JP5165504B2 - 微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写方法 - Google Patents
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Description
Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
図2(a)〜(e)は本発明に係る微細パターン転写用型の製造方法を説明するために示した工程図、
図3は本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置の構成を示した縦断面図であり、(a)は転写前の状態を示し、(b)は転写するときの状態を示した図、
図4(a)〜(d)は本発明に係る微細パターン転写用型を取り付けた転写装置において、微細パターン転写用型で被成型品を転写する工程を示した工程図である。
11…被成型品、
11a…一方の面(上面)、11a1…被微細パターン、11b…他方の面(下面)、
12…紫外線硬化性樹脂、13…被成型品保持体、
20…微細パターン転写用型、
21…型、21a…一方の面(下面)、21b…他方の面(上面)、
21c,21d…傾斜面、
22…反り補正板、22a…一方の面(下面)、22b…他方の面(上面)、
23…紫外線硬化樹脂接着剤、24…型固定板、
25…型保持体、25a…下面、25b,25c…貫通孔、
26…撮像手段(カメラ)、27…撮影レンズ、P…微細パターン。
Claims (5)
- 被成型品に転写するための微細パターンを一方の面に形成した型と、
前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第1の反りに対して相殺する方向の第2の反りを前記型に予め付与するために、前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮することにより前記型を湾曲させる反り補正板と、
を一体的に備えたことを特徴とする微細パターン転写用型。 - 前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第1の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第2の反りを予め付与することを特徴とする請求項1記載の微細パターン転写用型。
- 被成型品に転写するための微細パターンを型の一方の面に形成する工程と、
前記微細パターンを前記被成型品に転写するときに前記被成型品から受ける反力によって前記型に生じる第1の反りに対して相殺する方向の第2の反りを前記型に予め付与するために、反り補正板を前記型の他方の面上に加熱した状態で接着した後に冷却して収縮させることにより前記型を湾曲させる工程と、
を含むことを特徴とする微細パターン転写用型の製造方法。 - 前記微細パターンを転写するときに前記型の他方の面側が凸曲面となるような前記第1の反りが生じるのに伴って、前記型の他方の面及び前記反り補正板の接着面側が凹曲面となるような前記第2の反りを予め付与することを特徴とする請求項3記載の微細パターン転写用型の製造方法。
- 被成型品を保持した被成型品保持体と、
請求項1又は請求項2記載の微細パターン転写用型を保持した型保持体と、を備え、
前記微細パターン転写用型と一体に前記型保持体を前記被成型品保持体に対して相対的に移動して前記微細パターン転写用型で前記被成型品を押圧して前記微細パターンを該被成型品上に転写することを特徴とする転写方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008224733A JP5165504B2 (ja) | 2008-09-02 | 2008-09-02 | 微細パターン転写用型、微細パターン転写用型の製造方法及び転写方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5165504B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6412317B2 (ja) | 2013-04-24 | 2018-10-24 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法 |
JP6212350B2 (ja) * | 2013-10-16 | 2017-10-11 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の表面加工方法、及び電子写真感光体の製造方法 |
JP6604793B2 (ja) * | 2015-09-17 | 2019-11-13 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02113456A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-25 | Mitsubishi Electric Corp | ディスク基板製造装置 |
JP2001236697A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Ricoh Co Ltd | スタンパ及びその製造方法、及びそのスタンパを用いたメディア製造方法 |
JP2008012861A (ja) * | 2006-07-07 | 2008-01-24 | Hitachi Maxell Ltd | 金属製スタンパ、金属製スタンパの製造方法、パターン転写成形システム |
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Publication number | Publication date |
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JP2010058316A (ja) | 2010-03-18 |
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