KR20030004302A - 치환된 인돌 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 증가된 NFkB 활성이 관여하는 질환 상태의 예방 및 치료용 약제의 제조에 적합한 화학식 I의 화합물에 관한 것이다. 당해 화합물은 특정한 IkB-키나제 억제제이다.
화학식 I

Description

ＮＦｋＢ 활성을 조절하기 위한 치환된 인돌{Substituted indoles for modulating NFkB activity}
본 발명은 신규한 치환된 인돌, 이의 제조방법 및 약제로서의 이의 용도에 관한 것이다.
국제 공개특허공보 제WO 94/12478호에는 특히 혈소판 응집을 억제하는 인돌 유도체가 기재되어 있다.
NFkB는 특히 전염증성(proinflammatory) 사이토카인, 예를 들면, IL-1, IL-2, TNFα 또는 IL-6을 암호화하는 다수의 유전자를 활성화시킬 수 있는 헤테로이량체 전사인자이다. NFkB는 세포의 사이토졸(cytosol)에 존재하며 이의 자연적으로 발생하는 억제제 IkB와 복잡하게 연관되어 있다. 예를 들면, 사이토카인에 의한 세포의 자극은 IkB의 인산화 및 연속적인 단백질분해를 발생시킨다. 이러한 단백질분해는 NFkB의 활성화를 초래하여 세포의 핵 안으로 연속적으로 이동시켜 이곳에서 다수의 전염증성 유전자를 활성화시킨다.
질환, 예를 들면, 류마티스성 관절염(염증의 경우), 골관절염, 천식, 심근경색, 알쯔하이머(Alzheimer)병 또는 죽상 경화증에서, NFkB는 정상 범위 외에서 활성화된다. NFkB의 억제는 또한 종양 치료에 유익한데 그 이유는 세포증식억제성 치료의 강화에 이것이 사용될 수 있기 때문이다. 류마티스성 치료에 사용되는 약제, 예를 들면, 글루코코르티코이드, 살리실레이트 또는 금염은 NFkB-활성 시그널 쇄에서 다양한 지점에서 억제 방식으로 관여하거나 유전자의 전사를 직접적으로 방해함을 알 수 있었다.
언급한 시그널 캐스캐이드의 제1 단계는 IkB의 분해이다. 이러한 인산화는 특정한 IkB 키나제에 의해 조절된다. 지금까지, IkB 키나제를 특이적으로 억제하는 억제제는 공지된 바가 없다.
류마티스성 관절염(염증의 경우), 골관절염, 천식, 심근경색, 알쯔하이머병, 암종성 질환(세포독성 치료의 상승효과) 또는 죽상 경화증의 치료를 위한 활성 화합물을 수득하기 위한 시도에 있어서, 본 발명에 이르러 본 발명에 따르는 인돌 유도체가 효능이 있고 IkB 키나제의 매우 특이한 억제제인 것으로 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 화학식 I의 화합물 및/또는 이의 입체이성체 형태 및/또는 생리학적으로 허용되는 이의 염에 관한 것이다.
위의 화학식 I에서,
치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환되지 않거나치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 환 원수가 5원 내지 12원 헤테로사이클, -(C1-C6)-알킬, -CN, -O-R10, -N(R10)2, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다) 또는 -CF3이고,
R5는 수소, -OH 또는 =O이며,
R6은 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 일치환 내지 삼치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 치환되지 않거나 일치환 내지 삼치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클이고,
R9는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클 또는 -(C1-C6)-알킬이고, 당해 알킬은 직쇄 또는 측쇄이고 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클, -O-R10, =O, 할로겐, -CN, -CF3, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), -C(O)-O-R10, -C(O)-N(R10)2, -N(R10)2, -(C3-C6)-사이클로알킬, 화학식의 라디칼 또는 화학식의 라디칼{여기서, R10은 (a) 수소, (b) -(C1-C6)-알킬[여기서, 알킬은 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 아릴, 5원 내지 14원 헤테로아릴, 5원 내지 12원 헤테로사이클, 할로겐, -N-(C1-C6)n-알킬(여기서, n은 정수 0, 1 또는 2이고, 알킬은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -C(O)-OH에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된다) 또는 -C(O)-OH이다], (c) 아릴, (d) 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 (e) 5원 내지 12원 헤테로사이클이고, (R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (e)의 의미를 갖는다}이다.
위의 화학식 II에서,
D는 -C(O)-, -S(0)- 또는 -S(O)2-이고,
R7은 수소 또는 -(C1-C4)-알킬이며,
R8은 화학식 I에서 정의한 바와 같은 R9또는 아미노산의 특정 라디칼이고,
Z는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클 또는 -C(O)-R11[여기서, R11은 -O-R10또는 -N(R10)2이다]이거나,
R7과 R8은, 이들이 각각 결합되어 있는 질소원자 및 탄소원자와 함께, 하기 화학식 IIa의 헤테로사이클릭 환을 형성하거나,
R8과 Z는, 이들이 각각 결합되어 있는 탄소원자들과 함께, 하기 화학식 IIc의 헤테로사이클릭 환을 형성한다.
위의 화학식 IIa에서,
D, Z 및 R11은 화학식 II에서 정의한 바와 같고,
A는 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
B는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이고,
X는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
Y는 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이거나,
X가 Y는 함께 페닐, 1,2-디아진, 1,3-디아진 또는 1,4-디아진 라디칼을 형성하며,
N, A, X, Y, B 및 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 산소원자를 1개 이하로 포함하고, A가 질소원자인 경우, X는 산소원자, 황원자 또는 질소원자가 아니며,
황원자를 1개 이하로 포함하고,
질소원자를 1, 2, 3 또는 4개 포함하며,
산소원자와 황원자는 동시에 포함되지 않으며,
N, A, X, Y, B 및 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 -(C1-C8)-알킬[당해 알킬은 치환되지 않거나 (1.1) -OH, (1.2) -(C1-C8)-알콕시, (1.3) 할로겐, (1.4) -NO2, (1.5) -NH2, (1.6) -CF3, (1.7) 메틸렌디옥시, (1.8) -O(O)-CH3, (1.9) -CH(O), (1.10) -CN, (1.11) -C(O)-OH, (1.12) -C(O)-NH2, (1.13) (C1-C4)-알콕시카보닐, (1.14) 페닐, (1.15) 페녹시, (1.16) 벤질, (1.17) 벤질옥시, (1.18) 테트라졸릴 또는 (1.19) -OH에 의해 일치환 또는 이치환된다]에 의해 일치환 내지 삼치환된다.
위의 화학식 IIc에서,
D, R7및 R10은 화학식 II에서 정의한 바와 같고,
T는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
W는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이고,
V는 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이거나,
T와 V 또는 V와 W는 함께 페닐, 1,2-디아진, 1,3-디아진 또는 1,4-디아진 라디칼이고,
N, T, V, W 및 두 개의 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 산소원자를 1개 이하, 황원자를 1개 이하 및 질소원자를 1, 2, 3 또는 4개 포함하고, 산소원자와 황원자를 동시에 포함하지 않으며,
N, T, V, W 및 두 개의 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 화학식 IIa에서 정의한 -(C1-C8)-알킬의 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.19)에 의해 일치환 내지 삼치환된다.
화학식 I의 바람직한 화합물은 화학식 I에서 치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼{화학식 II에서, D는 -C(O)-이고, R7은 수소 또는 -(C1-C4)-알킬이며, R8은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 치환체에 의해 일치환 또는 이치환되는 -(C1-C4)-알킬이고, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원내지 12원 헤테로사이클, -O-R10, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), -N(R10)2, 화학식의 라디칼 또는 화학식의 라디칼[여기서, R10은 (a) 수소, (b) -(C1-C6)-알킬<여기서, 알킬은 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환 내지 삼치환되며, 이때 치환체는 아릴, 5원 내지 14원 헤테로아릴, 5원 내지 12원 헤테로사이클, 할로겐, -N-(C1-C6)n-알킬(여기서, n은 정수 0, 1 또는 2이고, 알킬은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -C(O)-OH에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된다) 또는 -C(O)-OH이다>, (c) 아릴, (d) 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 (e) 5원 내지 12원 헤테로사이클이고, (R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (e)의 의미를 갖는다]이거나, R8은 아미노산의 특정 라디칼이고, Z는 치환되지 않거나 -NH2, -OH -(C1-C4)-알킬 또는 -C(O)-R11[여기서, R11은 -O-R10또는 -N(R10)2이다]이거나, R7과 R8은, 이들이 각각 결합되어 있는 질소원자 및 탄소원자와 함께, F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸 및 테트라하이드로이소퀴놀린에 의해 치환된 피롤, 피롤린, 인돌, 피롤리딘, 피리딘, 피페리딘, 피페릴렌, 피리다진,피리미딘, 피라진, 피페라진, 피라졸, 이미다졸, 피라졸린, 이미다졸린, 피라졸리딘, 이미다졸리딘, 옥사졸, 푸린, 이소옥사졸, 2-이소옥사졸리딘, 이소옥사졸리딘, 모르폴린, 이소티아졸, 티아졸, 티아디아졸, 벤즈이미다졸, 티오모르폴린, 이소티아졸리딘, 인다졸, 퀴놀린, 트리아졸, 프탈라진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 프테리딘, 테트라하이드로퀴놀린, 이소퀴놀린, 1,2,3,5-옥사티아디아졸 2-옥사이드, 테트라졸, 옥사디아졸론, 이소옥사졸론, 트리아졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로 이루어진 그룹으로부터 선택된 화학식 IIa의 환을 형성하거나, R8과 Z는, 이들이 각각 결합되어 있는 탄소원자들과 함께, F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸 및 이소퀴놀린에 의해 치환된 피롤, 피롤린, 피롤리딘, 피리딘, 피페리딘, 피페릴렌, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피페라진, 피라졸, 이미다졸, 피라졸린, 1,3,4-옥사디아졸, 이미다졸린, 피라졸리딘, 이미다졸리딘, 옥사졸, 이소옥사졸, 2-이소옥사졸리딘, 이소옥사졸리딘, 모르폴린, 이소티아졸, 티아졸, 이소티아졸리딘, 테트라졸, 티오모르폴린, 인다졸, 티아디아졸, 벤즈이미다졸, 퀴놀린, 트리아졸, 프탈라진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 푸린, 프테리딘, 인돌, 테트라하이드로퀴놀린, 트리아졸론, 테트라하이드로이소퀴놀린, 1,2,3,5-옥사티아디아졸 2-옥사이드, 옥사디아졸론, 이소옥사졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로 이루어진 그룹으로부터 선택된 화학식 IIc의 환을 형성한다}이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴,치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클, -(C1-C6)-알킬, -CN, -CF3,-O-R10, -N(R10)2또는 -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다)이고, R5는 수소이며, R6은 서로 독립적으로 (1.1) -CN, (1.2) -CF3, (1.3) 할로겐, (1.4) -O-R10, (1.5) -N(R10)2, (1.6) -NH-C(O)-R11, (1.7) -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), (1.8) -C(O)-R11또는 (1.9) -(C1-C4)-알킬-NH2에 의해 일치환 또는 이치환된 페닐, 치환되지 않거나 서로 독립적으로 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.9)에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 치환되지 않거나 서로 독립적으로 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.9)에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클이고, R9는 R8이거나 -(C1-C4)-알킬(당해 알킬은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 할로겐, -CN 또는 -CF3이다)이거나 치환되지 않거나 치환된 아릴인 화합물이다.
