KR101626700B1 - 중합성 조성물, 중합물, 점착시트, 화상표시장치의 제조방법 및 화상표시장치 - Google Patents

중합성 조성물, 중합물, 점착시트, 화상표시장치의 제조방법 및 화상표시장치 Download PDF

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Abstract

중합성 조성물로서, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산 에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물 및 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제1 성분과, 탄소수 6 이상의 탄화수소기와 아크릴로일기를 함유하는 화합물 및 탄소수 6 이상의 탄화수소기와 메타크릴로일기를 함유하는 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제2 성분과, 광중합 개시제를 포함하는 군으로부터 선택된 제3 성분을 포함하는 중합성 조성물이 개시된다.

Description

중합성 조성물, 중합물, 점착시트, 화상표시장치의 제조방법 및 화상표시장치{POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMER, ADHESIVE SHEET, METHOD FOR PRODUCING IMAGE DISPLAY DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명의 어느 양태는 중합성 조성물, 중합물, 점착시트, 화상표시장치의 제조방법 및 화상표시장치 중 적어도 하나에 관계한다.
종래의 이러한 종류의 화상표시장치로서는, 예를 들어 도 6에 나타내는 액정표시장치(101)가 알려져 있다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 이 액정표시장치(101)는, 액정표시패널(102) 상에, 예를 들어 유리나 플라스틱으로 이루어진 투명한 보호부(103)를 가지고 있다.
이 경우, 액정표시패널(102)의 표면 및 편광판(미도시)을 보호하기 위해, 액정표시패널(102)와 보호부(103)의 사이에 스페이서(104)를 개재시킴으로써, 액정표시패널(102)과 보호부(103)의 사이에 공극(105)이 설치되어 있다.
그러나, 액정표시패널(102)과 보호부(103) 사이에 공극(105)이 존재함으로 인해 광의 산란이 일어나고, 그에 따라 콘트라스트 및 휘도가 저하되며, 또한 공극(105)의 존재는 패널의 박형화를 저해하고 있다.
이러한 문제를 감안하여, 액정표시패널과 보호부 사이의 공극에 수지를 충진하는 것(도 1 참조)도 제안(예를 들어, 일본국 공개특허공보 특개2005-55641호 - 특허 문헌 1)되고 있으나, 수지경화물의 경화 수축시의 응력에 의해 액정표시패널의 액정을 협지하는 광학 유리에 변형이 생겨 액정 재료의 배향 불량 등 표시 불량의 원인이 되고 있다.
상기 문제점을 해결하기 위하여, 예를 들어 일본국 공개특허공보 특개2008-282000호(특허문헌 2) 및 일본국 공개특허공보 특개2009-186958호(특허문헌 3)에, 폴리우레탄아크릴레이트, 또는 폴리이소프렌 중합물의 무수말레인산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물을 이용한, 저탄성율에서 경화시의 체적수축율이 작은 경화성 조성물이 개시되어 있다.
일본국 공개특허공보 특개2005-055641호 일본국 공개특허공보 특개2008-282000호 일본국 공개특허공보 특개2009-186958호
그러나, 폴리우레탄아크릴레이트를 이용한 경화성 조성물의 경화시의 체적수축율은 크고(4.0 %보다 큼), 또한 폴리이소프렌 중합물의 무수말레인산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물을 이용한 경화성 조성물은, 경화시의 체적 수축율은 작지만 경화된 경화물의 열에 의한 착색이 커진다는 문제점을 갖고 있었다.
또한, 최근 휴대전화에서 스마트폰이 주류가 되고 있으며, 태블릿 PC 라고 불리우는 기기도 급속히 확산되고 있다. 이러한 기기에는 정전용량 방식의 터치패널이 탑재되어 있는 것이 일반적이다. 정전용량 방식의 터치패널의 일례로서, 도 2 또는 도 3에서 나타내는 애드온형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시장치 중의 표시부와 터치패널 사이에 충진되는 중합물(층) (도 2 및 도 3에 기재된 중합물(층) 5b)과, 커버유리 터치센터 일체형 정전용량 방식 터치패널 탑재 표시장치 중의 표시부와 터치 센터 일체형의 보호부의 사이에 충진되는 중합물(층) (도4및 도5에 기재된 중합물(층) 5b)은, 오작동 방지 및 박막화의 관점에서 저유전율 재료가 요구되고 있다.
본 발명의 일 양태에 의하면, 중합성 조성물로서, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물 및 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제1 성분과, 탄소수 6 이상의 탄화수소기와 아크릴로일기를 포함하는 화합물 및 탄소수 6 이상의 탄화수소기와 메타크릴로일기를 포함하는 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제2 성분과, 광중합 개시제를 포함하는 군으로부터 선택된 제3 성분을 포함하는 중합성 조성물이 제공된다.
본 발명의 다른 양태에 의하면, 전술한 중합성 조성물을 광중합시킴으로써 얻을 수 있는 중합물이 제공된다.
본 발명의 다른 양태에 의하면, 점착시트로서, 전술한 중합물을 포함하고 10㎛ 이상 500㎛ 이하의 두께를 갖는 층을 포함하는 점착시트가 제공된다.
본 발명의 다른 양태에 의하면, 화상표시장치의 제조방법으로서, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 전술한 중합성 조성물을 개재시키는 단계와, 상기 중합성 조성물을 광중합시킴으로써 상기 베이스부와 상기 보호부의 사이에 중합물층을 형성하는 단계를 포함하는 화상표시장치의 제조방법이 제공된다.
본 발명의 다른 양태에 의하면, 화상표시장치의 제조방법으로서, 전술한 점착시트를 이용하여, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부를 접착하는 단계를 포함하는 화상표시장치의 제조방법이 제공된다.
본 발명의 다른 양태에 의하면, 전술한 화상표시장치의 제조방법에 따라 제조할 수 있는 화상표시장치가 제공된다.
본 발명 일 실시형태의 중합성 조성물에 의하면, 저유전율의 중합물을 제공할 수 있기 때문에, 종래보다 중합물을 더 얇게 한 경우에도 중합물이 컨덴서 기능을 가지지 않고, 그 결과, 종래의 것보다 훨씬 전기적 오작동을 방지할 수 있다. 즉, 액정 패널 등의 화상표시장치를 박층화할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시형태에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 6은 종래 기술에 따른 표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명한다.
한편, 본 명세서에서 "(메타)아크릴로일기"란 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다.
본 발명 실시형태(I)에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(I)는 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재되는 중합물층을 형성하고 있는 중합물을 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 아래의 성분 1, 성분 2 및 성분 3을 필수 성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물이다.
성분 1 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르와의 에스테르 교환 반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물,
성분 2 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물,
성분 3 광중합 개시제,
우선, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 1에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(I)에서 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 1은, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산 에스테르와의 에스테르 교환반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물이다.
여기에서 말하는 "수소첨가 폴리올레핀폴리올"이란, 폴리올레핀폴리올의 수소화 환원 반응에 의해 얻어지는 폴리올이다. 이 수소첨가 폴리올레핀폴리올은 1 분자 안에 수산기를 2개 이상 가지는 것인데, 수산기를 2~4개 가지는 것이 바람직하다. 또한, 수소첨가 폴리올레핀폴리올의 수산기가(水酸基價)는 10~80mgKOH/g 인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 17~70mgKOH/g, 특히 바람직하게는 23~65mgKOH/g이다.
수소첨가 폴리올레핀폴리올 화합물의 수산기가가 10mgKOH/g보다 작게 되면, 얻어지는 (메타)아크릴기 함유 폴리올레핀 화합물의 분자량과 점도가 너무 높아져서, 핸들링성이 나빠지는 등 취급이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 수소첨가 폴리올레핀폴리올 화합물의 수산기가가 80mgKOH/g보다 커지면, 중합시의 체적수축율이 너무 커지거나 중합물의 응집력이 너무 커지므로, 중합물의 접착 성능이 충분히 발휘되지 않는 것이 바람직하다고는 말할 수 없다.
