KR20010015301A - 자기 기록 매체 및 그를 위한 폴리에스테르 필름 - Google Patents

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Abstract

하기 (1), (2) 및 (3)을 갖는 자기 기록 매체용 이축 배향 폴리에스테르 필름 :
(1) 5.0 GPa 이하의 종방향의 영의 모듈러스 및 8.0 GPa 이상의 상기 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스;
(2) 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 3.0 nm의 일면의 표면 조도, 그리고 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 5.0 nm의 다른 면의 표면 조도; 및
(3) 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0 내지 1.5 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 2.0 내지 5.0 %의 종방향의 열수축율, 그리고, 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0.5 내지 3.0 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 6.0 내지 11.0 %의 종방향에 수직한 방향의 열수축율.

Description

자기 기록 매체 및 그를 위한 폴리에스테르 필름{MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND POLYESTER FILM THEREFOR}
본 발명은 자기 기록 매체용 이축 배향 폴리에스테르 필름 및 자기 기록 매체에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 디지털 비디오 카세트 테이프 및 데이타 저장 테이프와 같이 큰 용량의 디지털 데이타를 오랜 시간동안 기록할 수 있는 강자성 금속 박막형 자기 기록 매체를 위한 베이스 필름으로 사용하기에 적합한 이축 배향 폴리에스테르 필름, 및 자기 기록 매체에 관한 것이다.
1995년에 제공된 일반 소비자를 위한 디지털 비디오 카세트 테이프 (DVC 테이프) 는 Hi8ME 테이프들보다 큰 자기력을 제공하기 위하여 Hi8ME 테이프의 베이스 필름보다 더 평활한 베이스 필름을 포함하고, 베이스 필름 위에는 Co/Ni 합금 금속 박막이 아닌 Co 금속 자기 박막을 형성시키고, 높은 주행 내구성을 제공하기 위하여 자기 박막의 표면상에 다이아몬드상 탄소를 형성시킨다.
이 베이스 필름은 예를 들면, 폴리에스테르 필름, 및 상기 필름의 최소한 한쪽 면에 밀착된 중합체 블렌드 및 50 내지 500 Å의 입경을 갖는 미세 입자를 주로하여 이루어진 불연속성 필름을 포함한다. 수용성 폴리에스테르 공중합체를 포함하고, 미세 입자들에 의해서 표면에 미세한 돌출을 갖는 폴리에스테르가 불연속 필름으로 사용되고 (예를 들면, JP-B 63-57238) (본원에서 "JP-B"라는 용어는 "일본 특허 공고 공보"를 의미한다), 그 표면을 이루는 금속 자기 필름은 Hi8ME 테이프의 베이스 필름의 그것보다 작은 조도 (粗度) 를 갖는다. 베이스 필름은 7 ㎛보다 작은 두께를 가져야 한다.
그러나, 이렇게 매우 얇고 평활한 베이스 필름은 필름 형성 및 증착시에 핸들링이 어렵다. 예컨대, 금속 박막층의 증착 단계에서 필름 표면을 가열할 때, 열에 의한 필름의 변형은 필름 표면을 냉각 드럼에 완전히 밀착시킴으로써 방지된다. 상기 라인 속도가 가속되면, 종래의 자기 기록 매체용 베이스 필름은 드럼의 표면상에서 완전히 냉각되지 않고, 따라서, 열항복 (heat yielding) 현상 및 최악의 경우 필름의 절단을 일으킨다. 필름이 절단되지 않더라도, 베이스 필름에 주름이 가서, 불균일한 증착을 유발한다. 얻어진 자기 테이프가 우수한 초기 출력을 가질지라도, 장기간동안 저장 또는 반복 주행한 이후의 테이프의 출력은 낮아지는 경향이 있다. 종래의 베이스 필름은 장기간 기록용 비데오 테이프용 베이스 필름으로 사용되는 경우, 테이프의 가장자리는 기록 및 재생의 동안에 손상되고, 이 때문에 테이프의 평활성 (flatness) 은 불만족스럽게 되기 쉽다.
본 발명의 목적은 우수한 핸들링성 (handling property) 을 갖는 이축 배향 폴리에스테르, 및 저장 또는 반복 주행의 이후에 우수한 출력을 갖는 자기 테이프를 제공하고, 테이프의 가장자리가 손상되는 것을 방지하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명의 다른 목적은, 라인 속도의 가속을 가능하게 하는 충분한 이활성 (易活性, slipperiness) 을 가지고, 증착 동안에 냉각 드럼에 대한 충분한 부착성을 가져, 열항복 현상을 방지하고, 금속 박막형 자기 지록 매체의 제조 공정에서 자기층 표면으로의 형상 변이 (shape transfer) 에 의해 유발되는 출력 감소가 없는 자기 기록 매체용 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 기타 목적 및 이점이 하기의 설명으로부터 명백하게 될 것이다.
본 발명에 따르면, 첫째로, 본 발명의 상기 목적들 및 이점이 하기 (1), (2) 및 (3)을 갖는 자기 기록 매체용 이축 배향 폴리에스테르 필름에 의해 달성된다:
(1) 5.0 GPa 이하의 종방향의 영의 모듈러스 (Young's modulus) 및 8.0 GPa 이상의 상기 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스;
(2) 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.1 내지 3.0 nm의 일면의 표면 조도 (粗度), 그리고 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 5.0 nm의 다른 면의 표면 조도; 및
(3) 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0 내지 1.5 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 2.0 내지 5.0 %의 종방향의 열수축율, 그리고, 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0.5 내지 3.0 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 6.0 내지 11.0 %의 종방향에 수직한 방향의 열수축율.
