布
して感光性樹脂層を形成する方法、スクリーン印刷法に
よって形成する方法、前もって可撓性フィルム上に感光
性樹脂組成物層を形成、乾燥しておき、このフィルム
（以下「感光性ドライフィルム」と称す）を被処理体に
貼り付けて使用する方法（ドライフィルム法）のいずれ
の方法も用いることができる。これらの方法を用いれ
ば、電子部品等の精密な位置合わせを必要とする場合、
あらかじめ形成された樹脂パターンを転写する必要がな
いため、正確な位置に樹脂パターンを形成することがで
き精度の高い切削が実現できる。

【００３９】図１には感光性ドライフィルムを構成する
積層構造の一例が示されている。この図からわかるよう
に、可撓性のフィルム１上には、水溶性樹脂層２が塗布
され、その上に本発明の感光性樹脂組成物層３が形成さ
れている。さらに、この上には、離型フィルム４が被着
され、一体化されている。

【００４０】フィルム１は本発明の感光性樹脂組成物層
３を支持するものであり、適度な可撓性を有する必要が
ある。例えば、１５〜１２５μｍ厚程度のポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましいが、この
他に、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂フィルムも使用可能で
ある。

【００４１】水溶性樹脂層２は感光性樹脂の酸素減感作
用を防止するとともに、露光時に密着されるマスク（パ
ターン）の粘着を防止するものでもある。水溶性樹脂層
２は、ポリビニルアルコールまたは部分ケン化ポリ酢酸
ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％水溶液をバー
コーター、ロールコーター、カーテンフローコーター等
を用いて乾燥膜厚１〜１０μｍとなるように塗布、乾燥
することにより形成される。この水溶性樹脂層２の形成
の際に上記水溶性ポリマー水溶液中にエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ポリエチレングリコールな
どを添加すると水溶性樹脂層２の可撓性が増すととも
に、可撓性フィルム１との離型性が向上するので好まし
い。

【００４２】このような水溶性樹脂層２の厚さが１μｍ
未満となると酸素減感による露光不良を生じる場合があ
り、１０μｍを越えると解像性が悪くなる傾向がある。
水溶液の調整に際しては、液の粘度、消泡等を考慮して
溶媒、例えばメタノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、アセトン等あるいは市販の水性消泡剤等を
加えてもよい。

【００４３】感光性樹脂組成物層３は、前述した各成分
を混合し、所望により溶剤を添加した溶液をアプリケー
ター、バーコーター、ロールコーター、カーテンフロー
コーター等により乾燥厚１０〜１００μｍとなるように
塗布したものである。

【００４４】離型フィルム４は、未使用時に感光性樹脂
組成物層３を安定して保護しておくためのものであり、
使用時に剥ぎ取られ除去される。従って、未使用時には
剥がれず、使用に際しては容易に剥すことのできる適度
な離型性を有する必要がある。このような条件を満たす
離型フィルム４としては、シリコーンをコーティングま
たは焼き付けした厚さ１５〜１２５μｍ程度のＰＥＴフ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィル
ム等が好適である。

【００４５】図２（ａ）〜（ｅ）は、上述のごとく作製
したドライフィルムを用いて被処理体５を彫食刻する方
法を経時的に説明するための図である。

【００４６】同図（ａ）には、図１に示したドライフィ
ルムの離型フィルム４を剥ぎ取り、この剥ぎ取りを終え
たドライフィルムを上下逆さにして被処理体５上に密着
させた状態が示されている。密着に際しては、通常、被
処理体５を予め加熱しておき、この上にドライフィルム
を置いて押圧する、いわゆる熱圧着方式が採られる。感
光性樹脂組成物層３には、前記カルボキシ変性ウレタン
（メタ）アクリレート化合物が添加されているため、被
処理体５との密着性は極めて良好となる。

【００４７】次いで同図（ｂ）に示されるように所定の
マスクパターンを備えるマスク６を水溶性樹脂層２の上
に密着させ、しかる後、この上から低圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、アーク灯、キセノンランプ等を用
いて紫外線７を露光させる。また、紫外線の他にエキシ
マレーザ、Ｘ線、電子線等を照射することもできる。本
発明に係る感光性樹脂組成物を用いると、被処理体５と
の密着性がよく、耐サンドブラスト性が高く、高感度で
ありまた作業性もよい。この露光処理後、マスク６を取
り去り、現像を行う。

