JPS608100A - 吹き付け食刻方法 - Google Patents
吹き付け食刻方法Info
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- JPS608100A JPS608100A JP11649783A JP11649783A JPS608100A JP S608100 A JPS608100 A JP S608100A JP 11649783 A JP11649783 A JP 11649783A JP 11649783 A JP11649783 A JP 11649783A JP S608100 A JPS608100 A JP S608100A
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- resin composition
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C11/00—Selection of abrasive materials or additives for abrasive blasts
- B24C11/005—Selection of abrasive materials or additives for abrasive blasts of additives, e.g. anti-corrosive or disinfecting agents in solid, liquid or gaseous form
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/04—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/08—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
- B24C1/086—Descaling; Removing coating films
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/22—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching
- B44C1/221—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching using streams of abrasive particles
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光や熱により硬化しうる樹脂組成物を用いて
、所定の基材表面にパターンを形成し、吹き付は食刻す
る方法に関するものである。
、所定の基材表面にパターンを形成し、吹き付は食刻す
る方法に関するものである。
これまで、ガラス、木、陶磁器、金属、プラスチックな
どの表面に所望の図柄を食刻するには、これらの表面に
耐食性材料によシ所望の図柄に対応するパターンを形成
させ、エツチング液に浸せきし、表面を選択的に溶解す
る方法が通常行われている。しかしながらこのような方
法は、エツチング液の調製及び管理が厄介である上に、
廃液処理に問題があるため、大量生産用の工業的方法と
しては不適当である。このような湿式法の欠点を改良す
るために、例えばゴムシートで所望の文字や図柄を刻み
、基材表面に貼し付けた後、その上から固体粒子を吹き
付けて食刻する方法が提案されている。しかし、この方
法は、基材表面に貼り付けるシートを製品ごとに製作し
なければならないため、生産性が低い上に、任意の図柄
を精度よく再現することが困難であるという欠点がある
。
どの表面に所望の図柄を食刻するには、これらの表面に
耐食性材料によシ所望の図柄に対応するパターンを形成
させ、エツチング液に浸せきし、表面を選択的に溶解す
る方法が通常行われている。しかしながらこのような方
法は、エツチング液の調製及び管理が厄介である上に、
廃液処理に問題があるため、大量生産用の工業的方法と
しては不適当である。このような湿式法の欠点を改良す
るために、例えばゴムシートで所望の文字や図柄を刻み
、基材表面に貼し付けた後、その上から固体粒子を吹き
付けて食刻する方法が提案されている。しかし、この方
法は、基材表面に貼り付けるシートを製品ごとに製作し
なければならないため、生産性が低い上に、任意の図柄
を精度よく再現することが困難であるという欠点がある
。
他方、手彫シや機械形シに代って、ベースフィルム上の
光硬化性樹脂層に、ネガフィルムを通して光を照射して
、文字や図柄を作成したのち、これを基材表面に貼υ付
はベースフィルムを剥離後、固体粒子を吹き付は食刻す
る方法も提案され、再現性やパターンの精密度の点で優
れているので実用化がはかられているが、ベースフィル
ムの貼付を人手に頼らざるを得ないため、まだ生産性の
点で問題が残されている。
光硬化性樹脂層に、ネガフィルムを通して光を照射して
、文字や図柄を作成したのち、これを基材表面に貼υ付
はベースフィルムを剥離後、固体粒子を吹き付は食刻す
る方法も提案され、再現性やパターンの精密度の点で優
れているので実用化がはかられているが、ベースフィル
ムの貼付を人手に頼らざるを得ないため、まだ生産性の
点で問題が残されている。
このような事情のもとで、本発明者らは、生産性が高く
、再現性の良好な吹き付は食刻方法を開発するだめに鋭
意研究を重ねた結果、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を未
硬化状態で基材表面上に、スクリーン印刷などの方法で
塗布して所定のパターンを形成させ、これを硬化処理し
たのち、この上から吹き付は食刻することにより、その
目的を達成しうろことを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至った。
、再現性の良好な吹き付は食刻方法を開発するだめに鋭
意研究を重ねた結果、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を未
硬化状態で基材表面上に、スクリーン印刷などの方法で
塗布して所定のパターンを形成させ、これを硬化処理し
たのち、この上から吹き付は食刻することにより、その