둘째로, 본 발명의 상기 목적 및 이점이 상기 본 발명의 이축 배향 폴리에스테르 필름, 및 폴리에스테르 필름의 일면에 형성된 자기층으로 이루어진 자기 기록 매체에 의해 달성된다.
본 발명은 하기에서 상세하게 설명될 것이다.
본 발명의 이축 배향 폴리에스테르 필름의 재료인 폴리에스테르는 바람직하게, 분자 배향을 통하여 고강도 필름을 형성하는 방향족 폴리에스테르이다. 방향족 폴리에스테르는 단독중합체 또는 공중합체일 수 있다. 단독중합체는 바람직하게, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트이다. 공중합체는 주요 반복 단위로서 에틸렌 테레프탈레이트 또는 에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트, 및 모든 반복 단위의 총합에 대하여 20 몰% 이하, 바람직하게는 10 몰% 이하의 양의 제 3 성분으로 이루어진 공중합체이다. 제 3 성분의 예는 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, p-크실렌 글리콜 및 1,4-시클로헥산 디메탄올 등의 디올 성분, 아디프산, 세바크산, 프탈산, 이소프탈산 및 5-나트륨 술포이소프탈산 등의 디카르복실산 성분, 트리멜리트산 및 피로멜리트산 등의 폴리카르복실산 성분, 및 p-옥시에톡시벤조산을 포함한다.
상기 폴리에스테르는 필름 형성 개질제 (예를 들면, 알칼리 금속염 화합물, 4급 포스포늄 술포네이트 화합물 등), 열 안정제 (예를 들면, 인산, 아인산, 그의 유도체 등), 산화방지제 (예를 들면, 입체 방해성 페놀계 화합물 등), 및 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 한계안에서 요구되는 기타 첨가제를 함유할 수 있다.
상기 폴리에스테르의 고유 점도 (오스왈드의 점도계에 의해 오르토클로로페놀 중에서 25 ℃에서 측정) 는 바람직하게 0.4 내지 0.9이다.
본 발명의 이축 배향 폴리에스테르 필름은 5.0 GPa 이하, 바람직하게는 4.8 GPa 이하의 종방향의 영의 모듈러스를 갖고, 8.0 GPa 이상, 바람직하게는 9.0 GPa 이상의 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스를 갖는다. 종방향의 영의 모듈러스는 보다 바람직하게 3 GPa 이상이고, 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스는 보다 바람직하게 18 GPa 이하이다. 종방향의 영의 모듈러스가 5.0 GPa보다 크고, 디지털 자기 테이프가 이러한 폴리에스테르 필름으로부터 제조될 경우, 디지털 비데오 레코더의 회전 헤드가 테이프를 두드려 나오는 소리가 공명하여 바람직하지 않다. 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스가 8.0 GPa보다 작을 경우, 얻어진 자기 테이프는 헤드에 알맞게 접촉되지 않아, 출력의 감소를 가져온다.
본 발명의 이축 배향 폴리에스테르 필름은 하기의 표면 특성을 갖는다.
이축 배향 폴리에스테르 필름의 일면 (이하, "A 면"이라 지칭) 의 표면 조도 (粗度) 는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (이하, "WRa(25)A"라 지칭) 에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적 (이하, "WRa(2.5)A"라 지칭) 에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 3.0 nm이고, 그리고 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (이하, "WRa(25)B"라 지칭) 에 대하여 측정하였을 때 다른 면 (이하, "B 면"이라고 지칭) 의 표면 조도는 0.6 내지 2.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적(이하, "WRa(2.5)B"라 지칭) 에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 5.0 nm이다. WRa(25)A는 바람직하게 0.3 내지 1.0 nm이고, WRa(25)는 바람직하게 0.6 내지 1.8 nm이다.
바람직하게는, A 면은 자기층이 형성되는 면이고, B 면은 A 면의 반대면이다. 이 경우에, B 면의 표면 조도는 바람직하게 A 면의 표면 조도보다 크다. WRa(25)A가 0.3 nm보다 작은 경우, 얻어진 자기 테이프의 헤드와의 마찰이 커져서 주행하지 못하게 되고, WRa(25)A가 1.5 nm보다 큰 경우, 얻어진 자기 테이프의 출력이 불충분해지게 된다. WRa(25)B가 0.6 nm보다 작을 경우, 마찰 계수가 커지게 되어 필름의 핸들링성 (handling property) 의 악화를 가져오고, WRa(25)B가 2.5 nm보다 큰 경우, 증착시에 열항복 (heat yielding) 현상이 발생하고, B 면의 거친 표면이 A 면으로 형상 변이 (shape transfer) 되어, 필름이 감길 때 A 면의 표면을 거칠게 한다. WRa(2.5)A 및 WRa(2.5)B가 0.1 nm보다 작을 경우. 마찰 계수가 커져서 필름의 핸들링성의 악화를 가져온다.
표면 조도는 하기의 두가지 모드 (i) 및 (ii)로 되어 있다.
(i) 일면 A의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (WRa(25)A) 에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적 (WRa(2.5)A) 에 대하여 측정하였을 때 0.1 내지 2.0 nm이다. 한편, 다른 면 B의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (WRa(25)B) 에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적 (WRa(2.5)B) 에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 2.0 nm이다.
(ii) 일면 A의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (WRa(25)A) 에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적 (WRa(2.5)A) 에 대하여 측정하였을 때 0.5 내지 3.0 nm이다. 한편, 다른 면 B의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적 (WRa(25)B) 에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적 (WRa(2.5)B) 에 대하여 측정하였을 때는 2.0 내지 5.0 nm이다.