【００４８】同図（ｃ）には、現像後の様子が示され
る。現像によって、水溶性樹脂層２および感光性樹脂組
成物層３の内の紫外線未露光部が除去され、露光部の樹
脂層８のみが残留する。この現像に用いる現像剤として
は、汎用のアルカリ現像液を用いることができる。現像
液に用いるアルカリ成分の例としては、リチウム、ナト
リウム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、
重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、
ブチルアミン等の第１級アミン、ジメチルアミン、ジベ
ンジルアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノール
アミン等の第３級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピ
リジン等の環状アミン、、エチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン等のポリアミン、テトラエチルアンモニ
ウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウム
ヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類、トリメ
チルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホ
ニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒ
ドロキシド等のスルホニウムヒドロキシド類、その他コ
リン、ケイ酸塩含有緩衝液等が挙げられる。

【００４９】本発明の感光性樹脂組成物を用いると、樹
脂層８と被処理体５との密着性が高いため、微細なパタ
ーンであっても剥離することがなく、サンドブラスト時
の切削精度が高くなる。

【００５０】同図（ｄ）には、サンドブラスト処理後の
様子が示される。樹脂層８は従来の感光性ドライフィル
ムに比較して耐摩耗性が高いため、目的の深さの彫食刻
が終了する前に摩耗してしまうということはない。サン
ドブラストに用いるブラスト材としては、公知の種々の
ものが用いられ、例えば、ＳｉＣ、ＳｉＯ₂ 、ガラス、
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ等の２〜１００μｍ程度の微粒子が
用いられる。

【００５１】サンドブラスト処理をした後、樹脂層８を
アルカリ水溶液で剥離させて同図（ｅ）に示されるよう
な切削された製品が完成する。なお、樹脂層８をアルカ
リ水溶液で剥離させる代わりに樹脂層８を焼失させるこ
とも可能である。

【００５２】

【実施例】以下、具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。 （実施例１）下記組成の化合物をよくかくはん、混練し
て感光性樹脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−９５１０ＥＡ：重量平均分子量約２万、酸価４０、ガラス転移点 ６３℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …６４重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…２８重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ２重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 これとは別に、ポリビニルアルコール水溶液（クラレ社
製 ＰＶＡ４０５１０重量％水溶液）を用意し厚さ７５
μｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５μｍとな
るように塗布、乾燥し、水溶性樹脂層２を形成した。

【００５３】この水溶性樹脂層２の上に、前記のごとく
調製した感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が５０μｍと
なるように塗布し乾燥させて感光性樹脂組成物層３を形
成し、しかる後、この感光性樹脂組成物層３の上に厚さ
５０μｍのＰＥＴフィルム（離型フィルム４）を被着し
て感光性ドライフィルムを作成した。

【００５４】この感光性ドライフィルムを使用するに際
して、まず最初に厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（離型
フィルム４）を剥して除去した後、感光性ドライフィル
ムの感光性樹脂組成物層３の面を被処理体５上に密着さ
せた。

【００５５】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、２００ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００５６】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００５７】さらに、研磨剤ＳｉＣ（炭化ケイ素）＃８
００を使用し、ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サ
ンドブラスト処理したところマスクに忠実なパターンが
５０μｍ深さに切削できた。 （実施例２）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−１７９０：重量平均分子量約１万、酸価２８、ガラス転移点 ７℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …５７重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…４０重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ２重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 このように調製された感光性樹脂組成物を、上記実施例
１と同様な要領で、ポリビニルアルコール水溶液が塗布
されたＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５０μｍと
なるように塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着
して感光性ドライフィルムを作成した。

【００５８】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、処理体にサンドブラスト処理を行
った。

【００５９】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、１５０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００６０】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で９０秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００６１】さらに、研磨剤ＳｉＣ＃４００を使用し、
ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サンドブラスト処
理したところマスクに忠実なパターンが２００μｍ深さ
に切削できた。 （実施例３）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−９５１０ＥＡ：重量平均分子量約２万、酸価４０、ガラス転移点 ６３℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …６４重量部 ・メタクリル酸メチル／ブチルメタクリレート／アクリロニトリルの共重合物 （分子量約８万、酸価１５０、溶剤として酢酸エチル５５％含有） …２３重量部 ・フマル酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ３重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 この組成物を上記実施例１と同様にポリビニルアルコー
ルが塗布されたＰＥＴフィルム上に塗布、乾燥し、さら
に離型フィルム４を被着して感光性ドライフィルムを作
成した。さらに上記実施例１と同様にこの感光性ドライ
フィルムを用いて露光、現像しマスクに忠実な感光性樹
脂組成物層のパターンを被処理体上に得た。