화학식 I의 특히 바람직한 화합물은 화학식 I에서 치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼{화학식 II에서, D는 -C(O)-이고, R7은 수소이며, R8은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 치환체에 의해 일치환 또는 이치환된-(C1-C4)-알킬이고, 이때 치환체는 -S(O)-R10, -N(R10)2[여기서, R10은 (a) 수소, (b) 치환되지 않거나 할로겐에 의해 서로 독립적으로 일치환 내지 삼치환된 -(C1-C6)-알킬 또는 (c) 페닐이고, (R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (c)의 의미를 갖는다] 또는 피롤이거나, R8은 아미노산의 특정 라디칼이고, Z는 -C(O)-OH 또는 -C(O)NH2이다}이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소이고, R5는 수소이며, R6은 페닐 또는 피리딘이고, R9는 수소이거나 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 -C(O)-OH 또는 -C(O)NH2에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 -(C1-C4)-알킬이거나 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -(C1-C4)-알킬에 의해 일치환 내지 삼치환된 페닐인 화합물이다.
용어 "할로겐"은 불소, 염소, 브롬 또는 요요드를 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 용어 "(C1-C8)-알킬, "(C1-C6)-알킬" 또는 "(C1-C4)-알킬"은 탄소 쇄가 직쇄 또는 측쇄이고 탄소원자를 각각 1 내지 8개, 1 내지 6개 및 1 내지 4개 포함하는 탄화수소 라디칼을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 사이클릭 알킬 라디칼은 예를 들면, 3원 내지 6원 모노사이클, 예를 들면, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실이다.
용어 "R7과 R8은 이들이 결합되어 있는 질소원자 및 탄소원자와 함께 화학식IIa의 헤테로사이클릭 환을 형성한다"는 F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸, 이미다졸리딘, 카볼린 및 이들 헤테로사이클의 벤조-융합된 유도체에 의해 치환된 피롤, 피롤린, 피롤리딘, 이미다졸, 피라졸, 옥사졸, 이소옥사졸, 테트라졸, 이소옥사졸린, 이소옥사졸리딘, 모르폴린, 티아졸, 이소티아졸, 이소티아졸린, 푸린, 이소티아졸리딘, 티오모르폴린, 피리딘, 피페리딘, 피라진, 피페라진, 피리미딘, 피리다진, 인돌, 이소인돌, 인다졸, 벤즈이미다졸, 프탈라진, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴녹살린, 퀴나졸린, 신놀린, 프테리딘, 트리아졸론, 테트라졸, 1,2,3,5-옥사-티아디아졸 2-옥사이드, 옥사디아졸론, 이소옥사졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로부터 유도된 라디칼을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
용어 "아릴"은 환 중에 탄소원자가 6 내지 14개인 방향족 탄화수소 라디칼을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. (C6-C14)-아릴 라디칼은 예를 들면, 페닐, 나프틸, 예를 들면, 1-나프틸 및 2-나프틸, 비페닐릴, 예를 들면, 2-비페닐릴, 3-비페닐릴 및 4-비페닐릴, 안트릴 또는 플루오레닐이다. 비페닐릴 라디칼, 나프틸 라디칼 및 특히 페닐 라디칼은 아릴 라디칼인 것이 바람직하다. 아릴 라디칼, 특히 페닐 라디칼은 동일한 라디칼 또는 상이한 라디칼에 의해, 바람직하게는 (C1-C8)-알킬, 특히 (C1-C4)-알킬, (C1-C8)-알콕시, 특히 (C1-C4)-알콕시, 할로겐, 니트로, 아미노, 트리플루오로메틸, 하이드록시, 하이드록시-(C1-C4)-알킬, 예를 들면, 하이드록시메틸 또는 1-하이드록시에틸 또는 2-하이드록시에틸, 메틸렌디옥시, 에틸렌디옥시, 포밀, 아세틸, 시아노, 하이드록시카보닐, 아미노카보닐, (C1-C4)-알콕시카보닐, 페닐, 페녹시, 벤질, 벤질옥시 및 테트라졸릴로 이루어진 그룹으로부터 선택된 라디칼에 의해 일치환 또는 다치환, 바람직하게는 일치환, 이치환 또는 삼치환될 수 있다. 예를 들면, 아릴알킬 또는 아릴카보닐과 같은 라디칼에도 동일하게 적용된다. 아릴알킬 라디칼에는 특히 벤질 및 또한 1- 및 2-나프틸메틸, 2-, 3- 및 4-비페닐릴메틸 및 9-플루오레닐메틸도 있다. 치환된 아릴알킬 라디칼에는 예를 들면, 하나 이상의 (C1-C8)-알킬 라디칼, 특히 (C1-C4)-알킬 라디칼에 의해 아릴 잔기에서 치환된 벤질 라디칼 및 나프틸메틸 라디칼, 예를 들면, 2-, 3- 및 4-메틸벤질, 4-이소부틸벤질, 4-3급-부틸벤질, 4-옥틸벤질, 3,5-디메틸벤질, 펜타메틸벤질, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 및 8-메틸-1-나프틸메틸, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 및 8-메틸-2-나프틸메틸 및 하나 이상의 (C1-C8)-알콕시 라디칼, 특히 (C1-C4)-알콕시 라디칼에 의해 아릴 잔기에서 치환된 벤질 라디칼 및 나프틸메틸 라디칼, 예를 들면, 4-메톡시벤질, 4-네오펜틸옥시벤질, 3,5-디메톡시벤질, 3,4-메틸렌디옥시벤질, 2,3,4-트리메톡시벤질, 니트로벤질 라디칼, 예를 들면, 2-, 3- 및 4-니트로벤질, 할로벤질 라디칼, 예를 들면, 2-, 3- 및 4-클로로- 및 2-, 3- 및 4-플루오로벤질, 3,4-디클로로벤질, 펜타플루오로벤질, 트리플루오로메틸벤질 라디칼, 예를 들면, 3- 및 4-트리플루오로메틸벤질 또는 3,5-비스(트리플루오로메틸)벤질이 있다.
일치환된 페닐 라디칼에 있어서, 치환체는 2-위치, 3-위치 또는 4-위치에 위치될 수 있다. 이치환된 페닐은 2,3-위치, 2,4-위치, 2,5-위치, 2,6-위치, 3,4-위치 또는 3,5-위치에서 치환될 수 있다. 삼치환된 페닐 라디칼에 있어서, 치환체는 2,3,4-위치, 2,3,5-위치, 2,4,5-위치, 2,4,6-위치, 2,3,6-위치 또는 3,4,5-위치에 위치될 수 있다.
아릴 라디칼에 대한 설명은 2가 아릴렌 라디칼, 예를 들면, 1,4-페닐렌 또는 1,3-페닐렌으로 존재할 수 있는 페닐렌 라디칼에도 적용된다.
페닐렌-(C1-C6)-알킬은 특히 페닐렌메틸 (-C6H4-CH2-) 및 페닐렌에틸이고, (C1-C6)-알킬렌페닐은 특히 메틸렌페닐 (-CH2-C6H4-)이다. 페닐렌-(C2-C6)-알케닐은 특히 페닐렌에테닐 및 페닐렌프로페닐이다.