目的を達成しうろことを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至った。
すなわち、本発明は基材表面に未硬化状態の硬化性樹脂
組成物によシ所定のパターンを形成させ、次いでこれを
硬化処理したのち、パターンの上から固体粒子を吹き付
はパターンで被覆されていない部分を食刻することを特
徴とする吹き付は食刻方法を提供するものである。
組成物によシ所定のパターンを形成させ、次いでこれを
硬化処理したのち、パターンの上から固体粒子を吹き付
はパターンで被覆されていない部分を食刻することを特
徴とする吹き付は食刻方法を提供するものである。
本発明方法において所定のパターンを形成させるために
用いる硬化性樹脂組成物は、硬化後に施こされる吹き付
は食刻に際し、固体粒子の衝撃に耐え得る物性を与える
ものであることが必要である。したがって硬化処理した
後で通常、ショアＡ硬度９０以下、引張強度５０〜３０
０に９／ｃ本伸び３０〜４００チを有する樹脂が好まし
い。
用いる硬化性樹脂組成物は、硬化後に施こされる吹き付
は食刻に際し、固体粒子の衝撃に耐え得る物性を与える
ものであることが必要である。したがって硬化処理した
後で通常、ショアＡ硬度９０以下、引張強度５０〜３０
０に９／ｃ本伸び３０〜４００チを有する樹脂が好まし
い。
このような硬化性樹脂組成物の例としては、（１）末端
にアクリレート基又はメタクリレート基をもつウレタン
プレポリマー、不飽和モノマー及び光重合開始剤を光硬
化成分とするもの、（２）多官能アクリレート型不飽和
化合物とアミンとの付加反応により得られるプレポリマ
ー、不飽和モノマー及び光重合開始剤を光硬化成分とす
るもの、 （３）多官能エポキシ樹脂、単官能エポキシ化合物及び
光開始カチオン触媒を光硬化成分とするもの、（４）ポ
リエン、ポリチオール及び光重合開始剤を光硬化成分と
するもの などの光硬化性樹脂組成物を挙げることができる。
にアクリレート基又はメタクリレート基をもつウレタン
プレポリマー、不飽和モノマー及び光重合開始剤を光硬
化成分とするもの、（２）多官能アクリレート型不飽和
化合物とアミンとの付加反応により得られるプレポリマ
ー、不飽和モノマー及び光重合開始剤を光硬化成分とす
るもの、 （３）多官能エポキシ樹脂、単官能エポキシ化合物及び
光開始カチオン触媒を光硬化成分とするもの、（４）ポ
リエン、ポリチオール及び光重合開始剤を光硬化成分と
するもの などの光硬化性樹脂組成物を挙げることができる。
前記（１）における末端にアクリレート基又はメタクリ
レート基をもつウレタンプレポリマーは例えば両末端に
水酸基をもつポリエーテル、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリジエンなどに、ジイソシアネートを反応させ
て両末端にインシアネート基をもつウレタンプレポリマ
ーを形成させたのち、これにアクリル酸又はメタクリル
酸のヒドロキシアルキルエステルを反応させることによ
って製造することができる。これと併用される不飽和モ
ノマーとしては、例えばラウリルメタクリレート、オレ
イルアクリレートのようなアクリル酸又はメタクリル酸
のアルキルエステルや、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのようなアク
リル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル
、ポリエチレングリコールモノアクリレート又はモノメ
タクリレートのようなポリエーテルモノエステルなどが
ある。また光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ア
セトフェノン、アセナフテンキノン、ｐ、ｐ’−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジ
ルメチルケタール、２−エチルアントラキノン、１−ク
ロルアントラキノン、１−クロルチオキサントン、２−
メチルチオキサントンなどが用いられる。
レート基をもつウレタンプレポリマーは例えば両末端に
水酸基をもつポリエーテル、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリジエンなどに、ジイソシアネートを反応させ
て両末端にインシアネート基をもつウレタンプレポリマ
ーを形成させたのち、これにアクリル酸又はメタクリル
酸のヒドロキシアルキルエステルを反応させることによ
って製造することができる。これと併用される不飽和モ
ノマーとしては、例えばラウリルメタクリレート、オレ
イルアクリレートのようなアクリル酸又はメタクリル酸
のアルキルエステルや、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのようなアク
リル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル
、ポリエチレングリコールモノアクリレート又はモノメ
タクリレートのようなポリエーテルモノエステルなどが
ある。また光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ア
セトフェノン、アセナフテンキノン、ｐ、ｐ’−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジ
ルメチルケタール、２−エチルアントラキノン、１−ク
ロルアントラキノン、１−クロルチオキサントン、２−
メチルチオキサントンなどが用いられる。
（２）における多官能アクリレート型不飽和化合物とア
ミンとの付加反応によシ得られるプレポリマーとしては
、トリメチロールプロパントリアクリレートとピペラジ
ンとの反応生成物、トリメチロールプロパントリアクリ
レートとへキサメチレンジアミンとの反応生成物、トリ
メチロールプロパントリアクリレートとエタノールアミ
ンとの反応生成物、ビスＡ型エポキシアクリレートとピ
ペラジンとの反応生成物、ビスＡ型エポキ７アクリレー
トとエタノールアミンとの反応生成物などが用いられる
。
ミンとの付加反応によシ得られるプレポリマーとしては
、トリメチロールプロパントリアクリレートとピペラジ
ンとの反応生成物、トリメチロールプロパントリアクリ
レートとへキサメチレンジアミンとの反応生成物、トリ
メチロールプロパントリアクリレートとエタノールアミ