상기 모드 (i)에서 WRa(2.5)A 및 WRa(2.5)B가 2.0 nm보다 클 경우, 얻어진 자기 테이프의 불충분한 출력, 증착시의 열항복 현상, 또는 필름이 감길 때 B 면의 거친 표면의 A 면으로의 형상 변이 (shape transfer) 와 같은 불편함이 발생한다.
상기 모드 (ii)에서 WRa(2.5)A가 0.5 nm보다 작을 경우, 얻어진 자기 테이프의 주행 내구성이 불만족스러워지고, WRa(2.5)A가 3.0 nm보다 클 경우, 얻어진 자기 테이프의 출력이 불충분해지기 쉬워 바람직하지 않다. WRa(2.5)B가 2.0 nm보다 작은 경우, 마찰 계수가 상승하여 필름의 핸들링성의 악화를 가져오고, WRa(2.5)B가 5.0 nm보다 클 경우, B 면의 거친 표면이 A 면으로 형상 변이되어 필름이 감길 때 A 면의 표면을 거칠게 하기 쉽다.
증착의 이전에 필름 표면상에 코팅층이 형성될 때, 폴리에스테르 필름의 표면 조도는 코팅층의 표면 조도이다. 이 경우, WRa(2.5) 값은 코팅층에 의하여 거의 영향을 받지 않고, 폴리에스테르 필름의 표면 조도는 베이스 필름의 표면 조도와 실질적으로 같다.
본 발명의 폴리에스테르 필름 중 자기층이 형성되는 A 면을 형성하는 폴리에스테르는 실질적으로 입자를 함유하지 않거나, 또는 바람직하게는 30 내지 150 nm, 보다 바람직하게는 40 내지 100 nm의 평균 입경을 갖는 미세 입자들을, 바람직하게는 0.1 중량% 이하, 보다 바람직하게는 0.06 중량% 이하의 양으로 함유하여야 한다. 상기 미세 입자들은 바람직하게 자기층의 내구성의 관점에서 함유된다.
바람직하게는 5 내지 30 nm, 보다 바람직하게는 8 내지 30 nm의 평균 입경을 갖는 미세 분자들을, 바람직하게는 0.5 내지 12.0 중량%, 보다 바람직하게는 0.6 내지 10.0 중량%로 함유하는 유기 화합물로부터 제조된 코팅층이, 활성 (slipperiness) 을 개선하기 위하여 상기 폴리에스테르 필름의 A 면에 형성되어야 한다. 미세 입자들의 바람직한 예는 실리카, 칼슘 카보네이트, 알루미나, 폴리아크릴 입자 및 폴리스티렌 입자를 포함한다. 유기 화합물의 바람직한 예는 수용성 (또는 수분산성) 폴리에스테르, 폴리우레탄 및 아크릴산 및 그의 블렌드와 같은 극성 중합체를 포함한다. 코팅층의 두께는 바람직하게 1 내지 30 nm이다.
본 발명의 폴리에스테르 필름의 비자기층 B 면상에서, WRa(2.5)B는 바람직하게 WRa(2.5)A보다 크다. 2.5 x 1.9 mm의 WRa(2.5) 면적에서 B 면만을 거칠게 하는 방법은 특별히 한정되지는 않으나, 용융 압출된 폴리에스테르를, 미세하고 불균일한 표면을 갖는 캐스팅 드럼상에서 고형화하고 냉각하여 폴리에스테르 필름을 제조함으로써, 캐스팅 드럼 (casting drum) 과 접촉한 표면 (B 면) 만을 불균일하게 만드는 방법이 바람직하게 채용된다. WRa(25) 면적 (246.6 x 187.5 ㎛) 에서 B 면만을 거칠게하는 방법은 특별히 제한되지는 않으나, A 면보다 거친 표면을 갖는 코팅층이 폴리에스테르 필름의 B 면상에 형성되는 방법, 미세 입자를 함유한 폴리에스테르 필름층 (B 면층) 이 미세입자를 함유하지 않는 폴리에스테르 필름층 (A 면상의 층) 의 한면상에 형성되는 방법, 종류 및 평균 입경 및/또는 미세 입자의 함량이 서로 다른 두 개의 상이한 폴리에스테르 필름층이 서로 적층되는 방법 등이 채용된다.
상기 코팅층의 형성은, 코팅층이 A 면상에 형성되는 방법에 의하여 수행될 수 있다. 표면은, 바람직하게는 10 내지 200 nm, 더욱 바람직하게는 20 내지 100 nm의 평균 입경을 갖는 미세 입자 (예컨대, 폴리에틸렌 입자, 폴리아크릴 입자, 실리콘 수지 입자, 칼슘 카보네이트, 실리카, 알루미나 등) 를 바람직하게는 5 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 30 중량%의 양으로, 바인더 수지인 폴리비닐알콜, 젤라틴, 셀룰로오스, 또는 스티렌 공중합체를 부분적으로 (5 내지 50 중량%, 특히 10 내지 40 중량%) 함유한 술폰산 염기 등의 잘 신장되지 않는 수지와 조합하여, 또는 독립적으로, 사용함으로써 거칠게 할 수 있다.
종래 알려진 임의의 바인더 수지가 상기 바인더 수지로서 사용될 수 있는데, 수용성 (또는 수분산성) 폴리에스테르, 폴리우레탄, 아크릴 수지 등을 예로 들 수 있다. 코팅층의 두께는 바람직하게 3 내지 50 nm, 보다 바람직하게 5 내지 30 nm이다.
