JPS6010242A - 固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物Info
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- JPS6010242A JPS6010242A JP11700783A JP11700783A JPS6010242A JP S6010242 A JPS6010242 A JP S6010242A JP 11700783 A JP11700783 A JP 11700783A JP 11700783 A JP11700783 A JP 11700783A JP S6010242 A JPS6010242 A JP S6010242A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スクリーン印刷が可能で、固体粒子の吹きつ
けに耐えることのできる光硬化性樹脂組成物に関する。
けに耐えることのできる光硬化性樹脂組成物に関する。
従来、ガラス、陶磁器等の表面に固体粒子を吹きつけて
食刻を行う場合、熱ｉｉＪ塑性樹脂を溶媒に溶ｗ１シ、
それをスクリーン印刷によってガラス、陶磁器等の表面
にパターン印刷しブこのち、溶媒を乾燥によって除去し
、サンドブラストレジスト材を形成していた。
食刻を行う場合、熱ｉｉＪ塑性樹脂を溶媒に溶ｗ１シ、
それをスクリーン印刷によってガラス、陶磁器等の表面
にパターン印刷しブこのち、溶媒を乾燥によって除去し
、サンドブラストレジスト材を形成していた。
この溶液型樹脂金用いると、溶媒を加熱により蒸発させ
る必要があり、加熱に際して被食刻材まで加熱するので
エネルギーに無駄があること、溶媒の廃棄装置が必要で
あること、溶媒の種類によっては環境汚染をもたらすこ
と、さらにはスクリーン印刷時に溶媒の自然蒸発による
溶液樹脂の粘度変化が起り、均一な印刷ができ々くなる
等の問題点があった。
る必要があり、加熱に際して被食刻材まで加熱するので
エネルギーに無駄があること、溶媒の廃棄装置が必要で
あること、溶媒の種類によっては環境汚染をもたらすこ
と、さらにはスクリーン印刷時に溶媒の自然蒸発による
溶液樹脂の粘度変化が起り、均一な印刷ができ々くなる
等の問題点があった。
本発明者らは、前記問題点を鉛量検討した結果、ウレタ
ンプレポリマーからなる光硬化性樹脂組成物を用いれば
、上、記問題点がなく、かつ固体粒子による食刻に耐え
ることを見出し、本発明を完成した。
ンプレポリマーからなる光硬化性樹脂組成物を用いれば
、上、記問題点がなく、かつ固体粒子による食刻に耐え
ることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、
い）、一般式、ｘ −（Ｕ −Ｙ、姶汁ｕ−Ｙ２檎Ｕ
−Ｘ（式中、Ｙｌ ＋ Ｙ２は、Ｉ？ポリーテル、ポリ
エステルまたはポリエーテル−ポリエステルブロックコ
ポリマーであって、Ｙ１＋Ｙ２に［同一または異なって
もよい。Ｕはウレタン残基、Ｘは少なくとも１個のエチ
レン性不飽和基を有する残基、町。
−Ｘ（式中、Ｙｌ ＋ Ｙ２は、Ｉ？ポリーテル、ポリ
エステルまたはポリエーテル−ポリエステルブロックコ
ポリマーであって、Ｙ１＋Ｙ２に［同一または異なって
もよい。Ｕはウレタン残基、Ｘは少なくとも１個のエチ
レン性不飽和基を有する残基、町。
ｍ２は１０≧町≧０，１０≧ｍ２≧０かつ町十ｍ２≧１
を示す。）で表わされるウレタンゾレポリマー、ＣＢ）
、単官能エチレン性不飽和化合物、（０）、光重合開始
剤、 の）、熱重合禁止剤、 （Ｅ）、消泡剤および／捷たはレベリング剤、を主成分
としてなるスクリーン印刷可能で固体粒子による食刻に
耐える光硬化性樹脂組成物である。
を示す。）で表わされるウレタンゾレポリマー、ＣＢ）
、単官能エチレン性不飽和化合物、（０）、光重合開始
剤、 の）、熱重合禁止剤、 （Ｅ）、消泡剤および／捷たはレベリング剤、を主成分
としてなるスクリーン印刷可能で固体粒子による食刻に
耐える光硬化性樹脂組成物である。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、硬化後の硬度がショア
Ａ硬度が９０以下であるにもか＼わらず空気硬化性（空
気に接触しても硬化すること。）であり、１司体粒子に
よる食刻に耐えること、はとんど樹脂成分からなるもの
であるがスクリーン印刷が？＝Ｊ能であることの特徴を
有する。
Ａ硬度が９０以下であるにもか＼わらず空気硬化性（空
気に接触しても硬化すること。）であり、１司体粒子に
よる食刻に耐えること、はとんど樹脂成分からなるもの
であるがスクリーン印刷が？＝Ｊ能であることの特徴を
有する。
ｖ下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いるウレタンポリマーとしては、一般式、ｘ
−（ｕ −ｙ、姶汗Ｕ −Ｙ２加ｕ−ｘ （式中、Ｙ
ｌ ＋ Ｙ２はぼりエーテル、ポリエステル、ポリエー
テルーポリエステルブロックコポリマーであり、ＹＨ＋
Ｙ２は同−捷たは異なってもよい。Ｕはウレタン残基
、Ｘ１ｌ−１：少なくとも１個のエチレン性不飽和基を
有する残基、町＋ｎ１１は１０≧町≧０・１ｏ≧ｍ２≧
０１かつ四十ｍ２≧１を示−ｔｎ ）で表わされるウレ
タンゾレポリマーであｈ、これらの単独または２種以上
の混合物として用いられる。式中のＹｌ ＋ Ｙ２の代