ンとの反応生成物、ビスＡ型エポキシアクリレートとピ
ペラジンとの反応生成物、ビスＡ型エポキ７アクリレー
トとエタノールアミンとの反応生成物などが用いられる
。
次に（３）における多官能エポキシ樹脂としては、例え
ばビスＡ型エポキシ樹脂、ビスＦ型エポキシ樹脂、ノボ
ラック型エポキシ樹脂、ポリエチレンクリコールジグリ
シジルエーテル、ポリエチレンクリコールジグリシジル
エーテル、クリセリンシフリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルなどが用いられ
、単官能エポキシ化合物としては、２−エチルへキシル
グリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエ
ーテル、２．４−シフロモフェニルクリシジルエーテル
、炭素数３〜１２のアルコールとエピクロルヒドリンと
の反応生成物などが用いられる。
ばビスＡ型エポキシ樹脂、ビスＦ型エポキシ樹脂、ノボ
ラック型エポキシ樹脂、ポリエチレンクリコールジグリ
シジルエーテル、ポリエチレンクリコールジグリシジル
エーテル、クリセリンシフリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルなどが用いられ
、単官能エポキシ化合物としては、２−エチルへキシル
グリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエ
ーテル、２．４−シフロモフェニルクリシジルエーテル
、炭素数３〜１２のアルコールとエピクロルヒドリンと
の反応生成物などが用いられる。
また、光開始カチオン触媒としては、例えばジメチルア
ミノフェニルジアゾニウムテトラフルオロホロン塩、ジ
メチルアミノフェニルハロニウムテトラフルオロポロン
塩、ジメチルアミノオニウムテトラフルオロボロン塩な
とのホウフッ素酸第四級塩が用いられる。
ミノフェニルジアゾニウムテトラフルオロホロン塩、ジ
メチルアミノフェニルハロニウムテトラフルオロポロン
塩、ジメチルアミノオニウムテトラフルオロボロン塩な
とのホウフッ素酸第四級塩が用いられる。
最後に（４）におけるポリエンとしては、例えばポリエ
チレンクリコールやエチレンオキシド−プロピレンオキ
シドブロック共重合体にジイソシアネートを反応させ、
さらにアリルアルコールを反応させて得られる不飽和ア
リルウレタンオリゴマーが用いられ、まだポリチオール
としては、トリメチロールプロパントリス（β−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリトリトールテトラキ
ス（３−メルカプトプロピルエーテル）、４−（β−メ
ルカプトプロピオネート）ペンタエリトリトールなどが
用いられる。この際に併用される光重合開始剤としては
、（１）における光重合開始剤として挙げたものと同じ
化合物が用いられるが、特に好ｔＬいのはベンゾフェノ
ンである。
チレンクリコールやエチレンオキシド−プロピレンオキ
シドブロック共重合体にジイソシアネートを反応させ、
さらにアリルアルコールを反応させて得られる不飽和ア
リルウレタンオリゴマーが用いられ、まだポリチオール
としては、トリメチロールプロパントリス（β−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリトリトールテトラキ
ス（３−メルカプトプロピルエーテル）、４−（β−メ
ルカプトプロピオネート）ペンタエリトリトールなどが
用いられる。この際に併用される光重合開始剤としては
、（１）における光重合開始剤として挙げたものと同じ
化合物が用いられるが、特に好ｔＬいのはベンゾフェノ
ンである。
本発明方法で用いる光硬化性樹脂組成物中に泡が存在す
ると、泡中に含１れる酸素により硬化反応が阻害され、
硬化物の物性が低下し、まだ、泡を生じだ壕ま硬化する
ため強度の低下を免れず耐サンドブラスト性がそこなわ
れるので消泡剤を使用するのが好ましい。この消泡剤は
、シリコーン系、ビニル化合物重合体系、シリコーン／
ビニル化合物重合体系、鉱物／ノニオン界面活性剤系の
公知の消泡剤の中から任意に選択することができる。こ
の消泡剤は光硬化性樹脂組成物重量に基づき０．２〜５
重量％、好ましくは０．５〜２重量％の範囲で添カロさ
れる。
ると、泡中に含１れる酸素により硬化反応が阻害され、
硬化物の物性が低下し、まだ、泡を生じだ壕ま硬化する
ため強度の低下を免れず耐サンドブラスト性がそこなわ
れるので消泡剤を使用するのが好ましい。この消泡剤は
、シリコーン系、ビニル化合物重合体系、シリコーン／
ビニル化合物重合体系、鉱物／ノニオン界面活性剤系の
公知の消泡剤の中から任意に選択することができる。こ
の消泡剤は光硬化性樹脂組成物重量に基づき０．２〜５
重量％、好ましくは０．５〜２重量％の範囲で添カロさ
れる。
丑だ、樹脂組成物の表面張力を低下させ、基材表面−ヒ
への塗布作業を容易にし、かつ均一な膜厚を得るために
、レベリング剤を加えるのが好ましい。このレベリング
剤としては、例えば変性シリコーン系の公知のものを用
いることができる。消泡剤の中にはレベリング剤として
の作用を有するものもあるので、そのような場合には、
必ずしも２成分を添加することはなく、１成分のみの添
加で十分である。レベリング剤は、光硬化性樹脂組成物
重量に基づき０．２〜５重量％、好ましくは０．５〜２
重量％の範囲で添加される。
への塗布作業を容易にし、かつ均一な膜厚を得るために
、レベリング剤を加えるのが好ましい。このレベリング
剤としては、例えば変性シリコーン系の公知のものを用
いることができる。消泡剤の中にはレベリング剤として
の作用を有するものもあるので、そのような場合には、
必ずしも２成分を添加することはなく、１成分のみの添
加で十分である。レベリング剤は、光硬化性樹脂組成物
重量に基づき０．２〜５重量％、好ましくは０．５〜２
重量％の範囲で添加される。
これらの添加剤の量が、上記の範囲よりも少ない場合は
、十分な消泡効果、レベリング効果が得られない。他方
、この量を５重量矛よシも多くしても効果の向上は認め
られないので、経済的に不利である。
、十分な消泡効果、レベリング効果が得られない。他方
、この量を５重量矛よシも多くしても効果の向上は認め
られないので、経済的に不利である。
この光硬化性樹脂組成物には、前記の成分に加えて、さ
らに所望に応じ体質顔料を２０重量−以下の量で、また