【００６２】さらに、上記実施例２と同様の条件でサン
ドブラスト処理をしたところマスクに忠実なパターンが
２００μｍ深さに切削できた。 （比較例１）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・トリエチレングリコール／マレイン酸／フタル酸共重合物 …５０重量部 ・２−ヒドロキシメチルメタクリレート …２０重量部 ・ポリエチレングリコールジメタクリレート …２０重量部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート …１０重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ３重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 これを実施例１と同様にポリビニルアルコールが塗布さ
れたＰＥＴフィルム上に塗布したところ、膜厚５０μｍ
に均一に塗布することができず、感光性ドライフィルム
を形成するまでに至らなかった。 （比較例２）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・部分ケン化ポリビニルアルコール樹脂（ケン化度８８モル％、平均重合度 １５００）の２０％水溶液 …２５０重量部 ・エチレン／酢酸ビニル共重合体（重量比６：９４） …１２０重量部 ・ジアゾ樹脂（ｐ−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩 −ホルムアルデヒド縮合物） … ６重量部 これを実施例１と同様にポリビニルアルコールが塗布さ
れたＰＥＴフィルム上に塗布、乾燥して感光性フィルム
を製造した後、水／イソプロピルアルコール＝９／１混
合液を用いて実施例１と同様にガラス板上にラミネート
し、ＰＥＴフィルムを剥がして４０℃で２０分間乾燥さ
せた後、超高圧水銀灯を用い、６０μｍのライン／スペ
ースを有するマスクを介して１５０ｍＪ／ｃｍ² のエネ
ルギー線量で露光した。その後、水道水を用いて１．５
ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で９０秒間現像したところ、
パターンの膨潤が激しく忠実なパターンを得ることがで
きなかった。形成できるパターン幅の限界は１５０μｍ
であった。 （比較例３）下記組成の化合物をかくはんし感光性樹脂
組成物を調製した。 ・ヘキサメチレンジイソシアネート／トリエチレングリコール重合物（ジイソシ アネート過剰で反応）と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応物 （重合平均分子量１００００） …１００重量部 ・２−ヒドロキシエチルメタクリレート … ５０重量部 ・フタル酸変性２−ヒドロキシエチルメタクリレート … ５０重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ３重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 これを実施例１と同様にポリビニルアルコールが塗布さ
れたＰＥＴフィルム上に塗布したところ、膜厚５０μｍ
に均一に塗布することができず、感光性ドライフィルム
を形成するまでに至らなかった。 （実施例４）ポリビニルアルコール水溶液（信越化学社
製 ＰＡ−０５ １０％水溶液）を用意し、このものを
厚さ３８μｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が４
μｍとなるように塗布し、水溶性樹脂層２を形成した。
この上に、実施例１で用いたものと同様な組成からなる
感光性樹脂組成物をよく混練し、アプリケーターを用い
て乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように塗布、乾燥し、
感光性樹脂組成物層３を形成した。

【００６３】しかる後、この感光性樹脂組成物層３の上
に厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（離型フィルム４）を
被着して感光性ドライフィルムを作成した。

【００６４】一方、１０ｃｍ角の大きさのソーダガラス
上に、プラズマディスプレイ用ガラスフリットペースト
（日本電気硝子社製 ＰＬＳ−３１３０）をスクリーン
印刷法を用いて、ペースト厚が２００μｍとなるように
塗布、乾燥し、被処理体とした。

【００６５】次いで、７０℃に加熱した被処理体のペー
スト面と、感光性ドライフィルムの感光性樹脂組成物層
３の面（離型フィルム４はすでに剥離除去）とをラミネ
ーターを用いてラミネートした。

【００６６】しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を
剥がして水溶性樹脂層２を露出させ、この上に、１００
μｍのライン／スペースを再現できるマスクを密着させ
た。その後、このマスクを介して、超高圧水銀灯を用
い、１５０ｍＪ／ｃｍ² のエネルギー線量で感光性樹脂
組成物層３を露光した。