표현 "5원 내지 14원 헤테로아릴"은 환 구성원으로서 헤테로원자를 1, 2, 3, 4 또는 5개 포함하는 환 구성원 수가 5 내지 14인 모노사이클릭 또는 폴리사이클릭 방향족 시스템의 라디칼을 나타낸다. 헤테로원자의 예에는 N, O 및 S가 있다. 헤테로원자의 수가 포함될 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있다. 또한, 헤테로아릴 라디칼은 (C1-C8)-알킬, 특히 (C1-C4)-알킬, (C1-C8)-알콕시, 특히 (C1-C4)-알콕시, 할로겐, 니트로, -N(R10)2, 트리플루오로메틸, 하이드록시, 하이드록시-(C1-C4)-알킬, 예를 들면, 하이드록시메틸 또는 1-하이드록시에틸 또는 2-하이드록시에틸, 메틸렌디옥시, 포밀, 아세틸, 시아노, 하이드록시카보닐, 아미노카보닐, (C1-C4)-알콕시카보닐, 페닐, 페녹시, 벤질, 벤질옥시 및 테트라졸릴로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 일치환 또는 다치환, 바람직하게는 일치환, 이치환 또는 삼치환될 수 있다. 환 구성원 수가 5 내지 14인 헤테로아릴은 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 헤테로원자 1, 2, 3 또는 4개, 특히 1, 2 또는 3개를 포함하는 모노사이클릭 또는 비사이클릭 방향족 라디칼 및 (C1-C6)-알킬, (C1-C6)-알콕시, 불소, 염소, 니트로, -N(R10)2, 트리플루오로메틸, 하이드록시, 하이드록시-(C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시카보닐, 페닐, 페녹시, 벤질옥시 및 벤질로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 치환체 1, 2, 3, 또는 4개, 특히 1 내지 3개에 의해 치환될 수 있는 모노사이클릭 또는 비사이클릭 방향족 라디칼을 나타내는 것이 바람직하다. 헤테로아릴은 특히 환 구성원 수가 5 내지 10인 모노사이클릭 또는 비사이클릭 방향족 라디칼, 특히 N, O 및 S로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 헤테로원자 1, 2 또는 3개, 특히 1 또는 2개를 포함하고 (C1-C4)-알킬, 할로겐, 하이드록시, -N(R10)2, (C1-C4)-알콕시, 페닐, 페녹시, 벤질옥시 및 벤질로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 치환체 1 또는 2개에 의해 치환될 수 있는 5원 또는 6원 모노사이클릭 방향족 라디칼을 나타내는 것이 바람직하다.
표현 "환 구성원 수가 5 내지 12인 헤테로사이클"은 부분적으로 포화되거나 완전히 포화된 모노사이클릭 또는 비사이클릭 5원 내지 12원 헤테로사이클릭 환을 나타낸다. 헤테로원자의 예에는 N, O 및 S가 있다. 헤테로사이클은 치환되지 않거나 동일하거나 상이한 치환체에 의해 하나 이상의 탄소원자 상에서 또는 하나 이상의 헤테로원자 상에서 치환된다. 이들 치환체는 라디칼 헤테로아릴에 대해 상기 정의한 바와 같다. 특히, 헤테로사이클릭 환은 (C1-C8)-알킬, 예를 들면, (C1-C4)-알킬, (C1-C8)-알콕시, 예를 들면, (C1-C4)-알콕시, 예를 들면, 메톡시, 페닐-(C1-C4)-알콕시, 예를 들면, 벤질옥시, 하이드록시, 옥소, 할로겐, 니트로, 아미노 또는 트리플루오로메틸로 이루어진 그룹으로부터의 동일하거나 상이한 라디칼에 의해 탄소원자 상에서 일치환 또는 다치환, 예를 들면, 일치환, 이치환, 삼치환 또는 사치환되고/되거나, (C1-C8)-알킬, 예를 들면, (C1-C4)-알킬, 예를 들면, 메틸 또는 에틸에 의해, 임의로 치환된 페닐 또는 페닐-(C1-C4)-알킬, 예를 들면, 벤질에 의해 헤테로사이클릭 환 중에 환 질소 원자(들) 상에서 치환된다. 질소 헤테로사이클은 또한 N-옥사이드 또는 4급 염으로서 존재할 수 있다.
5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 5원 내지 12원 헤테로사이클의 예에는 F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 인돌, 이소인돌, 인다졸, 프탈라진, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴녹살린, 퀴나졸린, 신놀린, 카볼린 및 이들 헤테로사이클의 벤조-융합된, 사이클로펜타-, 사이클로헥사- 또는 사이클로헵타-융합된 유도체에 의해 치환된 피롤, 푸란, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 이소티아졸, 테트라졸, 1,2,3,5-옥사티아디아졸 2-옥사이드, 트리아졸론, 옥사디아졸론,이소옥사졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로부터 유도된 라디칼이 있다. 특히 바람직한 라디칼에는 2- 또는 3-피롤릴, 페닐피롤릴, 예를 들면, 4- 또는 5-페닐-2-피롤릴, 2-푸릴, 2-티에닐, 4-이미다졸릴, 메틸이미다졸릴, 예를 들면, 1-메틸-2-, -4- 또는 -5-이미다졸릴, 1,3-티아졸-2-일, 2-피리딜, 3-피리딜, 4-피리딜, 2-, 3- 또는 4-피리딜-N-옥사이드, 2-피라지닐, 2-, 4- 또는 5-피리미디닐, 2-, 3- 또는 5-인돌릴, 치환된 2-인돌릴, 예를 들면, 1-메틸-, 5-메틸-, 5-메톡시, 5-벤질옥시, 5-클로로- 또는 4,5-디메틸-2-인돌릴, 1-벤질-2- 또는 -3-인돌릴, 4,5,6,7-테트라하이드로-2-인돌릴, 사이클로헵타[b]-피롤릴, 2-, 3- 또는 4-퀴놀릴, 1-, 3- 또는 4-이소퀴놀릴, 1-옥소-1,2-디하이드로-3-이소퀴놀릴, 2-퀴녹살리닐, 2-벤조푸라닐, 2-벤조티에닐, 2-벤조옥사졸릴 또는 벤조티아졸릴 또는 디하이드로피리디닐, 피롤리디닐, 예를 들면, 2- 또는 3-(N-메틸피롤리디닐), 피페라지닐, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐, 테트라하이드로티에닐 또는 벤조디옥솔라닐이 있다.
α-아미노산의 화학식은 다음과 같다.
α-아미노산들은 본원 명세서에서 아미노산의 "특정 라디칼"로서 언급되는 R에 의해 서로 상이하게 된다.
R8이 아미노산의 특정 라디칼인 경우에, 사용되는 특정 라디칼은 글리신, 알라닌, 발린, 류신, 이소류신, 페닐알라닌, 티로신, 트립토판, 세린, 트레오닌, 시스테인, 메티오닌, 아스파라긴, 글루타민, 리신, 히스티딘, 아르기닌, 글루탐산 및아스파르트산과 같은 자연적으로 발생하는 α-아미노산의 화합물인 것이 바람직하다. 특히 바람직한 화합물은 히스티딘, 트립토판, 세린, 트레오닌, 시스테인, 메티오닌, 아스파라긴, 글루타민, 리신, 아르기닌, 글루탐산 및 아스파르트산이다. 또한, 라디칼 R8로서 사용되는 아미노산의 바람직한 특정 라디칼에는 인공적으로 발생하는 아미노산, 예를 들면, 2-아미노아디프산, 2-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 2,3-디아미노프로피온산, 2,4-디아미노부티르산, 1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린-1-카복실산, 1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린-3-카복실산, 2-아미노피멜산, 페닐글리신, 3-(2-티에닐)알라닌, 3-(3-티에닐)알라닌, 2-(2-티에닐)-글리신, 2-아미노헵탄산, 피페콜산, 하이드록실리신, 사코신, N-메틸이소류신, 6-N-메틸리신, N-메틸발린, 노르발린, 노르류신, 오르니틴, 알로-이소류신, 알로-트레오닌, 알로-하이드록실리신, 4-하이드록시프롤린, 3-하이드록시프롤린, 3-(2-나프틸)알라닌, 3-(1-나프틸-알라닌), 호모페닐알라닌, 호모시스테인, 호모시스테산, 호모트립토판, 시스테산, 3-(2-피리딜)알라닌, 3-(3-피리딜)알라닌, 3-(4-피리딜)알라닌, 2-아미노-3-페닐아미노프로피온산, 2-아미노-3-페닐아미노에틸프로피온산, 포스피노트리신, 4-플루오로페닐알라닌, 3-플루오로페닐알라닌, 4-플루오로페닐알라닌, 3-플루오로페닐알라닌, 3-플루오로페닐알라닌, 2-플루오로페닐알라닌, 4-클로로페닐알라닌, 4-니트로페닐알라닌, 4-아미노페닐알라닌, 사이클로헥실알라닌, 시트룰린, 5-플루오로트립토판, 5-메톡시트립토판, 메티오닌 설폰, 메티오닌 설폭사이드 또는 -NH-NR10-CON(R10)2도 있으며, 또한 임의로 치환될 수 있다. 관능기,예를 들면, 아미노, 하이드록실, 카복실, 머캅토, 구아니딜, 이미다졸릴 또는 인돌릴을 갖는 자연적으로 발생하지만 인공적으로도 발생하는 아미노산의 경우에, 이러한 그룹은 또한 보호될 수 있다.
이들을 위한 적합한 관능기는 펩티드 화학에서 통상적으로 사용되는 N-보호 그룹, 예를 들면, 우레탄형, 예를 들면, 벤질옥시카보닐(Z), t-부톡시카보닐(Boc), 9-플루오레닐메톡시카보닐(Fmoc) 및 알릴옥시카보닐(Aloc)의 보호 그룹 또는 산 아미드형, 특히 포밀, 아세틸 또는 트리플루오로아세틸의 보호 그룹 및 알킬형, 예를 들면, 벤질의 보호 그룹인 것이 바람직하다. R8에서 이미다졸 라디칼의 경우에 예를 들면, 설폰아미드 형성을 위해 사용되는 화학식 IV의 설폰산 유도체는 이미다졸 질소의 보호 그룹으로서 사용되며, 특히 염기, 예를 들면, 수성 수산화나트륨 용액의 존재하에 다시 제거될 수 있다.
화학 반응을 위한 출발물질은 공지되어 있거나 문헌으로부터 공지된 방법에 의해 용이하게 제조될 수 있다.
또한, 본 발명은 (a) 화학식 IV의 화합물을 용액 속에서 염기 또는, 경우에 따라, 탈수제의 존재하에 아실 클로라이드 또는 화학식 III의 화합물의 활성화된 에스테르와 반응시키고, 보호 그룹을 제거한 후에 화학식 I의 화합물로 전환시키거나, (b) 화학식 IVa의 화합물을 반응시켜 이의 카보닐 그룹에 중간 쇄 L을 통해 화학식 PS의 중합체 수지를 커플링시키고, 생성된 화학식 V의 화합물을 보호 그룹 E의 선택적인 제거 후에 염기 또는, 경우에 따라, 탈수제의 존재하에 화학식 III의화합물과 반응시켜 화학식 VI의 화합물을 수득하고, 화학식 VI의 화합물을 지지체로부터 절단한 후에 화학식 I의 화합물로 전환시키거나, (c) 화학식 I의 화합물을 생리학적으로 허용되는 염으로 전환시킴을 포함하는, 화학식 I의 화합물 및/또는 입체이성체성 형태 및/또는 생리학적으로 허용되는 염의 제조방법에 관한 것이다.