着色顔料を１重量製以下の量で添加することができる。
らに所望に応じ体質顔料を２０重量−以下の量で、また
着色顔料を１重量製以下の量で添加することができる。
この光硬化性樹脂組成物における各成分の基本的な配合
割合は、プレポリマー、多官能エポキシ樹脂又はポリエ
ンについては２０〜８０重量％、 ９− 好ましくは４０〜６０重量％、不飽和モノマー、単官能
エポキシ化合物又はポリチオールについては８０〜２０
重、量チ、好捷しくは６０〜４０重量％の範囲であシ、
これらの合計量に対する光重合開始剤又は光開始カチオ
ン触媒の添加割合は０．５〜１０重量係、消泡剤及びレ
ベリング剤の添加割合はそれぞれ０．２〜５重量％であ
る。
割合は、プレポリマー、多官能エポキシ樹脂又はポリエ
ンについては２０〜８０重量％、 ９− 好ましくは４０〜６０重量％、不飽和モノマー、単官能
エポキシ化合物又はポリチオールについては８０〜２０
重、量チ、好捷しくは６０〜４０重量％の範囲であシ、
これらの合計量に対する光重合開始剤又は光開始カチオ
ン触媒の添加割合は０．５〜１０重量係、消泡剤及びレ
ベリング剤の添加割合はそれぞれ０．２〜５重量％であ
る。
この光硬化性樹脂組成物の２５℃における粘度が５０ポ
イズよりも小さくなると基材表面に適用したときにダレ
を生じだシ、パターンの滲みを生じるので、適用に先立
って例えば使用される不飽和モノマーに可溶な高分子化
合物や有機増粘剤を添加することにより増粘することが
必要であるが、この増粘剤の添加量は１０重重量板下に
するのが望ましい。
イズよりも小さくなると基材表面に適用したときにダレ
を生じだシ、パターンの滲みを生じるので、適用に先立
って例えば使用される不飽和モノマーに可溶な高分子化
合物や有機増粘剤を添加することにより増粘することが
必要であるが、この増粘剤の添加量は１０重重量板下に
するのが望ましい。
以上、光硬化性樹脂について説明したが、本発明方法に
おいては、前記した塗膜物性を有するものである限り、
熱硬化性樹脂組成物も用いることができる。
おいては、前記した塗膜物性を有するものである限り、
熱硬化性樹脂組成物も用いることができる。
次に本発明方法において基材表面に、未硬化状１０−
態の硬化性樹脂組成物により所定のパターン形成するの
は、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、吹き伺は塗装
法など任意の方法で行うことができる。この除用いる硬
化性樹脂組成物の粘度は、２５℃においてスクリーン印
刷法の場合５０〜２，０００ボイズ、グラビア印刷法の
場合５０〜５００ボイズ、吹き付は塗装法の場合５０〜
２００ポイズの範囲にするのが好ましい。なお、吹き付
は塗装法の場合は、さらに高粘度のものであっても使用
時に加熱１７て粘度を減少させることにより、これを用
いることができる。
は、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、吹き伺は塗装
法など任意の方法で行うことができる。この除用いる硬
化性樹脂組成物の粘度は、２５℃においてスクリーン印
刷法の場合５０〜２，０００ボイズ、グラビア印刷法の
場合５０〜５００ボイズ、吹き付は塗装法の場合５０〜
２００ポイズの範囲にするのが好ましい。なお、吹き付
は塗装法の場合は、さらに高粘度のものであっても使用
時に加熱１７て粘度を減少させることにより、これを用
いることができる。
このパターンは、基材表面に食刻される文字、図柄を、
厚さ３０〜６００μｍの膜として形成される。これは単
一の操作で形成させてもよいし、所望の厚さになるまで
数回重ね塗りして形成させてもよい。このパターンの膜
厚は、硬化性樹脂組成物の硬化後の硬度、食刻される基
材の種類、食刻の深度、食刻に使用する吹き付は用固体
粒子の種類などを考慮して、適宜選択する必要がある。
厚さ３０〜６００μｍの膜として形成される。これは単
一の操作で形成させてもよいし、所望の厚さになるまで
数回重ね塗りして形成させてもよい。このパターンの膜
厚は、硬化性樹脂組成物の硬化後の硬度、食刻される基
材の種類、食刻の深度、食刻に使用する吹き付は用固体
粒子の種類などを考慮して、適宜選択する必要がある。
このようにして、基材表面にパターンを形成したならば
、次いで硬化処理が施される。この硬化処理は、光硬化
性樹脂組成物の場合は、高圧水銀灯、メタルハライド含
有高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン高圧水銀灯、キ
セノンアークなどを用いて紫外線照射することによって
行うことができるし、熱硬化性樹脂組成物の場合は、電
気炉、赤外線炉などを用いて加熱することによって行う
ことができる。
、次いで硬化処理が施される。この硬化処理は、光硬化
性樹脂組成物の場合は、高圧水銀灯、メタルハライド含
有高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン高圧水銀灯、キ
セノンアークなどを用いて紫外線照射することによって
行うことができるし、熱硬化性樹脂組成物の場合は、電
気炉、赤外線炉などを用いて加熱することによって行う
ことができる。
このようにバター′ンの硬化処理が施されたのち、これ
の上から固体粒子を吹き付けて、基材の食刻を行う。こ
の固体粒子としては、ケイ砂、ガーネットなどの天然研
摩材、炭化ケイ素、溶融アルミナ、炭化窒素、合成ダイ
ヤモンドなどの人造研摩材、銑鉄／ヨツト、鋼粒などの
金属研摩材が用いられるが、比較的軟質の基材に対して
は、ガラスピーズ、プラスチックビーズ、くるみ穀粉な
どを用いることができる。これらの固体粒子は、粒径３
０〜５００μｍの範囲のものが好ましい。
の上から固体粒子を吹き付けて、基材の食刻を行う。こ
の固体粒子としては、ケイ砂、ガーネットなどの天然研
摩材、炭化ケイ素、溶融アルミナ、炭化窒素、合成ダイ
ヤモンドなどの人造研摩材、銑鉄／ヨツト、鋼粒などの
金属研摩材が用いられるが、比較的軟質の基材に対して
は、ガラスピーズ、プラスチックビーズ、くるみ穀粉な
どを用いることができる。これらの固体粒子は、粒径３
０〜５００μｍの範囲のものが好ましい。
これらの固体粒子は、高圧空気や高圧液体に担送させて
基材表面に吹き付けられる。この際の吹き付は圧力とし
ては、通常２〜６ Ｋ９／ ｃａの範囲が用いられる。
基材表面に吹き付けられる。この際の吹き付は圧力とし