폴리에스테르 필름층을 적층하는 방법은 바람직하게는 공압출법이다. B 면을 형성하는 폴리에스테르 필름층의 두께는 바람직하게는 필름 총두께의 1/2 내지 1/10이다. B 면을 형성하는 폴리에스테르 필름층에 사용되는 미세 입자의 예는 칼슘 카보네이트, 실리카, 알루미나, 폴리스티렌 입자, 실리콘 수지 입자 등을 포함한다. 미세 입자의 평균 입경은 바람직하게 50 내지 500 nm, 보다 바람직하게는 60 내지 300 nm이다. 미세 입자의 양은 바람직하게, 0.05 내지 0.3 중량%, 보다 바람직하게는 0.08 내지 0.2 중량%이다.
본 발명의 이축 배향 폴리에스테르 필름은 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0 내지 1.5 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 2.0 내지 5.0 %의 종방향의 열수축율, 그리고, 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0.5 내지 3.0 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 6.0 내지 11.0 %의 종방향에 수직한 방향의 열수축율을 갖는다.
150 ℃에서 30 분동안 가열할 때의 열수축율이 상기 범위의 밖에 있다면, 증착 테이프가 제조되는 증착시에 가열된 자기 박막층 및 폴리에스테르 필름 사이에 수축량의 차이가 있게 될 것이고, 자기 테이프는 구부러져 헤드에 알맞게 접촉하지 못하여 바람직하지 않다.
105 ℃에서 30 분간 가열할 때의 열수축율이 상기 범위의 밖에 있다면, 얻어진 자기 테이프가 고온에서 저장된 이후에 크기가 변하여, 소위 "트랙 이탈" 및 출력 감소를 유발하여 바람직하지 않다.
본 발명의 폴리에스테르 필름의 두께는 바람직하게 2 ㎛ 이상 및 7 ㎛ 미만이다. 폴리에스테르 필름의 재료는 특히 바람직하게, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트이다.
본 발명의 폴리에스테르 필름은 본 산업에서 종래 공지되거나 축적된 방법에 의하여 제조될 수 있다. 예를 들면, 폴리에스테르는 (Tm) 내지 (Tm + 70) ℃ (Tm : 용융점) 의 온도에서 공지의 압출기를 사용하여 시트 (sheet) 의 형태로 압출되고, 40 내지 90 ℃에서 급냉함으로써 고형화되어, 미연신 필름으로 제조된다. 이후, 미연신 필름은 대략 (Tg - 10) 내지 (Tg + 70) ℃ (Tg : 폴리에스테르의 유리 전이 온도) 의 온도에서, 일축 방향 (종방향 또는 가로방향) 으로 2.5 내지 4.5 배, 바람직하게는 2.8 내지 3.9 배로 흔히 사용되는 방법에 의하여 연신된다. 필름의 한면 또는 양면에 코팅을 하고, 그것을 건조함으로써 예정된 코팅층이 형성된 이후에, 또는 건조하는 동안에, 필름을 약 Tg 내지 (Tg + 70) ℃의 온도에서 상기 방향에 수직한 방향으로 4.5 내지 8.0 배, 바람직하게는 4.5 내지 6.0 배 연신하고, 필요한 만큼 추가로 종방향 및/또는 횡방향으로 다시 연신하여, 이축 배향 필름을 제조한다. 즉, 2 단계, 3 단계, 4 단계, 또는 다단계 배향이 이루어질 수 있다. 총 연신비는 면적 연신비로서 일반적으로 12 배 이상, 바람직하게는 12 내지 32 배, 보다 바람직하게는 14 내지 26 배이다. 이어서, 이축 배향 필름은 (Tg + 70) 내지 (Tm - 10) ℃, 예를 들면 결정화를 위하여 180 내지 250 ℃의 온도에서 열고정되어, 우수한 치수안정성을 갖도록 한다. 열고정 시간은 바람직하게 1 내지 60 초이다. 이러한 열고정에서, 필름은 바람직하게 종방향 및/또는 횡방향으로 3.0 % 이하, 특히 0.5 내지 2.0 % 이완되어, 열수축율을 조절하게 된다.
상기 방법은 단층 필름의 한면 또는 양면에 코팅층을 형성하는 것이다. 미세 입자를 함유하는 폴리에스테르 필름층이 코팅층 대신에 필름의 B 면상에 형성되는 경우, 공압출법이 바람직하게 사용된다. 이러한 공압출법은 A 면을 형성하는 폴리에스테르 및 B 면을 형성하는 폴리에스테르가 다이에서 함께 적층되고, 공압출되고, 40 내지 90 ℃에서 급냉에 의해 고형화되어, 적층 미연신 필름이 제조되는 것을 제외하고는, 단층 필름의 경우와 동일한 요령으로 이루어진다.
본 발명의 폴리에스테르 필름은 금속 증착 조작에 특히 적합한 상기 특성을 갖는다. 자기층, 예컨대 강자성 금속형 박막이 진공 증착에 의해 A 면 (형성될 때의 코팅층) 에 형성될 수 있다. 임의의 공지 금속이 이러한 금속으로서 제한없이 이용될 수 있다. 그러나, 금속은 바람직하게 철, 코발트, 니켈 또는 그의 강자성 합금이다. 이러한 금속 박막은 바람직하게 대략 10 nm의 두께를 갖는 다이아몬드상 탄소 필름으로 코팅된다. 금속 박막층의 두께는 100 내지 300 nm이다.
폴리에스테르 필름의 B 면상에, 금속 증착 조작 이후에, 고형 미세입자 용액 및 바인더 및 임의로 첨가제의 용액을 코팅함으로써 백코트층 (back coat layer) 을 형성할 수 있다. 공지의 고형 미세입자, 바인더 및 첨가제가 제한없이 사용될 수 있다. 백코트층의 두께는 대략 0.3 내지 1.5 ㎛이다.