表的例としては、ポリエチレングリコール１．＜ ＋７
ノロピレングリコール等のポリエーテル、エチレングリ
コールまたはプロピレングリコールと２価の脂肪酸（例
えばアジピン酸）等とからなるポリエステル、上記ポリ
エーテルとポリエステルとからなるポリエーテル−ポリ
エステルフロックコポリマー、まだ、Ｕの代表的例とし
ては、２・６トリレンジイソシアナニト、ジフェニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジインシアナー
ト等のインシアナート化合物よりなるウレタン残・基。
−（ｕ −ｙ、姶汗Ｕ −Ｙ２加ｕ−ｘ （式中、Ｙ
ｌ ＋ Ｙ２はぼりエーテル、ポリエステル、ポリエー
テルーポリエステルブロックコポリマーであり、ＹＨ＋
Ｙ２は同−捷たは異なってもよい。Ｕはウレタン残基
、Ｘ１ｌ−１：少なくとも１個のエチレン性不飽和基を
有する残基、町＋ｎ１１は１０≧町≧０・１ｏ≧ｍ２≧
０１かつ四十ｍ２≧１を示−ｔｎ ）で表わされるウレ
タンゾレポリマーであｈ、これらの単独または２種以上
の混合物として用いられる。式中のＹｌ ＋ Ｙ２の代
表的例としては、ポリエチレングリコール１．＜ ＋７
ノロピレングリコール等のポリエーテル、エチレングリ
コールまたはプロピレングリコールと２価の脂肪酸（例
えばアジピン酸）等とからなるポリエステル、上記ポリ
エーテルとポリエステルとからなるポリエーテル−ポリ
エステルフロックコポリマー、まだ、Ｕの代表的例とし
ては、２・６トリレンジイソシアナニト、ジフェニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジインシアナー
ト等のインシアナート化合物よりなるウレタン残・基。
さらにＸの代表的例としては、２ヒドロキシエチルアク
リレート（メタ）、２ヒドロキシゾロビルアクリレート
（メタ）、ポリエチレングリコールモノアクリレート（
メタ）、ポリノロピレンモノアクリレート（メタ）等の
同一分子内に一個の水酸基と少なくとも一個のエチレン
性不飽和基を治する不飽和化合物、Ｎ、Ｎ−ジメタツー
ルアクリルアミド、Ｎ、ＮＪ（４−ヒ１−゛ロキシゾチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−
Ｎ−（２，ヒドロキシプロピル）アクリルアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメタツールメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ、）（４−
ヒドロキシブチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（２ヒドロギシプロビル）メタク
リルアミド等の同一分子内に二個の水酸基と少なくとも
一個のエチレン性不飽和基を有する化合物とポリエチレ
ンあるいはポリゾロピレングリコールの両末端をインシ
アナート化し、た中間生成物とを反応させた後、未反応
の水酸基に二塩基酸無水物を付加することによって得ら
れるウレタンアクリレート、あるいはポリエチレングリ
コールやポリプロピレングリコールの両末端をイソシア
ナートした中間生成物に水際・基と工４？キシ基をイｊ
する化合物を反応させたあとで、カルｌキシル基を有す
る末端エチレン性モノマー（例、アクリル酸）を反応さ
せた後、更に二塩基酸無水物を付加させることによって
得られるウレタンアクリレートが挙げられる。これらの
特徴は感光性樹脂組成物の未硬化、硬化を問わずアルカ
リ水溶液です１１離しや寸くなることである。使用され
る二塩基酸無水物の例とし７ては無水フタル酸、無水ク
ロレンチツク酸、無水マレイン酸、１．３−ゾロノぐン
ジカルボン酸無水物、１．４ブタンジカルデン酸無水物
、１．５ペンタンジカルボン酸無水物が挙けられる。−
分子中に一個の水酸基とエポキシ基を有する化合物の例
としてはグリシドール■ （エピオールＯＨ（日本油脂味）が挙げられる。
リレート（メタ）、２ヒドロキシゾロビルアクリレート
（メタ）、ポリエチレングリコールモノアクリレート（
メタ）、ポリノロピレンモノアクリレート（メタ）等の
同一分子内に一個の水酸基と少なくとも一個のエチレン
性不飽和基を治する不飽和化合物、Ｎ、Ｎ−ジメタツー
ルアクリルアミド、Ｎ、ＮＪ（４−ヒ１−゛ロキシゾチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−
Ｎ−（２，ヒドロキシプロピル）アクリルアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメタツールメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ、）（４−
ヒドロキシブチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−（２ヒドロギシプロビル）メタク
リルアミド等の同一分子内に二個の水酸基と少なくとも
一個のエチレン性不飽和基を有する化合物とポリエチレ
ンあるいはポリゾロピレングリコールの両末端をインシ
アナート化し、た中間生成物とを反応させた後、未反応
の水酸基に二塩基酸無水物を付加することによって得ら
れるウレタンアクリレート、あるいはポリエチレングリ
コールやポリプロピレングリコールの両末端をイソシア
ナートした中間生成物に水際・基と工４？キシ基をイｊ
