KR19990081939A - 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I:
[화학식 I]
RaR1 bSiXc
[식중, 동일하거나 상이한 R 또는 R1은 수소원자, 선형 C1∼C6알킬, 분지형 아릴, 알킬아릴 또는 아르알킬기이고; X 는 할로겐 원자이며; 합 a + b + c = 4(0 < c < 4)]의 하나 이상의 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법에 관한 것이고, 상기 방법은 유기할로실란 (I) 의 3 이상의 연속 가수분해 단계 (1), (2), (3) 을 실행하여 유기할로실란 (I) 에 증가하는 가수분해력을 발휘할 수 있는 반응 매질을 수득하는 단계(상기 (1) 단계는 반응 매질의 압력 및 온도에서 포화 할로겐화수소의 S1수용액의 존재하 가압하 가수분해이다); 및 임의로, 하나 이상의 융합 단계 (4) 를 실행하는 단계를 포함한다.

Description

유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법
본 발명은 실리콘 화학의 기본 원리, 즉 할로실란 및 더욱 특히 폴리(유기)실록산을 수득하는 유기할로실란의 가수분해에 관한 것이다. 이 합성은 ≡Si-Cl 결합 및, 작게, ≡SiOR 결합(R = 알킬)의 물과의 초고반응성을 기재로 한다.
그래서 유기할로실란을 가수분해 및 중축합(균일 및 불균일축합)에 의해 전환시켜 선형 또는 환식 구조의 중간 풀리유기실록산(올리고유기실록산)이 되고, 이것을 실리콘 오일 또는 고분자량의 실리콘 탄성중합체로 중합 및 가교시킬 수 있다.
디메틸디클로로실란은 이 가수분해/축합 반응에 대한 출발물질로서 널리 공지된 유기할로실란이다.
Me2SiCl2의 상기 가수분해/축합 반응에 관한 기술적 방법을 연속해서 작동시키고 공업적으로 완전히 확립되었다. 예를 들어, 이것은 Encyclopedia of Polymer science(Vol. 12 Wiley and Sons, New York, 1970)에서 H.K. Lichtenwalner 및 M.M. Sprung 에 의해 기재되었다.
Me2SiCl2의 가수분해가 환식 및 선형 올리고유기실록산의 복잡한 혼합물을 초래한다. 종래, 가수분해에 필요한 반응수의 기원은 염산 용액에 의해 형성된다. 이 방법을 가능한한 실행가능하게 하기 위해, 가수분해에 의해 형성된 염산을 회수하고 그래서 예를 들어 메탄올과의 반응에 의해 개선하여 클로로메탄을 형성할 수 있으며, 이것은 직접 합성법에 따른 디메틸디클로로실란의 합성에서의 출발 물질이다.
유기할로실록산, 예컨대 Me2SiCl2의 가수분해에 대한 각종 제안이 종래 기술에서 발견되었다.
그래서, 프랑스 특허 출원 No. 2,512,028 로부터, 유기할로실란의 가수분해용 수원이 염화수소 35 중량% 이상의 염산 수용액이고, 상기 용액을 H2O/유기클로로실란 몰비가 10 내지 30 의 양으로 사용하는, 유기할로실란, 특히 Me2SiCl2의 가수분해 방법이 공지되었다. 가수분해는 단일 단계에서 발생한다. 여기에서 목적하는 바는, 한편으로 수득된 폴리유기실록산 기재 가수분해물에서 할로겐(염화물)의 중량% 를 상당히 감소시키는 것이고, 다른 한편으로 더 나은 시클로폴리유기실록산 수율을 수득하는 것이다. 20 내지 30 ℃ 의 반응 온도동안, HCl 수용액의 농도는 37 중량% 이하이다. 임의 경우, 온도와 무관하게, 이 HCl 용액을 특허 출원 No. 2,512,028 의 실시예에서 결코 포화시키지 않는다.
과다한 물의 존재하 이런 가수분해의 단점은 대량의 염산 수용액을 초래한다. 현재, 가장 용이하게 개선가능한 HCl 로 주어진 것은 HCl 기체이고, HCl 수용액의 증류를 실행하는 것이 필요하며, 이것은 특히 값비싸다.
게다가, 과다한 물의 존재하 가수분해는 극도로 발열반응성이고, 불가피하게 작동난을 수반한다.
프랑스 특허 출원 No. 2,518,099 에 의해 포함된 본 발명은 실질적으로 물의 화학양론적 양을 이용하여, 디메틸디클로로실란의 1 단계 가수분해에 대한 이들 단점을 극복하는 목적을 갖는다. 이것은 염산 무수물(기체), 염산 포화수용액 및 폴리유기실록산 가수분해물을 수득하는 것을 가능하게 한다. 비록 가수분해의 마지막에 HCl 수용액을 포화시켜도, 이것은 초기 HCl 용액에 대한 경우가 결코 아닌 실시예로부터 나타난다(참조. 실시예 3: 60 ℃ 에서 37 중량%). 그러므로 반응에서 제조된 HCl 이 기체 형태로 완전히 방출되지 않는다는 것을 결론내릴 수 있다.
FR-A-2,518,099 에 따른 발명은 물부족 조건의 발생없이 과다한 물을 피하는 것을 목적하고, 이것은 완전히 가수분해되지 않으며 말단 위치에서 할로겐(염소)를 포함하는 선형 폴리유기실록산을 생기게 한다. 그 다음 대량의 물을 사용하여 가수분해를 완결시켜야 하고, 이에 의해 특히 부담되고 HCl 유출수를 재순환시키고/거나 이들을 저비용으로 제가공하는 것이 어려움에 따라 지금까지 다루기 까다로운 HCl 유출수를 초래하기 때문에 이것은 완전히 불리하다.
이런 조건하 올리고유기실록산의 중축합이 발생하고, 이의 직접 결과가 점도를 금지할만큼 증가시키기 때문에, 이 부가 가수분해를 소량의 물로 실행하는 것이 가능하지 않다.
