KR101647880B1 - 임프린트 방법, 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 - Google Patents

임프린트 방법, 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 Download PDF

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6497954B2 (ja) * 2015-02-04 2019-04-10 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
US10248018B2 (en) * 2015-03-30 2019-04-02 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
JP6553926B2 (ja) * 2015-04-09 2019-07-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6562707B2 (ja) * 2015-05-13 2019-08-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6671160B2 (ja) 2015-11-30 2020-03-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品製造方法および位置合わせ方法
US11104057B2 (en) * 2015-12-11 2021-08-31 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of imprinting a partial field
JP6942491B2 (ja) * 2016-03-15 2021-09-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
KR102378292B1 (ko) * 2016-06-09 2022-03-25 캐논 가부시끼가이샤 위치 정렬 방법, 임프린트 장치, 프로그램 및 물품의 제조 방법
JP2017224812A (ja) * 2016-06-09 2017-12-21 キヤノン株式会社 位置合わせ方法、インプリント装置、プログラム、および物品の製造方法
JP6779748B2 (ja) * 2016-10-31 2020-11-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6940944B2 (ja) * 2016-12-06 2021-09-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品製造方法
US11175598B2 (en) * 2017-06-30 2021-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
US10866510B2 (en) * 2017-07-31 2020-12-15 Canon Kabushiki Kaisha Overlay improvement in nanoimprint lithography
JP7100436B2 (ja) * 2017-09-19 2022-07-13 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP7022615B2 (ja) * 2018-02-26 2022-02-18 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、モールドの製造方法、および、物品の製造方法
JP7134717B2 (ja) * 2018-05-31 2022-09-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7256684B2 (ja) * 2019-05-14 2023-04-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7507641B2 (ja) * 2020-09-08 2024-06-28 キヤノン株式会社 成形装置及び物品の製造方法
JP7744849B2 (ja) * 2022-02-28 2025-09-26 キヤノン株式会社 成形方法、成形装置、および物品の製造方法
CN114786005B (zh) * 2022-04-28 2025-02-14 湖北三赢兴光电科技股份有限公司 一种用于多模穴测试的方法、装置及电子设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009536591A (ja) 2006-05-11 2009-10-15 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド 厚さが変化するテンプレート

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3791484B2 (ja) * 2002-11-14 2006-06-28 ソニー株式会社 露光方法および半導体装置の製造方法
JP4183245B2 (ja) * 2003-05-12 2008-11-19 キヤノン株式会社 アライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法
JP4787993B2 (ja) 2005-04-22 2011-10-05 株式会社日立製作所 インプリント方式の転写印刷方法、および転写印刷版
JP3958344B2 (ja) 2005-06-07 2007-08-15 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及びチップの製造方法
JP4736821B2 (ja) 2006-01-24 2011-07-27 株式会社日立製作所 パターン形成方法およびパターン形成装置
JP4185941B2 (ja) 2006-04-04 2008-11-26 キヤノン株式会社 ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
US8215946B2 (en) 2006-05-18 2012-07-10 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography system and method
JP2009200345A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Canon Inc 加工装置
US8187515B2 (en) 2008-04-01 2012-05-29 Molecular Imprints, Inc. Large area roll-to-roll imprint lithography
JP5165504B2 (ja) 2008-09-02 2013-03-21 東芝機械株式会社 微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写方法
JP4940262B2 (ja) 2009-03-25 2012-05-30 株式会社東芝 インプリントパターン形成方法
JP2010278041A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Toshiba Corp インプリント用テンプレートの形成方法およびこのテンプレートを用いたインプリント方法
US20110084417A1 (en) * 2009-10-08 2011-04-14 Molecular Imprints, Inc. Large area linear array nanoimprinting
JP5800456B2 (ja) 2009-12-16 2015-10-28 キヤノン株式会社 検出器、インプリント装置及び物品の製造方法
JP5539011B2 (ja) 2010-05-14 2014-07-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、検出装置、位置合わせ装置、及び物品の製造方法
JP5930622B2 (ja) * 2010-10-08 2016-06-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び、物品の製造方法
CN102173238A (zh) 2010-12-29 2011-09-07 友达光电股份有限公司 真空压印装置、真空压合装置及层状光学组件的制造方法
JPWO2012133840A1 (ja) * 2011-03-30 2014-07-28 日本電気株式会社 インプリント装置、インプリント方法、電子回路基板、及び電子機器
JP2013038191A (ja) 2011-08-05 2013-02-21 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
JP6061524B2 (ja) 2011-08-11 2017-01-18 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009536591A (ja) 2006-05-11 2009-10-15 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド 厚さが変化するテンプレート

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