JP6553926B2 - インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る第1実施形態のインプリント装置100について説明する。インプリント装置100は、半導体デバイスなどの製造に使用され、パターンが形成されたパターン領域3aを有するモールド3を用いて、基板2のショット領域上に供給されたインプリント材5を成形するインプリント処理を行う。例えば、インプリント装置100は、パターンが形成されたモールド3を基板上のインプリント材5に接触させた状態で当該インプリント材5を硬化する。そして、インプリント装置100は、モールド3と基板2との間隔を広げ、硬化したインプリント材5からモールド3を剥離(離型)することによって、インプリント材5で構成されたパターンを基板上に形成することができる。インプリント材5を硬化する方法には、熱を用いる熱サイクル法と光を用いる光硬化法とがあり、第1実施形態では、光硬化法を採用した例について説明する。光硬化法とは、インプリント材5として未硬化の紫外線硬化樹脂を基板上に供給し、モールド3とインプリント材5とを接触させた状態でインプリント材5に紫外線を照射することにより当該インプリント材5を硬化させる方法である。
図1は、第1実施形態のインプリント装置100を示す概略図である。インプリント装置100は、照射部12と、モールド保持部8と、基板保持部6と、供給部14と、検出部16と、制御部15とを含みうる。制御部15は、例えばCPUやメモリなどを有し、インプリント処理を制御する(インプリント装置100の各部を制御する)。
図3は、基板上における複数のショット領域2aの配置を示す図である。基板上における複数のショット領域2aには、基板2の中央部に配置されてモールド3のパターンの全体が転写されるショット領域2a1と、基板2の周辺部に配置されてモールド3のパターンの一部のみが転写されるショット領域2a2とが含まれる。このように基板2の周辺部に配置されてモールド3のパターンの一部のみが転写されるショット領域2a2は欠けショット領域(エッジショット領域)と呼ばれる。そして、インプリント装置100には、収率を向上させるため、欠けショット領域にもインプリント処理を行うことが好ましい。しかしながら、欠けショット領域のインプリント処理において、モールド3のパターン領域3aを変形させた状態で、モールド3と基板2との相対的な傾きを制御せずにそれらの距離を狭めていくと、パターン領域3aが基板2の縁に接触してしまう場合がある。この場合、基板2の縁にはインプリント材5が供給されていないことが多く、モールド3と基板2とがインプリント材5を介さずに直接に接触することとなるため、モールド3のパターンが破損する恐れがある。
第1実施形態では、モールド3と基板上のインプリント材5とを接触させる際に、モールド3のパターン領域3aを凸形状に変形させる例について説明した。第2実施形態では、基板2のショット領域2aの一部がモールド3のパターン領域3aに向かって突出した凸形状に変形させる例について説明する。図8は、第2実施形態のインプリント装置200を示す概略図である。第2実施形態のインプリント装置200は、第1実施形態のインプリント装置100と比べて基板保持部6の構成が異なる。
第1実施形態では、モールド3のパターン領域3aを凸形状に変形させる例について説明し、第2実施形態では、基板2のショット領域2aを凸形状に変形させる例について説明した。第3実施形態では、パターン領域3aと基板上のインプリント材5とを接触させる際に、パターン領域3aおよびショット領域2aの双方を変形させる例について、図11を参照しながら説明する。図11(a)〜(c)は、モールド3(モールド保持部8)および基板2(基板保持部6)の状態を、接触面積を拡大させている間における時系列で示す図である。第3実施形態のインプリント装置は、第2実施形態のインプリント装置200と装置構成が同様であるため、ここでは装置構成の説明を省略する。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された樹脂に上記のインプリント装置を用いてパターンを形成する工程(インプリント処理を基板に行う工程)と、かかる工程でパターンを形成された基板(インプリント処理を行われた基板)を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (14)
- 基板上に供給されたインプリント材をモールドを用いて成形するインプリント装置であって、
前記モールドおよび前記基板のうち少なくとも一方を、他方に向かって突出した凸形状を有するように変形させる変形部と、
前記変形部により前記少なくとも一方を変形させた状態で前記モールドと前記インプリント材との接触を開始させ、前記変形部による前記少なくとも一方の変形量を徐々に小さくすることにより前記モールドと前記インプリント材との接触面積を徐々に拡大させる処理を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記処理において、
前記モールドと前記基板との相対傾きが前記接触面積に応じて変化するように、前記変形部による前記変形量に基づいて前記相対傾きを制御し、