ては、通常２〜６ Ｋ９／ ｃａの範囲が用いられる。
この吹き伺けは、通常基材表面に１０〜１００μｍの深
さの食刻を生じるまで行われるが、所望ならばさらに深
Ａ食刻を行うこともできる。
さの食刻を生じるまで行われるが、所望ならばさらに深
Ａ食刻を行うこともできる。
このようにして、基材表面のパターンで？ｌＮ５Ｆされ
た部分以外の部分がえぐられて表面上にパターンに相当
する文字、図柄が描かれる。
た部分以外の部分がえぐられて表面上にパターンに相当
する文字、図柄が描かれる。
本発明方法においては、この固体粒子の吹き付けのみに
よっても十分に実用に供しうる食刻が得られるが、所望
ならばさらに薬品処理を施して食刻の効果の向上、ある
いは表面改質をはかることができる。例えば基材として
ガラスを用いた場合にフッ酸と濃硫酸により腐食したり
、あるいはプリンＩ・回路形成の場合に塩化第二銅又は
塩化第二鉄の酸性水溶液で、表面に露出する銅などを溶
解除去することができる。
よっても十分に実用に供しうる食刻が得られるが、所望
ならばさらに薬品処理を施して食刻の効果の向上、ある
いは表面改質をはかることができる。例えば基材として
ガラスを用いた場合にフッ酸と濃硫酸により腐食したり
、あるいはプリンＩ・回路形成の場合に塩化第二銅又は
塩化第二鉄の酸性水溶液で、表面に露出する銅などを溶
解除去することができる。
このようにして、基材表面の食刻が完了したならば、次
いで不要になった表面上に残存する硬化樹脂のパターン
が除去する必要があるが、これは例えば研摩機や刷毛を
用いて機械的に除去するか、適当な溶剤を用いて、溶解
又は膨潤１〜で除去するか、あるいはプラズマ処理等に
より揮散させて除去することによって行うことができる
。
いで不要になった表面上に残存する硬化樹脂のパターン
が除去する必要があるが、これは例えば研摩機や刷毛を
用いて機械的に除去するか、適当な溶剤を用いて、溶解
又は膨潤１〜で除去するか、あるいはプラズマ処理等に
より揮散させて除去することによって行うことができる
。
本発明方法によれば、木材製品、陶磁器製品、ガラス製
品、金属製品、グラスチック製品の表面に、簡単な操作
で迅速に所望の文字、図柄を食刻することができ、しか
も環境汚染の原因となる溶剤を用いずに行うことができ
るので、工業的な食刻方法として好適である。
品、金属製品、グラスチック製品の表面に、簡単な操作
で迅速に所望の文字、図柄を食刻することができ、しか
も環境汚染の原因となる溶剤を用いずに行うことができ
るので、工業的な食刻方法として好適である。
次に実施例によシ本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
両端に水酸基をもつ液状ポリブタジェン（分子量約１５
００）１００重量部、トリレンジイソシアネート１３重
量部及びジブチルスズジラウレートを混合し、７０℃で
２時間反応させて末端にイソシアネート基をもつ生成物
を形成させ、次いで２−ヒドロキシエチルメタクリレ−
１・１０重量部と２．６−シーｔａｒｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール０．０２５重量部をカロえ、さらに７０℃で
２時間反応させることによシ、不飽和ウレタンプレポリ
マー？Ｍ 造した。
００）１００重量部、トリレンジイソシアネート１３重
量部及びジブチルスズジラウレートを混合し、７０℃で
２時間反応させて末端にイソシアネート基をもつ生成物
を形成させ、次いで２−ヒドロキシエチルメタクリレ−
１・１０重量部と２．６−シーｔａｒｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール０．０２５重量部をカロえ、さらに７０℃で
２時間反応させることによシ、不飽和ウレタンプレポリ
マー？Ｍ 造した。
このようにして得た不飽和ウレタンプレポリマー１００
重量部、ラウリルメタクリレート３５重量部、２，２−
ジメトキシフェニルアセトフェノン３．０重量部、シリ
コーン系消泡剤（信越化学工業製、「シリコーンＫｐ−
３２４１、登録商標名）０．５重量部及びフタロシアニ
ングリーン０．５重量部とを混合し、粘度２００ボイズ
（ＢＨ粘度計ローター茄６を用いて２５℃において測定
）の光硬化性樹脂組成物を調製した。
重量部、ラウリルメタクリレート３５重量部、２，２−
ジメトキシフェニルアセトフェノン３．０重量部、シリ
コーン系消泡剤（信越化学工業製、「シリコーンＫｐ−
３２４１、登録商標名）０．５重量部及びフタロシアニ
ングリーン０．５重量部とを混合し、粘度２００ボイズ
（ＢＨ粘度計ローター茄６を用いて２５℃において測定
）の光硬化性樹脂組成物を調製した。
この組成物を、ステンレス鋼製のスクリーン印刷版（＃
２００）を用い、ガラス板上に厚さ１００μｍでパター
ン印刷したのち、１２０Ｗ／ｌｙｎの３灯式のメタルハ
ライド高圧水銀灯を用い、コンベア速度４ ｍ ／ ｍ
ｉｎで露光処理し、硬化させた。
２００）を用い、ガラス板上に厚さ１００μｍでパター
ン印刷したのち、１２０Ｗ／ｌｙｎの３灯式のメタルハ
ライド高圧水銀灯を用い、コンベア速度４ ｍ ／ ｍ
ｉｎで露光処理し、硬化させた。
次いで、このパターンの上から、３ Ｋ９７ ｃｍの空
気圧でアランダム粒子（４１２００メツシユ）を３０秒
吹き付けて食刻した。
気圧でアランダム粒子（４１２００メツシユ）を３０秒
吹き付けて食刻した。
このようにして食刻したガラス板を、クロロセン／イソ
プロビルアルコール（容量比７０／３０ ）の混合溶媒
に浸せきし、２０秒間揺動させることにより、残存した
硬化性樹脂パターンをｊ膨潤させ剥離した。このように
して、ガラス板上に繊細な図柄の彫刻模様を食刻するこ
とができた。
プロビルアルコール（容量比７０／３０ ）の混合溶媒
に浸せきし、２０秒間揺動させることにより、残存した
硬化性樹脂パターンをｊ膨潤させ剥離した。このように
して、ガラス板上に繊細な図柄の彫刻模様を食刻するこ
とができた。
との例における硬化膜の物性は、ショアＡ硬度５０、引
張強度８０ Ｋ９ ／ ｃｒ＆、伸び１００％であった
。
張強度８０ Ｋ９ ／ ｃｒ＆、伸び１００％であった
。
実施１９１２
ポリプロピレングリコール（分子量約２，０００）２０
０重量部、トリレンジイソシアネート２６重量部及びジ
ブチルスズジラウレー１−０．５重量部を混合し、７０