더욱 최근에, 미국 특허 No. 5,169,970 은 유기클로로실란의 가수분해 방법을 기재하고, 이에 따라 가수분해를 2 단계로 실행한다:
- 제 1 가수분해 단계는 실질적으로 물의 화학양론적 양을 이용한 유기클로로실란의 가수분해 및 그래서 폴리유기실록산으로 만든 가수분해물의 제조로 이루어지고,
- 제 2 가수분해 단계에서, 1 단계로부터 수득된 가수분해물을 동일한 처리를 실행하지만, 이번에는 물의 공급원이 예정된 HCl 농도의 HCl 용액으로 이루어진, 화학양론적 과량으로 물의 양을 사용한다.
이 방법은 가수분해 단계에 관련한 공지된 기술의 결점을 경험함이 없이 폴리유기실록산 가수분해물을 수득하는 것을 가능하게 하고, 이것은 유기할로실란에 대해, 과다한 물 또는 부족한 물, 또는 물의 화학양론적 양을 포함한다. 이 방법은 수득된 폴리유기실록산의 점도를 조정하는 것을 또한 가능하게 할 수 있다.
이 방법은 저압에서 HCl 기체를 생산한다는 단점이 있고, 이것은 이 기체의 회수 및 개선을 복잡하게 한다.
2 단계 가수분해의 원리를 유럽 특허 출원 No. 0,658,588 에 기재된 폴리디메틸실록산의 제조 방법에 또한 채택한다. 이 방법에 있어서, 디메틸디클로로실란을 25 중량% 의 적정으로 염산 수용액에 의해 보충된, 물과 1 단계에서 반응시켜, 환식 및 선형 α,ω-디클로로 폴리디메틸실록산 및 염화수소 기체로 이루어진 조 가수분해 생성물을 수득한다.
제 2 단계에서, 조 가수분해물을 증기로 처리하여 부가 가수분해에 의해 이의 염소 함량을 감소시키고, 이것이 또한 염산 수용액을 형성한다. 염산 수용액을 이 방법의 제 1 단계로 재순환시킨다.
제 1 단계에서 염화수소 기체의 압력은 0.15 내지 0.5 MPa, 특히 0.25 내지 0.35 MPa 이다. 제 1 단계의 온도는 실온인 반면, 제 2 단계에 대해서, 110 내지 160 ℃ 의 온도를 참조한다. 제 1 가수분해 단계의 마지막에, 수득된 폴리디메틸실록산은 50 % 환식 올리고머 및 50 % 선형 α,ω-클로로 올리고머를 포함한다.
1 단계내 가수분해 단계에서 이런 HCl 적정 및 2 단계에서 고온의 사용은 최종 생성물의 점도를 안정화하고 제어하는 것을 어렵게 한다.
특허 출원 DD-227,145 는 저점도 및 저장시 안정성 뿐만 아니라 10 ppm 미만의 SiCl 결합의 잔류 함량을 지닌 중성 디메틸디클로로실란 가수분해물의 제조 방법을 기재한다. 이 방법은 세척 및/또는 중화후, 이 가수분해물의 통과에 의해 쉬트형태로 다공성 물질을 통해 잔류 SiCl 기 및 디메틸디클로로실란 가수분해 생성물내 함유된 수성 HCl 의 제거를 위한 처리를 포함한다. 이 물질은 종이 또는 포(布)형태(양모, 셀룰로스, 폴리에스테르, 유리섬유)의 섬유 물질이다. 이런 여과를 실온에서 실행하고 2 ppm 의 잔류 SiCl 함량 및 검출불가능한 HCl 농도를 지닌 가수분해물을 수득하는 것을 가능하게 한다.
디클로로디메틸실란 가수분해물의 이 처리 방법은 틀림없이 최종 생성물에서 불순물을 감소시키는 것을 가능하게 하지만, 이런 방법의 효율은, 이전 단계가 다공성 지지체상에 융합에 의해 처리되기에 적합한 생성물을 유도할 경우에만 실제로 보장될 수 있을 것이다.
그러나, 이것을 DD-227,145 에 따른 가수분해물에 대해 말할 수 없다.
종래 기술의 이 관점으로부터 하기인 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법의 면에서 부족함이 있다는 것이 나타난다:
- 기체 형태 및 가압하 할로겐화수소형의 가수분해 생성물을 수득하는 것을 가능하게 하는 것;
- 가능한한 완전히 ≡SiX 결합을 제거하는 것을 가능하게 하는 것;
- 산성 수성 소적(droplets)이 없거나 거의 없는 최종 폴리유기실록산 가수분해물이 되는 것;
- 재가공의 고유 문제를 지닌, 산성 유출수의 과량 형성을 피하는 것을 가능하게 하는 것;
- 폴리유기실록산의 점도를 제어하는 것을 가능하게 하는 것;
- 및 마지막으로, 최적 안정성을 수용하기 위해, 고품질 및 특히 고순도의 폴리유기실록산을 제조하는 것을 가능하게 하는 것.
본 발명의 주요 목적중 하나는 위에서 목표로 하는 상술을 만족하는 방법을 제공하여, 이 결점을 극복하는 것이다.
본 발명의 또다른 주요 목적은 초기 가수분해상에서 화학양론적 양에 대해, 부족한 물의 존재하 가수분해가 발생하는 폴리유기실록산의 제조 방법을 제공하는 것이고, 더욱이 이것은 제 1 가수분해후 초고농도에서 여전히 존재하는 말단 Si-할로겐 잔류물을 제거하기 위해 물 대량의 후속 사용을 필요로 하지 않는다. 이것은 할로겐 함유 유출수가 항상 함유하는 실록산 불순물 때문에, 재순환 및/또는 재가공하기가 어려운 할로겐 함유 유출수의 제조를 피한다.
본 발명의 또다른 주요 목적은 유기할로실란의 가수분해에 의해 폴리유기실록산의 제조 방법을 제공하는 것이고, 이것은 반응 매질의 점도의 일정한 제어 확보의 가능성을 제공한다.