본 발명의 폴리에스테르 필름은 장시간의 기록 디지털 비데오 테이프로 사용될 때 특히 우수한 결과가 얻어지므로, 자기 기록 매체용 베이스 필름으로 사용되기에 적합하다. 본 발명이 데이타 저장 테이프로 사용될 때도, 우수한 결과가 얻어질 수 있다.
본 명세서 또는 실시예에서 사용되는 필름의 특성 및 기타 성질은 하기의 방법에서 측정 및 정의된다.
(1) 폴리에스테르의 고유 점도
폴리에스테르를 오르토클로로페놀에 용해하고, 폴리에스테르의 고유 점도를 오스왈드의 점도계로써 구한다. 점도 측정 온도는 25 ℃이다.
(2) 필름의 표면 조도 (surface roughness)
(1) WRa(2.5)
비접촉 3-D 표면 조도 계측기 (WYKO사의 NT-2000) 를 사용하여, 2.5 x 1.9 mm (= 4.75 mm2) 의 측정 면적 및 2.5X의 측정 확대율과 같은 조건하에서 10 회 이상의 측정을 행하여, 필름의 A 및 B 양면의 표면 조도를 측정하고, 중심면 평균 표면 조도 (WRa(2.5)) 를 조도 계측기에 포함된 표면 분석 소프트웨어로 계산하였다.
(식에서,)
Zjk는 측정 방향 (2.5 mm) 및 측정 방향에 수직한 방향 (1.9 mm) 들이 각각 m 및 n 구역으로 구분될 때, 이들 방향에서 j번째 위치 및 k번째 위치에서의 2-D 조도 차트의 높이이다.
(2) WRa(25)
비접촉 3-D 표면 조도 계측기 (WYKO사의 NT-2000) 를 사용하여, 246.6 x 187.5 ㎛ (= 0.0462 mm2) 의 측정 면적 및 25X의 측정 확대율과 같은 조건하에서 10 회 이상의 측정을 행하여, 필름의 A 및 B 양면의 평균 표면 조도를 측정하고, 중심면 평균 표면 조도 (WRa(25)) 를 조도 계측기에 포함된 표면 분석 소프트웨어로 계산하였다.
(식에서,)
Zjk는 측정 방향 (246.6 ㎛) 및 측정 방향에 수직한 방향 (187.5 ㎛) 들이 각각 m 및 n 구역으로 구분될 때, 이들 방향에서 j번째 위치 및 k번째 위치에서의 2-D 조도 차트의 높이이다.
(3) 필름의 영의 모듈러스
필름을 10 cm의 길이 및 10 mm의 폭으로 잘라, 이 시료를 척 간격 100 mm, 인장 속도 100 mm/분 및 차트 속도 500 mm/분으로 인스트론형 유니버설 인장 시험기로 인장한다. 영의 계수는 얻어진 하중-신장 곡선의 증가 부분의 기울기로부터 계산된다.
(4) 105 ℃에서 30 분간 및 150 ℃에서 30 분간의 열수축율
폭 10 mm 및 길이 30 cm의 시료를 오븐에서 각각의 온도로 30 분간 가열하고, 열수축 이후 길이의 차를 측정하여, 원래의 길이로 나누고 100을 곱하여 열수축율 (%) 을 얻는다.
(5) 필름의 마찰 계수 (μk)
필름을 길게 잘라 얻은 1/2 인치 폭의 테이프를, SFT-700 테이프 주행 시험기 (요코하마 시스템 켄큐쇼 사 제품) 를 사용하여, 20 ℃, 상대습도 60 %에서 주행시켜, 하기식으로부터 그의 초기 마찰 계수를 얻었다:
μk = 2/πln(T2/T1)
(식에서, T1은 입력 인장력이고, T2는 출력 인장력이다).
가이드 직경은 6 mm, 가이드 재료는 SUS27 (0.2 S의 표면 조도), 와인딩 각도는 90 °, 그리고 주행 속도는 3.3 cm/초이다.
마찰 계수는 하기 기준에 기초하여 판정된다.
0 : 0.5 미만
X : 0.5 이상
(6) 필름의 마찰 계수
유리 플레이트를 한 세트인 두 개의 필름의 아래에 고정시키고, 세트중 하부 필름 (유리 플레이트와 접촉한 필름) 을 정속 롤 (10 cm/분) 로 인장하고, 감지기를 상부 필름의 한쪽 끝 (하부 필름의 인장 방향의 반대편 끝) 에 고정하여, 필름 사이의 인장력 (F) 을 측정한다. 상부 필름에 위치한 슬레드 (sled) 는 50 cm2(80 x 62.5 mm) 의 하부 면적을 갖고, 필름과 접촉한 슬레드의 표면은 80°네오프렌 고무로 만들어졌고, 슬레드의 중량 (W) 은 1.2 kg이다.
정마찰 계수는 하기식으로부터 얻어지고, 하기 기준에 기초하여 평가된다.
μs = F (g) / W (g)
기준 :
○: 0.4 미만
△ : 0.4 이상 및 0.6 미만
×: 0.6 이상
(7) 필름의 열항복
Co-Ni 합금 (20 중량%의 Ni) 의 200 nm 두께의 증착층을, 연속식 진공 증착 장치를 사용하여 극소량의 산소의 존재하에 폭 500 mm의 길다란 필름상에 형성한다. 냉각 드럼의 온도가 70 ℃로 고정되고, 증착 속도가 100 m/분으로 고정되고, 증착이 9,000 m 길이의 필름 롤에서 이루어질 때, 필름이 열에 항복하여 몇 회나 용융되고 절단되는지에 근거하여 판정한다.