수소첨가 폴리올레핀폴리올 내의 수소첨가 폴리올레핀 구조로는, 수소첨가 폴리부텐, 수소첨가 폴리이소부텐, 수소첨가 폴리부타디엔, 수소첨가 폴리이소프렌 등의 구조를 들 수 있다. 내광성, 내열착색성, 투명성(비결정성), 작업성(액상) 등의 점에서, 수소첨가 폴리이소프렌 구조나 수소첨가 폴리부타디엔 구조를 갖는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는, 수소첨가 폴리1,2-부타디엔 구조나 수소첨가 폴리이소프렌 구조를 갖는 것이며, 특히 바람직하게는, 수소첨가 폴리올레핀폴리올 내의 수소첨가 폴리올레핀 구조로서, 수소첨가 폴리1,2-부타디엔 구조나 수소첨가 폴리이소프렌 구조를 전체 수소첨가 폴리올레핀 구조에 대해 50질량% 이상 가지는 구조이다.
본 발명 실시형태의 성분1인, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산 에스테르와의 에스테르 교환 반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물 중의 (메타)아크릴로일기의 수는 1분자 중에 1개 이상 있으면 좋고, 2~4개이면 더 바람직하다.
본 발명 실시형태의 성분 1의 대표적인 예로, 수소첨가 폴리부타디엔디올과 아크릴산 에스테르와의 에스테르 교환 반응 또는 수소첨가 폴리부타디엔디올과 아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물의 구조식, 및 수소첨가 폴리이소프렌디올과 아크릴산 에스테르와의 에스테르 교환 반응 또는 수소첨가 폴리이소프렌디올과 아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물의 구조식을 각각 식 (1) 및 식 (2)에 나타낸다.
식 (1)
[화학식 1]
Figure 112014085358682-pct00001
(식 (1)중, l, m, n은 1 이상의 정수이다.)
식 (2)
[화학식 2]
Figure 112014085358682-pct00002
(식 (2) 중 a, b, c는 1 이상의 정수이다.)
수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르와의 에스테르 교환 반응에 의해 성분 1의 (메타)아크릴레이트 화합물을 제조하는 경우에는, 일반적으로 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산 저급 알킬 에스테르를 에스테르 교환 촉매의 존재 하에서 가열함으로써 에스테르 교환반응을 수행하고, 발생되는 상응하는 저급 알킬 알코올을 증류함으로써 성분 1의 (메타)아크릴레이트를 제조하는 것이며, 예를 들어, 일본국 공개특허공보 특개2011-192853호 또는 특개2006-45284호에 기재된 방법에 의해 성분 1의 (메타)아크릴레이트 화합물을 제조할 수 있다.
또한, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 성분 1의 (메타)아크릴레이트를 제조하는 경우에는, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산을 에스테르화 촉매의 존재하에 가열하여 탈수 반응시킴으로써, 성분 1의 (메타)아크릴레이트가 제조된다. 그러나, 150℃이상의 고온으로 가열하여 반응시키면, 탈수 축합 반응 중에 아크릴로일기의 라디칼 중합을 일으킬 위험성이 있다. 따라서, 시클로헥산 또는 톨루엔이라는, 물과 함께 끓는(azeotropic) 용매의 존재 하에서 에스테르화 반응을 수행하고, 상기 용매와 물을 함께 끓게 함으로써, 탈수 축합 반응에 의해 생성된 물을 반응기 밖으로 제거시키는 것이 일반적이다. 에스테르화 반응에 사용되는 촉매로는 p-톨루엔설폰산 등의 산 촉매를 들 수 있다.
전술한 바와 같이, 성분 1의 (메타)아크릴레이트를 제조하는 방법으로는, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르와의 에스테르 교환 반응을 하는 방법과, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응을 하는 방법의 2종류의 방법이 있으나, 용매를 사용하지 않아도 되는 점과, 정제 공정을 수행하지 않는 점 또는 정제를 수행한다 하더라도 간략화할 수 있는 점 때문에, 공업적으로는, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르와의 에스테르 교환 반응으로 성분 1의 (메타)아크릴레이트를 제조하는 방법이 바람직하다.
본 발명 실시형태(I)에 있어 성분 1의 사용량은, 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 20~80 질량%인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 25~75 질량%이며, 특히 바람직하게는 30~70 질량%이다.
본 발명 실시형태(I)에 있어 성분 1의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 20 질량% 미만이면, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 도막 강도가 저하될 수 있고, 또는 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 유전율이 높아지는 경우가 있어서, 바람직하다고는 말할 수 없다. 또한, 본 발명 실시형태(I)에서 성분 1의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 80 질량%보다 많은 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 점도가 높아지는 경우가 있어서 바람직하지 않다.
다음으로, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 2에 대하여 설명한다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 2는 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물이다.
탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물로는, 예를 들어, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 4-터트(tert)-부틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 4-터트-부틸시클로헥실메타크릴레이트 등 환형 지방족기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물과, 헥실아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소옥타데실메타크릴레이트, 2-헵틸운데실메타크릴레이트 등 사슬형 지방족기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물 등을 들 수 있다.
이들 중에서, 후술하는 본 발명 실시형태의 중합물 또는 본 발명 실시형태의 광학용 점착시트의 유전율을 낮게 억제하기 위해서는, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 4-터트-부틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 4-터트-부틸시클로헥실메타크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소옥타데실메타크릴레이트, 2-헵틸운데실메타크릴레이트 등 탄소수 9 이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물이 바람직하고, 내열 착색 성능을 더 고려할 때 바람직한 것으로는, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소스테아릴아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소스테아릴메타크릴레이트이며, 후술하는 성분 4의 희석 효율을 고려할 때 더 바람직하게는, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소옥타데실메타크릴레이트, 2-헵틸운데실메타크릴레이트이며, 광중합 속도를 고려할 때 특히 바람직하게는, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트이다.
본 발명 실시형태(I)에서 성분 2의 사용량은, 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 20~80 질량%인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 25~75 질량%이며, 특히 바람직하게는 30~70 질량%이다. 본 발명 실시형태(I)에서 성분 2의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 20 질량% 미만이면, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 점도가 너무 높아지는 경우가 있어서 바람직하지 않다. 또한, 본 발명 실시형태(I)에서 성분 2의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량에 대해 80 질량%보다 많은 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 중합시 체적 수축율이 커질 가능성 또는 경화물의 유전율이 높아질 가능성이 있어서 바람직한 것은 아니다.
이어서, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 3에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 3은 광중합 개시제이다.
성분 3의 광중합 개시제는, 광중합 개시제가 근적외선, 가시광선, 자외선 등 광의 조사에 의해 라디칼 중합의 개시에 기여하는 라디칼을 발생시키는 화합물이라면, 특별한 제한은 없다.
성분 3의 광중합 개시제로는, 구체적으로는, 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 디에톡시아세토페논, 1-히드록시 시클로헥실페닐케톤, 1,2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, α-히드록시 시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드 록시-2-메틸-1-(4-이소프로필페닐)프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1- (4-도데실페닐)프로판-1-온 및 2-히드록시-2-메틸-1-[(2-히드록시에 톡시)페닐]프로파논, 벤조페논, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 4-메톡시벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논, 2-에톡시카르보닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 벤조페논테트라카르복실산 또는 그 테트라메틸에스테르, 4,4'-비스(디알킬아미노)벤조페논류(예를 들어, 4,4'-비스 (디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디시클로헥실아미노)벤조페논, 4,4'-비스 (디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디히드록시에틸아미노)벤조페논), 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4-디메틸아미노벤조페논, 4-디메틸아미노아세토페논, 벤질, 안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 페난트라퀴논, 플루오레논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-히드록시-2-메틸-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판올올리고머, 벤조인, 벤조인에테르류 (예를 들어, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인페닐에테르, 벤질디메틸케탈), 아크리돈, 클로로아크리돈, N-메틸아크리돈, N-부틸아크리돈, N-부틸-클로로아크리돈, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메톡시벤조일 디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일메톡시페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 벤조일디-(2,6-디메틸페닐)포스포네이트 등을 들 수 있다. 비스아실포스핀옥사이드류로는, 비스-(2,6-디클로로벤조일) 페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀 옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시 벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸 펜틸포스핀옥사이드,비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, (2,5,6-트리메틸 벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.