する化合物を反応させたあとで、カルｌキシル基を有す
る末端エチレン性モノマー（例、アクリル酸）を反応さ
せた後、更に二塩基酸無水物を付加させることによって
得られるウレタンアクリレートが挙げられる。これらの
特徴は感光性樹脂組成物の未硬化、硬化を問わずアルカ
リ水溶液です１１離しや寸くなることである。使用され
る二塩基酸無水物の例とし７ては無水フタル酸、無水ク
ロレンチツク酸、無水マレイン酸、１．３−ゾロノぐン
ジカルボン酸無水物、１．４ブタンジカルデン酸無水物
、１．５ペンタンジカルボン酸無水物が挙けられる。−
分子中に一個の水酸基とエポキシ基を有する化合物の例
としてはグリシドール■ （エピオールＯＨ（日本油脂味）が挙げられる。
このウレタンプレポリマーは、上記のポリエーテル、ポ
リエステル、ポリエーテル−ポリエステルブロックコポ
リマーと上記インシアナート化合物とを適当な触媒（例
えば、ジブチルチンジラウレート）の存在下に、温度６
０〜８０℃で反応させてインシアナート基を残し、つい
で、上記不飽和化合物と反応させる方法により得ること
ができる。
リエステル、ポリエーテル−ポリエステルブロックコポ
リマーと上記インシアナート化合物とを適当な触媒（例
えば、ジブチルチンジラウレート）の存在下に、温度６
０〜８０℃で反応させてインシアナート基を残し、つい
で、上記不飽和化合物と反応させる方法により得ること
ができる。
この際、ポリエーテル、ポリエステル１．Ｉ？リエーテ
ルーポリエステルブロックコポリマーとして、分子Ｊｆ
Ｈ，ｏｏｏ〜５，０００のものがサンドブラストレジス
ト性が向上するので好ましい。寸だ、水酸基数とインシ
アナート基数との比を１／１．０１〜ｌ／１．２とする
ことが好ましい。さらに、同一分子内に一個の水酸基と
少なくとも一個のエチレン性不飽和基を有する化合物の
水酸基当量は、末端イソシアナート基に対する比を１．
２〜２０とすることがインシアナート基をすべて水酸基
で反応させること及びゾレポリマーの粘度を下けて反応
や取り出しを容易にすることから適当である。
ルーポリエステルブロックコポリマーとして、分子Ｊｆ
Ｈ，ｏｏｏ〜５，０００のものがサンドブラストレジス
ト性が向上するので好ましい。寸だ、水酸基数とインシ
アナート基数との比を１／１．０１〜ｌ／１．２とする
ことが好ましい。さらに、同一分子内に一個の水酸基と
少なくとも一個のエチレン性不飽和基を有する化合物の
水酸基当量は、末端イソシアナート基に対する比を１．
２〜２０とすることがインシアナート基をすべて水酸基
で反応させること及びゾレポリマーの粘度を下けて反応
や取り出しを容易にすることから適当である。
本発明に用いられる単官能エチレン性不飽和化合物とし
ては、２〜ヒｒロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリプロピレンメタクリレート
、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、ポリエチレングリコールモノア
クリレート、ポリゾロピレンアクリｌノート、フタル酸
無水物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応
生成物の如く同一分子内にカルボン酸及びエチレン性不
飽和基を有するもの、２−メチル−３−スル７オゾロビ
ルアクリルアマイＰ１モノ（メタクリロキシエチル）フ
ォスフェート等が挙げられる。これらのうち、アルカリ
水溶液で剥離できるという点から、フタル酸無水物と２
−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成物、２
−メチル−３−スル７オゾロビルアクリルアマイト、モ
ノ（メタクリロキシエチル）フォスフェートカ好ましい
。これらの即官能エチレン性不飽和化合物は、単独また
は混合系でも使用がｎ」能である。
ては、２〜ヒｒロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリプロピレンメタクリレート
、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、ポリエチレングリコールモノア
クリレート、ポリゾロピレンアクリｌノート、フタル酸
無水物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応
生成物の如く同一分子内にカルボン酸及びエチレン性不
飽和基を有するもの、２−メチル−３−スル７オゾロビ
ルアクリルアマイＰ１モノ（メタクリロキシエチル）フ
ォスフェート等が挙げられる。これらのうち、アルカリ
水溶液で剥離できるという点から、フタル酸無水物と２
−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成物、２
−メチル−３−スル７オゾロビルアクリルアマイト、モ
ノ（メタクリロキシエチル）フォスフェートカ好ましい
。これらの即官能エチレン性不飽和化合物は、単独また
は混合系でも使用がｎ」能である。
その使用量は、ウレタンプレポリマーと単官能エチレン
性不飽和化合物との組成比が２０／８０〜８０／２０（
重量比）の範囲で実施される。その使用量が２０重１！
ｔ％以下であれは硬化膜が硬くなシ、硬化膜強度の低下
をきたし、また、８０重量％以上では粘度が高くなって
スクリーン印刷が困難となる。。
性不飽和化合物との組成比が２０／８０〜８０／２０（
