JP6497954B2 - インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態のインプリント装置1について、図1を参照しながら説明する。インプリント装置1は、半導体デバイスなどの製造に使用され、パターンが形成されたパターン領域7aを有するモールド7を用いて基板上のインプリント材14を成形するインプリント処理を行う。例えば、インプリント装置1は、モールド7と基板上のインプリント材14(樹脂)とを接触させた状態でインプリント材14を硬化させる。そして、インプリント装置1は、モールド7と基板11との間隔を広げ、硬化したインプリント材14からモールド7を剥離(離型)することにより、インプリント材14で構成されたパターンを基板上に形成することができる。インプリント材14を硬化する方法には、熱を用いる熱サイクル法と光を用いる光硬化法とがあり、第1実施形態では、光硬化法を採用する例について説明する。光硬化法とは、インプリント材14として未硬化の紫外線硬化樹脂を基板上に供給し、モールド7とインプリント材14とを接触させた状態でインプリント材14に紫外線を照射することにより当該インプリント材14を硬化させる方法である。
図1は、第1実施形態のインプリント装置1を示す概略図である。インプリント装置1は、例えば、モールド7を保持するモールド保持部3と、基板11を保持する基板ステージ4と、照射部2と、検出部22と、供給部5とを含みうる。モールド保持部3は、ベース定盤24により支柱26を介して支持されたブリッジ定盤25に固定されており、基板ステージ4は、ベース定盤24の上を移動可能に支持されている。また、インプリント装置1には、CPUやメモリを有し、インプリント処理を制御する(インプリント装置1の各部を制御する)制御部6が含まれる。インプリント処理は、制御部6のメモリに格納されているプログラムを実行することで実施される。
次に、第1実施形態のインプリント装置1におけるインプリント処理について説明する。制御部6は、モールド7のパターンを転写すべき基板上のショット領域12が供給部5の下に配置されるように基板ステージ4を制御する。ショット領域12が供給部5の下に配置されると、制御部6は、ショット領域12にインプリント材14を供給するように供給部5を制御する。そして、制御部6は、ショット領域12にインプリント材14が供給された後、モールド上のパターン領域7aの下にショット領域12が配置されるように基板ステージ4を制御する。制御部6は、モールド上のパターン領域7aの下にショット領域12が配置されると、モールド7を−Z方向に駆動させるようにモールド駆動部16を制御し、モールド7と基板上のインプリント材14とを接触させる(押型工程)。そして、制御部6は、モールド7と基板上のインプリント材14とを接触させた状態で所定の時間を経過させる。これにより、基板上のインプリント材14をモールド7のパターンの隅々まで充填することができる。
次に、第1実施形態のインプリント装置1におけるアライメントについて説明する。インプリント装置1では、例えば、事前に取得されたパターン領域7aおよびショット領域12の形状情報に基づいて、それらの形状が互いに近づくように、パターン領域7aおよびショット領域12の少なくとも一方の領域を変形するための変形量が決定される。そして、決定した変形量に従って、当該少なくとも一方の領域の変形の制御が行われる。例えば、変形量に従って当該少なくとも一方の領域を変形させるフィードフォワード制御(以下、FF制御)が行われる場合、FF制御を行っただけでは、パターン領域7aとショット領域12との間に位置および形状の相対的なずれが生じていることがある。そのため、インプリント装置1におけるアライメントでは、変形量に従ってパターン領域7aおよびショット領域の少なくとも一方の領域を変形させるFF制御を行う「変形工程」の後に、「重ね合わせ工程」が行われる。重ね合わせ工程では、変形工程による当該少なくとも一方の領域の変形後において、各検出部22による検出結果に基づいて、パターン領域7aとショット領域12との重ね合わせのフィードバック制御(以下、FB制御)が行われる。この重ね合わせ工程により、パターン領域7aとショット領域12との相対的な位置および形状が補正される。
第1実施形態では、重ね合わせ工程における「調整」および「変形」で同じマーク30を用いる例について説明したが、「調整」および「変形」で異なるマーク30を用いてもよい。例えば、マーク30の位置が離れていた方が、各マーク30の位置の検出結果に含まれる誤差の影響を低減することができるため、マーク間の距離についての計測精度が向上する。したがって、「調整」を行う場合には、例えば、パターン領域7aおよびショット領域12の四隅に配置されたマーク30を用いることが好ましい。一方で、「変形」では、上述したように、複数のマーク30におけるずれ量の平均値より小さいずれ量を有するマーク30を用いることが好ましい。即ち、制御部6は、重ね合わせ工程における「調整」および「変形」のそれぞれにおいて用いるマーク30を切り替えるとよい。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された樹脂に上記のインプリント方法を用いてパターンを形成する工程(インプリント処理を基板に行う工程)と、かかる工程でパターンを形成された基板(インプリント処理を行われた基板)を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (18)
- パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント方法であって、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記パターン領域および前記ショット領域のうち少なくとも一方を変形させる変形工程と、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとの前記変形工程後のずれ量を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記ずれ量に基づいて、前記複数のマークを、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークと、前記重ね合わせの制御に用いないマークとに選別する選別工程と、
前記変形工程後において、前記選別工程で前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択されたマークの位置の検出結果のみに基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行う重ね合わせ工程と、
を含むことを特徴とするインプリント方法。 - 前記選別工程では、前記複数のマークにおける前記ずれ量の平均値より小さい前記ずれ量を有するマークを、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記少なくとも一方の領域は、各辺に対して2つ以上のマークが設けられ、
前記選別工程では、前記少なくとも一方の領域の各辺について、前記2つ以上のマークの中から少なくとも1つのマークを、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント方法。 - 前記選別工程では、前記少なくとも一方の領域の各辺について、辺の中心からずれた位置に配置されたマークを、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択する、ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント方法。
- 前記選別工程では、前記少なくとも一方の領域の各辺について、前記ずれ量の小さい順に前記重ね合わせの制御に用いるマークを選択する、ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント方法。
- 前記選別工程では、前記重ね合わせ工程において検出視野内に同時に収めることのできる数のマークを、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択する、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記変形工程では、前記パターン領域の形状および前記ショット領域の形状を示す情報に基づいて、前記少なくとも一方の領域を変形させ、