또한, 광중합 개시제로서, 메탈로센 화합물을 사용할 수도 있다. 메탈로센 화합물로는, 중심 금속에 Fe, Ti, V, Cr, Mn, Co, Ni, Mo, Ru, Rh, Lu, Ta, W, Os, Ir 등으로 대표되는 천이 원소를 이용할 수 있는데, 예를 들어, 비스(η5-2, 4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(피롤-1-일) 페닐]티타늄을 들 수 있다.
이러한 광중합 개시제는 각각 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
이 중에서 바람직한 것으로는, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸 벤조일디페닐포스핀옥사이드이며, 특히 바람직한 것으로는, 1-히드록시 시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6- 트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드이며, 가장 바람직하게는, 2,4,6- 트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드의 단독 사용, 2,4,6-트리메틸벤조일 에톡시페닐포스핀옥사이드의 단독 사용, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤과 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드의 병용, 1-히드록시시클로헥실 페닐케톤과 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드의 병용, 2,4,6- 트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드와 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시 페닐포스핀옥사이드의 병용 또는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6- 트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시 페닐포스핀옥사이드의 3종의 병용이다.
또한, 도 1 내지 도 5에서 보호부(3)에는, 표시부(2)에 대한 자외선 보호의 관점에서 자외선 영역을 차단하는 기능이 부여되어 있는 경우가 있다. 이 경우, 가시광 영역에서도 감광 가능한 광중합 개시제인 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀 옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드이다.
본 발명 실시형태(I)에서 성분 3의 사용량은, 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량 100 질량부에 대하여 0.05~10.0 질량부인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는, 0.1 내지 7.0 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.2~5.0 질량부이다. 성분 3의 사용량이, 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총 100부에 대해 0.05 질량부 미만이면, 중합 개시제의 중합개시 성능이 부족하게 되는 경우가 있어서 바람직하지 않다. 또한, 본 발명 실시형태(I)에서 성분 3의 사용량이, 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 성분 2를 합친 총량 100 질량부에 대하여 10.0 질량부보다 많아지면, 후술하는 본 발명 실시형태(III)와 본 발명 실시형태(IV)의 중합물 또는 후술하는 본 발명 실시형태(VI)와 본 발명 실시형태(VII)의 광학용 점착시트를 고온 환경에 둔 경우, 착색되기 쉬워서 바람직하다고 할 수 없다.
이어서, 본 발명 실시형태(II)에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(II)는, 화상표시장치의 화상 표시부와, 투광성의 보호부와의 사이에 개재하는 중합물층을 형성하고 있는 중합물을 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 아래의 성분1, 성분2, 성분3 및 성분4를 필수 성분으로 하여 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물이다.
성분1 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르와의 에스테르 교환반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수축합반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물,
성분2 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물,
성분3 광중합 개시제,
성분4 분자 내에 (메타)아크릴로일기가 없고, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합성 개시 기능 중 어느 기능도 갖지 않으며, 탄소 원자 및 수소 원자로 구성되거나 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 구성된 화합물.
본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분1은, 상기 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분 1과 동일한 (메타)아크릴레이트화합물이다.
본 발명 실시형태(II)에 있어 성분 1의 사용량은, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량에 대해 7~70 질량%인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 10~65 질량%이며, 특히 바람직하게는 12~60 질량%이다.
본 발명 실시형태(II)에 있어 성분 1의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 후술하는 성분 4를 합친 총량에 대해 7 질량% 미만이면, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 도막(塗膜)강도가 저하되거나, 또는 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 유전율이 높아지는 경우가 있어서, 바람직하다고는 할 수 없다. 또한, 본 발명 실시형태(II)에 있어 성분 1의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량에 대해 70 질량%보다 많은 경우에는, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 점도가 높아지는 경우가 있어서 바람직하지 않다.
본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분2는, 상기 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분2와 동일한 (메타)아크릴로일기 함유 화합물이다.
본 발명 실시형태(II)에 있어 성분2의 사용량은, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1 성분2 및 후술하는 성분4를 합친 총량에 대해 7~70 질량%인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 10~65 질량%이며, 특히 바람직하게는 12~60 질량%이다. 본 발명 실시형태(II)에 있어 성분2의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량에 대해 7 질량% 미만이면, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 점도가 지나치게 높아질 수 있어서 바람직하지 않다. 또한, 본 발명 실시형태(II)의 성분2의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량에 대해 70 질량%보다 많은 경우에는, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 중합시 체적 수축율이 커질 가능성 또는 경화물의 유전율이 높아질 가능성이 있어서 바람직한 것은 아니다.
본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 3은, 상기 본 발명 실시형태(I)의 필수 성분인 성분3과 동일한 광중합 개시제이다.
본 발명 실시형태(II)에 있어 성분3의 사용량은, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 후술하는 성분4를 합친 총량 100 질량부에 대해 0.05~10.0 질량부인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0.1~7.0 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.2~5.0 질량부이다. 본 발명 실시형태(II)에 있어 성분3의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량 100부에 대해 0.05 질량부 미만이면, 중합 개시제의 중합개시 성능이 부족하게 되는 경우가 있어서 바람직하지 않다. 또한, 본 발명 실시형태(II)에 있어 성분3의 사용량이 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분1, 성분2 및 성분4를 합친 총량 100 질량부에 대해 10.0 질량부보다 많아지면, 후술하는 본 발명 실시형태(III)의 중합물 또는 후술하는 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 고온 환경에 둔 경우에 광학용 점착시트가 착색되기 쉬워져서, 바람직하다고는 할 수 없다.
이어서, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분4에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분4는, 분자 내에 (메타)아크릴로일기가 없고, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합성 개시 기능 중 어느 기능도 갖지 않으며, 탄소 원자 및 수소 원자로 구성되거나 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 구성된 화합물이며, 성분4가 30℃에서 성분1~성분4를 필수 성분으로 하는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 균일성을 해치지 않는 화합물이라면, 특별히 제한되지 않는다.
성분4 에 대해서는, 특히, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부와의 사이에 중합성 조성물을 개재시키고 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 제조방법을 이용하여 화상표시장치가 제조되는 경우, 이 공정에서 사용되는 중합성 조성물에, 중합시의 체적 수축율을 낮출 목적으로 성분4를 포함하는 것이 필요하다. 또한, 중합시의 체적 수축율을 억제하는 외에, 유리나 아크릴 수지 등 피착체에의 중합물의 밀착성을 증가시킬 목적으로 성분4가 사용되는 경우도 있다.
성분4로는, 25℃에서 액체인 화합물, 또는 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수 있다.
성분 4로 사용되는, 25℃에서 액상인 화합물로는, 예를 들어, 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수소첨가 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수소첨가 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔폴리올, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 액상 폴리이소프렌폴리올, 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올, 수소첨가 다이머디올 등을 들 수 있다.
폴리(α-올레핀) 액상물이란, α-올레핀의 중합에 의해 제조되는 액상 물질이고, α-올레핀이란 탄소-탄소 이중결합을 분자 말단에 하나 가지는 탄화수소 화합물인데, 예를 들어, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.
에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물이란, 에틸렌과 α-올레핀을 공중합하여 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 탄소-탄소 이중결합을 분자 말단에 하나 가지는 탄화수소 화합물인데, 예를 들어, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.
프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물이란, 프로필렌과 α-올레핀을 공중합하여 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 탄소-탄소 이중결합을 분자 말단에 하나 가지는 탄화수소 화합물인데, 예를 들어, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.
액상 폴리부텐이란, 이소부텐의 단독중합, n-부텐의 단독중합, 이소부텐 및 n-부텐의 공중합 등의 이소부텐, 또는 n-부텐을 (공)중합 성분으로 포함하는 액상 중합물인데, 말단의 일방에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물이다. 액상 폴리부텐의 시판품으로는, 예를 들어, JX닛코닛세키에너지 제조의 닛세키 폴리부텐 LV-7, LV-50, LV-100, HV-15, HV-35, HV-50, HV-100, HV-300 등을 들 수 있다.
액상 수소첨가 폴리부텐이란, 상기 액상 폴리부텐을 수소첨가하여 얻어지는 측쇄(側鎖)을 갖는 액상물인데, 예를 들어, 니치유 제조의 팜 릴 4, 팜 릴 6, 팜 릴 18, 팜 릴 24, 팜 릴 EX 등을 들 수 있다.