重量比）の範囲で実施される。その使用量が２０重１！
ｔ％以下であれは硬化膜が硬くなシ、硬化膜強度の低下
をきたし、また、８０重量％以上では粘度が高くなって
スクリーン印刷が困難となる。。
また、現像性と耐薬品性を維持するために単官能エチレ
ン性不飽和化合物に代えて、１０１量チ以下の多官能エ
チレン性不飽和化合物を用いることもできる。
ン性不飽和化合物に代えて、１０１量チ以下の多官能エ
チレン性不飽和化合物を用いることもできる。
本発明に用いられる光重合開始剤としてし［，１−クロ
ルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１−ｔ
−プチルアントシキノン、ベンジルジメチルケタール、
ベンゾインエチルエーテル、ペンゾインブ、チルエーテ
ル、チオキサントン、１−クロルチオキサントン、２−
メチルチオキサントン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン系等が挙げられる。これらは、単独また１１Ｊ：混合
系でも使用することができる。その使用量は、ゾレポリ
マーと単官能エチレン性不飽和化合物との合計量に対し
て０．２〜ｌＯ重量％である。使用量が０．２重量％以
下であると感度の低下をきたし空気存在下での硬化が悪
くなり、１０ｆ１％以上では性能の低下をきたし、経済
的ではない。
ルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１−ｔ
−プチルアントシキノン、ベンジルジメチルケタール、
ベンゾインエチルエーテル、ペンゾインブ、チルエーテ
ル、チオキサントン、１−クロルチオキサントン、２−
メチルチオキサントン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン系等が挙げられる。これらは、単独また１１Ｊ：混合
系でも使用することができる。その使用量は、ゾレポリ
マーと単官能エチレン性不飽和化合物との合計量に対し
て０．２〜ｌＯ重量％である。使用量が０．２重量％以
下であると感度の低下をきたし空気存在下での硬化が悪
くなり、１０ｆ１％以上では性能の低下をきたし、経済
的ではない。
本発明に用いられる消泡剤としては、シリコーン系、ビ
ニル系重合物系、シリコン−ビニル系重合物、鉱物系ノ
ニオン界面活性剤系が挙げられ、シリコン系としては、
例えばに、−３３００、Ｋｐ−３３１°、Ｋ８−６０７
Ｃ信越化学工業銖製〕、Ａ Ｋ −６０，０００■■ （ワラカー社製）、ビスカシルー ６０．０００ （０
、Ｈ社製）、ビニル系重合物系としては、例えばディス
・ぐロン１９７０■、ディス・ぞロン１９５０■、ティ
スパａｙＯＸ−７０■、ディス／ｅ ０７０Ｘ−８８０
■、ディス・ξ０７０Ｘ−８８Ｍ■〔楠本化成■製〕、
シリコン−ビニル系重合物としては、例えばディス、ｅ
ロン１９３０■、ティスパロン１９３１■、ディスパロ
ンｌ９３３■〔楠本化成銖製〕、鉱物系ノニオン界面活
性剤系としては、例えば８Ｎ−ＤＢＦＯＡＭＥＲ−１１
３■、■ ８Ｎ−ＤＥＰＯｋＭＢＥＬ−１４９，８Ｎ−ＤＢＦＯＡ
ＭＦｉＲ−１５７■、８Ｎ−ＤｇＦＯＡＭＢＲ−２４７
■（Ｂａｎ Ｎｏｐｃｏ社製）がある。その使用ｆ＃は
樹脂成分に対して０．２〜５重量％、好ましくは０．５
〜２重量％である。
ニル系重合物系、シリコン−ビニル系重合物、鉱物系ノ
ニオン界面活性剤系が挙げられ、シリコン系としては、
例えばに、−３３００、Ｋｐ−３３１°、Ｋ８−６０７
Ｃ信越化学工業銖製〕、Ａ Ｋ −６０，０００■■ （ワラカー社製）、ビスカシルー ６０．０００ （０
、Ｈ社製）、ビニル系重合物系としては、例えばディス
・ぐロン１９７０■、ディス・ぞロン１９５０■、ティ
スパａｙＯＸ−７０■、ディス／ｅ ０７０Ｘ−８８０
■、ディス・ξ０７０Ｘ−８８Ｍ■〔楠本化成■製〕、
シリコン−ビニル系重合物としては、例えばディス、ｅ
ロン１９３０■、ティスパロン１９３１■、ディスパロ
ンｌ９３３■〔楠本化成銖製〕、鉱物系ノニオン界面活
性剤系としては、例えば８Ｎ−ＤＢＦＯＡＭＥＲ−１１
３■、■ ８Ｎ−ＤＥＰＯｋＭＢＥＬ−１４９，８Ｎ−ＤＢＦＯＡ
ＭＦｉＲ−１５７■、８Ｎ−ＤｇＦＯＡＭＢＲ−２４７
■（Ｂａｎ Ｎｏｐｃｏ社製）がある。その使用ｆ＃は
樹脂成分に対して０．２〜５重量％、好ましくは０．５
〜２重量％である。
本発明に用いられるレベリング剤としては、デイスパロ
ン１７１０■、ディス・ξロン１７５０■、ディツノロ
ン１フ６０■等〔楠本化成銖製〕の変性シリコン系のも
のが挙げられる。その使用量は、樹脂成分に対して０．
２〜５］ｉ量チ、好才しくはＯ，Ｓ〜２重景チである。
ン１７１０■、ディス・ξロン１７５０■、ディツノロ
ン１フ６０■等〔楠本化成銖製〕の変性シリコン系のも
のが挙げられる。その使用量は、樹脂成分に対して０．
２〜５］ｉ量チ、好才しくはＯ，Ｓ〜２重景チである。
なお、上記消泡剤、レベリング剤において、その種類に
よシ消泡、レベリングの両性能を合せ持ったものもある
ので、必ずしも消泡剤、レベリング剤の両方を使用する
必要のない場合がある。
よシ消泡、レベリングの両性能を合せ持ったものもある
ので、必ずしも消泡剤、レベリング剤の両方を使用する
必要のない場合がある。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、ウレタンプレポリマー
、単官能エチレン性不飽和化合物、光重合間−始剤、熱