본 발명의 또다른 목적은 잔류 할로겐 뿐만 아니라, 가수분해로부터 수득된 할로겐화수소에 의해 형성된 용질을 함유하는 수성 소적이 없거나 실제로 없는, 폴리유기실록산을 초래하는 유기할로실란의 가수분해 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은, 실행시키기 쉽고 경제적(고수준의 생산성 및 수율)인 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 주요 목적은 폴리유기실록산을 초래하는 유기할로실란의 가수분해 방법을 제공하는 것이고, 이 방법은 여러 경우의 하나 또는 다른 것에서 상기 목표로 하는 상술을 만족시킴에 의해, 연속식 또는 회분식에 따라 실행시킬 필요가 있다.
다른 것들중, 이들 목적은
· 주로 하기 단계를 실행하는 것으로 이루어지고:
■ 반응 매질이 유기할로실란 (I) 에 증가하는 가수분해력을 발휘할 수 있는 3 이상의 연속 가수분해 단계 (1), (2), (3); 및
■ 임의로, 하나 이상의 융합 단계 (4),
· (1) 단계가 반응 매질의 압력 및 온도에서 포화 할로겐화수소의 S1수용액의 존재하 가압하 가수분해임을 특징으로 하는, 화학식 I
RaR1 bSiXc
[식중,
- R 및 R1은 동일하거나 상이하고, 수소, 선형 또는 분지형 C1∼C6알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 아르알킬인 라디칼이고,
- X 는 할로겐을 이며,
- a + b + c = 4 이고 0 < c < 4 이다];
의 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법에 관한 본 발명에 의해 달성된다.
그래서, 출원인이 자기 이름으로 완전히 놀랍고 의외로 하기를 증명하였다:
- 한편으로, 증가하는 가수분해력으로 3 이상의 연속 가수분해 단계의 조합, 및 다른 한 편으로, ≡SiX 할로실란 결합의 가수분해 생성물에 상당하는 할로겐화수소의 포화 수상으로, 가압하 제 1 가수분해 단계의 조합,
- 잔류 SiX 및 수상의 미량이 없는 순수 폴리유기실록산을 수득하는 것을 가능하게 하는 것.
연속식 또는 회분식에 따라, 양호한 생산성 및 양호한 수율로, 이것을 상대적으로 용이하고 경제적으로 달성할 수 있기 때문에 이런 결과는 더욱 유리하다.
게다가, 본 발명에 따른 방법은 할로겐화물로 오염된 다량의 유출수를 발생시키는 성질이 없다. 이것은 이의 환경적 영향에 관한 방법을 상당히 단순화시킨다.
더욱이, 할로겐화수소 적정의 조절에 직접 후행하는, 반응 매질의 점도 조절 문제를 본 발명에 따른 방법론에 의해 해결하고, 이것은 증가하는 가수분해력의 사용 및 할로겐화수소로 출발 수상의 포화를 기재로 한다.
이론에 의해 속박되는 것을 바라지 않고, 본 발명에 따른 방법이 할로겐화수소의 수화와 결합된, 가수분해수의 차단 현상의 최소화에 의해 가수분해를 최적화하는 것을 고려할 수 있다.
본 발명의 목적을 위해, 증가하는 가수분해력이라는 표현은 반응 매질의 친핵성 성분을 참조하는 것으로 이해되고, 이 성분은 3 가수분해 단계 (1), (2) 및 (3) 에 걸쳐 확장한다. 더욱 정확하게, 이것은 ≡SiX 결합에 대한 수상의 반응성이 1, 2 및 3 단계의 통과하면서 증가한다는 것을 의미한다.
본 발명의 목적을 위해, (1) 단계의 반응 매질의 수상의 할로겐화수소로 포화의 개념에 관해, 수중 할로겐화수소 용질의 농도는 최대임을 이해해야 한다. 즉 반응 매질은 할로겐화수소 기체에 의해 형성된 기체 대기에 있다.
포화점은 주로 용질의 성질 뿐만 아니라 매질의 온도 및 압력 조건에 달려있다는 것이 분명하다. 당업자는 (1) 단계로부터 S1용액의 이 포화 문제를 전체적으로 다룰수 있다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 구현예에 있어서, 연속 작동식을 채택한다.
더욱이, 이것을 제한하지 않고, 할로겐 X 는 바람직하게 염소이고, 이 경우에 생성된 할로겐화물은 HCl 이다. 단순히, 할로겐 X 또는 염소(Cl) 및 할로겐화수소(HX) 및 염화수소(HCl)를 이 명세서의 나머지에 식별없이 사용할 것이다.
바람직하게, 가압하 가수분해의 (1) 단계는 하기로 이루어진다:
△ 하기를 포함하는 3상 이상의 조 가수분해물이 되는 유기할로실란(I)의 하나 이상의 가수분해(11):
- 가압하 할로겐화수소 기체로 형성된 기상,
- 주로 선형 α,ω-디할로 올리고머 및, 임의로, 적게, 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F1,
- 및 할로겐화수소로 포화된 S1용액을 함유하는 수상;
△ 한편으로 가압하 할로겐화수소 기체, 및 다른 한 편으로, F1/S1혼합물 수집을 목적으로 하는 하나 이상의 기체/액체 분리(12);
△ F1및 S1의 회수를 허용하는 하나 이상의 액체/액체 분리(13)(F1및 S1을 유리하게는 (11) 에 재순환시킨다);
△ 바람직하게 축합에 의해, 임의로 (12) 에서 수집된 기체의 하나 이상의 정제(l4);
△ 및 바람직하게 감압에 의해, 임의로 (13) 에서 수집된 유체 F1의 하나 이상의 부가 탈가스(15).
유리하게, 이 반응(11)은 폐쇄 챔버, 예컨대 10 내지 50 ℃ 의 온도 및 가수분해에 의해 제조된 할로겐화수소 기체에 의해 측정된 압력에서 격렬히 교반하면서 연속적으로 실행한다. 실제로, 할로겐화수소 기체 압력을 0.10 MPa 이상 및 바람직하게는 0.15 내지 1 MPa 의 값으로 조정한다.