액상 폴리부타디엔이란, 상온에서 액상인 부타디엔 중합물인데, 예를 들어, 에보닉 데구사 제조의 POLYVEST110, POLYVEST130이나 일본 소다 제조의 NISSO-PB B-1000, NISSO-PB B-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다.
액상 수소첨가 폴리부타디엔이란, 부타디엔 중합물을 환원 수소화하여 얻어지는 상온에서의 액상물인데, 예를 들어, 일본 소다 제조의 NISSO-PB BI-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다 .
액상 폴리이소프렌이란, 상온에서 액상인 이소프렌 중합물인데, 예를 들어, 쿠라레이 제조의 쿠라프렌 LIR-30 등을 들 수 있다.
액상 수소첨가 폴리이소프렌이란, 이소프렌 중합물을 환원 수소화하여 얻어지는 상온에서의 액상 화합물인데, 쿠라레이 제조의 LIR-200 등을 들 수 있다.
액상 폴리부타디엔폴리올이란, 분자 말단에 수산기를 2개 이상 가지며 폴리부타디엔 구조 단위를 가지는 상온에서의 액상 중합물인데, 예를 들어, 일본 소다 제조의NISSO-PB G-1000, NISSO-PB G-2000, NISSO-PB G-3000, 이데미츠 흥산 제조의 Poly bd 등을 들 수 있다.
액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올이란, 폴리부타디엔폴리올 또는 폴리부타디엔폴리카르복실산을 환원 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올인데, 일본 소다 제조의 NISSO-PB GI-1000, NISSO-PB GI-2000, NISSO-PB GI-3000 등을 들 수 있다.
액상 폴리이소프렌폴리올이란, 분자 말단에 수산기를 2개 이상 가지며 폴리이소프렌 구조 단위를 가지는 상온에서의 액상 중합물인데, 예를 들어, 이데미츠 흥산 제조의 Poly ip 등을 들 수 있다.
액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올이란, 폴리이소프렌폴리올 또는 폴리이소프렌폴리카르복실산을 환원 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올인데, 예를 들어, 이데미츠 흥산 제조의 에폴(EPOL) 등을 들 수 있다.
수소첨가 다이머디올이란, 다이머산을 환원 수소화하여 얻어지는 폴리올이다.
다이머산이란, 에틸렌성 이중결합을 2~4개 가지는 탄소수 14~22의 지방산 (이하, 불포화 지방산 A라 함), 바람직하게는 에틸렌성 이중결합을 2개 가지는 탄소수 14~22의 지방산과, 에틸렌성 이중결합을 1~4개 가지는 탄소수 14~22의 지방산 (이하, 불포화 지방산 B라 함), 바람직하게는 에틸렌성 이중결합을 1 또는 2개 가지는 탄소수 14~22의 지방산을 이중 결합부에서 반응시켜 얻어지는 6 원환(시클로 헥센 고리)을 갖는 이량체산(二量體酸)을 지칭하는 것으로 한다. 상기의 불포화 지방산 A로는, 테트라데카디엔산, 헥사데카디엔산, 옥타데카디엔산(리놀산 등), 에이코사디엔산, 도코사디엔산, 옥타데카트리엔산(리놀렌산 등), 에이코사테트라엔산(아라키돈산 등) 등을 들 수 있는데, 리놀산이 가장 바람직하다. 또한, 불포화 지방산 B로는, 상기 예시한 것에 더하여, 에틸렌성 이중결합을 1개 갖는 탄소수 14~22의 지방산으로서의, 테트라데센산(츠즈산: tsuzuic acid, 밀리스토올레인산), 헥사데센산(팔미트레인산 등), 옥타데센산(올레인산, 엘라이딘산, 벡센산 등), 에이코센산(가돌레산 등), 도코센산(엘카산, 세톨레산, 보라시딘산 등) 등을 들 수 있는데, 올레인산 또는 리놀산이 가장 바람직하다.
상기 이량화(二量化) 반응에서 불포화 지방산 A와 불포화 지방산 B의 사용 비율(몰 비율)은 1:1.2 ~ 1.2:1 정도가 바람직하고, 1:1이 가장 바람직하다. 상기 이량화 반응은 공지의 방법, 예를 들어, 일본공개특허공보 특개평9-136861호에 기재된 방법에 따라 실시할 수 있다. 즉, 예를 들어, 불포화 지방산 A와 불포화 지방산 B 에 루이스산이나 브뢴스테드산형의 액체 또는 고체상의 촉매, 바람직하게는 몬모릴로나이트(montmorillonite)계 활성백토를, A+B에 대해 1~20 질량%, 바람직하게는 2~8 질량%를 첨가하여, 200~270℃, 바람직하게는 220~250℃로 가열함으로써 상기 이량화 반응을 실시할 수 있다. 반응시의 압력은 일반적으로 약간 가압된 상태이나 상압(常壓)이어도 좋다. 반응 시간은 촉매량과 반응 온도에 따라 다르나, 일반적으로 5~7시간이다. 반응 종료후 촉매를 걸러 분리하고, 이어서 감압 증류하여 미반응 원료 및 이성화 지방산류를 증류한 다음, 다이머산 잔류분을 증류 배출시켜 다이머산을 얻을 수 있다. 상기 이량화 반응은 이중결합의 이동(이성화:異性化) 및 딜스-앨더(Diels-Alder) 반응을 통해 진행하는 것으로 생각되지만, 본 발명의 실시형태는 이에 한정되지 않는다.
얻어지는 다이머산은 일반적으로, 이중결합의 결합부위나, 이성화에 의해 6 원환의 위치가 다른 다이머산 혼합물인데, 다이머산을 분리하여 사용하여도 되지만, 다이머산 혼합물을 그대로 사용할 수 있다. 또한, 얻어지는 다이머산은 소량의 모노머산(예를 들어, 3 질량% 이하, 특히 1 질량% 이하)이나 트리머산 이상의 폴리머산 등 (예를 들어, 3 질량% 이하, 특히 1 질량% 이하)을 포함하여도 좋다.
수소첨가 다이머디올은 다이머산, 다이머산의 탄소-탄소 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 수소첨가 다이머산 또는 그들의 저급 알코올 에스테르 중 1종 이상을 촉매의 존재 하에서 환원하여, 다이머산의 카르복실산 또는 카르복실레이트 부분을 알코올로 하고, 원료에 탄소-탄소 이중결합을 가지는 경우에는 그 이중결합을 수소화한 디올을 주성분으로 한 것이다.
수소첨가 다이머디올의 주성분의 구조는 아래의 식(3) 및 식(4)로 표시되는 구조이다.
식 (3)
[화학식 3]
Figure 112014085358682-pct00003
(식 (3) 중, R1 및 R2는 모두 알킬기이고, R1 및 R2에 포함되는 각 탄소수, d및 e의 합계는 30(즉, R1에 포함되는 탄소수 + R2에 포함되는 탄소수 + d + e = 30)이다.)
식 (4)
[화학식 4]
Figure 112014085358682-pct00004
(식 (4) 중, R3 및 R4는 모두 알킬기이고, R3 및 R4에 포함되는 각 탄소수, f 및 g의 합계는 34(즉, R3에 포함되는 탄소수 + R4에 포함되는 탄소수 + f + g = 34)이다.)
수소첨가 다이머디올의 시판품으로는, 예를 들어 PRIPOL(등록상표) 2033 등 (CRODA사 제조)이나 Sovermol(등록상표) 908 (COGNIS사 제조)을 들 수 있다.
내열성을 고려할 때 분자 내에 1개 이하의 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 더 바람직한 것으로는, 액상 폴리 (α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부타디엔, 액상 수소첨가 폴리이소프렌, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올, 수소첨가 다이머디올이다. 또한, 특히 바람직하게는, 액상 폴리 (α-올레핀) 액상물, 에틸렌과 α-올레핀의 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부타디엔 및 액상 수소첨가 폴리이소프렌 중에서 선택되는 적어도 1 종과, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올 및 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올로부터 선택되는 적어도 1종을 병용한 것이다.
또한, 본 발명 실시형태(II)에서는 성분 4로 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수도 있다.
성분 4로 사용되는 25℃에서 고체인 화합물로는, 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖지 않는 화합물인 것이 바람직하다.