위의 화학식 III 내지 IV에서,
Pg는 적합한 보호 그룹(예를 들면, 메틸 에스테르), 아미드 그룹 또는 하이드록시 그룹이고,
Z, R5, R6, R7, R8및 R9는 화학식 I에서 정의한 바와 같고,
D1은 -COOH 또는 설포닐 할로겐이고,
E는 N-아미노 보호 그룹이다.
공정 변형(a)에서, 화학식 IVa의 화합물의 산 작용은 보호 그룹 Pg를 제공하며, 이러한 선택적인 카복실산 유도화는 문헌[참조; Houben-Weyl "Methoden der Org. Chemie" [Methods of Organic Chemistry], Volume 15/1]에 기재된 바와 같은 방법에 따라 수행된다. 공정 변형(b)에서, 화학식 IVa의 출발 화합물의 아미노 작용은 보호 그룹 E를 제공하며, 이러한 선택적인 아미노 그룹 유도화는 문헌[참조; Houben-Weyl "Methoden der Org. Chemie" [Methods of Organic Chemistry], Volume 15/1]에 기재된 바와 같은 방법에 따라 수행된다.
이러한 방법을 위해 바람직하게 사용되는 적합한 보호 그룹 Pg에는 펩티드 화학법에서 통상적인 카복실 보호 그룹, 예를 들면, 알킬 에스테르형, 예를 들면,메틸, 에틸, 3급-부틸, 이소프로필, 벤질, 플루오레닐메틸 및 알릴, 아릴 에스테르형, 예를 들면, 페닐, 아미드형, 예를 들면, 아미드 또는 벤즈하이드릴아민의 보호 그룹이 있다. 이러한 방법을 위해 사용되는 적합한 보호 그룹 E는 펩티드 화학에서 통상적인 N-보호 그룹, 예를 들면, 우레탄형, 예를 들면, 벤질옥시카보닐(Z), t-부톡시카보닐(Boc), 9-플루오레닐메톡시카보닐(Fmoc) 및 알릴옥시카보닐(Aloc)의 보호 그룹 또는 산 아미드형, 특히 포밀, 아세틸 또는 트리플루오로아세틸의 보호 그룹 및 알킬형, 예를 들면, 벤질의 보호 그룹인 것이 바람직하다.
또한, (트리메틸실릴)에톡시카보닐(Teoc) 그룹은 이러한 방법에 특히 적합한 것으로 증명된 바 있다[참조; P. Kocienski, Protecting Group, Thieme Verlag 1994].
인돌카복실산 유도체는 문헌[참조; Houben-Weyl "Methoden der Org. Chemie" [Methods of Organic Chemistry], Volume E6-2A 및 E6-2B]에 기재된 방법에 따라 제조된다. 이에 따라, 화학식 III의 인돌카복실산 유도체를 제조하기 위해 하이드라지노벤조산 및 아릴 케톤 또는 헤테로아릴 케톤을 145℃에서 용매로서 폴리인산의 존재하에 반응시키는 것이 바람직하다. 요구되는 하이드라지노벤조산은 예를 들면, 상응하는 벤조산 아닐린으로부터 당해 기술분야의 숙련가에게 공지된 방법에 의해 제조된다. 또한, 아릴 케톤 또는 헤테로아릴 케톤은 예를 들면, 유기금속 화합물과의 반응에 의해 상응하는 아실 클로라이드 또는 니트릴로부터 당해 기술분야의 숙련가에게는 익숙한 방법에 의해 제조된다.
화학식 IV의 화합물과 화학식 III의 화합물과의 축합을 위해, 당해 기술분야의 숙련가에게 그 자체로서 익히 공지된 커플링 방법을 사용하는 것이 유리하다[참조; Houben-Weyl Methoden der Organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Volume 15/1 및 15/2, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1974]. 적합한 축합제 또는 커플링 시약에는 화합물, 예를 들면, 카보닐디이미다졸, 카보디이미드, 예를 들면, 디사이클로헥실카보디이미드 또는 디이소프로필카보디이미드(DIC), O-((시아노(에톡시카보닐)메틸렌)-아미드)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄 테트라플루오로보레이트(TOTU) 또는 프로판포스폰산 무수물(PPA)이 있다.
축합은 표준 상태하에 수행될 수 있다. 축합 동안, 원칙적으로 비반응성 아미노 그룹은 가역적인 보호 그룹에 의해 보호되도록 존재하는 것이 필요하다. 이것은 반응에 관여하지 않는 카복실 그룹에도 동일하게 적용되며, 축합 동안 (C1-C6)-알킬 에스테르, 벤질 에스테르 또는 3급-부틸 에스테르로 존재하는 것이 바람직하다. 아미노 그룹 보호는 아미노 그룹이 여전히 전구체, 예를 들면, 니트로 그룹 또는 시아노 그룹의 형태로 존재하고 축합 후에 수소화에 의해서만 생성되는 경우에는 불필요하다. 축합 후에 존재하는 보호 그룹은 적당한 방법에 의해 제거된다. 예를 들면, 벤질 에스테르 중의 NO2그룹(아미노산 중의 구아니디노 보호), 벤질옥시카보닐 그룹 및 벤질 그룹은 수소화에 의해 제거될 수 있다. 3급-부틸형의 보호 그룹은 9-플루오레닐메톡시카보닐 라디칼이 2급 아민에 의해 제거되는 동안 산성으로 제거된다.
PS에 의해, 화학식 V 및 화학식 VI으로 표시된 중합성 지지체는 중간 쇄 L로서 표시된 링커(linker)를 갖는 폴리스티렌 수지를 가교결합시킨다. 이러한 링커는 적당한 관능기, 예를 들면, 링크(Rink) 아미드 수지로서 공지된 아민 또는 예를 들면, 왕(Wang) 수지 또는 카이저(Kaiser) 옥심 수지로서 공지된 OH 그룹을 운반한다. 또한, 각종의 중간 쇄 L을 갖는 기타 중합성 지지체, 예를 들면, 유리, 목화 또는 셀룰로즈가 사용될 수 있다.
L로 표시된 중간 쇄는 중합성 지지체와 공유결합하고 화학식 IVa의 화합물과 가역형, 아미드형 또는 에스테르형 결합을 일으키며 화학식 IVa의 결합된 화합물에서는 추가의 반응 동안 여전히 안정하지만, 강한 산성 반응 조건, 예를 들면, 트리플루오로아세트산과의 혼합물하에서는 링커에 위치한 그룹을 다시 분리하게 된다.
링커로부터 화학식 I의 바람직한 화합물의 분리는 반응과정 중에 다양한 위치에서 수행될 수 있다.
A. 화학식 IVa의 보호된 아미노카복실산을 고체 지지체에 커플링시키는 일반적 방법.
합성을 반응 용적이 15ml인 각각의 반응기에서 수행한다. 각각의 반응기를 링크 아미드 AM 수지 0.179g으로 충전시킨다(Fmoc-Rink 아미드 AM/Nova-Biochem; 부하량 0.56mmol/g; 즉, 0.1mmol/반응기). 수지로부터 Fmoc 보호 그룹을 제거하기 위해 30% 농도 피페리딘/DMF 용액을 각 반응기에 계량하여 도입시키고 혼합물을 45분 동안 진탕시킨다. 이어서, 혼합물을 여과하고 수지를 디메틸포름아미드(DMF)로 3회 세척한다. 보호된 아미노산의 커플링을 위해 상응하는 Fmoc-아미노산(DMF 중의 0.3mmol)의 0.5몰 용액, HOBt(DMF 중의 0.33mmol) 용액 및 DIC(DMF 중의 0.33mmol) 용액을 제조된 수지에 각각 가하고 혼합물을 35℃에서 16시간 동안 진탕시킨다. 이어서, 수지를 DMF로 수차례 세척한다.
커플링을 확인하기 위해 약간의 수지 비드를 제거하고 KAISER 시험을 수행한 결과, 모든 경우에서 시험은 부정적이었다.
Fmoc 보호 그룹의 제거는 30% 농도 피페리딘/DMF 용액을 사용하여 상기 언급한 바와 같이 수행된다.
벤즈이미다졸카복실산의 커플링을 위해 상응하는 4- 또는 5-치환된 산(DMF 중의 0.4mmol)의 0.1몰 용액, 커플링 시약 TOTU(DMF 중의 0.44mmol)의 0.5몰 용액 및 DIPEA(DMF 중의 0.6mmol)의 0.5몰 용액을 가하고 혼합물을 40℃에서 16시간 동안 진탕시킨다. 이어서, 혼합물을 DMF로 수차례 세척한다.
반응을 확인하기 위해 약간의 수지 비드를 다시 제거하고 KAISER 시험을 수행한다.
고체 지지체로부터 바람직한 물질을 분리하기 위해 수지를 디클로로메탄으로 수차례 세척한다. 이어서, 절단용 용액(50% 디클로로메탄 및 95% TFA, 2% H2O 및 3% 트리이소프로필실란의 혼합물의 50%)을 가하고 혼합물을 실온에서 1시간 동안 진탕시킨다. 혼합물을 여과하고 여과물을 무수상태로 농축시킨다. 잔사를 디에틸 에테르로 침전시키고 여과한다.
바람직한 생성물을 고순도로 포함하는 고체 잔사를 통상적으로 예를 들면,제조용 고압 액체 크로마토그래피를 사용하여 역상(용출액: A: H2O/0.1% TFA, B: 아세토니트릴/0.1% TFA)에서 분별한다. 수득된 부분을 동결건조하여 바람직한 생성물을 수득한다.