(11) 단계의 반응기 속에 반응물의 유입 유량은 공급되는 상의 질량비 MR1= 수상/유기할로실란 (I) 이 ≥ 2 및 바람직하게 3 내지 15 인 정도로 조정된다.
이 MR 이 본 발명에 따른 방법의 중요한 특성중의 하나인 것은, 이것이 수상의 할로겐화수소 농도 및 (특히) 교반 지속 시간과 함께, 수상/유기할로실란(I) 계면에서 수농도를 측정하고, 매질의 가수분해력이 분명히 이 계면수농도에 의존하기 때문이다.
(11) 단계의 마지막에 수득된 조 가수분해물이 유리하게는 3 상 혼합물이다.
실제로, F1은 하기인 선형 α,ω-디할로 올리고유기실록산 및 환식 올리고유기실록산의 혼합물로 이루어진다:
- 선형 α,ω-디할로 올리고유기실록산은 혼합물의 50 몰% 이상, 바람직하게는 60 몰% 이상을 나타내고,
- 환식 올리고유기실록산은 혼합물의 50 몰% 이하, 바람직하게는 40 몰% 이하를 나타낸다.
또한 "클로로실록스(chlorosilox)"로서 참조되는, 실록산 유체 F1은 예를 들어 HX 및 ≡SiX 형의 잔류 할로겐의 약 8 내지 13 중량% 를 함유한다.
유리하게, (11) 단계의 반응 지속 시간은 30 초 내지 5 분, 바람직하게 1 내지 2 분이다.
기체/액체 분리의 (12) 단계의 마지막에 가압하 수득된 할로겐화수소 기체를 메탄올과의 반응에 의해, 염화메틸의 대규모 제조(고처리량)에서 실용 목적을 위해, 예컨대 HCl 에 관해 개선시킬 수 있다. 염화메틸은 유기실란의 화학에서 출발 물질이다.
임의로, 기체를 예를 들어 0 ℃ 내지 -10 ℃ 의 온도에서 축합할 수 있는, 처리(14)를 이용하여, (12)에서 수득된 압력하 정제시킬 수 있고, 이에 의해 경휘발성 폴리실록산을 제거하는 것을 가능하게 한다.
상기와 같이, 액체/액체 분리(13) 후 회수된 염산 용액 S1을 재순환시키는 것이 유리하다. (11) 단계에서 이런 재순환은 최종 실록산 유체 또는 오일의 품질에 영향을 미친다. 본 발명의 바람직한 배열에 있어서, 재순환은 (11) 단계의 반응에서 염산 용액 S1으로 공급의 유일하거나 우세한 루트를 구성한다. 결국, (1) 에서 S1의 재순환용 질량비는 이 가설에서 상기 정의된 MR1과 등가, 즉 2 이상 및 바람직하게는 3 내지 15 또는 MR1에 매우 근접할 것이다.
F1의 임의 탈가스(15)를 예를 들어 약 0.2 MPa 의 △P 로 플래시 감압을 이용하여 실행시킨다. 그래서 염산 기체를 수득하고, 이것을 대규모 합성을 위해 직접 개선시킬 수 있다. 이런 탈가스(15)는 3 % 이상만큼 염산 기체의 수율을 증가시키는 것을 가능하게 한다.
바람직하게, (2) 단계는 교반하면서, 10 내지 50 ℃ 의 온도에서 발생하고 (1) 단계후 수득된 실록산 유체 F1을 할로겐화수소의 수용액 S2와 반응시키는 하나 이상의 습식 가수분해 (21) 을 포함한다. S2에서 이 용질의 농도는 수용액내 동일한 용질의 참조 포화 농도(Csr)의 분획에 해당하고, 동일한 온도 및 압력 조건하, 이 분획은 Csr 의 45 내지 75 %, 바람직하게 50 내지 72 % 를 나타낸다. 공급되는 상의 질량비 MR2= 수상/유체 F1을 1.5 이상, 바람직하게 2 내지 10 의 값으로 조정하여, 실록산 유체 F1의 ≡SiX 결합의 가수분해를 95 % 이상, 바람직하게는 98 % 이상의 수준으로 허용하고, 이에 의해 주로 선형 α,ω-디히드록실화 또는 α,ω-디할로 올리고머 및, 임의로, 적게, 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F2를 수득한다.
습식 가수분해의 (2) 단계의 내용에서, (1) 단계의 것보다 더 높은 가수분해력을 사용하면, 이런 증가를 가수분해 매질에서 물의 상대부 증가 및 그래서 HCl 수용액 적정의 감소에 의해 달성한다. 본 발명에 따라서, 이 습식 가수분해 2 는 추가로 충분히 100 % 에 근접한 값으로, 즉 예컨대 ≥ 95 %, 바람직하게 ≥ 98 % 으로 SiX 결합의 가수분해의 진척을 목적으로 한다.
(2) 단계의 가수분해 매질의 가수분해력의 조정을 특히 하기:
- HCl 적정을 통해(그래서 이것은 유리하게 Csr 의 45 내지 75 % 의 분획이다),
- 및 온도를 통해 인지할 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 원래 특징중 하나는, 실험조건에 주어지듯이, 반응 진척을 조정하기 위해 HCl 적정에 작용하는 것이다.
임의 경우, 이 적정이 특히 중요한 것은 (2) 단계에서 가수분해된 클로로실록산이 대략 ≡SiOH 결합만큼 많은 ≡SiX 결합을 포함하기 때문이다. 이것은 중축합의 위험이 크다는 것을 의미하고 이런 반응의 주결과가 폴리유기실록산의 점도 및 전체 반응 매질의 것에서 억제할만한 증가라는 것을 공지한다.