이러한 화합물로는, 25℃에서 고체인 에폭시 수지, 25℃에서 고체인 폴리에스테르 수지, 25℃에서 고체인 폴리올 수지, 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지, 수소첨가 로진에스테르 등을 들 수 있다.
이들 중 바람직한 것으로는 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지, 수소첨가 로진에스테르를 들 수 있다.
수소첨가 석유 수지란, 석유계 수지를 수소 환원하여 얻어지는 수지이다. 수소첨가 석유 수지의 원료인 석유계 수지로는, 지방족계 석유 수지, 방향족계 석유 수지, 지방족-방향족 공중합계 석유 수지, 지환족(cycloaliphatic)계 석유 수지, 디시클로펜타디엔 수지 및 이들 수소 첨가물 등의 변성물을 들 수 있다. 합성 석유 수지는 C5계이어도 C9계이어도 좋다.
테르펜계 수소첨가 수지란, 테르펜계 수지를 환원 수소화하여 얻어지는 수지이다. 테르펜계 수소첨가 수지의 원료인 테르펜계 수지로는, β-피넨 수지, α-피넨 수지, β-리모넨 수지, α-리모넨 수지, 피넨-리모넨 공중합 수지, 피넨-리모넨-스틸렌 공중합 수지, 테르펜-페놀 수지, 방향족 변성 테르펜 수지 등을 들 수 있다. 이들 테르펜계 수지의 다수는 극성기를 갖지 않는 수지이다.
수소첨가 로진에스테르란, 로진계 수지를 수소 첨가하여 얻어지는 수소첨가 로진을 에스테르화하거나, 로진을 에스테르화하여 얻어지는 로진 에스테르를 수소 환원하여 얻어진 수지이다. 로진계 수지 점착 부여제로는, 껌 로진, 톨유(tall oil) 로진, 목재 로진, 불균화(不均化) 로진, 중합 로진, 말레인화 로진 등의 변성 로진 등을 들 수 있다.
이들 중에서, 더 바람직한 것으로는 테르펜계 수소첨가 수지이며, 특히 바람직하게는, 폴리피넨, 폴리리모넨 또는 피넨-리모넨 공중합 수지를 환원 수소화하여 얻어지는 수지나, 피넨-스틸렌 공중합 수지, 리모넨-스틸렌 공중합 수지 또는 피넨-리모넨-스틸렌 공중합 수지의 방향환을 제외한 탄소-탄소 불포화 결합을 환원 수소화하여 얻어지는 수지이다.
또한, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물과 점도나 중합물의 피착체에의 밀착성의 균형을 잡기 위하여, 성분 4의 화합물로는, 25℃에서 액상인 화합물과 25℃에서 고체인 화합물을 병용할 수 있고 또한 그것이 바람직하다.
더 바람직하게는, 25℃에서 액상이며 분자 내에 1개 이하의 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물과, 25℃에서 고체이며 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖지 않는 화합물을 병용하는 것이다.
성분 4에 있어서, 25℃에서 액상인 화합물과 25℃에서 고체인 화합물을 병용하는 경우의 바람직한 병용 비율은, 질량비로 90:10 ~ 10:90이며, 더 바람직하게는 80:20 ~ 20:80이다.
본 발명 실시형태(II)에서 성분 4의 사용량은, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분 1, 성분 2 및 성분 4를 합친 총량에 대해 10~85 질량%인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 15~82 질량%이며, 특히 바람직하게는 20~80 질량%이다. 본 발명 실시형태(II)에서 성분 4의 사용량이, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분 1, 성분 2 및 성분 4를 합친 총량에 대해 10 질량% 미만이면, 성분 4를 첨가한 효과 (즉, 중합시 체적수축율의 저감 효과)를 얻을 수 없게 되는데, 이는 바람직하다고 할 수 없다. 또한, 본 발명 실시형태(II)에서 성분 4의 사용량이, 본 발명 실시형태(II)의 필수 성분인 성분 1, 성분 2 및 성분 4를 합친 총량에 대해 85 질량%보다 많아지면, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 도막 강도가 너무 낮아질 수 있는데, 이는 바람직하다고 할 수 없다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 및 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물은, 후술하는 본 발명 실시형태(III)의 중합물 또는 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 내습열성을 고려하면 이하의 성분 5를 더 포함할 수 있고, 또한 그것이 바람직하다.
성분 5 알코올성 수산기를 가지는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물.
상기 성분 5는, 성분 5가 1 분자 중에 알코올성 수산기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이라면 특별히 제한되지 않는다.
알코올성 수산기를 가지는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물(즉, 성분 5)의 구체적인 예로는, 예를 들어, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴아미드, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물에 사용하는 경우에, 상용성(相溶性)을 고려할 때 이들 중에서 바람직한 것으로는, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트이며, 더 바람직한 것은, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시 프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸 메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트이며, 가장 바람직한 것은 2-히드록시프로필메타크릴레이트이다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물에 성분 5가 사용되는 경우, 성분 5의 사용량은 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 총량 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 1~12 질량% 사용하는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 2~10 질량%이며, 더 바람직하게는 3~8 질량%이다. 성분 5의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 총량 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 1 질량% 미만인 경우에는, 내습열 성능의 발현 효과가 작은 경우가 있어서 바람직하지 않다. 또한, 성분 5의 사용량이 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물의 총량 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 12 질량%보다 큰 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물이 탁해지거나, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물의 유전율이 지나치게 높아지는 경우가 있어서, 바람직하다고 할 수 없다.
또한, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 후술하는 본 발명 실시형태(VI)의 화상표시장치의 제조방법에 사용하는 경우에는, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 중합시 체적 수축율은 3.5% 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 2.7% 이하이며, 가장 바람직하게는 2.3% 이하이다. 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 중합시 체적 수축율이 3.5%보다 큰 경우에는, 중합성 조성물이 중합될 때 중합물에 축적되는 내부 응력이 지나치게 커지고, 중합물층(5a또는5b)과, 이들에 접해 있는 표시부(2), 보호부(3) 또는 터치 패널(7)과의 계면에 변형이 발생하여, 바람직하다고 할 수 없다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물과 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 25℃에서의 점도는 특별히 제한은 없으나, 취급상 10000mPa·s 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 7000mPa·s 이하이며, 특히 바람직하게는 5000mPa·s 이하이다.
또한, 본 명세서에 기재되어 있는 점도는, 25℃에서 점도 10000mPa·초(s) 이하의 점도를 가지는 조성물에 대해서는, 콘/플레이트형 점도계 (Brookfield사 제조, 형식: DV-II+Pro, 스핀들 형식번호: CPE-42)를 이용하여 온도 25.0℃, 회전수 5rpm 의 조건에서 측정한 값이다.
25℃에서의, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 점도가 10000mPa·s 이하로 되면, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 디스펜서를 이용한 선긋기 도포법으로 도포하는 경우에는, 도포 후 액의 확산이 용이하게 되고, 그 결과 필요한 위치에 균일한 두께로 당해 조성물이 골고루 미치는 것이 용이하게 되며, 또한 기포의 혼입이 억제되기 쉬워진다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물과 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물은, 중합 억제제 또는 금지제, 산화 방지제를 첨가할 수 있고, 또한 그것이 바람직하다.
중합 금지제 또는 중합 억제제로는, 중합 금지제 또는 중합 억제제가 중합 금지 기능 또는 중합 억제 기능을 갖고 있다면 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 페노티아진, 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난트라퀴논, 톨루퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실록시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-터트-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르, 알파나프톨, 아세트아미딘아세테이트, 아세트아미딘설페이트, 페닐히드라진염산염, 히드라진염산염, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 라우릴피리디늄클로라이드, 세틸트리메틸암모늄클로라이드, 페닐트리메틸 암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄옥살레이트, 디(트리메틸벤질암모늄)옥살레이트, 트리메틸벤질암모늄말레이트, 트리메틸벤질암모늄타트레이트, 트리메틸벤질암모늄글리콜레이트, 페닐-β-나프틸아민, 파라벤질아미노페놀, 디-β-나프틸파라페닐렌디아민, 디니트로벤젠, 트리니트로톨루엔, 피크린산, 시클로헥사논옥심, 피로가롤, 탄닌산, 레졸신, 트리에틸아민염산염, 디메틸아닐린염산염 및 디부틸아민염산염 등을 들 수 있다.