화학식 I의 화합물의 입체이성체성 형태를 포함하는 염 형성이 가능한 화학식 I의 화합물의 생리학적으로 허용되는 염의 제조는 그 자체로서 공지된 방법으로 수행된다. 염기성 시약, 예를 들면, 수산화물, 탄산염, 탄산수소, 알콕사이드 및 암모니아 또는 유기 염기, 예를 들면, 트리메틸아민 또는 트리에틸아민, 에탄올아민 또는 트리에탄올아민 또는 대안적으로 염기성 아미노산, 예를 들면, 리신, 오르니틴 또는 아르기닌을 사용하여, 카복실산은 안정한 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 임의로 치환된 암모늄 염을 형성한다. 화학식 I의 화합물이 염기성 그룹을 포함하는 경우, 안정한 산 부가 염이 강산을 사용하여 또한 제조될 수 있다. 이를 위해 무기산 및 유기산, 예를 들면, 염화수소산, 브롬화수소산, 황산, 인산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 4-브로모벤젠설폰산, 사이클로헥실아미도설폰산, 트리플루오로메틸설폰산, 아세트산, 옥살산, 타르타르산, 숙신산 또는 트리플루오로아세트산이 적합하다.
또한, 본 발명은 유효량의 하나 이상의 화학식 I의 화합물 및/또는 생리학적으로 허용되는 이의 염 및/또는 이의 입체이성체성 형태를 약제학적으로 적합하고 생리학적으로 허용되는 부형제, 첨가제 및/또는 기타 활성 화합물 및 보조제와 함께 포함하는 약제에 관한 것이다.
약물학적 특성에 따라, 본 발명에 따르는 화합물은 IkB 키나제의 증가된 활성이 관여하는 모든 이러한 질환의 예방 및 치료에 적합하다. 이들은 예를 들면, 운동 기관의 만성 질환, 예를 들면, 염증 질환, 면역 질환 또는 대사성 급성 및 만성 관절염 장애, 관절병증, 류마티스성 관절염 또는 퇴행성 관절 질환, 예를 들면, 골관절증, 척추증, 반월손상 또는 슬개골 손상 또는 인대파열 또는 결합조직의 장애 후의 관절의 장기적인 고정 또는 관절 외상 후의 연골 파괴, 예를 들면, 교원증 및 치주질환, 근육통 및 골의 대사 장애, 또는 종양괴사인자 알파(TNFα)의 과도한 발현 또는 TNFα의 증가된 농도로 인한 질환, 예를 들면, 악액질, 다발성 경화증, 두개골 외상, 크론병 및 장 종양, 또는 죽상 경화증, 협착, 궤양형성, 알쯔하이머병, 근육 소모병, 암종성 질환(세포독성 화합물에 의한 치료의 상승작용), 심근경색증, 통풍, 패혈증, 패혈성 쇼크 및 내독소성 쇼크, 바이러스성 감염, 예를 들면, 유행성 감기, 간염, HIV 감염 및 AIDS, 또는 아데노바이러스 또는 헤르페스 바이러스에 의한 질환, 기생충 감염, 예를 들면, 말라리아 또는 나병, 진균 감염 또는 효모 감염, 수막염, 만성 염증성 폐 질환, 예를 들면, 만성 기관지염 또는 천식, 급성 호흡곤란 증후군, 급성 활막염, 결핵, 건선 및 당뇨병의 치료 및 이식된 기관에 대한 기관 수해자의 급성 또는 만성 거부반응, 만성 이식-대-숙주 질환 및 염증성 혈관 질환의 치료를 포함한다.
본 발명에 따르는 약제는 일반적으로 경구적으로 또는 비경구적으로 투여된다. 직장 투여 또는 경피 투여도 가능하다.
또한, 본 발명은 하나 이상의 화학식 I의 화합물을 약제학적으로 적합하고생리학적으로 허용되는 부형제 및 경우에 따라 추가의 적합한 활성 화합물, 첨가제 또는 보조제를 사용하여 적당한 투여 형태로 전환시킴을 포함하는 약제의 제조방법에 관한 것이다.
적합한 고체 또는 약제학적 제제 형태는 예를 들면, 과립, 분말, 피복 정제, 정제, (미소)캡슐제, 좌약, 시럽, 쥬스, 현탁액, 유액, 드롭(drop) 또는 주사용 용제 및 활성 화합물의 연장된 방출을 갖는 제제이며, 통상의 보조제, 예를 들면, 부형제, 붕해제, 결합제, 피복제, 팽윤 활성제, 글리단트(glidant) 또는 윤활유, 향신료, 감미료 및 가용화제가 사용된다. 언급될 수 있는 흔히 사용되는 보조제에는 탄산마그네슘, 이산화티타늄, 락토즈, 만니톨 및 기타 당들, 탈크, 락토프로테인, 젤라틴, 전분, 셀룰로즈 및 이의 유도체, 동물성 및 식물성 오일, 예를 들면, 간유, 해바라기유, 땅콩유 또는 참깨유, 폴리에틸렌 글리콜 및 용매, 예를 들면, 살균수 및 일가 알콜 또는 다가 알콜, 예를 들면, 글리세롤이 있다. 약제학적 제제는 활성 성분으로서 특정량의 본 발명에 따르는 화학식 I의 화합물을 포함하는 투여 단위로 제조되고 투여되는 것이 바람직하다. 고체 투여 단위, 예를 들면, 정제, 캡슐제, 피복 정제 또는 좌약의 경우에, 이러한 투여량은 약 1000mg 이하, 바람직하게는 약 50mg 내지 300mg일 수 있으며, 앰플 속의 주사 용제의 경우에는 약 300mg 이하, 바람직하게는 약 10mg 내지 100mg일 수 있다. 약 70kg 체중의 성인 환자를 치료하기 위해서는 화학식 I의 화합물의 효능에 따라, 활성 화합물 약 20mg 내지 1000mg, 바람직하게는 약 100mg 내지 500mg의 1일 투여량이 지시된다. 그러나, 특정한 조건하에서는 매우 높거나 매우 낮은 1일 투여량이 적합할 수 있다. 1일 투여량의 투여는 개별적인 투여 단위 형태로 단일 투여하거나 몇 개의 작은 투여 단위 형태로 단일 투여하거나 분할된 투여량을 특정 간격으로 수회 투여하여 수행할 수 있다.
통상적으로, 최종 생성물은 질량-분광법(FAB-, ESI-MS)에 의해 측정된다. 온도는 섭씨이고 RT는 실온(22 내지 26℃)을 의미한다. 사용되는 약어는 설명되거나 통상적인 관행에 상응하는 것이다.
치환된 인돌카복실산의 제조
공정 변형(A)
2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복실산:
데옥시벤조인 1.96g(10mmol) 및 4-하이드라지노벤조산 1.52g을 막자 사발에서 분쇄한 다음, 개방 플라스크 속에서 160℃에서 15분 동안 용해시킨다. 냉각된 용융물을 아세트산 100ml 및 진한 염산 30ml와 혼합하고 환류하에 3시간 동안 가열한다. 냉각된 용액을 물과 혼합하여 생성물 2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복실산의 침전물을 생성시킨다. 생성물을 흡인여과하고 잔사를 물로 세척하며 건조시킨다. 정제를 위해 조악한 생성물을 가온한 톨루엔으로 교반하고 흡인여과하며 다시 건조시킨다. 이렇게 하여 2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복실산을 수득한다.
공정 변형(B)
2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산:
P2O520g을 H3PO4(85%) 12.5ml와 혼합하여 반응 혼합물의 온도를 증가시킨다. 이어서, 반응 혼합물을 60℃로 냉각시키고 4-프로피오닐피리딘 8.90g(65.84mmol) 및 4-하이드라지노벤조산 4.20g(27.60mmol)을 가한다. 이어서, 혼합물을 145℃에서 45분 동안 교반한다. 반응 혼합물을 물에 부어 황색 생성물 2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산의 침전물을 생성시킨다. 당해 침전물을 흡인여과하고 중성이 될 때까지 물로 세척한다. 이러한 방법에 의해 정량적 수율로 수득되는 2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산을 추가의 정제 없이 아미노산 유도체와의 커플링을 위해 사용한다.
아미노산 유도체와 치환된 인돌카복실산 유도체와의 커플링
공정 변형(C)
실시예 1
N-(1-카바모일-3-페닐프로필)-2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복스아미드:
2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복실산[참조; 공정 변형(A)] 0.16g(0.5mmol)을 RT에서 건조 디메틸포름아미드(DMF) 10ml에 용해시키고 L-호모페닐알라닌아미드 염산염 0.11g(0.5mmol), TOTU (O-[(시아노(에톡시카보닐)메틸리덴)아미노-1,1,3,3-테트라메틸]우로늄 테트라플루오로보레이트) 0.16g 및 디이소프로필아민 0.14ml(1mmol)와 연속적으로 혼합한다. 반응 혼합물을 RT에서 6시간 동안 교반한 다음, 감압하에농축시키고 잔사를 에틸 아세테이트에 용해시킨다. 유기상을 물, 포화된 탄산나트륨 용액, 물 및 포화된 염화나트륨 용액으로 연속적으로 세척하고 황산마그네슘 상에서 건조시키며 여과시키고 감압하에 농축시킨다. 이렇게 하여 융점이 120℃ 내지 125℃인 N-(1-카바모일-3-페닐프로필)-2,3-디페닐-1H-인돌-5-카복스아미드를 수득한다.