前記基板の面に沿った方向において、前記モールドと前記インプリント材とが互いに接触している領域での前記モールドと前記基板との位置関係が維持されるように、前記変形量および前記相対傾きに基づいて前記モールドと前記基板との相対位置を制御する、ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記モールドの所定箇所から前記モールドと前記インプリント材との接触を開始させ、前記接触面積を拡大させるにつれて前記相対傾きを徐々に小さくするように、前記変形部による前記変形量に基づいて前記相対傾きを制御する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記モールドのパターンの重心以外の箇所を、前記モールドの前記所定箇所として決定する、ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記モールドのうち、前記変形部により前記モールドを変形したときに最も突出した箇所以外の箇所を、前記モールドの前記所定箇所として決定する、ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記基板は、前記基板の周辺部に配置されて前記モールドのパターンの一部のみが転写される欠けショット領域を含み、
前記制御部は、前記欠けショット領域の重心に対応する前記モールドの箇所を、前記欠けショット領域に前記処理を行う場合の前記モールドの前記所定箇所として決定する、ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、
前記変形量および前記相対傾きを変化させることによって生じる、前記モールドと前記インプリント材とが互いに接触している領域における前記方向への前記モールドと前記基板との相対シフト量を、前記変形量および前記相対傾きに基づいて推定し、
推定された前記相対シフト量に基づいて、前記位置関係が維持されるように前記相対位置を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記処理において、前記インプリント材を介して最初に接触された前記モールドの箇所と前記基板の箇所との位置関係が維持されるように前記相対位置を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記変形部は、前記基板に向かって中央部が突出した凸形状を有するように前記モールドを変形させる第1変形部を含み、
前記制御部は、前記第1変形部による前記モールドの変形量に基づいて前記相対位置を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記モールドの最も突出した箇所以外の箇所から前記モールドと前記インプリント材との接触が開始するように、前記変形部による前記少なくとも一方の変形量に基づいて前記モールドと前記基板との相対的な傾きを制御する、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記変形部は、前記モールドに向かって一部が突出した凸形状を有するように前記基板を変形させる第2変形部を含み、
前記制御部は、前記第2変形部による前記基板の変形量に基づいて前記相対位置を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記基板は、前記基板の周辺部に配置されて前記モールドのパターンの一部のみが転写される欠けショット領域を有し、
前記制御部は、前記欠けショット領域上に供給されたインプリント材と前記モールドとを接触させるように前記処理を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記欠けショット領域の重心から前記モールドと前記インプリント材との接触が開始するように前記処理を制御する、ことを特徴とする請求項11に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上に供給されたインプリント材をモールドを用いて成形するインプリント方法であって、
前記モールドおよび前記基板のうち少なくとも一方を、他方に向かって突出した凸形状を有するように変形させる変形工程と、
前記変形工程により前記少なくとも一方を変形させた状態で前記モールドと前記インプリント材との接触を開始させ、前記少なくとも一方の変形量を徐々に小さくすることにより前記モールドと前記インプリント材との接触面積を徐々に拡大させる接触工程と、
を含み、
前記接触工程では、
前記モールドと前記基板との相対傾きが前記接触面積に応じて変化するように、前記変形量に基づいて前記相対傾きを制御し、
前記基板の面に沿った方向において、前記モールドと前記インプリント材とが互いに接触している領域での前記モールドと前記基板との位置関係が維持されるように、前記変形量および前記相対傾きに基づいて前記モールドと前記基板との相対位置を制御する、ことを特徴とするインプリント方法。
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