또다른 중요한 매개변수는 (21) 단계에서 F1과 수상 S2간의 반응 지속 시간이다. 유리하게, 이 지속 시간은 4 내지 20 분, 바람직하게는 7 내지 12 분이다.
(21) 단계에서, 반응 매질에서 격렬한 교반(예컨대 교반 반응기 또는 폐쇄 루프)을 이용하여 균일 액체/액체 혼합물을 유지하는 것이 바람직하다.
실제로, 실록산 유체-또한 "산성 실록스"로 공지된- F2는 예를 들어 HX 및 ≡SiX 형의 잔류 할로겐의 약 0.6 내지 3 중량% 를 함유한다.
예로써, S2에서 할로겐화수소의 농도는 아래 주어진 실험 조건하 약 30 % 이다; 온도는 약 25 ℃ 이며 (21) 의 반응 시간은 7 내지 12 분이다.
본 발명의 구체적인 배열에 있어서, (2) 단계가 바람직하게 침강에 의해, (21) 로부터 수득된 실록산 유체 F2및 진한 수용액 S2의 하나 이상의 분리 작업 (22) 를 포함하고, 이들은 가수분해수의 공급과 같이 (2) 단계의 습식 가수분해(21) 및/또는 (1) 단계의 가압하 가수분해 (11)에서 적어도 부분적으로 재순환된다.
예를 들어 분리(22)는 중력에 의한 침강 작업이다.
(11) 단계 및/또는 (21) 단계속에서 S2의 나머지의 재순환 가능성이 본 발명에 따른 방법의 경제성에 기여한다.
(2) 단계로부터 수득된 실록산 유체 F2는 가수분해되는 몇몇 ≡SiX 결합 뿐만 아니라 할로겐 함유 (염산) 용액 S2의 소적을 함유한다. 그래서, 가수분해 및 정제를 완성하기 위해, 그 다음 묽은 수용액 S3으로서 수상을 이용하여, (2) 에서 수득된 실록산 유체 F2의 완전 가수분해의 하나 이상의 처리(31)를 포함하는, (3) 단계를 실행하고, 이의 물함량은 90 중량% 이상, 바람직하게 92 내지 97 % 이고, (31) 에서 사용된 F2및 S3의 양은 공급되는 상의 질량비 MR3= 수상/유체 F2(산성 실록스)가 1.5 이상 및 바람직하게는 2 내지 10 으로 조정된다.
그 다음 수함량이 100 % 미만인 경우, S3100 에 대한 차이는 그 다음 용질이다. 수상에서 10 중량% 이하, 및 바람직하게는 3 내지 8 % 의 분율로 존재하는, 상기 용질은 주로 하나 이상의 염 및 임의로 하나 이상의 산성 또는 염기성제의 소량을 포함한다.
그래서 상기 처리(31)는 F2에서 잔류 ≡SiX 결합의 가수분해를 완성하는 것을 가능하게 하고, 그 다음 이것을 주로 선형 α,ω-디히드록실화 올리고머 및, 적게 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F3로 전환시킨다.
유리하게, 완전 가수분해(31)의 반응 시간은 5 분 이상, 바람직하게는 10 분 이상이다. 그러나, 임의 경우, 이 반응(31) 지속 시간은 ≡SiX 기의 모두를 가수분해하는 순간에 의존할 것임은 말할 것도 없다. 산업적 방법의 지속 시간을 최소화하기 위해, 이 순간을 측정하고 평가하는 것은 당업자의 의무이다.
본 발명의 훨씬 바람직한 배열에 있어서, 수상 S3는 수상 3 내지 8 중량% 의 분율로 존재하는 용질을 포함하고, 주로 하나 이상의 염 및 소량의 HCl 을 포함한다.
본 발명의 주요 특징에 있어서, (31) 단계의 상황에서 사용된 염 또는 염들은 하기 군으로부터 선택된다: NaCl, LiCl, NaHCO3, Na2CO3.
이(또는 이들) 임의 염(들)은 염기(NaOH, KOH, LiOH 및 NaOH 가 특히 바람직하다)로부터 바람직하게 선택할 수 있는 하나 이상의 염기성제를 이용하여, 수상 S3속에 직접 혼입될 수 있고/거나 존재하는 할로겐화수소의 전체 또는 일부의 중화에 의해 그 자리에서 발생될 수 있다.
수상에서 염의 존재는, 이것을 염기를 이용한 HCl 의 중화에 의해 수득하는지 아닌지 간에, 분리 단계(32)(침강)을 최적화하는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 유리한 방식에 있어서, (31) 단계는 60 ℃ 이상, 바람직하게는 70 내지 100 ℃ 및 더욱 바람직하게는 80 내지 90 ℃ 의 온도에서 발생한다.
유리하게, F3은 60 ppm 이하, 바람직하게는 30 ppm 이하의 HX 및 ≡SiX 형의 잔류 할로겐 함량을 갖고; ≡SiX 형의 잔류 할로겐 함량이 통상 1 ppm 미만이라는 것을 주목해야 한다. 반응은 완결된다.
실제로, (31) 단계 도중 반응 매질(예컨대 교반 반응기 또는 폐쇄 루프)의 균일화를 허용하는 것이 유리하다.
추가로 (3) 단계는 수상으로부터, 바람직하게 침강에 의해 (31)로부터 수득된 실록산 유체 F3의 하나 이상의 분리 작업 (32) 을 포함하고, 수상은, 일단 회수되면, 적어도 (31) 단계 및 임의로 (11) 및/또는 (21) 단계속에서 적어도 부분적으로 재순환되고 단 이 수상은 염을 함유하지 않는다. 이 침강은 실록산 유체 또는 오일 F3을 수집하고, 여기에서 ≡SiX 결합의 모두 또는 거의 모두를 가수분해한다.
분리 단계 (32) 의 마지막에서 회수된 실록산 유체 F3은, 통상, 완전히 가수분해되지만, 여전히 수상 소적을 함유한다.