重合禁止剤、消泡剤および／またはし堅リング剤を混合
溶解する方法により得ることができる。この際、必要に
応じて固形分（例えば着色顔料および／または体質顔料
）、粘度調節剤、チキン剤を含有させることができる。
、単官能エチレン性不飽和化合物、光重合間−始剤、熱
重合禁止剤、消泡剤および／またはし堅リング剤を混合
溶解する方法により得ることができる。この際、必要に
応じて固形分（例えば着色顔料および／または体質顔料
）、粘度調節剤、チキン剤を含有させることができる。
固形分を添加させる場合は、攪拌機で攪拌するか、添加
量が等を使用して製造する。
量が等を使用して製造する。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、粘度（２５℃）５０〜
ｔ、ｏ ｏ ｏボイズであり、通常印刷の仕上がりを識
別するためグリーン、ブルー、オレンジ等で着色する。
ｔ、ｏ ｏ ｏボイズであり、通常印刷の仕上がりを識
別するためグリーン、ブルー、オレンジ等で着色する。
スクリーン印刷性を得るためにチキン性を有することが
好ましい。
好ましい。
本発明の光硬化性樹脂組成物の硬化膜は耐サンドシラス
ト性に加えて耐酸性薬品性を示し、各種の暴利への密着
性が良好なので、サンドブラスト処理後薬品処理をして
製品を製造する場合には好適である。例えば、ガラスの
食刻（ディスプレー用ガラス面の処理）、金属の食刻（
プリント基板の製造）が挙けられる。
ト性に加えて耐酸性薬品性を示し、各種の暴利への密着
性が良好なので、サンドブラスト処理後薬品処理をして
製品を製造する場合には好適である。例えば、ガラスの
食刻（ディスプレー用ガラス面の処理）、金属の食刻（
プリント基板の製造）が挙けられる。
参考例１
（プレポリマーの合成）
エチレンオキシド−ゾロピレンオキシｒ共重合体（エチ
レンオキシド含量３５事情％）のブロック共重合体ジオ
ール（分子量２，０００） １００部とポリエチレンア
ジ被−トジオール（分子Ｊｌ：２，０００）１００部と
トリレンジイソシアナート２６部と０．５部のジブチル
チンジラウレートとを混合溶解し、７０℃で２時間反応
させて両末端にインシアナート基を残し、これに１５部
の２−ヒドロキシエチルメタクリレートと０．１１２５
部の２．６−）−’＋−ブチルＰ−クレゾールを加え、
更に７０℃で２時間反応させて不飽和ポリウし・タンを
得た。
レンオキシド含量３５事情％）のブロック共重合体ジオ
ール（分子量２，０００） １００部とポリエチレンア
ジ被−トジオール（分子Ｊｌ：２，０００）１００部と
トリレンジイソシアナート２６部と０．５部のジブチル
チンジラウレートとを混合溶解し、７０℃で２時間反応
させて両末端にインシアナート基を残し、これに１５部
の２−ヒドロキシエチルメタクリレートと０．１１２５
部の２．６−）−’＋−ブチルＰ−クレゾールを加え、
更に７０℃で２時間反応させて不飽和ポリウし・タンを
得た。
実施例１
（１）光硬化性樹脂組成物の調製
下記に示す原料及び量を用いて組成物を調製した。この
組成物の粘度（Ｂ型粘度泪、２５℃）は７００ポイズで
あった。
組成物の粘度（Ｂ型粘度泪、２５℃）は７００ポイズで
あった。
ゾレボ゛リマ−（参考例１で合成したもの） １００部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート 、 ５０部フタ
ル酸モノ−（２ヒドロキシエチルメタクリレート）エス
テル ５０部２．２−ジメトキシフ工具ルアセトフエノ
ン ４．０部シリコン［Ｋｐ３ｚＰ信越化学工業■〕０
，４部フタロシアニングリーン Ｏ，３部 （２）食刻品の製造 （１）で調製した組成物をガラス面に１００μｍの厚み
にステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００メ
ソシユ）ヲ用いてノミターン印刷し、 、＋ ２０ Ｗ
／ｍ ｘ３３部のメタルノ・ライド高圧水銀灯の露光機
でコンイア速度４ｍ／分で硬化させた。このマスクを通
して３Ｋｙ／ｌｒｉの空気圧で２００メツシユのアラン
ダムを３０秒吹きつけた後、５重ａ′係の苛性ソーダ水
溶液に室温で浸漬振動させて剥離することができた。ガ
ラス板上にけ３００／ｊｍの解像力を有する繊細な図柄
の彫刻模様を得ることができた。
２−ヒドロキシエチルメタクリレート 、 ５０部フタ
ル酸モノ−（２ヒドロキシエチルメタクリレート）エス
テル ５０部２．２−ジメトキシフ工具ルアセトフエノ
ン ４．０部シリコン［Ｋｐ３ｚＰ信越化学工業■〕０
，４部フタロシアニングリーン Ｏ，３部 （２）食刻品の製造 （１）で調製した組成物をガラス面に１００μｍの厚み
にステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００メ
ソシユ）ヲ用いてノミターン印刷し、 、＋ ２０ Ｗ
／ｍ ｘ３３部のメタルノ・ライド高圧水銀灯の露光機
でコンイア速度４ｍ／分で硬化させた。このマスクを通
して３Ｋｙ／ｌｒｉの空気圧で２００メツシユのアラン
ダムを３０秒吹きつけた後、５重ａ′係の苛性ソーダ水
溶液に室温で浸漬振動させて剥離することができた。ガ
ラス板上にけ３００／ｊｍの解像力を有する繊細な図柄
の彫刻模様を得ることができた。
実施例２
（３） ガ、硬化性樹脂組成物の調製
フタル酔モノ−（２ヒＰロキシエチルメタクリレート）
エステル５０部に代オて、モノ−メタクリロキシエチル
フォスフェート５０部を用いた以外は実施例１と同様に