【００６７】その後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を
用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で３０秒間現像
したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００６８】これを、研磨剤としてガラスビーズ＃６０
０を用いて、ブラスト圧１ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サン
ドブラスト処理したところ、カケ、ハガレ等のないマス
クに忠実なペーストパターンが得られた。さらにこのペ
ーストパターンを燒結処理したところ、ペーストパター
ンが焼結するとともに感光性樹脂組成物層３はきれいに
焼失し、除去不可能な残余の炭化部分は見られなかっ
た。 （実施例５）実施例１で調製した感光性樹脂組成物を用
い、実施例１と同様にポリビニルアルコール水溶液が塗
布されたＰＥＴフィルム上に乾燥後の膜厚が５０μｍと
なるように塗布、乾燥し、さらにその上に３０μｍのＰ
ＥＴフィルムを積層し、ロール状に巻き取って感光性ド
ライフィルムを製造した。この感光性ドライフィルムを
６か月間室温で放置したところ、変質、コールドフロー
等の発生は見られなかった。さらに、放置後の感光性ド
ライフィルムを用いて実施例１と同様の要領でガラス板
の切削に適用したところ、実施例１と同様に良好な結果
が得られることが確認でき、本発明組成物は極めて長期
の保存性に優れることが確認できた。 （実施例６）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−１７７７：重量平均分子量約８千、酸価５７、ガラス転移点 ９０℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …６４重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…２８重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ２重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 ・染料（マカライトグリーン：溶剤としてジエチレングリコールモノメチル エーテルアセテート９９％含有） … １重量部 このように調製された感光性樹脂組成物を、厚さ７５μ
ｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５０μｍとな
るように塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着し
て感光性ドライフィルムを作成した。

【００６９】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、処理体にサンドブラスト処理を行
った。

【００７０】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、１５０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００７１】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００７２】さらに、研磨剤ＳｉＣ＃８００を使用し、
ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サンドブラスト処
理したところマスクに忠実なパターンが５０μｍ深さに
切削できた。 （比較例４）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−１７７８：重量平均分子量約１万、酸価５２、ガラス転移点 １００℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …６４重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…２８重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ２重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 ・染料（マラカイトグリーン：溶剤としてジエチレングリコールモノメチル エーテルアセテート９９％含有） … １重量部 このように調整された感光性樹脂組成物を上記実施例１
と同様な要領でポリビニルアルコール水溶液が塗布され
たＰＥＴフィルム上に乾燥後の膜厚が５０μｍとなるよ
うに塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着して感
光性ドライフィルムを作成した。

【００７３】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、被処理体にサンドブラスト処理を
行ったが、感光性樹脂組成物層の膜減りが激しく３０μ
ｍ切削したところで非切削部の一部が表出してしまっ
た。 （実施例７）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（ダイセル化学社製 ＫＲＭ ７２２２：重量平均分子量約１万、酸化２２．５、ガラス転移点 ４５℃、溶剤として酢酸エチル２０％含有） …５６重量部 ・メタクリル酸メチル／ブチルメタクリレート／アクリロニトリルの共重合物 （分子量約８万、酸価１５０、溶剤として酢酸エチル５５％含有） …５０重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・ベンゾフェノン …1.2 重量部 ・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン …1.2 重量部 ・ジエチルチオキサントン … １重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 ・染料（保土ヶ谷化学社製 ダイアモンドグリーンＧＨ：溶剤としてジエチレ ングリコールモノメチルエーテルアセテート９９％含有） … ２重量部 このように調製された感光性樹脂組成物を、厚さ７５μ
ｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５０μｍとな
るように塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着し
て感光性ドライフィルムを作成した。

【００７４】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、処理体にサンドブラスト処理を行
った。

【００７５】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、１５０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００７６】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００７７】さらに、研磨剤ＳｉＣ＃８００を使用し、
ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サンドブラスト処
理したところマスクに忠実なパターンが５０μｍ深さに
切削できた。 （実施例８）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−９５１０ＥＡ：重量平均分子量約２万、酸価４０、ガラス転移点 ６３℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …７０重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…１４重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート … ３重量部 ・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 ルシリンＴＰＯ：２，４，６−トリメチル ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド） … ２重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.05重量部 ・染料（マラカイトグリーン：溶剤としてジエチレングリコールモノメチル エーテルアセテート９９％含有） … １重量部 このように調製された感光性樹脂組成物を、厚さ７５μ
ｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５０μｍとな
るように塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着し
て感光性ドライフィルムを作成した。