℃で２時間反応させ、末端にインシアネート基を有する
中間体を得た。次いでこの中間体に２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート１５重量部と、２，６−シーｔｅｒ
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０２５重量部を加え、
さらに７０℃で２時間反応させることにより不飽和ウレ
タンプレポリマーを製造した。
０重量部、トリレンジイソシアネート２６重量部及びジ
ブチルスズジラウレー１−０．５重量部を混合し、７０
℃で２時間反応させ、末端にインシアネート基を有する
中間体を得た。次いでこの中間体に２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート１５重量部と、２，６−シーｔｅｒ
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０２５重量部を加え、
さらに７０℃で２時間反応させることにより不飽和ウレ
タンプレポリマーを製造した。
このようにして得たプレポリマー１００重量部と、２−
ヒドロキシプロピルメタクリレート３５重量部と、２．
２’−ジメトキシフェニルアセトフェノン３．０重量部
と、シリコーン系消泡剤（信越化学工業製、「シリコー
ンＫｐ−３２４，Ｊ、登録商標名）０．５重量部とフタ
ロシアニングリーン０．５重量部とを混合することによ
り、粘度１５０ボイズ（２５℃）の光硬化性樹脂組成物
を調製した。
ヒドロキシプロピルメタクリレート３５重量部と、２．
２’−ジメトキシフェニルアセトフェノン３．０重量部
と、シリコーン系消泡剤（信越化学工業製、「シリコー
ンＫｐ−３２４，Ｊ、登録商標名）０．５重量部とフタ
ロシアニングリーン０．５重量部とを混合することによ
り、粘度１５０ボイズ（２５℃）の光硬化性樹脂組成物
を調製した。
この組成物を、ステンレス鋼製スクリーン印刷版（＋
２００ ）を用いてガラス板上に１００μｍの厚さにス
クリーン印刷し、実施例１と同様にして露光し硬化させ
た。
２００ ）を用いてガラス板上に１００μｍの厚さにス
クリーン印刷し、実施例１と同様にして露光し硬化させ
た。
このマスクの上から、ガラス表面に３１（９／ ｃａの
空気圧で−アランダム粒子（＃２００メツシュ）を３０
秒間吹き付けたのち、実施例１と同様にして硬化膜を剥
離、除去した。
空気圧で−アランダム粒子（＃２００メツシュ）を３０
秒間吹き付けたのち、実施例１と同様にして硬化膜を剥
離、除去した。
この例における硬化膜の物性は、ショアＡ硬度６０、引
張強度１００ Ｋ９ ／ ｃａ、伸び８０％であった。
張強度１００ Ｋ９ ／ ｃａ、伸び８０％であった。
実施例３
エチレンオキシドプロピレンオキシド共重合体ジオール
（エチレンオキシド含量３５重量襲、分子量約２０００
）１００重量部、ポリエチ１７ンアジペートジオール
（分子量約２０００）１００重量部、トリ１／ンジイソ
シアネート２６重量部及びジブチルスズジラウレー１−
０．５重量部を混合し、７０℃で２時間反応させて、末
端にインシアネート基をもつ中間体を生成させ、次いで
アリルアルコール５重量部と２．６−シーｔｅｒｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール０．０２５重量部を加えて、さら
に６０℃で２時間反応させてウレタン型ポリエンを製造
した。
（エチレンオキシド含量３５重量襲、分子量約２０００
）１００重量部、ポリエチ１７ンアジペートジオール
（分子量約２０００）１００重量部、トリ１／ンジイソ
シアネート２６重量部及びジブチルスズジラウレー１−
０．５重量部を混合し、７０℃で２時間反応させて、末
端にインシアネート基をもつ中間体を生成させ、次いで
アリルアルコール５重量部と２．６−シーｔｅｒｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール０．０２５重量部を加えて、さら
に６０℃で２時間反応させてウレタン型ポリエンを製造
した。
このようにして得たウレタン型ポリエン１００重量部と
４−（β−メルカプトプロピオン酸）ペンタエリトリト
ール１５重量部とベンゾフェノン２重量部と消泡剤「シ
リコーンＫｐ−３２４Ｊ（信越化学工業製、登録商標名
）０．３重量部とレベリング剤「デイスパロン＃＃１９
７０ｊ（捕水化成製、登録商標名）１重量部とを、５０
℃において混合溶解し、光硬化性樹脂組成物を調製した
。このものの２５℃における粘度は１００ボイズであっ
た。
４−（β−メルカプトプロピオン酸）ペンタエリトリト
ール１５重量部とベンゾフェノン２重量部と消泡剤「シ
リコーンＫｐ−３２４Ｊ（信越化学工業製、登録商標名
）０．３重量部とレベリング剤「デイスパロン＃＃１９
７０ｊ（捕水化成製、登録商標名）１重量部とを、５０
℃において混合溶解し、光硬化性樹脂組成物を調製した
。このものの２５℃における粘度は１００ボイズであっ
た。
このようにして得だ組成物を、ステンレス鋼製のスクリ
ーン印刷版（＃Ｉ２００）を用いてガラス板上に１００
μｍの厚さでパターン印刷したのち、キセノンアーク灯
（４ＫＷ）で３０秒間照射し硬化させた。
ーン印刷版（＃Ｉ２００）を用いてガラス板上に１００
μｍの厚さでパターン印刷したのち、キセノンアーク灯
（４ＫＷ）で３０秒間照射し硬化させた。
次いでこの硬化膜の上から、ガラス板表面（Ｃ−アラン
ダム粒子（＋ｔ２００メツシュ）を３ Ｋ９ ／ ｃａ
の空気圧で３０秒間吹き付けて食刻したのち、実施例１
と同様にして硬化膜を剥離した。このようにして、ガラ
ス板上に繊細な図柄模様を食刻することができた。
ダム粒子（＋ｔ２００メツシュ）を３ Ｋ９ ／ ｃａ
の空気圧で３０秒間吹き付けて食刻したのち、実施例１
と同様にして硬化膜を剥離した。このようにして、ガラ
ス板上に繊細な図柄模様を食刻することができた。
この例における硬化膜の物性は、ショアＡ硬度６０、引
張強度８０ Ｋｆ／ ／ ｃｔｌ、伸び１００％であっ
た。
張強度８０ Ｋｆ／ ／ ｃｔｌ、伸び１００％であっ
た。
実施例４
ビスＡ型エポキシ樹脂「Ａ［Ｒ−３３１Ｊ （旭ｆバ製
、登録商標名）１００重量部、脂肪族エポキシ化合物「
８０ＭＦＪ （共栄油脂製、登録商標名）１５０重渚部
、エポキシ硬化剤「ｕｖＥ−１０１４Ｊ （Ｇ、Ｅ。
、登録商標名）１００重量部、脂肪族エポキシ化合物「