して組成物の調製を行った。
エステル５０部に代オて、モノ−メタクリロキシエチル
フォスフェート５０部を用いた以外は実施例１と同様に
して組成物の調製を行った。
製造された組成物の粘度（１３型粘度削、２５℃）は、
５００ポイズ−であつな。
５００ポイズ−であつな。
（４）食刻品の製造
（３）で調製した却成物をガラス面に１００／ｊｍの厚
みにステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００
メツシユ）を用いてパターン印刷し、１２０ Ｗ／ａｎ
Ｘ ３灯式のメタルハライド高圧水銀灯の露１％で、
コンベア速度４ｍ１０で硬化させた。このマスクを通し
て３にり／ｉの空気圧で２００メツシユのアランダムを
３０秒吹きっけた後、５重量係の苛性ソーダ水溶液で室
温で浸漬振動させて剥離することができだ。ガラス板上
には、３００μｍの解像力を有する繊細な図柄の彫刻模
様を得ることができた。
みにステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００
メツシユ）を用いてパターン印刷し、１２０ Ｗ／ａｎ
Ｘ ３灯式のメタルハライド高圧水銀灯の露１％で、
コンベア速度４ｍ１０で硬化させた。このマスクを通し
て３にり／ｉの空気圧で２００メツシユのアランダムを
３０秒吹きっけた後、５重量係の苛性ソーダ水溶液で室
温で浸漬振動させて剥離することができだ。ガラス板上
には、３００μｍの解像力を有する繊細な図柄の彫刻模
様を得ることができた。
実施例３
（５）光硬化性樹脂組成物の調製
下記原料及び量を用いて、光硬化性樹脂組成物を調製し
た。
た。
プレポリマー（参考例１で合成したもの） １００部２
−ヒドロキシゾロピルメタクリレート ５０部ラウリル
メタクリレート １部部 ２−メチルー３−スルフォプロビルアクリルアマイド
３０部２−エチルアントラキノン １部 ２．２．）メトキシフェニルアセトフェノン ５０部シ
リコンＫＰ−３２４■（信越化学工業）ｏ、４部フタロ
シアニングリーン ０−７部 この組成物の粘度（Ｂ型粘度計、２５Ｃ）は、４００ポ
イズであ・つた。
−ヒドロキシゾロピルメタクリレート ５０部ラウリル
メタクリレート １部部 ２−メチルー３−スルフォプロビルアクリルアマイド
３０部２−エチルアントラキノン １部 ２．２．）メトキシフェニルアセトフェノン ５０部シ
リコンＫＰ−３２４■（信越化学工業）ｏ、４部フタロ
シアニングリーン ０−７部 この組成物の粘度（Ｂ型粘度計、２５Ｃ）は、４００ポ
イズであ・つた。
（６）食刻品の製造
（５）で調製した組成物をガラス面に１０（１７１ｍの
厚ミニステンレススチール製のスクリーン印刷版（２０
０メツシユ）を用いてノミターン印Ａｂｌｌ シ、１２
０ Ｗ、／ＣｒｎＸ ３灯式のメタルノ・ライＰ高圧水
銀火工の露光機でコン４ア速度４ｍ／分で硬化させた。
厚ミニステンレススチール製のスクリーン印刷版（２０
０メツシユ）を用いてノミターン印Ａｂｌｌ シ、１２
０ Ｗ、／ＣｒｎＸ ３灯式のメタルノ・ライＰ高圧水
銀火工の露光機でコン４ア速度４ｍ／分で硬化させた。
このマスクを通して３Ｋｆ／／Ｊの空気圧で２００メツ
シユのアランダムを３０秒吹きつけた後、５部Ｍ１゛チ
の苛性ソーダ水溶液に室温で浸漬振動さ一１ｊ：て蜘１
＃＃することができた。ガラス板」二に３００ Ｊｉ
ｍの解像ブｊを廟する繊細ガ図柄の彫刻模様を得ること
７５；できた。
シユのアランダムを３０秒吹きつけた後、５部Ｍ１゛チ
の苛性ソーダ水溶液に室温で浸漬振動さ一１ｊ：て蜘１
＃＃することができた。ガラス板」二に３００ Ｊｉ
ｍの解像ブｊを廟する繊細ガ図柄の彫刻模様を得ること
７５；できた。
参考例２
（プレポリマーの合成）
エチレンオキシド−プロピレンオキシド共重合体（エチ
レンオキシド含ｇ： ３ ｓ Ｍ Ｍ−、％ ）のブロ
ック井重合体ジオール（分子量２，０１）０）１００音
訪と７Ｆ１ノエチレンアジペートジオール（分子（９３
：２，０００）１００部とトリレンジイソシアナート２
６部と０５部のジブチルチンジラウレートとを混合溶解
し、７０℃で２時間反応させて、画末端にイソシアナー
ト基を残し、これにエポキシエステル（グリセリンモノ
メタクリレート／グリコール酸−グリシジルメタクリレ
ート付加物−７部３モル比）２４ｇと３，５−ジーｔｃ
ｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエン０．０５ｇを加
え、更にジブチルチンジラウレート０．０２を加え、７
０℃で２時間反応させる。これに無水コハク酸１５ｇを
加え、更に３時間反応させて不飽和ポリウレタンを得た
。
レンオキシド含ｇ： ３ ｓ Ｍ Ｍ−、％ ）のブロ
ック井重合体ジオール（分子量２，０１）０）１００音
訪と７Ｆ１ノエチレンアジペートジオール（分子（９３
：２，０００）１００部とトリレンジイソシアナート２
６部と０５部のジブチルチンジラウレートとを混合溶解
し、７０℃で２時間反応させて、画末端にイソシアナー
ト基を残し、これにエポキシエステル（グリセリンモノ
メタクリレート／グリコール酸−グリシジルメタクリレ
ート付加物−７部３モル比）２４ｇと３，５−ジーｔｃ
ｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエン０．０５ｇを加
え、更にジブチルチンジラウレート０．０２を加え、７
０℃で２時間反応させる。これに無水コハク酸１５ｇを