이들은 단독으로 또는 2종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.
이 중에서도 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난트라퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실록시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-터트-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르 및 페노티아진이 필요에 따라 적절히 사용된다.
일반적으로, 중합 금지제는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5 질량%의 중합 금지제의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 다만, 중합 금지제의 양은 성분 1, 성분 2 및 성분 5에 미리 포함되어 있는 중합 금지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로 성분 1, 성분 2 및 성분 5에 미리 중합 금지제가 포함되어 있으나, 이 중합금지제와 새로 첨가되는 중합 금지제의 총량을 합친 양이, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5 질량%의 중합 금지제의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
산화 방지제로는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,5-디-터트-부틸-4-히드록시벤젠프로판산의 탄소수 7-9의 알킬에스테르, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 3,9-비스[2-[3-(3-터트-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸, 2,2'-메틸렌비스(6-터트-부틸-4-메틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스 (6-터트-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-터트-부틸-5-메틸페놀), N,N',N"-트리스(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-터트-부틸페닐)부탄, 1, 1-비스(2-메틸-4-히드록시-5-터트-부틸페닐)부탄 등을 들 수 있다. 이 중 바람직한 것은, 펜타에리스리톨테트라키스 [3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트이며, 가장 바람직한 것은, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]이다.
일반적으로, 산화 방지제는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5 질량%의 산화방지제 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 다만, 산화 방지제의 양은 성분 4 등의 다른 성분에 미리 포함되어 있는 산화 방지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로 성분 4 등에 미리 산화방지제가 포함되어 있는 경우가 있는데, 이 산화 방지제와 새롭게 첨가되는 산화 방지제의 총량을 합친 양이 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물이나 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5 질량%의 산화 방지제의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
이어서, 본 발명의 실시형태(III)에 대해 설명한다.
본 발명의 실시형태(III)는 본 발명 실시형태(I) 또는 본 발명 실시형태(II)에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물이다.
본 발명 실시형태(III)의 중합물은, 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프, LED 등을 광원으로 하여, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 유리나 플라스틱의 기재(基材)를 통해 조사하여 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 것이다.
또한, 본 발명 실시형태(III)의 중합물은, 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성 보호부와의 사이에 개재되는 중합물층으로 사용되는 중합물이다. 이 중합물은, 23℃, 주파수 100kHz, 인가전압 100mV 조건에서의 200㎛ 두께의 당해 중합물의 유전율이 2.5 이하이며, 2장의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 당해 중합물의, 95℃에서 500시간의 조건에서 보존한 후에 JIS Z 8729에 기재된 색 좌표 b* 값이 1.0 미만으로 되는 것이 바람직하다.
한편, 본 명세서에 기재된 "23℃, 주파수 100kHz, 인가전압 100mV 조건에서의 중합물의 유전율"이란, 200㎛ 두께의 시험편(중합물)을 23℃의 환경에서, Agilent Technologies사 제조의 임피던스 분석기로서 4294A 정밀 임피던스 분석기 40Hz-110MHz를 사용하고, 테스트 픽스처로서 Agilent Technologies사 제조의 16451B 유전체 테스트 픽스처를 사용하여 측정된, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV 조건에서의 중합물의 유전율이다.
도 2 또는 도 3에 나타내는 애드온형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시장치의 표시부와 터치패널 사이에 충진되는 중합물(층) (도 2 및 도 3에 기재된 중합물(층) 5b) 이나 커버유리-터치센터 일체형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시장치의 표시부와 터치센터 일체형 보호부와의 사이에 충진되는 중합물(층) (도 4 및 도 5 에 기재된 중합물(층) 5b)에 본 발명 실시형태(III)의 중합물을 사용하는 경우에는, 본 발명 실시형태(III)의 중합물의 유전율은 낮은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 23℃, 주파수 100kHz, 인가전압 100mV 의 조건에서 200㎛ 두께 중합물의 유전율이 2.5 이하가 되는 중합물을 사용하는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는, 23℃, 주파수 100kHz, 인가전압 100mV 의 조건에서 200㎛ 두께 중합물의 유전율이 2.4 이하가 되는 중합물을 사용하는 것이다.
또한, 본 명세서에 기재된 "2장의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 중합물" 이란, 두께가 0.7mm인 2장의 광학 유리 (코닝사 제조, 상품명: 이글 XG) 사이에 두께가 200㎛인 시트 모양의 중합물을 끼워 넣어 얻어지는 중합물, 또는 두께가 0.7mm인 2장의 광학 유리 (코닝사 제조, 상품명: 이글 XG) 사이에 중합성 조성물을 개재시키고 상기 광학 유리를 통해 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프, LED 등을 광원으로 하여 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사함으로써 얻어지는, 두께가 200㎛인 중합물이며, 중합물층 외측의 2장의 유리 사이에 끼워진 부분에는 스페이서, 가스켓, 또는 실런트(sealant) 등이 전혀 포함되어 있지 않다.
또한, 본 명세서에 기재된 "95℃에서 500 시간의 조건에서 보존한 후에 JIS Z 8729에 기재된 색 좌표 b* 값" 이란, 상기 2 장의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 중합물을 95℃의 환경에서 500시간 유지한 후, 23℃의 환경에서 JIS Z 8729에 기재된 방법에 의해 측정된 색좌표 (psychometric chroma coordinates) b* 의 값이다. 단, 이 b* 값을 측정할 때에 사용된 기준은 두께 0.7㎛의 광학 유리 (코닝사 제조, 상품명: 이글 XG) 1장이다. 본 발명 실시형태(IV)에서는 상기 조건에서 측정된 b* 값이 1.0 미만일 필요가 있다. 또한, 바람직하게는 0.9 미만이며, 더 바람직하게는 0.8 미만이다. 상기 조건에서 측정된 b* 값이 1.0 이상이 되면, 경시적으로 370~450nm의 광에 대한 중합물의 투과율이 감소하고 있는 것이 되어서, 바람직하지 않다.
25℃에서, 본 발명 실시형태(III)의 중합물의 굴절율은 1.48~1.52가 바람직하다. 25℃에서의 중합물의 굴절율이 1.48 미만 또는 1.52보다 클 경우, 중합물의 굴절율이, 보호부의 재질인 광학 유리나 폴리메타크릴산메틸 등 아크릴 수지의 굴절율에 비해 너무 낮아지기 때문에, 표시부에서 보호부에 이르는 사이의 계면에서의 굴절율 차이가 커지고, 표시부에서 영상광의 산란 및 감쇠가 커져서, 바람직하다고 할 수 없다.
또한, 본 발명 실시형태(III)의 중합물의 23℃에서의 인장 탄성율은 1×107 Pa 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 1×103~1×106 Pa이다. 23℃에서의 중합물의 인장 탄성율을 1×107 Pa 이하로 함으로써, 화상 표시부 및 보호부에 대하여, 중합성 조성물의 중합시 체적 수축에 기인하는 응력의 영향에 의한 변형의 발생을 방지할 수 있다.
한편, 본 명세서에 기재된 인장 탄성율은 500mm/분의 인장 속도로 시험을 실시했을 때의 값이다.
이어서, 본 발명 실시형태(IV) 및 본 발명 실시형태(V)에 대하여 설명한다.
본 발명 실시형태(IV)는 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재되는 중합물층으로 사용되는 광학용 점착시트를 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 본 발명 실시형태(I) 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물인 것을 특징으로 하는 중합성 조성물이다.
본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 원료로 사용하여, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 제조할 수 있다.