그래서, 본 발명의 임의 방식에 있어서, 하지만 그럼에도 불구하고 유리하게, F3에 함유된 산성 수상 소적의 추출 및 10 ppm 이하, 통상 2 ppm 의 잔류 할로겐 함량을 지닌 주로 선형 α,ω-디히드록실화 올리고머 및 적게 환식 올리고머(30 %)로 이루어진 실록산 유체 F4의 수득을 위해 다공성 물질을 통해 유체 F3을 주로 통과시키는 융합 단계 (4) 를 F3이 겪게 된다.
유리하게, (4) 단계에서 사용되는 다공성 물질을 하기 물질의 군으로부터 선택한다:
- 침전 실리카,
- 예를 들어 유리 섬유 및/또는 중합체 섬유(셀룰로스, 폴리에스테르, 폴리프로필렌)에 기재한 직포 또는 부직포 지지체, 유리 섬유,
- 제올라이트,
- 및 이의 혼합물.
본 발명의 주요 및 유리한 특성에 있어서, 실록산 유체 F3및 ≡SiX 결합 및 거의 수상 소적이 없는 실록산 유체 F4가 25 ℃ 에서 50 mPa·s, 바람직하게 40 mPa·s 이하 및 더욱 바람직하게 25 mPa·s 내지 35 mPa·s 의 점도를 지닌다.
이런 낮은 점도는 이것이 본 방법에서 처리되는 질량의 조작 및 가공을 상당히 유용하게 하는 한 특히 환영받는다. 더욱이, 이것은 상기와 같이 마지막에서 고품질 및 고순도의 폴리유기실록산을 수득하기 위해 본 발명에 따른 방법의 전형적인 단계의 계통을 제시하는 것을 용이하고 완전히 가능하게 한다.
더욱 정확히, 수상의 잔류 소적의 융합을 허용하는 다공성 지지체를 통해 F3의 추출 처리를 바람직하게는 예를 들어 1 내지 10 cm/분의 플럭스(유량/표면적의 단위) 및 약 50 ℃ 의 온도에서 실행시킨다.
유리하게, F4의 선형 α,ω-디할로 올리고머의 최종 함량은 50 내지 70 중량% 이고, 차이는 환식 올리고유기실록산으로 이루어진다.
지금까지 본 발명의 명세서에서 바람직한 할로겐 X 는 염소임을 지금까지 보여주는한, 비제한 방식으로 Me2SiCl2, MeSiCl3또는 Me3SiCl 이 출발 유기할로실란으로서 바람직할 것이라는 것을 구체적으로 상술할 수 있다.
본 발명에 따른 연속식 또는 회분식법의 구현예와 상관없이, 당업자는 고려되는 방법을 실행하기 위한 장치를 생산하기 위해 필요한 장치(폐쇄 또는 개방 반응기, 침강 탱크, 압력 방출 시스템, 융합 등)를 완전히 선택할 수 있다.
본 발명은 후기 실시예, 디메틸디클로로실란(Me2SiCl2)의 가수분해에 의해 폴리디메틸실록산 오일 F4의 제조의 도움으로 더 잘 이해될 것이다. 이들 실시예는 본 발명에 따른 방법에 대해 나타낼 수 있는 모든 이점 및 실행을 명확히 생기게 한다.
첨부된 하나의 도면은 본 발명을 증명하기 위한 비제한 예의 방식으로 택한 방법의 작업공정도를 보여준다. 이것은 연속으로 작업하는 방법이고, 여기에서 Me2SiCl2의 플로우(flow) 1 을 가압하 가수분해 단계(11)를 거친다. 3 및 2 단계로부터 재순환 HCl 용액 S3및 S2에 의해 각각 형성된 염산 용액 S1의 플로우 14 및 5 는, 그들 자신 또한 가수분해(11)에 직접 참가한다.
이 가수분해는 실록산 유체 F1, HCl 기체 및 HCl 로 포화된 용액 S1으로 형성된 수상을 포함하는 조 가수분해 생성물을 생산한다. 이 가수분해물을 플로우 2 에 의해 나타내고, 이것을 기체/액체 분리의 (12) 단계를 거쳐, -5 ℃ 에서 축합에 의해 정제(14)를 거치는 기체 플로우 3 이 되며, 상기 정제(14)는 플로우 6 에서 고압하 HCl 기체를 수득하는 것을 가능하게 한다. 분리(12)가 한편으로, 제조되는 마지막에 분리(13)를 거치는 액체/액체 혼합물로 형성된 플로우 4, (11) 에 재순환된 용액 S1의 플로우 5, 및 실록산 유체(클로로실록스 F1)으로 형성된 플로우 7 을 또한 발생시킨다.
클로로실록스 F1을 감압에 의해 탈가스(15)시키고, 이것이 저압 HCl 의 기체 플로우 8 및 탈가스된 F1으로 형성된 액체 플로우 9 를 발생한다.
액체 플로우 9 를 수 공급 플로우 10 및 재순환 HCl 수용액 S2의 공급 플로우 17 이 필요한 습식 가수분해(21)를 거치게 한다. 습식 가수분해(21)가 실록산 유체 F2및 HCl 용액 S2의 액체 혼합물로 이루어진 플로우 11 이 된다. 이 플로우 11 을 침강에 의해 액체/액체 분리(22)를 거치게 한다. 이것이 한편으로, (21) 단계에서 재순환하기 위한 플로우 17 및 (11) 단계에서 재순환을 위한 S2의 플로우 14 로 구성된, HCl 수용액 S2의 유체 13 을 발생한다. 플로우 14 에 의해 재순환된 과량 S2를 플로우 15 를 경유하여 제거한다. 분리(22)가 또한 실록산 유체 F2에 대응하는 플로우 12 가 되고, 이것을 수산화나트륨 플로우 16 및 침강 수용액 22 의 플로우의 공급을 필요로 하는, 완전 가수분해(31)를 거치게 한다. (31) 단계로부터 수득된 플로우 18 은 폴리유기실록산 및 염산 용액 S3의 액체 혼합물이다. 분리(32)후, 플로우 18 이 염산 용액 S3의 플로우 20 및 실록산 유체 F3의 플로우 19 가 된다.