○ : 없음
△ : 1회
× : 2회 이상
(8) 자기 테이프 (1)의 출력
Co-Ni 합금 (20 중량%의 Ni) 의 200 nm 두께의 증착층을, 연속식 진공 증착 장치를 사용하여 극소량의 산소의 존재하에 필름상에 형성한다. 그리고, 공지 수단에 의하여 증착층 표면상에 탄소 보호층을 형성하고, 그 결과의 층을 폭 8 mm로 길게 잘라, 팬케이크형으로 만든다. 이 팬케이크 중 200 m 부분을 카세트에 담아, 카세트 테이프를 제조한다.
이 테이프의 C/N을 시판 Hi8 VTR (소니사의 EV-BS3000) 을 사용하여 7 MHz ± 1 MHz에서 측정한다.
테이프 제조 직후의 출력을 초기 출력으로 취급하고, 60 ℃에서 10 일간 저장한 후의 출력을 저장후 출력으로 취급하여, 시판 Hi8 비데오 테이프 (120 분 ME) 의 그것과 비교하고, 하기 기준에 기초하여 판정한다.
○ : +3 dB 이상
△ : +1 dB 이상 및 +3 dB 미만
× : +1 dB 미만
(9) 자기 테이프 (2)의 출력
강자성 박막을 갖는 자기 테이프의 출력 특성을 시판 Hi8 시스템의 8 mm 비데오 테이프 레코더를 사용하여 측정한다. 출력 특성 (비데오 S/N 비율) 에 대하여, TV 시험 신호 발생기로부터의 신호를 Hi8 시스템의 8 mm 비데오 테이프 레코더에 공급하고, 비데오 소음 측정기를 사용하여 0 dB인 시판 표준 Hi8ME 테이프의 그것과 비교하였다.
자기 테이프의 제조 직후의 출력을 초기 출력으로 취급하고, 60 ℃에서 10 일간 저장한 후의 출력을 저장후 출력으로 취급하며, 100 회 반복하여 주행한 이후의 출력을 주행후 출력으로 취급하여, 하기 기준에 기초하여 평가한다.
○ : +2 dB 이상
△ : 0 내지 +2 dB 미만
× : 0 dB 미만
이미지가 기록된 상태에서, 헤드로 테이프를 두드림으로써 발생된 소리가 공명을 하는지 아닌지를 관찰한다.
○ : 공명하지 않음
△ : 공명함
본 발명을 추가로 예시하기 위하여 하기의 실시예들이 주어진다.
실시예 1
불활성 입자를 실질적으로 포함하지 않는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 (고유 점도 0.6) 의 펠렛을 170 ℃에서 6 시간동안 건조하고, 압출기에 공급하여 305 ℃에서 용융하였다. 이 용융 중합체를 흔히 사용되는 방법으로 여과하고, 다이로부터 시트의 형태로 압출하였다. 이 시트를 60 ℃의 표면 온도를 갖는 캐스팅 드럼의 주위에 감아, 정전 캐스팅법에 따라서 냉각함으로써 고형화하여 미연신 필름을 제조하였다. 이어, 미연신 필름을 120 ℃에서 예열하고, 15 mm 떨어진 900 ℃의 IR 가열기로 가열하면서, 저속 및 고속 롤 사이에서 길이 방향으로 3.7 배 연신하고, 이후 하기에 나타난 조성을 갖는 수용액 (코팅) 을 필름상에 코팅하였다.
A 면의 코팅 :
* 공중합체 (테레프탈산/이소프탈산/5-나트륨 술포이소프탈산//에틸렌 글리콜/프로피온 옥시드 2 몰의 비스페놀 A 부가물 = 97/1/2//60/40) 80 중량부
* 아크릴 수지 입자 (평균 입경 20 nm) 5 중량부
* NOF사의 Nonion NS-240 15 중량부
* 고형분 : 1.0 중량%
* 코팅층 두께 (건조후) : 6 nm
B 면의 코팅 :
* 공중합체 (테레프탈산/이소프탈산/5-나트륨 술포이소프탈산//에틸렌 글리콜/프로피온 옥시드 2 몰의 비스페놀 A 부가물 = 97/1/2//60/40) 60 중량부
* 실리카 입자 (60 nm의 평균 입경) 10 중량부
* 히드록시프로필메틸 셀룰로오스 20 중량부
* NOF사의 Nonion NS-208.5 10 중량부
* 고형분 : 2.5 중량%
* 코팅층 두께 (건조후) : 15 nm
이후, 필름을 스텐터 (stenter) 에 공급하여 150 ℃에서 횡방향으로 4.9 배 연신시키고, 횡방향으로 1.14 배 토우-아웃 (tow out) 시키면서 200 ℃로 가열하고, 180 ℃에서 횡방향으로 1.2 % 완화시켜, 4.7 ㎛의 두께를 갖는 이축 배향 필름을 제조하였다. 이 폴리에스테르 필름의 표면상에 상기 방법 (8)에 의하여 증착층을 형성하여 자기 테이프를 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
실시예 2
실시예 1의 베이스 필름 제조시에, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 대신에 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 사용하고, 건조 시간을 3 시간으로 변경하고, 용융 압출 온도를 295 ℃로 변경하고, 캐스팅 드럼의 표면 온도를 20 ℃로 변경하고, 필름을 110 ℃에서 길이 방향으로 3.0 배, 105 ℃에서 횡방향으로 3.3 배 연신시키고, 횡방향으로 1.6 배 토우-아웃시키면서 210 ℃로 가열하고, 170 ℃에서 횡방향으로 1.0 % 완화시킨 것을 제외하고, 실시예 1에서와 같은 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
실시예 3
실시예 1의 베이스 필름 제조시에, 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트인 원료 물질 A, 및 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 중에 200 nm의 평균 입경을 갖는 실리카를 0.15 중량% 함유시킴으로써 얻어진 원료 물질 B를 5 : 1의 두께비로 공압출한 것을 제외하고, 실시예 1에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
비교예 1
실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 중에 300 nm의 평균 입경을 갖는 실리카를 0.5 중량% 함유시킴으로써 얻어진 원료 물질 B를 실시예 3의 베이스 필름 제조시에 사용한 것을 제외하고, 실시예 3에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
비교예 2
실시예 1의 베이스 필름 제조시에 코팅층을 B 면상에 형성하지 않은 것을 제외하고, 실시예 1에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다. 얻어진 폴리에스테르 필름이 증착 단계에서 큰 마찰 계수 및 나쁜 핸들링성을 가지므로, 증착이 불가능하였다.