본 발명 실시형태(V)는, 본 발명 실시형태(IV)의 중합성 조성물을 도포하고 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하여 중합시킴으로써 얻어지는, 두께 10~500㎛의 중합물층을 갖는 광학용 점착시트이다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트는, 시트의 양면이 점착면(점착제층 표면)으로 되어 있는 양면 점착시트이어도 좋고, 시트의 한쪽면만이 점착면 (점착제층 표면)으로 되어 있는 편면 점착시트이어도 좋다. 그 중에서도, 2개의 부재를 맞대어 붙이는 관점에서 보면, 양면 점착 시트인 것이 바람직하다. 한편, 본 명세서에서 "점착시트"라고 하는 경우에는 테이프 모양의 것, 즉 "점착 테이프"도 포함되는 것으로 한다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트는, 기재(기재층:基材層)를 가지지 않는, 이른바 "기재 없는 타입"의 광학용 점착시트 (이하, "기재 없는 광학용 점착시트"로 칭하는 경우가 있다) 이어도 좋고, 기재를 가지는 타입의 광학용 점착시트이어도 좋다. 상기 기재 없는 광학용 점착시트로는, 예를 들어, 본 발명 실시형태의 중합물로 이루어지는 중합물층만으로 구성되는 양면 점착시트나, 본 발명 실시형태의 중합물로 이루어지는 중합물층과 당해 중합물층 이외의 점착제층으로 구성되는 양면 점착시트 등을 들 수 있다. 기재를 가지는 타입의 점착시트로서는, 기재의 적어도 한쪽면에 본 발명 실시형태의 중합물로 이루어지는 중합물층을 갖고 있으면 좋다. 그 중에서도, 광학용 점착시트의 박막화, 투명성 등 광학 물성 향상의 관점에서는 기재 없는 광학용 점착시트 (기재 없는 양면 광학용 점착시트)가 바람직한데, 더 바람직하게는, 본 발명 실시형태의 중합물로 이루어지는 중합물층만으로 구성되는 기재 없는 양면 광학용 점착시트이다. 한편, 상기의 "기재(기재층)"에는 점착시트의 사용(부착)시에 박리되는 세퍼레이터(박리 라이너)는 포함하지 않는다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 중합물층의 두께는 10~500㎛이고, 바람직하게는 10~350㎛이며, 더 바람직하게는 10~300㎛이다. 중합물층의 두께가 500㎛를 초과하면, 도장 공정에서 당겨 감을 때 주름이 생기거나, 습기에 의해 하얗게 탁해지기 쉬워지므로, 바람직하다고 할 수 없다. 중합물층의 두께 10㎛ 미만으로는, 중합물층이 얇기 때문에 응력을 분산할 수 없게 되어, 벗겨짐이 발생하기 쉬워진다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트는, 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성 보호부와의 사이에 개재되는 중합물층으로 사용되는 것이다. 예를 들어, 도 2 또는 도 3에 나타내는 애드온형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시장치의 표시부와 터치패널 사이에 충진되는 중합물(층) (도 2 및 도 3에 기재된 중합물(층) 5b)이나, 커버유리-터치센터 일체형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시장치의 표시부와 터치센터 일체형 보호부와의 사이에 충진되는 중합물(층) (도 4 및 도 5에 기재된 중합물(층) 5b)에, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 사용하는 경우에는, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 유전율은 낮은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV 조건에서 200㎛ 두께의 광학용 점착시트의 유전율이 2.5 이하인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV 조건에서 200㎛ 두께 광학용 점착시트의 유전율이 2.4 이하인 것을 사용하는 것이다.
2장의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 당해 점착시트의, 95℃에서 500 시간의 조건으로 보존한 후에 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b* 값이 1.0 미만인 것이 바람직하다.
[0137]
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트는, 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프, LED 등을 광원으로 하여, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하여 중합성 조성물을 중합함으로써 얻어지는 것이다.
본 발명 실시형태(V)에서는 상기 조건에서 측정된 b* 값은 1.0 미만인 것이 바람직하다. 또한, 상기 조건에서 측정된 b* 값은 바람직하게는 0.9 미만이며, 더 바람직하게는 0.8 미만이다. 상기 조건에서 측정된 b* 값이 1.0 이상이 되면, 경시적으로 370~450nm의 광에 대한 점착시트의 투과율이 감소하고 있는 것이 되어서, 바람직하지 않다.
25℃에서, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 굴절율은 1.48~1.52가 바람직하다. 25℃에서 광학용 점착시트의 굴절율이 1.48 미만 또는 1.52보다 클 경우, 광학용 점착시트의 굴절율이, 보호부의 재질인 광학 유리나 폴리메타크릴산메틸 등의 아크릴 수지의 굴절율과 비교하여 굴절율의 차이가 지나치게 커지기 때문에, 표시부에서 보호부에 이르는 사이의 계면에서의 굴절율 차이가 커지고, 표시부에서 영상광의 산란 및 감쇠가 커져서, 바람직하다고 할 수 없다.
(광학용 점착시트의 중합물층의 형성방법)
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 중합물층의 형성방법은 공지 또는 관용의 중합물층의 형성방법을 이용하는 것이 가능하여, 특별히 한정되지 않으나, 본 발명 실시형태의 중합성 조성물과 같이 아크릴로일기를 갖는 중합성 조성물을 중합시켜 광학용 점착시트의 중합물층을 형성시키는 경우에는, 예를 들어, 이하의 (1)~(3) 등의 방법을 들 수 있다.
(1) 광중합 개시제를 포함하는 아크릴로일기를 갖는 중합성 조성물에, 필요에 따라 첨가제를 포함하는 조성물을, 기재 또는 세퍼레이터(박리 라이너) 위에 도포(도장 공정)하고, 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프, LED 등의 광원을 이용하여 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하여, 당해 조성물을 중합함으로써 중합물층을 형성한다.
(2) 광중합 개시제를 포함하는 아크릴로일기를 갖는 중합성 조성물에, 용제, 필요에 따라 첨가제를 포함하는 조성물(용액)을, 기재 또는 세퍼레이터 (박리 라이너) 위에 도포(도장 공정)하고, 건조하며, 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프, LED 등의 광원을 이용하여 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하여, 당해 조성물을 중합함으로써 중합물층을 형성한다.
(3) 상기 (1)에서 형성된 중합물층을 건조시킨다.
한편, 상기 중합물층 형성방법에서의 도포(도장 공정)로는 공지의 코팅법을 사용할 수 있는데, 관용의 코터, 예를 들어, 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터 등을 사용할 수 있다.
(기재(基材))
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 기재를 가지는 경우, 기재로는, 특별히 제한되지 않지만, 플라스틱 필름, 반사방지(AR) 필름, 편광판, 위상차판 등의 각종 광학 필름을 들 수 있다. 상기 플라스틱 필름 등의 소재로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA) 등의 아크릴계 수지, 폴리카보네이트, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리설폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리염화비닐, 폴리초산비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 상품명 「ARTON (환상올레핀계 폴리머; JSR제조)」, 상품명「ZEONOR (환상올레핀계 폴리머; 일본제온 제조)」등의 환상올레핀계 폴리머 등의 플라스틱 재료를 들 수 있다. 또한, 플라스틱 재료는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 상기의 「기재」란, 광학용 점착시트를 피착체(광학부재 등)에 사용(부착)할 때에, 점착제층과 함께 피착체에 부착되는 부분이다. 점착시트의 사용시(부착시)에 박리되는 세퍼레이터(박리 라이너)는 「기재」에 포함되지 않는다.
상기 중에서, 기재로는 투명 기재가 바람직하다. 상기 "투명 기재"란, 예를 들어, 가시광 파장 영역에서의 전체광선 투과율(JIS K7361에 준한다)이 85% 이상인 기재가 바람직하고, 더 바람직하게는 가시광 파장 영역에서의 전체광선 투과율이 88% 이상인 기재를 말한다. 또한, 기재의 헤이즈(JIS K7361에 준한다)는, 예를 들어, 1.5% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.0% 이하이다. 상기 투명 기재로는, PET 필름이나 상품명 「ARTON」, 상품명「ZEONOR」등의 무배향 필름 등을 들 수 있다.