８０ＭＦＪ （共栄油脂製、登録商標名）１５０重渚部
、エポキシ硬化剤「ｕｖＥ−１０１４Ｊ （Ｇ、Ｅ。
製）８重量部及びレベリング剤「＃「１９７０」（捕水
化成製）２重量部を混合し、粘度１００ボイズ（２５℃
）の光硬化性樹脂組成物を調製した。
化成製）２重量部を混合し、粘度１００ボイズ（２５℃
）の光硬化性樹脂組成物を調製した。
この組成物をガラス板上に１００μｍの厚みでパターン
印刷したのち、４．８Ｋｗの３灯式メタルハライド高圧
水銀灯（８０Ｗ／（７））を用い、コンベア速度４ ｍ
／ ｍｉ ｎで硬化させた。
印刷したのち、４．８Ｋｗの３灯式メタルハライド高圧
水銀灯（８０Ｗ／（７））を用い、コンベア速度４ ｍ
／ ｍｉ ｎで硬化させた。
次にこの硬化膜の上から、ガラス板上にアランダム粒子
（＃２００メツシュ）を３ Ｋ９／ ｃｒｌの空気圧で
２０秒間吹き付は食刻１．７だ。次いでこの処理物をク
ロロセン／イソプロピルアルコール（容量比７０／３０
）の混合溶媒に浸せきし、５分間揺動させることによ
り硬化膜を膨潤させて除去した。
（＃２００メツシュ）を３ Ｋ９／ ｃｒｌの空気圧で
２０秒間吹き付は食刻１．７だ。次いでこの処理物をク
ロロセン／イソプロピルアルコール（容量比７０／３０
）の混合溶媒に浸せきし、５分間揺動させることによ
り硬化膜を膨潤させて除去した。
このようにして、 ガラス板上に繊細な図柄の彫刻模様
を施すことができた。
を施すことができた。
この例における硬化膜の物性は、７ヨアＡ硬度９０、引
張強度３００に９７ｃ４、伸び３０％であった。
張強度３００に９７ｃ４、伸び３０％であった。
実施例５
実施例１と同じプレポリマー１００重量部と２−ヒドロ
キシエチルメタクリレ−１・５０重量部と７タル酸モノ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）エステル５０
重量部と２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン４
０重量部とレベリング剤「ディスパロン＃＃１９７０１
（捕水化成製）２重量部とフタロシアニングリーン０．
３重量部とを混合して、粘度７００ポイズ（２５℃）の
光硬化性樹脂組成物を調製した。
キシエチルメタクリレ−１・５０重量部と７タル酸モノ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）エステル５０
重量部と２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン４
０重量部とレベリング剤「ディスパロン＃＃１９７０１
（捕水化成製）２重量部とフタロシアニングリーン０．
３重量部とを混合して、粘度７００ポイズ（２５℃）の
光硬化性樹脂組成物を調製した。
この組成物をガラス容器面に１００μｍの厚みにパター
ン印刷し、３灯式メタルノ・ライド含有高圧水銀灯（１
２０Ｗ／ｃｍ）を用い、コンベア速度４ｍ／ ｍｉｎで
全面露光し、硬化させた。
ン印刷し、３灯式メタルノ・ライド含有高圧水銀灯（１
２０Ｗ／ｃｍ）を用い、コンベア速度４ｍ／ ｍｉｎで
全面露光し、硬化させた。
次にこの硬化膜の上からガラス表面にアランダム粒子（
＃＃２００メツシュ）を３ Ｋ９ ／ ｃｒｌの空気圧
で３０秒間吹き付けることにより食刻を施した。次いで
、フッ酸／濃硫酸（容量比５０１５０）の混合液中に、
室温で１分間浸せきしたのち水洗し、さらに５重量％カ
セイソーダ水溶液中に浸せきして、刷毛でこすることに
より硬化膜を剥離させた。このようにして、透明な凹凸
状の図柄をもつガラス容器が得られた。
＃＃２００メツシュ）を３ Ｋ９ ／ ｃｒｌの空気圧
で３０秒間吹き付けることにより食刻を施した。次いで
、フッ酸／濃硫酸（容量比５０１５０）の混合液中に、
室温で１分間浸せきしたのち水洗し、さらに５重量％カ
セイソーダ水溶液中に浸せきして、刷毛でこすることに
より硬化膜を剥離させた。このようにして、透明な凹凸
状の図柄をもつガラス容器が得られた。
この例における硬化膜は、ショアＡ硬度９０゜引張強度
３００ Ｋ９ ／ ｃｒｌ、伸び５０％であり、フッ酸
／濃硫酸混合液に対して良好な耐性を示した。
３００ Ｋ９ ／ ｃｒｌ、伸び５０％であり、フッ酸
／濃硫酸混合液に対して良好な耐性を示した。
実施例６
〜９１ 一
実施例】と同じプレポリマー１００重量部と２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート４８重量部とモノ−（メタク
リロキシエチル）ホスフェート２重量部とフタル酸モノ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）エステル５０
重量部と２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン４
重量部とレベリング剤「デイスパロン４＃１９７０Ｊ（
捕水化成製）２重量部とフタロシアニングリーン０．３
重量部を混合し、粘度７００ポイズ（２５℃）の光硬化
性樹脂組成物を調製した。
キシエチルメタクリレート４８重量部とモノ−（メタク
リロキシエチル）ホスフェート２重量部とフタル酸モノ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）エステル５０
重量部と２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン４
重量部とレベリング剤「デイスパロン４＃１９７０Ｊ（
捕水化成製）２重量部とフタロシアニングリーン０．３
重量部を混合し、粘度７００ポイズ（２５℃）の光硬化
性樹脂組成物を調製した。
このようにして得た組成物を１８μｍ厚の銅張積層板上
に、１００μｍの厚みでパターン印刷したのち、３灯式
メタルハライド含有高圧水銀灯（１２０Ｗ ／ ｃｍ
）を用い、コンベア速度４ｍ／ｍｉｎで全面露光し硬化
させた。
に、１００μｍの厚みでパターン印刷したのち、３灯式
メタルハライド含有高圧水銀灯（１２０Ｗ ／ ｃｍ
）を用い、コンベア速度４ｍ／ｍｉｎで全面露光し硬化
させた。
次いでこの硬化膜の上からアランダム粒子（＃２００メ
ツシュ）を空気圧３ Ｋ９／ ａｔｌで６０秒間吹き付
けたのち、塩酸−塩化第二銅溶液（濃度３５％）に１分
間浸せきし、残存した銅を完全に除去した。
ツシュ）を空気圧３ Ｋ９／ ａｔｌで６０秒間吹き付