실시예 7
N-(1-카바모일-3-피롤-1-일프로필)-3-메틸-2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복스아미드
3-메틸-2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산[참조; 공정 변형(A)] 0.13g(0.5mmol)을 RT에서 건조 디메틸포름아미드(DMF) 10ml에 용해시키고 4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르아미드 0.083g(0.5mmol), TOTU (O-[(시아노(에톡시카보닐)메틸리덴)아미노-1,1,3,3-테트라메틸]우로늄 테트라플루오로보레이트) 0.16g(0.5mmol) 및 에틸 디이소프로필아민 0.14ml(1mmol)와 연속적으로 혼합한다. 반응 혼합물을 RT에서 6시간 동안 교반한 다음, 감압하에 농축시키고 잔사를 에틸 아세테이트에 용해시킨다. 유기상을 물, 포화된 탄산나트륨 용액, 물 및 포화된 염화나트륨 용액으로 연속적으로 세척하고 황산마그네슘 상에서 건조시키며 여과시키고 감압하에 농축시킨다. 제조용 HPLC에 의해 정제를 수행한다.
a: 4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르산
물 60ml 중의 Nα-Z-L-2,4-디아미노부티르산 1.25g(5.0mmol)의 질소로 가득찬 용액(A)를 2,5-디메톡시테트라하이드로푸란 0.66g(5.0mmol)과 혼합한 다음, 빙초산 1.7ml를 가하고 혼합물을 20℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 반복적으로 추출한 다음, 유기상을 합하고 황산나트륨으로 건조시키며 여과물을 감압하에 농축시킨다. 조악한 생성물을 실리카 겔(CH2Cl2/CH3OH/CH3COOH: 100/5/1) 상에서 플래쉬 크로마토그래피하여 정제한다. 유동상을 제거하여 4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르산 1.3g(87%)을 수득한다.
b: 4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르아미드
4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르산 1.2g(4.0mmol) 및 N-하이드록시벤조트리아졸 암모늄 염 0.61g(4.0mmol)을 DMF 10ml에서 함께 용해시키고, 0℃에서 N,N'-디사이클로헥실카보디이미드 0.82g(4.0mmol) 및 N-에틸디이소프로필아민 0.68ml(4.0mmol)와 혼합한 다음, 혼합물을 0℃에서 30분 동안 교반하고 20℃에서 3시간 동안 교반한다. 침전된 우레아를 흡인여과시키고 여과물을 감압하에 무수 상태가 되도록 농축시킨다.
조악한 생성물을 실리카 겔 크로마토그래피(CH2Cl2/CH3OH/CH3COOH: 100/5/1)하여 정제한다.
수율: 0.89g(74%)
c: 4-(1-피롤릴)-L-2-아미노부티르아미드
불활성 기체하에, 메탄올 20ml에 용해된 4-(1-피롤릴)-L-2-벤질옥시카보닐아미노부티르아미드 0.80g(2.65mmol)을 촉매(10% Pd-C) 80mg과 혼합한 다음, Z 보호 그룹이 완전히 분해될 때까지 수소를 도입시킨다. 촉매를 여과하고 여과물을 농축시켜 4-(1-피롤릴)-L-2-아미노부티르아미드 0.4g(90.5%)을 수득한다.
공정 변형(D)
실시예 3
N-(1-카바모일-2-페닐설파닐에틸)-2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복스아미드:
2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산 0.20g(0.84mmol)을 DMF 40ml 중의 2-아미노-3-페닐설파닐프로피온산 0.21g(1.07mmol)과 혼합하고 0℃에서 벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄 헥사플루오로포스페이트 0.66g(1.27mmol) 및 N-에틸-N,N-디이소프로필아민 0.37ml(2.12mmol)을 가하며 용액을 20℃에서 2시간 동안 교반한다. 당해 용액을 감압하에 농축시키고 중간압 칼럼 크로마토그래피(CH2Cl2/CH3OH: 9:1)하여 정제한다. 이렇게 하여 N-(1-카바모일-2-페닐설파닐에틸)-2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복스아미드 0.19g(54%)을 수득한다.
실시예 9:
3-페닐아미노에틸-2-[(2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카보닐)-아미노]프로피온아미드
공정 단계(a)
L-2-아미노-3-페닐아미노에틸프로피온산
트리페닐포스핀 54.8g(0.209mol)을 습기를 배제하여 아세토니트릴 600ml에 현탁시키고 -35℃ 내지 -45℃로 냉각시킨다. 이어서, 당해 온도에서 디에틸 아조디카복실레이트 36.4g(0.209mol)을 50분에 걸쳐 적가한다. 혼합물을 -35℃에서 15분 동안 교반한다. 아세토니트릴 500ml 중의 N-벤질옥시카보닐-L-세린 50g(0.209mol)의 용액을 당해 혼합물에 적가하고 온도를 -35℃ 미만으로 유지한다. 이어서, 혼합물을 5℃에서 12시간 동안 반응시키고 RT로 승온시킨다. 반응 용액을 감압하에 용매로부터 분리하고 조악한 생성물을 실리카 겔(DCM/AcCN: 25/1) 상에서 중간압 크로마토그래피하여 정제한다. 용매를 제거하여 침상 물질로서 순수한 N-벤질옥시카보닐-L-세린-ß-락톤 20.8g(수율 45%)을 수득한다[참조; Org. Synth. 1991(70) 1ff.].
분자식 C11H11NO4.
M.W. = 221.2.
MS(M + H) 222.1.
아르곤 보호 대기하에 N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드 15.5ml(63.51mmol)를 아세토니트릴 250ml 중의 N-에틸아닐린 7.3ml(57.36mmol)에 가하고 혼합물을 50℃에서 3시간 동안 교반한다. 이어서, 20℃에서 아세토니트릴 250ml에 용해된 상기 락톤(10.7g, 48.37mmol) 용액을 가하고 혼합물을 환류하에 17시간 동안 가열한다. 용매를 제거한 다음, 잔사를 포화된 탄산나트륨 용액과 혼합하고 용액의 pH를 9 미만으로 유지한다. 수성 현탁액을 소량의 디에틸 에테르로 세척한 다음, 진한 염산을 사용하여 pH를 6 내지 7로 산성화시키고 NaHPO4버퍼를 사용하여 pH 5로 조정한다. 이어서, 수성 용액을 에틸 아세테이트로 반복적으로 추출한다. 용매를 증발시켜 목적하는 생성물을 45%의 수율(7.4g)로 수득한다.
분자식 C19H22N2O4.
M.W. = 342.4.
MS(M + H) 343.2.
-10℃에서, 티오닐 클로라이드 6.5ml(89.1mmol)를 메탄올 75ml에 적가하고 혼합물을 30분 동안 교반한다. 이어서, 메탄올 75ml에 용해된 L-2-아미노에틸-3-페닐아미노프로피온산 8.6g(25.12mmol)을 가하고 혼합물을 -10℃에서 30분 동안 교반하며 실온에서 추가로 3시간 동안 교반한다. 용매를 증발시킨 다음, 잔사를 에틸 아세테이트에 용해시키고 탄산나트륨 용액으로 세척한다. 용매를 증발시키고 플래쉬 크로마토그래피(n-헵탄/에틸 아세테이트 7:3)하여 정제시켜 메틸 L-2-아미노에틸-3-페닐아미노프로피온산 4.43g(50% 수율)을 수득한다.
분자식 C20H24N2O4.
M.W. = 356.4.
MS(M + H) 357.3.
보호 그룹을 제거하기 위해 Z-보호된 유도체 4.4g(12.35mmol)을 메탄올 500ml에 용해시키고, 촉매(10% Pd(OH)2-C) 100mg을 불활성 기체하에 가하며 Z 보호 그룹이 완전히 분해될 때까지 수소를 도입시킨다. 촉매를 여과하고 여과물을 농축시켜 L-2-아미노에틸-3-페닐아미노프로피온산 2.8g(정량적)을 수득한다.
분자식 C12H18N2O2.
M.W. = 223.3.
MS(M + H) 223.1.
공정 단계(b)
공정 변형(B)에서 제조된 2-피리딘-4-일-1H-인돌-5-카복실산 0.63g(2.64mmol)을 DMF 150ml에 현탁시키고 TOTU 1.01g(3.08mmol) 및 에틸디이소프로필아민 0.63ml(3.71mmol)와 연속적으로 혼합한다. 혼합물을 RT에서 20분 동안교반하고 공정 단계(a)에 따라 제조된 메틸 (S)-2-아미노-3-페닐아미노에틸프로피오네이트 0.73g(3.28mmol)을 생성된 투명한 용액에 가한다. 혼합물을 감압하에 15시간 동안 교반한 다음, 표제 화합물의 메틸 에스테르를 실리카 겔(DCM:MeOH = 19:1) 상에서 플래쉬 크로마토그래피하여 분리한다.
수율: 0.44g.
분자식 C26H26N4O3.
M.W. = 442.2.
MS(M + H) 443.3.
생성된 메틸 에스테르 0.22g(0.497mmol)을 메탄올 100ml에 용해시키고 0℃로 냉각시킨 다음, 암모니아 1.5g을 도입시킨다. 용액을 실온에서 밤새 정치시킨 다음, 메탄올을 증발시킨다. 조악한 생성물을 실리카 겔(DCM:MeOH = 19:1) 상에서 플래쉬 크로마토그래피하여 정제한다.
수율: 0.096g(45.2%).
분자식 C25H25N5O2.
M.W. = 427.2.
MS(M + H) 428.3.
하기 표 1의 화합물을 공정 변형(A) 내지 공정 변형(D)와 유사하게 제조한다.
약물학적 실시예
IkB 키나제 ELISA:
IkB 키나제의 활성은 세린 32 내지 36의 단백질 IkB 내에 아미노산 서열을 함유하는 바이오티닐레이트(biotinilate)된 기질 펩티드 및 특정한 다클론성 또는 단일 클론성 항체를 포함하는 ELISA를 사용하여 측정되며[참조; New England Biolabs, Beverly, MA, USA, cat.: 9240], 이는 펩티드 IkB의 인산화된 형태에만 결합한다. 이러한 복합체는 (단백질 A로 피복된) 항체-결합성 플레이트 상에 고정되어 있으며 바이오틴-결합성 단백질과 HRP(예를 들면, 스트렙타비딘 HRP)의 접합을 이용하여 검출된다. 당해 활성은 기질 포스포펩티드를 갖는 표준 곡선을 사용하여 정량화될 수 있다.