加え、更に３時間反応させて不飽和ポリウレタンを得た
。
実施例４
（７） 光硬化樹脂組成物の調製
下記原料及び量により光硬化性樹脂組成物を調製した。
この組成物の粘度（Ｂ型粘度計、２５℃）は、２００ポ
イズであった。
イズであった。
プレポリマー（参考例２で合成したもの） １ｏｏ部２
−ヒドロキシエチルメタクリレート ５０部エチレング
リコールジメタクリレート １０部２＋２”）メトキシ
フエニノげセトフエノン ４０部ディス・ξロン＋１９
７０■ （楠本化成） ２部フタロシアングリーン ０
．３部 （８）食刻品の製造 （７）で調製した組成物をガラス面に１００／Ｚｍの厚
みにステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００
メツシユ）を用いてパターン印刷し、１２０ Ｗ／ｃｍ
Ｘ ３灯式のメタルノ・ライド高圧水銀灯でコンベア速
度６ｍ／４）で硬化させた。このマスクを通して３ Ｋ
ｇ／ｃｒｌの空気圧で２００メツシユのアランダムを３
０秒吹きつけた後アセトンでｉｌｌ Ｎ（Ｌ ｔ、た。
−ヒドロキシエチルメタクリレート ５０部エチレング
リコールジメタクリレート １０部２＋２”）メトキシ
フエニノげセトフエノン ４０部ディス・ξロン＋１９
７０■ （楠本化成） ２部フタロシアングリーン ０
．３部 （８）食刻品の製造 （７）で調製した組成物をガラス面に１００／Ｚｍの厚
みにステンレススチール製のスクリーン印刷版（２００
メツシユ）を用いてパターン印刷し、１２０ Ｗ／ｃｍ
Ｘ ３灯式のメタルノ・ライド高圧水銀灯でコンベア速
度６ｍ／４）で硬化させた。このマスクを通して３ Ｋ
ｇ／ｃｒｌの空気圧で２００メツシユのアランダムを３
０秒吹きつけた後アセトンでｉｌｌ Ｎ（Ｌ ｔ、た。
ガラス板上には、３００μｍのＴｖＦ倖力を有する繊細
な図柄の彫刻模様を得ることができた。
な図柄の彫刻模様を得ることができた。
比較例
市販されているＡＳＡシート■〔旭化成工業銖製、商品
名〕をガラス面に貼りつけたのち、カッモーフィルムを
取り除いてザンドブラストを吹きつけ、その後、ＡＳＡ
シートを剥ぎ取った。
名〕をガラス面に貼りつけたのち、カッモーフィルムを
取り除いてザンドブラストを吹きつけ、その後、ＡＳＡ
シートを剥ぎ取った。
ガラス板上に＋ｄ５００μｍの解像力を有する彫−刻模
様が得られた。
様が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 囚、下記一般式で表わされるウレタンプレポリマー、ｘ
−（ｕ−ｙ、始≠Ｕ −ｙ、、石Ｕ −Ｘ（式中、Ｙ１
＋Ｙ２はポリエーテル、ポリエステルまたはポリエーテ
ルーポリエステルブロックコポリマーであって、Ｙ１＋
Ｙ２は同一または異ってもよい。Ｕはウレタン残基、Ｘ
は少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する残基、
ｍｌ ＋ ｎ’１２は１０≧町≧０．１０２ｍ２≧０か
っｍｌ＋ｍ２≧１を示す。） （Ｂ）、単官能エチレン性不飽和化合物、（０９、光重
合開始剤、 （ロ）、熱重合禁止剤、 （匂、消泡剤および／またはし４リング剤、を主成分と
してなるスクリーン印刷用能で固体粒子による食刻に耐
える光硬化性樹脂組成物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11700783A JPS6010242A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11700783A JPS6010242A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6010242A true JPS6010242A (ja) | 1985-01-19 |
Family
ID=14701148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11700783A Pending JPS6010242A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 固体粒子による食刻に耐える光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6010242A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61186249A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-19 | Pola Chem Ind Inc | 加飾表面を有するガラス製品およびその製造方法 |
| JPS61209927A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-18 | Fujikura Kasei Kk | 紫外線遮断性を有するガラス被覆用組成物 |
| JPS6289773A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-04-24 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 光学コ−テイング組成物 |