【００７８】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、処理体にサンドブラスト処理を行
った。

【００７９】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、１５０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００８０】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００８１】さらに、研磨剤ＳｉＣ＃８００を使用し、
ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サンドブラスト処
理したところマスクに忠実なパターンが５０μｍ深さに
切削できた。 （実施例９）下記組成の化合物をかくはんして感光性樹
脂組成物を調製した。 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（日本合成化学社製 紫光 ＵＴ−９５１０ＥＡ：重量平均分子量約２万、酸価４０、ガラス転移点 ６３℃、溶剤として酢酸エチル３０％含有） …４０重量部 ・カルボキシ変性ウレタンアクリレート化合物（ダイセル化学社製 ＫＲＭ ７２２２：重量平均分子量約１万、酸化２２．５、ガラス転移点 ４５℃、溶剤として酢酸エチル２０％含有） …１５重量部 ・セルロースアセテートフタレート（和光純薬社製 ＫＣ−７１： 酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）…４０重量部 ・ベンゾフェノン …1.2 重量部 ・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン …1.2 重量部 ・ジエチルチオキサントン … １重量部 ・熱重合禁止剤（和光純薬社製 Ｑ−１３０１） …0.07重量部 ・染料（保土ヶ谷化学社製 ダイアモンドグリーンＧＨ：溶剤としてジエチレ ングリコールモノメチルエーテルアセテート９９％含有） … １重量部 このように調製された感光性樹脂組成物を、厚さ７５μ
ｍのＰＥＴフィルム１上に乾燥後の膜厚が５０μｍとな
るように塗布、乾燥し、さらに離型フィルム４を被着し
て感光性ドライフィルムを作成した。

【００８２】この感光性ドライフィルムを用いて、前記
実施例１に略準じて、処理体にサンドブラスト処理を行
った。

【００８３】すなわち、８０℃に加熱した被処理体５と
してのガラス板上に感光性ドライフィルム（感光性樹脂
組成物層面）をゴムローラーを用いてラミネートした。
しかる後、もう一方のＰＥＴフィルム１を剥がして水溶
性樹脂層２を露出させ、この上に、６０μｍのライン／
スペースを有するマスクを密着させた。その後、このマ
スクを介して、超高圧水銀灯を用い、１５０ｍＪ／ｃｍ
² のエネルギー線量で感光性樹脂組成物層３を露光し
た。

【００８４】しかる後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液
を用いて１．５ｋｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間現
像したところマスクに忠実なパターンが得られた。

【００８５】さらに、研磨剤ＳｉＣ＃８００を使用し、
ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で６０秒間サンドブラスト処
理したところマスクに忠実なパターンが４０μｍ深さに
切削できた。

【００８６】

【発明の作用および効果】本発明の感光性樹脂組成物は
ドライフィルム状に形成可能であり取り扱いが容易であ
り、セラミックや蛍光体等の加工の際に感光性樹脂が染
み込んで加工不良を起こすことがなく、アルカリ現像性
に優れ、感光性ドライフィルムとしたときにコールドフ
ロー等の問題が起こらず長期保存が可能であり、１００
μｍ以下のレジストパターンが形成可能なように感度、
解像度に優れており、さらに弾性、柔軟性が高く耐ブラ
スト性に優れているため、微細かつ切削深さの大きなパ
ターンを被処理体に形成することができる。そのため、
例えば、プラズマディスプレイパネルの電極、バリアリ
ブ、蛍光体の加工に好適であり、その取り扱いも容易で
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】感光性ドライフィルムの積層構造の一例を示す
断面図である。

【図２】感光性ドライフィルムを用いて被処理体を彫食
刻する方法を経時的に説明するための図である。

【符号の説明】

１…フィルム ２…水溶性樹脂層 ３…感光性樹脂組成物層 ４…離型フィルム ５…被処理体 ６…マスク ８…樹脂層

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−161097（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−87939（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−16562（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−14491（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−43729（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 7/004 - 7/18

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも２個以上の（メタ）アクリロ
   イル基を有し、酸価が２０〜７０ｍｇ／ＫＯＨ、硬化後
   のガラス転移点が５℃以上９５℃以下であるカルボキシ
   変性ウレタン（メタ）アクリレート化合物と、酸価が５
   ０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨであるアルカリ可溶高分子化合
   物と、光重合開始剤と、光重合性単量体を前記カルボキ
   シ変性ウレタン（メタ）アクリレート化合物１００重量
   部に対し２０重量部を超えない範囲で含有してなる感光
   性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 前記カルボキシ変性ウレタン（メタ）ア
   クリレート化合物と前記アルカリ可溶高分子化合物との
   配合重量比が１：１〜１９：１の範囲である請求項１記
   載の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 可撓性フィルムと離型フィルムとの間に
   前記請求項１または２記載の感光性樹脂組成物からなる
   感光性樹脂組成物層を設けたことを特徴とする感光性ド
   ライフィルム。