플로우 19 를 마지막으로 융합 처리 (4) 를 거치고, 이것이 실록산 유체 F4또는 수성 HCl 소적의 모두가 거의 없는 폴리디메틸실록산 오일로 이루어진 플로우 21 을 발생한다.
실시예:
1 단계:
수상과 실록산상의 공급용 질량비 MR1이 12 인 정도로, 하기를 사용 절대 압력 b = 0.3 MPa 및 온도 T = 30 ℃ 에서 반응기/탈가스기/데칸터(decanter) 조립장치에 공급한다:
- 1.98 kg/h 의 Me2SiCl2,
- 0.34 kg/h 의 26 % 로 적정한 HCl 용액,
- 23.6 kg/h 의 비율로, 44 % 로 적정한 HCl 수용액.
(15) 단계후 수득된 클로로실록스 또는 실록산 유체 F1을 1.2 kg/h 의 비율로 제조한다.
F1의 중량 조성은 하기와 같다:
- 잔류 염소(HCl 및 ≡SiCl 형의) 9.7 %,
- 환식 올리고유기실록산 33 %,
- 선형 α,ω-클로로올리고유기실록산 67 %.
클로로실록스 F1은 4.7 mPa·s 의 점도를 갖는다.
2 단계:
실록산 유체 F1을 1.2 kg/h 의 비율로 또다른 반응기/데칸터 조립장치에 도입한다. 이 반응기/데칸터 조립장치에 0.31 kg/h 의 비율로 물 및 5 kg/h 의 비율로 28.7 % HCl 수용액을 동시에 공급하여 MR2= 4.4 가 되게 한다.
(2) 단계의 반응기 내부에 우세한 압력은 0.1 MPa 이고 온도는 약 30 ℃ 이다.
(22) 단계후 수득된 실록산 유체 F2(또한 산성 실록스로 공지됨)를 1.17 kg/h 의 유량으로 제조한다. 이 산성 실록스 F2는 잔류 염소(HCl 및 ≡SiCl 형의) 1.3 중량% 를 포함한다.
산성 실록스 F2의 점도는 25 ℃ 에서 28 mPa·s 이다.
F2는 환식 폴리디메틸실록산 37 중량% 및 α,ω-디클로로 및 α,ω-디히드록실화 폴리디메틸실록산 63 중량% 를 포함한다.
3 단계:
NaOH 3 중량% 의 적정 및 0.46 kg/h 의 공급 유량의 수산화나트륨 수용액 및 (32) 분리 단계로부터 수득된 재순환 수상의 4.5 kg/h 과 함께 산성 실록스 F2를 1.17 kg/h 의 비율로 반응기/데칸터 조립장치에 공급한다.
MR3= 4.2.
수상에서 NaCl(중화 염) 농도는 4.2 중량% 이다.
반응기/데칸터 조립장치에서 우세한 압력은 0.1 MPa 이고 온도는 85 ℃ 이다.
(32) 단계후 수득된 실록산 유체 F3을 1.14 kg/h 의 비율로 공급한다.
이 실록산 유체 F3(또한 중화 실록스로 공지됨) 은 잔류 염소(HCl 및 ≡SiCl 형의; ≡SiCl 형의 염소 함량은 단독으로 1 ppm 미만이다) 50 ppm, 환식 폴리디메틸실록산 37 중량% 및 선형, 주로 α,ω-디히드록실화, 폴리디메틸실록산 63 중량% 를 포함한다.
F3의 점도는 25 ℃ 에서 37 mPa·s 이다.
4 단계:
중화 실록산 F3을 평균 공경 350 μm 의 침전 실리카로 구성된 다공성 지지체상에 여과시킨다. F3의 공급 유량은 1.14 kg/h 이다. 다공성 지지체의 이동 비율은 1.5 cm/분 이다. 압력은 0.1 MPa 이고 온도는 20 ℃ 이다.
수득된 폴리디메틸실록산 F4를 1.14 kg/h 의 비율로 제조한다. 이것은 전체 잔류 염소 1 ppm 을 포함하고 선형 α,ω-디히드록실화 폴리디메틸실록산 63 중량% 및 환식 폴리디메틸실록산 37 중량% 로 이루어진다.
F4의 점도는 25 ℃ 에서 37 mPa·s 이다.

Claims (18)

  1. 주로 하기 단계를 실행하는 것으로 이루어지고 하기 (1) 단계가 반응 매질의 압력 및 온도에서 포화 할로겐화수소의 S1수용액의 존재하 가압하 가수분해임을 특징으로 하는, 하기 화학식 I 의 유기할로실란의 가수분해에 의한 폴리유기실록산의 제조 방법:
    [화학식 I]
    RaR1 bSiXc
    [식중, R 또는 R1은 동일하거나 상이하고, 수소, 선형 또는 분지형 C1∼C6알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 아르알킬기인 라디칼이고;
    X 는 할로겐이며;
    합 a + b + c = 4(0 < c < 4)],
    ■ 반응 매질이 유기할로실란 (I) 에 증가하는 가수분해력을 발휘할 수 있는 유기할로실란 (I) 의 3 이상의 연속 가수분해 단계 (1), (2), (3); 및
    ■ 임의로, 하나 이상의 융합 단계 (4).
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 방법이 연속식으로 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 가압하 가수분해의 (1) 단계가 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법:
    - 가압하 할로겐화수소 기체로 형성된 기상과, 주로 선형 α,ω-디할로 올리고머, 및 임의로 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F1, 및 할로겐화수소로 포화된 용액 S1을 함유하는 수상을 포함하는 하나 이상의 3상 조 가수분해물을 유도하는 유기할로실란 (I) 의 하나 이상의 가수분해 단계 (11);
    - 한편으로, 가압하 할로겐화수소 기체 및 다른 한 편으로, F1/S1혼합물을 수집하기 위한 하나 이상의 기체/액체 분리 단계 (12);
    - F1및 S1을 회수할 수 있도록 하는 하나 이상의 액체/액체 분리 단계(13)(S1은 (11) 단계로 유리하게 재순환된다);
    - 바람직하게 축합에 의해, 임의로 (12) 단계에서 수집된 기체의 하나 이상의 정제 단계(14);
    - 바람직하게 감압에 의해, 임의로 (13) 단계에서 수집된 유체 F1의 하나 이상의 부가 탈가스 단계(15).