절차:
당해 키나제 복합체를 수득하기 위해 HeLa S3 세포 추출물 S100 10ml를 50mM HEPES 40ml로 희석시키고 40% 황산암모늄을 사용하여 pH 7.5로 조정하며 30분 동안 얼음 위에서 배양시킨다. 침전된 펠렛을 50ml SEC 버퍼(50mM HEPES, pH 7.5, 1mM DTT, 0.5mM EDTA, 10mM 2-글리세로포스페이트)에 용해시키고 20,000×g에서 15분 동안 원심분리시키며 0.22μm 필터를 통해 여과한다. 샘플을 SEC 버퍼로 안정화된 수퍼로제-6 FPLC 칼럼[제조원; Amersham Pharmacia Biotech AB, Uppsala, Sweden] 320ml에 적용시키고 4℃에서 20ml/mim의 유속으로 작동시킨다. 670kDa 분자량 규격의 용리 시간에 상응하는 절편을 활성화를 위해 합한다. 37℃에서 100nM MEKK1△, 250μM MgATP, 10mM MgCl2, 5mM 디티오트레이톨(DTT), 10mM 2-글리세로포스페이트 및 2.5μM 마이크로시스틴 LR로 45분 동안 배양시킴으로써 활성화를 달성한다. 활성화된 효소를 -80℃에서 보관한다.
DMSO(2㎕)에 용해된 시험 물질을 25℃에서 30분 동안 활성화된 효소 43㎕(반응 버퍼 50mM HEPES중에 1:25로 희석됨, pH 7.5, 10mM MgCl2, 5mM DTT, 10mM ß-글리세로포스페이트 및 2.5μM 마이크로시스틴 LR)로 예비배양시킨다. 기질 펩티드(바이오틴-(CH2)6-DRHDSGLDMKD-CONH2)(200μM) 5㎕를 가하고 혼합물을 1시간 동안 배양시키며 반응물을 50mM HEPES, pH 7.5, 0.1% BSA, 50mM EDTA 및 항체[1:200] 150㎕를 사용하여 켄칭시킨다. 이어서, 켄칭된 반응 혼합물 또는 표준 포스포펩티드희석액 시리즈 (바이오틴-(CH2)6-DRHDS[PO3]GLDSMKD-CONH2) 100㎕를 단백질 A 플레이트[제조원; Pierce Chemical Co., Rockford, IL, USA]에 이송시키고 2시간 동안 진탕시키면서 배양시킨다.
PBS로 3회 세척한 후에 (50mM HEPES/0.1% BSA로 희석된) 0.5μg/ml의 스트렙타비딘 HRP(호스래디쉬 퍼옥시다제) 100㎕를 30분 동안 가한다. PBS로 5회 세척한 후에 TMB 기질[제조원; Kirkegaard & Perry Laboratories, Gaithersburg, MD, USA)을 가하고 0.18M 황산 100㎕를 가하여 착색 전개를 정지시킨다. 450nm에서 흡광도를 측정한다. 표준 곡선을 4가지 파라메터 투여량-활동 관계에 따라 선형 회귀법에 의해 구한다. 이러한 표준 곡선을 사용하여 시험 물질에 의한 효소 활동 또는 이의 억제율을 정량화한다.
방법 PKA, PKC 및 CK II
cAMP-의존 단백질 키나제(PKA), 단백질 키나제 C(PKC) 및 카세인 키나제 II(CK II)를 ATP 농도 50μM에서 제조업자의 지시에 따라 업스테이트 바이오테크놀로지(Upstate Biotechonlogy)의 적합한 시험 키트를 사용하여 측정한다. 그러나, 포스포셀룰로즈 필터 대신에 상응하는 호흡 시스템을 갖는 다중 스크린 플레이트[제조원; Millipore; 포스포셀룰로즈 MS-PH, cat. MAPHNOB 10]를 사용한다. 이어서, 플레이트를 월락 마이크로베타 신틸레이션 계수기(Wallac MicroBeta scintillation counter)에서 측정한다. 각각의 경우에 시험 물질 100μM을 사용한다.
각 물질을 두번 시험한다. 블랭크(효소가 없음)의 평균을 (물질을 갖는 효소와 물질을 갖지 않는 효소) 평균에서 빼고 억제율을 %로 계산한다. IC50계산값을 소프트웨어 패키지 GraFIT 3.0을 사용하여 수행한다. 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
물질 농도 100μM에서의 키나제 억제율 또는 IC50(μM)
실시예 번호 IkB 키나제IC50 PKA억제율(%) PKC억제율(%) CK II억제율(%)
1 32 n.d. n.d. n.d.
2 0.61 24 15 35
3 0.55 35 39 37
4 0.50 42 33 47
5 1.8 55 8 27
6 4.9 60 58 39
7 3.0 n.d. n.d. 18
9 1.0 0 23 0
n.d.: 측정되지 않음

Claims (8)

  1. 화학식 I의 화합물 및/또는 이의 입체이성체 형태 및/또는 생리학적으로 허용되는 이의 염.
    화학식 I
    위의 화학식 I에서,
    치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 환 원수가 5원 내지 12원 헤테로사이클, -(C1-C6)-알킬, -CN, -O-R10, -N(R10)2, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다) 또는 -CF3이고,
    R5는 수소, -OH 또는 =O이며,
    R6은 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 일치환 내지 삼치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 치환되지 않거나 일치환 내지 삼치환된 5원 내지12원 헤테로사이클이고,
    R9는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클 또는 -(C1-C6)-알킬이고, 당해 알킬은 직쇄 또는 측쇄이고 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클, -O-R10, =O, 할로겐, -CN, -CF3, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), -C(O)-O-R10, -C(O)-N(R10)2, -N(R10)2, -(C3-C6)-사이클로알킬, 화학식의 라디칼 또는 화학식의 라디칼{여기서, R10은 (a) 수소, (b) -(C1-C6)-알킬[여기서, 알킬은 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 아릴, 5원 내지 14원 헤테로아릴, 5원 내지 12원 헤테로사이클, 할로겐, -N-(C1-C6)n-알킬(여기서, n은 정수 0, 1 또는 2이고, 알킬은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -C(O)-OH에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된다) 또는 -C(O)-OH이다], (c) 아릴, (d) 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 (e) 5원 내지 12원 헤테로사이클이고,(R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (e)의 의미를 갖는다}이다.
    화학식 II
    위의 화학식 II에서,
    D는 -C(O)-, -S(0)- 또는 -S(O)2-이고,
    R7은 수소 또는 -(C1-C4)-알킬이며,
    R8은 화학식 I에서 정의한 바와 같은 R9또는 아미노산의 특정 라디칼이고,
    Z는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클 또는 -C(O)-R11[여기서, R11은 -O-R10또는 -N(R10)2이다]이거나,
    R7과 R8은, 이들이 각각 결합되어 있는 질소원자 및 탄소원자와 함께, 하기 화학식 IIa의 헤테로사이클릭 환을 형성하거나,
    R8과 Z는, 이들이 각각 결합되어 있는 탄소원자들과 함께, 하기 화학식 IIc의 헤테로사이클릭 환을 형성한다.
    화학식 IIa
    위의 화학식 IIa에서,
    D, Z 및 R11은 화학식 II에서 정의한 바와 같고,
    A는 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
    B는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이고,
    X는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
    Y는 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이거나,
    X가 Y는 함께 페닐, 1,2-디아진, 1,3-디아진 또는 1,4-디아진 라디칼을 형성하며,
    N, A, X, Y, B 및 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 산소원자를 1개 이하로 포함하고, A가 질소원자인 경우, X는 산소원자, 황원자 또는 질소원자가 아니며,
    황원자를 1개 이하로 포함하고,
    질소원자를 1, 2, 3 또는 4개 포함하며,
    산소원자와 황원자는 동시에 포함되지 않으며,
    N, A, X, Y, B 및 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 -(C1-C8)-알킬[당해 알킬은 치환되지 않거나 (1.1) -OH, (1.2) -(C1-C8)-알콕시, (1.3) 할로겐, (1.4) -NO2, (1.5) -NH2, (1.6) -CF3, (1.7) 메틸렌디옥시, (1.8) -O(O)-CH3, (1.9) -CH(O), (1.10) -CN, (1.11) -C(O)-OH, (1.12) -C(O)-NH2, (1.13) (C1-C4)-알콕시카보닐, (1.14) 페닐, (1.15) 페녹시, (1.16) 벤질, (1.17) 벤질옥시, (1.18) 테트라졸릴 또는 (1.19) -OH에 의해 일치환 또는 이치환된다]에 의해 일치환 내지 삼치환된다.