비교예 3
실시예 1의 베이스 필름의 제조시에, 길이 방향의 연신비를 4.0 배로 변경하고, 횡방향의 연신비를 4.5 배로 변경하고, 횡방향의 완화율을 0.9 %로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
비교예 4
실시예 2의 베이스 필름의 제조시에, 길이 방향으로의 연신비를 3.5 배로 변경하고, 횡방향으로의 연신비는 2.8 배로 변경하고, 그리고 횡방향의 완화율을 0.9 %로 변경한 것을 제외하고, 실시예 2에서와 같은 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다. 얻어진 자기 테이프는 부적당한 헤드와의 접촉 및 불충분한 출력과 같은 문제들을 가졌다.
비교예 5
실시예 2의 베이스 필름의 제조시에, 횡방향으로 연신한 이후의 열처리 온도를 195 ℃로 변경한 것을 제외하고, 실시예 2에서와 같은 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다.
비교예 6
실시예 1의 베이스 필름의 제조시에, 횡방향으로 연신한 이후의 열처리 온도를 230 ℃로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 1과 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 1에 제시되었다. 얻어진 테이프는 테이프의 길이 및 횡의 양방향에서 자기층을 향해 크게 구부러졌다.
표 1로부터 명백하듯이, 본 발명의 폴리에스테르 필름은 작은 마찰 계수와 함께 우수한 핸들링성을 가지고, 증착시에 열항복이 없으며, 자기층 표면으로의 형상 변이에 의해 유발된 출력 감소가 없는 자기 테이프를 제공할 수 있다.
실시예 4
불활성 입자를 실질적으로 포함하지 않는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 (고유 점도 0.6) 의 펠렛을 170 ℃에서 6 시간동안 건조하고, 압출기에 공급하여 305 ℃에서 용융하였다. 이 용융 중합체를 흔히 사용되는 방법으로 여과하고, 다이로부터 시트의 형태로 압출하였다. 이 시트를, 60 ℃의 표면 온도 및 미세 균열된 표면을 갖는 캐스팅 드럼의 주위에, 드럼과 접촉한 표면이 시트의 비자성 B 면상에 위치하도록 감아, 정전 캐스팅법에 따라 냉각함으로써 고형화하여 미연신 필름을 제조하였다. 이어, 이 미연신 필름을 120 ℃에서 예열하고, 15 mm 떨어진 900 ℃의 IR 가열기로 가열하면서, 저속 및 고속 롤 사이에서 길이 방향으로 3.7 배 연신하고, 이후 실시예 1에서 사용된 것과 동일한 용액 (코팅) 을 필름위에 코팅하였다.
이후, 필름을 스텐터에 공급하여 150 ℃에서 횡방향으로 4.9 배 연신시키고, 횡방향으로 1.14 배 토우-아웃시키면서 200 ℃로 가열하고, 180 ℃에서 횡방향으로 1.2 % 완화시켜, 4.7 ㎛의 두께를 갖는 이축 배향 필름을 제조하였다. 진공하에서 이 폴리에스테르 필름의 표면 (A 면) 상에 110 nm 두께의 Co-산소 박막을 형성하였다. 그리고 나서, 이 Co-산소 박막의 위에, 스퍼터링 (sputtering) 에 의해 10 nm 두께의 다이아몬드상 탄소 필름을 형성하였다. 그 후, 카본 블랙, 폴리우레탄 및 실리콘으로부터 만들어진 500 nm 두께의 백코트층 (back coat layer) 을 B 면의 위에 형성시키고, 그 결과의 필름을 슬리터 (slitter) 에 의해 8 mm 폭으로 길게 자르고, 릴의 주위에 감아 상기 방법 (9)에 따라 자기 테이프를 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
실시예 5
실시예 4의 베이스 필름 제조시에, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 대신에 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (고유 점도 0.54) 를 사용하고, 펠렛 건조 시간을 3 시간으로 변경하고, 용융 압출 온도를 295 ℃로 변경하고, 캐스팅 드럼의 표면 온도를 20 ℃로 변경하고, 필름을 110 ℃에서 길이 방향으로 3.0 배, 105 ℃에서 횡방향으로 3.3 배 연신시키고, 횡방향으로 1.6 배 토우-아웃시키면서 210 ℃로 가열하고, 170 ℃에서 횡방향으로 1.0 % 완화시킨 것을 제외하고, 실시예 4에서와 같은 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 4와 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
실시예 6
실시예 4의 베이스 필름 제조시에, 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트인 원료 물질 A, 및 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 중에 300 nm의 평균 입경을 갖는 실리카를 0.3 중량% 함유시킴으로써 얻어진 원료 물질 B를 5 : 1의 두께비로 공압출한 것을 제외하고, 실시예 4에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 4와 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
실시예 7
실시예 5의 베이스 필름 제조시에, 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌 테레프탈레이트인 원료 물질 A, 및 실질적으로 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 중에 200 nm의 평균 입경을 갖는 실리카를 0.3 중량% 함유시킴으로써 얻어진 원료 물질 B를 5 : 1의 두께비로 공압출한 것을 제외하고, 실시예 5에서와 같은 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었다. 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 4와 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
비교예 7
실시예 4의 베이스 필름의 제조시에, 150 ℃에서 길이 방향으로 4.0 배 및 횡방향으로 4.5 배로 연신하고, 추가로 200 ℃에서 횡방향으로 1.14 배 토우-아웃한 것을 제외하고는, 실시예 4에서와 동일한 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 실시예 4에서와 동일한 요령으로 자기 테이프를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
비교예 8
실시예 5의 베이스 필름의 제조시에, 105 ℃에서 길이 방향으로 3.5 배 및 횡방향으로 2.8 배로 연신하고, 추가로 210 ℃에서 횡방향으로 1.6 배 토우-아웃한 것을 제외하고는, 실시예 5에서와 동일한 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 었얻고, 그리고 나서, 실시예 4에서와 동일한 요령으로 자기 테이프를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다. 주행 후 자기 테이프를 관찰하였을 때, 테이프의 가장자리가 손상되었다.