| JPH01301535A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-05 | Hayakawa Rubber Co Ltd | ガラス又は鏡の保護膜材 |
| WO1995023998A1 (fr) * | 1994-03-04 | 1995-09-08 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Resine liquide photosensible pour structures en relief |
| US6322947B1 (en) | 1998-08-17 | 2001-11-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film laminate comprising the same |
| JP2002365815A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
| JP2002365816A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
| US6897011B2 (en) | 2000-11-07 | 2005-05-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
| JP5068418B2 (ja) * | 2003-06-10 | 2012-11-07 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 液晶表示装置用収納容器、これを有するバックライト組立体及びこれを用いた液晶表示装置。 |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP11700783A patent/JPS6010242A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61186249A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-19 | Pola Chem Ind Inc | 加飾表面を有するガラス製品およびその製造方法 |
| JPS61209927A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-18 | Fujikura Kasei Kk | 紫外線遮断性を有するガラス被覆用組成物 |
| JPS6289773A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-04-24 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 光学コ−テイング組成物 |
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| WO1995023998A1 (fr) * | 1994-03-04 | 1995-09-08 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Resine liquide photosensible pour structures en relief |
| US5843622A (en) * | 1994-03-04 | 1998-12-01 | Ashai Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Liquid photosensitive resin composition for use in forming a relief structure |
| US6322947B1 (en) | 1998-08-17 | 2001-11-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film laminate comprising the same |
| US6897011B2 (en) | 2000-11-07 | 2005-05-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition for sandblasting and photosensitive film using the same |
| JP2002365815A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
| JP2002365816A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
| JP4671540B2 (ja) * | 2001-06-05 | 2011-04-20 | 日本合成化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
| JP5068418B2 (ja) * | 2003-06-10 | 2012-11-07 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 液晶表示装置用収納容器、これを有するバックライト組立体及びこれを用いた液晶表示装置。 |
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