けたのち、塩酸−塩化第二銅溶液（濃度３５％）に１分
間浸せきし、残存した銅を完全に除去した。
水洗後、５重量％カセイソーダ水溶液を用いてブ〜２２
− ラッシングして硬化膜を除くことにより、銅張積層板上
に回路パターンを形成することができた。
− ラッシングして硬化膜を除くことにより、銅張積層板上
に回路パターンを形成することができた。
この例における硬化膜の物性はショアＡ硬度９０、引張
強度３００に９／ｃｒｌ、伸び５０％であった。
強度３００に９／ｃｒｌ、伸び５０％であった。
特許出願人 旭化成工業株式会社
代理人 阿 形 明
２３−
５１７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基材表面に未硬化状態の硬化性樹脂組成物によシ所
定のパターンを形成させ、次いでこれを硬化処理したの
ち、パターンの上から固体粒子を吹き付はパターンで被
覆されていない部分を食刻することを特徴とする吹き付
は食刻方法。 ２ 硬化性樹脂組成物が光硬化性樹脂組成物である特許
請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11649783A JPS608100A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 吹き付け食刻方法 |
| DE8484107449T DE3481496D1 (de) | 1983-06-28 | 1984-06-27 | Verfahren zur herstellung eines mit gravurmuster versehenen gegenstandes durch sandstrahlen. |
| EP19840107449 EP0130559B1 (en) | 1983-06-28 | 1984-06-27 | A method of producing a pattern-engraved article by sandblasting |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11649783A JPS608100A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 吹き付け食刻方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS608100A true JPS608100A (ja) | 1985-01-16 |
Family
ID=14688596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11649783A Pending JPS608100A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 吹き付け食刻方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0130559B1 (ja) |
| JP (1) | JPS608100A (ja) |
| DE (1) | DE3481496D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62168569A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-24 | Hayakawa Rubber Co Ltd | 紫外線硬化された一時表面保護被覆膜 |
| JPH03217276A (ja) * | 1988-11-08 | 1991-09-25 | Dainippon Toryo Co Ltd | 木質基材の模様形成方法 |
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| AU629032B2 (en) * | 1990-05-29 | 1992-09-24 | Kuninobu Kurumisawa | Letterpress for transferring and method of transferring by use of the letterpress for transferring |
| GB9116021D0 (en) * | 1991-07-25 | 1991-09-11 | Woodberry Bros & Haines Ltd | Etching and engraving processes |
| JP2901129B2 (ja) * | 1994-03-14 | 1999-06-07 | アイセロ化学株式会社 | サンドブラストレジストインキ |
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| BE1019501A5 (nl) | 2010-05-10 | 2012-08-07 | Flooring Ind Ltd Sarl | Vloerpaneel en werkwijze voor het vervaardigen van vloerpanelen. |
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| CN107650569A (zh) * | 2017-11-09 | 2018-02-02 | 广州新尚艺术股份有限公司 | 一种雕塑产品用全自动生产线对表面裹浆的处理方法 |
| BE1025875B1 (nl) | 2018-01-04 | 2019-08-06 | Unilin Bvba | Werkwijzen voor het vervaardigen van panelen |
Family Cites Families (7)
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|---|---|---|---|---|
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Also Published As
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|---|---|
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