    화학식 IIc
    위의 화학식 IIc에서,
    D, R7및 R10은 화학식 II에서 정의한 바와 같고,
    T는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이며,
    W는 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이고,
    V는 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자 또는 라디칼 -CH2-이거나,
    T와 V 또는 V와 W는 함께 페닐, 1,2-디아진, 1,3-디아진 또는 1,4-디아진 라디칼이고,
    N, T, V, W 및 두 개의 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 산소원자를 1개이하, 황원자를 1개 이하 및 질소원자를 1, 2, 3 또는 4개 포함하고, 산소원자와 황원자를 동시에 포함하지 않으며,
    N, T, V, W 및 두 개의 탄소원자에 의해 형성된 환 시스템은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 화학식 IIa에서 정의한 -(C1-C8)-알킬의 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.19)에 의해 일치환 내지 삼치환된다.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 I에서 치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼{화학식 II에서, D는 -C(O)-이고, R7은 수소 또는 -(C1-C4)-알킬이며, R8은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 치환체에 의해 일치환 또는 이치환되는 -(C1-C4)-알킬이고, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클, -O-R10, -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), -N(R10)2, 화학식의 라디칼 또는 화학식의 라디칼[여기서, R10은 (a) 수소, (b) -(C1-C6)-알킬<여기서, 알킬은 치환되지 않거나 치환체에 의해 서로 독립적으로 일치환 내지 삼치환되며, 이때 치환체는 아릴, 5원 내지 14원 헤테로아릴,5원 내지 12원 헤테로사이클, 할로겐, -N-(C1-C6)n-알킬(여기서, n은 정수 0, 1 또는 2이고, 알킬은 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -C(O)-OH에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된다) 또는 -C(O)-OH이다>, (c) 아릴, (d) 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 (e) 5원 내지 12원 헤테로사이클이고, (R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (e)의 의미를 갖는다]이거나, R8은 아미노산의 특정 라디칼이고, Z는 치환되지 않거나 -NH2, -OH -(C1-C4)-알킬 또는 -C(O)-R11[여기서, R11은 -O-R10또는 -N(R10)2이다]이거나, R7과 R8은, 이들이 각각 결합되어 있는 질소원자 및 탄소원자와 함께, F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸 및 테트라하이드로이소퀴놀린에 의해 치환된 피롤, 피롤린, 인돌, 피롤리딘, 피리딘, 피페리딘, 피페릴렌, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피페라진, 피라졸, 이미다졸, 피라졸린, 이미다졸린, 피라졸리딘, 이미다졸리딘, 옥사졸, 푸린, 이소옥사졸, 2-이소옥사졸리딘, 이소옥사졸리딘, 모르폴린, 이소티아졸, 티아졸, 티아디아졸, 벤즈이미다졸, 티오모르폴린, 이소티아졸리딘, 인다졸, 퀴놀린, 트리아졸, 프탈라진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 프테리딘, 테트라하이드로퀴놀린, 이소퀴놀린, 1,2,3,5-옥사티아디아졸 2-옥사이드, 테트라졸, 옥사디아졸론, 이소옥사졸론, 트리아졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로 이루어진 그룹으로부터 선택된 화학식 IIa의 환을 형성하거나, R8과 Z는, 이들이 각각 결합되어 있는 탄소원자들과 함께, F, -CN, -CF3또는 -C(O)-O-(C1-C4)-알킬, 3-하이드록시피롤-2,4-디온, 5-옥소-1,2,4-티아디아졸 및 이소퀴놀린에 의해 치환된 피롤, 피롤린, 피롤리딘, 피리딘, 피페리딘, 피페릴렌, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피페라진, 피라졸, 이미다졸, 피라졸린, 1,3,4-옥사디아졸, 이미다졸린, 피라졸리딘, 이미다졸리딘, 옥사졸, 이소옥사졸, 2-이소옥사졸리딘, 이소옥사졸리딘, 모르폴린, 이소티아졸, 티아졸, 이소티아졸리딘, 테트라졸, 티오모르폴린, 인다졸, 티아디아졸, 벤즈이미다졸, 퀴놀린, 트리아졸, 프탈라진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 푸린, 프테리딘, 인돌, 테트라하이드로퀴놀린, 트리아졸론, 테트라하이드로이소퀴놀린, 1,2,3,5-옥사티아디아졸 2-옥사이드, 옥사디아졸론, 이소옥사졸론, 옥사디아졸리딘디온 및 트리아졸로 이루어진 그룹으로부터 선택된 화학식 IIc의 환을 형성한다}이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 치환되지 않거나 치환된 아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴, 치환되지 않거나 치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클, -(C1-C6)-알킬, -CN, -CF3,-O-R10, -N(R10)2또는 -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다)이고, R5는 수소이며, R6은 서로 독립적으로 (1.1) -CN, (1.2) -CF3, (1.3) 할로겐, (1.4) -O-R10,(1.5) -N(R10)2, (1.6) -NH-C(O)-R11, (1.7) -S(O)x-R10(여기서, x는 정수 0, 1 또는 2이다), (1.8) -C(O)-R11또는 (1.9) -(C1-C4)-알킬-NH2에 의해 일치환 또는 이치환된 페닐, 치환되지 않거나 서로 독립적으로 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.9)에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 5원 내지 14원 헤테로아릴 또는 치환되지 않거나 서로 독립적으로 치환체 (1.1) 내지 치환체 (1.9)에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 5원 내지 12원 헤테로사이클이고, R9는 R8이거나 -(C1-C4)-알킬(당해 알킬은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 일치환, 이치환 또는 삼치환되며, 이때 치환체는 치환되지 않거나 치환된 아릴, 할로겐, -CN 또는 -CF3이다)이거나 치환되지 않거나 치환된 아릴인 화학식 I의 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학식 I에서 치환체 R1, R2, R3및 R4들 중의 하나는 하기 화학식 II의 라디칼{화학식 II에서, D는 -C(O)-이고, R7은 수소이며, R8은 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 치환체에 의해 일치환 또는 이치환된 -(C1-C4)-알킬이고, 이때 치환체는 -S(O)-R10, -N(R10)2[여기서, R10은 (a) 수소, (b) 치환되지 않거나 할로겐에 의해 서로 독립적으로 일치환 내지 삼치환된 -(C1-C6)-알킬 또는 (c) 페닐이고, (R10)2의 경우, R10은 서로 독립적으로 (a) 내지 (c)의 의미를 갖는다] 또는 피롤이거나, R8은 아미노산의 특정 라디칼이고, Z는 -C(O)-OH 또는 -C(O)NH2이다}이고, 나머지 치환체 R1, R2, R3및 R4는 각각 서로 독립적으로 수소이고, R5는 수소이며, R6은 페닐 또는 피리딘이고, R9는 수소이거나 직쇄 또는 측쇄이고 서로 독립적으로 -C(O)-OH 또는 -C(O)NH2에 의해 일치환, 이치환 또는 삼치환된 -(C1-C4)-알킬이거나 치환되지 않거나 서로 독립적으로 할로겐 또는 -(C1-C4)-알킬에 의해 일치환 내지 삼치환된 페닐인 화학식 I의 화합물.
  4. (a) 화학식 IV의 화합물을 용액 속에서 염기 또는, 경우에 따라, 탈수제의 존재하에 아실 클로라이드 또는 화학식 III의 화합물의 활성화된 에스테르와 반응시키고, 보호 그룹을 제거한 후에 화학식 I의 화합물로 전환시키거나, (b) 화학식 IVa의 화합물을 반응시켜 이의 카보닐 그룹에 중간 쇄 L을 통해 화학식 PS의 중합체 수지를 커플링시키고, 생성된 화학식 V의 화합물을 보호 그룹 E의 선택적인 제거 후에 염기 또는, 경우에 따라, 탈수제의 존재하에 화학식 III의 화합물과 반응시켜 화학식 VI의 화합물을 수득하고, 화학식 VI의 화합물을 지지체로부터 절단한 후에 화학식 I의 화합물로 전환시키거나, (c) 화학식 I의 화합물을 생리학적으로 허용되는 염으로 전환시킴을 포함하는, 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물의 제조방법.
    화학식 III
    화학식 IV
    화학식 IVa
    화학식 V
    화학식 VI
    위의 화학식 III 내지 IV에서,
    Pg는 적합한 보호 그룹(예를 들면, 메틸 에스테르), 아미드 그룹 또는 하이드록시 그룹이고,
    Z, R5, R6, R7, R8및 R9는 제1항에서 화학식 I에서 정의한 바와 같고,
    D1은 -COOH 또는 설포닐 할로겐이고,
    E는 N-아미노 보호 그룹이다.
  5. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 유효량의 화학식 I의 화합물 하나 이상을 약제학적으로 적합하고 생리학적으로 허용되는 부형제, 첨가제 및/또는 기타 활성 화합물 및 보조제와 함께 포함하는 약제.
  6. NFkB의 증가된 활성이 관여하는 질환의 예방 및 치료용 약제를 제조하기 위한, 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 하나 이상의 화학식 I의 화합물의 용도.
  7. 제6항에 있어서, 운동 기관의 만성 질환, 예를 들면, 염증 질환, 면역 질환 또는 대사성 급성 및 만성 관절염 장애, 관절병증, 류마티스성 관절염 또는 퇴행성 관절 질환, 예를 들면, 골관절증, 척추증, 반월손상 또는 슬개골 손상 또는 인대파열 또는 결합조직의 장애 후의 관절의 장기적인 고정 또는 관절 외상 후의 연골 파괴, 예를 들면, 교원증 및 치주질환, 근육통 및 골의 대사 장애, 또는 종양괴사인자 알파(TNFα)의 과도한 발현 또는 TNFα의 증가된 농도로 인한 질환, 예를 들면, 악액질, 다발성 경화증, 두개골 외상, 크론병 및 장 종양, 또는 죽상 경화증, 협착, 궤양형성, 알쯔하이머병, 근육 소모병, 암종성 질환(세포독성 화합물에 의한 치료의 상승작용), 심근경색증, 통풍, 패혈증, 패혈성 쇼크 및 내독소성 쇼크, 바이러스성 감염, 예를 들면, 유행성 감기, 간염, HIV 감염 및 AIDS, 또는 아데노바이러스 또는 헤르페스 바이러스에 의한 질환, 기생충 감염, 예를 들면, 말라리아 또는 나병, 진균 감염 또는 효모 감염, 수막염, 만성 염증성 폐 질환, 예를 들면, 만성 기관지염 또는 천식, 급성 호흡곤란 증후군, 급성 활막염, 결핵, 건선 및 당뇨병의 치료 및 이식된 기관에 대한 기관 수해자의 급성 또는 만성 거부반응, 만성 이식-대-숙주 질환 및 염증성 혈관 질환을 치료하기 위한 용도.
  8. 제1항 내지 제3항에 따르는 하나 이상의 화학식 I의 화합물을 약제학적으로 적합하고 생리학적으로 허용되는 부형제 및, 경우에 따라, 추가의 적합한 활성 화합물, 첨가제 또는 보조제를 사용하여 적당한 투여 형태로 전환시킴을 포함하는 약제의 제조방법.
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