비교예 9
실시예 5의 베이스 필름의 제조시에, 105 ℃에서 횡방향으로 3.3 배 연신하고, 추가로 195 ℃에서 횡방향으로 1.6 배 토우-아웃한 것을 제외하고는, 실시예 5에서와 동일한 요령으로 6.4 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 었얻고, 그리고 나서, 실시예 4에서와 동일한 요령으로 자기 테이프를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
비교예 10
실시예 6의 베이스 필름의 제조시에, 원료 물질 A를 불활성 입자를 함유하지 않은 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 중에 110 nm의 평균 입경을 갖는 실리카를 0.2 중량% 함유시킴으로써 얻어진 원료 물질로 변경한 것을 제외하고, 실시예 6에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 자기 테이프를 실시예 4와 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다.
비교예 11
실시예 4의 베이스 필름의 제조시에, 횡방향으로 연신한 이후의 열처리 온도를 230 ℃로 변경한 것을 제외하고, 실시예 4에서와 같은 요령으로 4.7 ㎛ 두께의 폴리에스테르 필름을 얻었고, 그리고 나서, 자기 테이프를 실시예 4와 동일한 요령으로 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르 필름 및 자기 테이프의 특성이 표 2에 제시되었다. 얻어진 자기 테이프는 테이프의 길이 및 횡의 양방향에서 자기층 방향으로 크게 구부러졌다.
표 2로부터 명백하듯이, 본 발명의 폴리에스테르 필름은 작은 마찰 계수와 함께 우수한 핸들링성을 가지고, 저장후 또는 반복 주행 이후의 출력이 우수하고, 거의 손상되지 않으며, 구부러지지 않는 자기 테이프를 제공할 수 있다.

Claims (10)

  1. 하기 (1), (2) 및 (3)을 갖는 자기 기록 매체용 이축 배향 폴리에스테르 필름:
    (1) 5.0 GPa 이하의 종방향의 영의 모듈러스 및 8.0 GPa 이상의 상기 종방향에 수직한 방향의 영의 모듈러스;
    (2) 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.1 내지 3.0 nm의 일면의 표면 조도 (粗度), 그리고 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm, 및 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 5.0 nm의 다른 면의 표면 조도; 및
    (3) 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0 내지 1.5 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 2.0 내지 5.0 %의 종방향의 열수축율, 그리고, 105 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 0.5 내지 3.0 %, 및 150 ℃에서 30 분동안 가열하였을 때 6.0 내지 11.0 %의 종방향에 수직한 방향의 열수축율.
  2. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름의 상기 일면의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.1 내지 2.0 nm이며, 상기 다른 면의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 0.1 내지 2.0 nm인 이축 배향 폴리에스테르 필름.
  3. 상기 제 1 항에 있어서, 상기 일면의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.3 내지 1.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.5 내지 3.0 nm이며, 상기 다른 면의 표면 조도는, 246.6 x 187.5 ㎛의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때 0.6 내지 2.5 nm이고, 2.5 x 1.9 mm의 측정 면적에 대하여 측정하였을 때는 2.0 내지 5.0 nm인 이축 배향 폴리에스테르 필름.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 일면의 표면이 그 위에 자기층을 형성하는 표면이고, 상기 다른 면의 표면이 그 반대면의 표면인 이축 배향 폴리에스테르 필름.
  5. 제 1 항에 있어서, 2 ㎛ 이상 및 7 ㎛ 미만의 두께를 갖는 이축 배향 폴리에스테르 필름.
  6. 제 1 항에 있어서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트로부터 제조된 이축 배향 폴리에스테르 필름.
  7. 자기 기록 매체용 베이스 필름으로 사용되는 제 1 항의 이축 배향 폴리에스테르 필름의 용도.
  8. 제 1 항의 이축 배향 폴리에스테르 필름 및 상기 폴리에스테르 필름의 일면의 표면상에 형성된 자기층으로 이루어진 자기 기록 매체.
  9. 제 8 항에 있어서, 자기층이 강자성 금속 박막층인 자기 기록 매체.
  10. 제 8 항에 있어서, 디지털 기록 시스템의 자기 테이프인 자기 기록 매체.
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