前記選別工程では、前記複数のマークのうち、前記情報を求めるために検出されたマークの数より少ない数のマークを、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択する、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。 - 前記選別工程では、前記モールドによるインプリント材の成形が既に行われた基板における重ね合わせ精度にも更に基づいて、前記重ね合わせの制御に用いるマークを選択する、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記変形工程では、前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように決定された前記少なくとも一方の領域の変形量に従って、前記少なくとも一方の領域の変形の制御を行う、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記変形工程では、前記変形量に従って、前記変形のフィードフォワード制御を行う、ことを特徴とする請求項9に記載のインプリント方法。
- 前記重ね合わせ工程では、前記選別工程で選択された前記パターン領域のマークと前記ショット領域のマークとの相対位置の検出結果に基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせのフィードバック制御を行う、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記重ね合わせ工程では、前記パターン領域と前記ショット領域との間における倍率補正および台形補正の少なくとも一方を行う工程を含む、ことを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント方法であって、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記パターン領域および前記ショット領域のうち少なくとも一方の領域を変形させる変形工程と、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとの前記変形工程後のずれ量を取得する取得工程と、
予め設定された条件を満たすように、前記取得工程で取得した前記ずれ量に基づいて、前記複数のマークの中から、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークを選択する選択工程と、
前記変形工程後において、前記選択工程で選択されたマークについての位置の検出結果に基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行う重ね合わせ工程と、
を含み、
前記条件は、前記複数のマークにおける前記ずれ量の平均値より小さい前記ずれ量を有するマークを選択することを含む、ことを特徴とするインプリント方法。 - パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント方法であって、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記パターン領域および前記ショット領域のうち少なくとも一方の領域を変形させる変形工程と、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとの前記変形工程後のずれ量を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記ずれ量と、前記モールドによるインプリント材の成形が既に行われた基板における重ね合わせ精度とに基づいて、前記複数のマークの中から、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークを選択する選択工程と、
前記変形工程後において、前記選択工程で選択されたマークについての位置の検出結果に基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行う重ね合わせ工程と、
を含むことを特徴とするインプリント方法。 - パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
前記パターン領域および前記ショット領域の少なくとも一方の領域を変形させる変形部と、
制御部と、
を含み、
前記制御部は、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記変形部に前記少なくとも一方の領域を変形させ、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記少なくとも一方の領域の変形後における前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとのずれ量を取得し、
取得した前記ずれ量に基づいて、前記複数のマークを、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークと、前記重ね合わせの制御に用いないマークとに選別し、
前記少なくとも一方の領域の変形後において、前記重ね合わせの制御に用いるマークとして選択されたマークの位置の検出結果のみに基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行う、ことを特徴とするインプリント装置。 - パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
前記パターン領域および前記ショット領域の少なくとも一方の領域を変形させる変形部と、
制御部と、
を含み、
前記制御部は、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記変形部に前記少なくとも一方の領域を変形させ、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記少なくとも一方の領域の変形後における前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとのずれ量を取得し、
予め設定された条件を満たすように、取得した前記ずれ量に基づいて、前記複数のマークの中から、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークを選択し、
前記少なくとも一方の領域の変形後において、選択されたマークについての位置の検出結果に基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行い、
前記条件は、前記複数のマークにおける前記ずれ量の平均値より小さい前記ずれ量を有するマークを選択することを含む、ことを特徴とするインプリント装置。 - パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板のショット領域上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
前記パターン領域および前記ショット領域の少なくとも一方の領域を変形させる変形部と、
制御部と、
を含み、
前記制御部は、
前記パターン領域の形状と前記ショット領域の形状とが互いに近づくように、前記変形部に前記少なくとも一方の領域を変形させ、
前記パターン領域に設けられた複数のマークの各々について、前記少なくとも一方の領域の変形後における前記パターン領域のマークとそれに対応する前記ショット領域のマークとのずれ量を取得し、
取得した前記ずれ量と、前記モールドによるインプリント材の成形が既に行われた基板における重ね合わせ精度とに基づいて、前記複数のマークの中から、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御に用いるマークを選択し、
前記少なくとも一方の変形後において、選択されたマークについての位置の検出結果に基づいて、前記パターン領域と前記ショット領域との重ね合わせの制御を行う、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 請求項1乃至14のうちいずれか1項に記載のインプリント方法を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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