  4. 제 3 항에 있어서, 가수분해 단계 (11) 를 하나 이상의 폐쇄 챔버에서 교반하면서, 10 내지 50 ℃ 의 온도 및 할로겐화수소 기체의 0.10 MPa 이상, 바람직하게는 0.15 내지 1 MPa 로 제어된 압력에서 실행하고; 공급되는 상의 질량비 MR1= 수상/유기할로실란(I)이 2 이상, 바람직하게는 3 내지 15 인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 가수분해 반응 단계 (11) 의 지속 시간이 30 초 내지 5 분, 바람직하게는 1 분 내지 2 분인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서, (2) 단계가 교반하면서 10 내지 50 ℃ 의 온도에서 발생하고,
    - (1) 단계에서 수득된 실록산 유체 F1을 진한 수용액 S2와 반응시키고, 이의 용질은 수용액내 동일한 용질의 참조 포화 농도(Csr)의 분획에 상당하는 S2내에서 농도를 갖는 할로겐화수소이며, 동일한 온도 및 압력 조건하, 이 분획은 참조 포화 농도의 45 내지 75 %, 바람직하게는 50 내지 72 % 를 나타내고;
    - 공급되는 상의 질량비 MR2= 수상/유체 F1을 95 % 이상, 바람직하게는 98 % 이상의 수준으로 실록산 유체 F1의 ≡SiX 결합의 가수분해를 허용하도록 1.5 이상, 바람직하게는 2 내지 10 의 값으로 조정하고, 이에 의해 주로 α,ω-디히드록실화 또는 α,ω-디할로 올리고머 및, 경우에 따라 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F2를 수득하는 하나 이상의 습식 가수분해 (21) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 습식 가수분해 반응 단계 (21) 가 4 내지 20 분, 바람직하게는 7 내지 12 분의 지속 시간을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, (2) 단계가 추가로 진한 수용액 S2(S2는 가수분해수의 공급물로서, (1) 단계의 가압 (11) 하 가수분해 및/또는 (2) 단계의 습식 가수분해 (21)로 적어도 부분적으로 재순환된다)로부터, (21) 단계로부터 수득된 실록산 유체 F2의 하나 이상의 분리, 바람직하게는 데칸트법에 의한 작업 (22) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, (3) 단계가 추가로 물 함량 90 중량% 이상, 바람직하게는 92 내지 97 % 의 묽은 수용액 S3으로 된 수상을 이용하여, (2) 단계에서 수득된 실록산 유체 F2의 완전 가수분해의 하나 이상의 처리 (31) 를 포함하고, (31) 에서 사용되는 F2및 S3의 양을 조정하여 공급되는 상의 질량비 RM3= 수상/유체 F2(실록산) 의 질량비를 1.5 이상, 바람직하게는 2 내지 10 으로 수득하며, 상기 처리 (31)은 F2에서 잔류 ≡Si-X 결합의 가수분해를 완결하게 하고, 그 다음 이것을 주로 선형 α,ω-디히드록실화 올리고머 및 경우에 따라서 환식 올리고머로 이루어진 실록산 유체 F3으로 전환시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 수상 S3이 수상의 10 중량% 이하, 바람직하게는 수상의 3 내지 8 중량% 의 분율로 존재하는 용질을 포함하고, 우세하게는 하나 이상의 염 및 적게는 하나 이상의 산성 또는 염기성제를 임의로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 존재하는 염이 수상속에 직접 혼입되고/거나 염기(NaOH, KOH, LiOH 및 NaOH 가 특히 바람직하다)로부터 선택된 하나 이상의 염기성제를 이용하여, 존재하는 할로겐화수소의 전부 또는 일부의 중화에 의해 그 자리에서 발생되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 9 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 있어서, (31) 단계가 60 ℃ 이상, 바람직하게는 70 내지 100 ℃ 및, 더욱 바람직하게는 80 내지 90 ℃ 의 온도에서 발생하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 9 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서, (3) 단계가 수상으로부터 (31) 에서 수득된 실록산 유체 F3의, 바람직하게 침강에 의한 하나 이상의 분리 작업 (32) 를 또한 포함하고, 적어도 상기 실록산 유체 F3의 일부가, 일단 회수되면, (31) 단계로 적어도 재순환되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항중 어느 한 항에 있어서, F3에 함유된 산성 수상 소적(droplets)의 추출 및 잔류 할로겐 함량 10 ppm 이하, 바람직하게는 2 ppm 이하의 선형 α,ω-디히드록실화 올리고머 및 경우에 따라 환식 올리고머로 주로 이루어진 실록산 유체 F4를 수득하기 위해 다공성 물질을 통해 F3을 통과시키는 것으로 주로 이루어진 (32) 로부터 수득된 F3의 융합의 (4) 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 14 항에 있어서, 다공성 물질이 침전 실리카, 직포 또는 부직포 및 바람직하게는 유리 섬유, 중합체 섬유 기재 지지체, 제올라이트 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제 9 항 내지 15 항중 어느 한 항에 있어서, 실록산 유체 F3및 F4가 25 ℃ 에서 50 mPa·s, 바람직하게는 40 mPa·s 이하 및 더욱 바람직하게는 25 mPa·s 내지 35 mPa·s 의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항중 어느 한 항에 있어서, 할로겐 X 가 Cl 인 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 16 항에 있어서, 출발 유기할로실란이 Me2SiCl2, MeSiCl3또는 Me3SiCl 인 것을 특징으로 하는 방법.
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