상기 기재의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 12~75㎛가 바람직하다. 또한, 상기 기재는 단층 및 복층 중 어떠한 형태를 가지고 있어도 좋다. 또한, 기재 표면에는, 예를 들어, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리 등의 물리적 처리, 초벌칠 처리 등의 화학적 처리 등, 공지 관용의 표면처리가 적절히 행하여져도 좋다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 기재를 가지는 경우, 기재로는 각종 기능성 필름을 사용할 수도 있다. 이 경우 본 발명 실시형태의 점착시트는, 기능성 필름의 적어도 한쪽면에 본 발명 실시형태의 점착제층을 갖는 점착형 기능성 필름이 된다. 상기 기능성 필름으로는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 광학적 기능성(편광성, 광굴절성, 광반사성, 광투과성, 광흡수성, 광회절성, 선광성(旋光性), 시인성 등)을 갖는 필름, 도전성을 갖는 필름(ITO 필름 등), 자외선 차단성을 갖는 필름, 하드 코팅성(내손상성)을 갖는 필름 등을 들 수 있다. 더 구체적으로는, 하드 코팅 필름 (PET 필름 등 플라스틱 필름의 적어도 한쪽면에 하드 코팅 처리가 된 필름), 편광 필름, 파장판, 위상차 필름, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 도광판, 반사 필름, 반사 방지 필름, 투명 도전 필름(ITO 필름 등), 의장 필름, 장식 필름, 표면 보호 필름, 프리즘, 컬러 필터 등을 들 수 있다. 한편, 상기의 "판" 및 "필름"은 각각 판 모양, 필름 모양, 시트 모양 등의 형태를 포함하는 것으로 하는데, 예를 들어, "편광 필름"은 "편광판", "편광 시트"도 포함하는 것으로 한다. 또한, "기능성 필름"은 "기능성 판", "기능성 시트"를 포함하는 것으로 한다.
(다른 점착제층)
또한, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 다른 점착제층을 갖는 경우, 다른 점착제층으로는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 우레탄계 점착제, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 에폭시계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 불소계 점착제 등 공지의 점착제로 형성된 공지 관용의 점착제층을 들 수 있다. 상기 점착제는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 있어, 기재도 다른 점착제층도 포함하지 않는 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물층을, 다른 점착제층을 포함하는 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물층과 당해 다른 점착제층을 맞댄 층을, 기재를 포함하는 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물층과 당해 기재를 맞댄 층을, 그리고 다른 점착제층과 기재를 모두 포함하는 경우에는, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물층과 다른 점착제층과 기재를 맞댄 층을, "점착제층"이라고 정의한다.
(세퍼레이터)
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 점착제층 표면(점착면)은, 사용할 때까지는 세퍼레이터(박리 라이너)에 의해 보호되고 있어도 좋다. 또한, 본 발명 실시형태의 광학용 점착시트가 양면 점착시트인 경우, 각 점착면은 2장의 세퍼레이터에 의해 각각 보호되고 있어도 좋고, 양면이 박리면으로 되어 있는 세퍼레이터 1장에 의해 롤 모양으로 감기는 형태로 보호되고 있어도 좋다. 세퍼레이터는 점착제층의 보호재로서 사용되고 있으며, 피착체에 부착할 때에 벗겨진다. 또한, 본 발명 실시형태의 점착시트가 기재 없는 점착시트인 경우에는, 세퍼레이터가 점착층의 지지체 역할도 한다. 한편, 세퍼레이터는 설치되어 있지 않아도 좋다. 상기 세퍼레이터로는, 관용의 박리종이 등을 사용할 수 있는데, 특별히 한정되지는 않으나, 예를 들어, 박리 처리층을 갖는 기재, 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재, 무극성 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재 등을 사용할 수 있다. 상기 박리 처리층을 가지는 기재로는, 예를 들어, 실리콘계, 긴사슬 알킬계, 불소계, 황화 몰리브덴 등의 박리 처리제에 의해 표면처리된 플라스틱 필름이나 종이 등을 들 수 있다. 상기 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재에서 불소계 폴리머로는, 예를 들어, 폴리테트라플루오르에틸렌, 폴리클로로트리플루오르에틸렌, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오르프로필렌 공중합체, 클로로플루오르에틸렌-불화비닐리덴 공중합체 등을 들 수 있다. 또한, 상기 무극성 폴리머로는, 예를 들어, 올레핀계 수지(예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등) 등을 들 수 있다. 또한, 세퍼레이터는 공지 내지 관용의 방법에 의해 형성할 수 있다. 또한, 세퍼레이터기의 두께 등도 특별히 제한되지 않는다.
25℃에서, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 굴절율은 1.48~1.52가 바람직하다. 25℃에서 광학용 점착시트의 굴절율이 1.48 미만 또는 1.52보다 클 경우, 광학용 점착시트의 굴절율이, 보호부의 재질인 광학 유리나 폴리메타크릴산메틸 등 아크릴 수지의 굴절율과 비교하여, 굴절율의 차이가 지나치게 커지기 때문에, 표시부에서 보호부에 이르는 사이의 계면에서의 굴절율 차이가 커지고, 표시부에서 영상광의 산란 및 감쇠가 커져서, 바람직하다고 할 수 없다.
다음으로, 본 발명 실시형태(VI)에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(VI)는, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부와의 사이에 중합성 조성물을 개재시키고 중합하여 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 개재시켜 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법이다.
한편, 본 명세서에 기재된 "화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부와의 사이"는, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부와의 사이의 모든 부분을 의미하는데, 예를 들어, 도 2에서 중합물층(5a,5b)의 어느 위치도 "화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성의 보호부와의 사이"라는 표현에 포함되는 것을 의미한다.
이하에서, 화상표시장치의 바람직한 실시형태에 대하여, 도면을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. 한편, 각 도면에 있어 동일한 부호는 동일 또는 동등한 구성요소를 나타낸다.
예를 들어, 도 1, 도 2및 도 4는 본 발명 실시형태에 따른 화상표시장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 1, 도 2 및 도 4에서 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 표시장치(1)는, 미도시의 구동 회로에 접속되어, 소정의 화상 표시를 행하는 화상 표시부(2)와, 이 화상 표시부(2)에 소정의 거리를 두고 근접 대향 배치된 투광성 보호부(3)를 가진다.
또한, 본 명세서에 기재된 "화상표시장치"로는, 화상표시장치가 화상을 표시하는 장치라면, 특별히 한정되는 것이 아니라, 여러 가지의 것에 적용할 수 있다. 예를 들어, 휴대전화, 휴대용 게임기기 등의 액정표시장치 또는 유기EL 표시장치를 들 수 있다. 본 실시형태의 화상표시부(2)는 액정표시장치의 액정표시패널이다.
그리고, 화상 표시부(2)가 액정표시패널인 경우에는, 도 2 또는 도 4에서 나타내는 바와 같이, 그 표면에 편광판(6a,6b)가 설치되어 있다.
본 실시형태의 화상표시장치(1)의 제조방법으로는, 예를 들어, 우선 화상 표시부(2) 상의 둘레부에, 스페이서(4)와 미도시의 돌출부를 설치하고, 이들의 내측 영역에 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 소정량 떨어뜨린다.
그리고, 화상표시부(2, 액정표시패널)와 스페이서(4) 위에 보호부(3)를 배치하고, 화상표시부(2, 액정표시패널)와 보호부(3) 사이의 공극에 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 빈틈없이 충진한다.
그 후, 보호부(3)를 통해, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물에 대해, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물의 필수 성분인 성분 3이 감광 가능한 광을 조사함으로써, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합시킨다. 이로써, 목적으로 하는 화상표시장치(1)를 얻는다.
이 화상표시장치(1)에 의하면, 중합물층(5)과 보호부(3)의 굴절율이 동등하므로, 휘도나 콘트라스트를 높여서 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한, 화상표시부(2, 액정표시패널) 및 보호부(3)에 대해, 중합성 조성물의 중합시 체적 수축에 의해 발생하는 응력의 영향을 최소한으로 억제할 수 있기 때문에, 액정표시패널(2) 및 보호부(3)에서 왜곡이 거의 발생하지 않고, 그 결과, 화상표시부(2, 액정표시패널)에 변형이 발생하지 않아서, 표시 불량이 없는 고휘도 및 고콘트라스트의 화상 표시가 가능하게 된다.
또한, 도 2와 도 4 에서 중합물층(5b)에 본 발명 실시형태(III)의 중합물이 사용된 경우에는, 중합물층(5b)의 중합물의 유전율이 낮게 유지되므로, 이 중합물층의 두께를 얇게 하여도 화상표시장치의 오작동을 방지할 수 있어서, 화상표시장치의 박형화에 기여할 수 있다.
다음으로, 본 발명 실시형태(VII)에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(VII)는, 화상표시부를 갖는 베이스부와, 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 붙이는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, 당해 광학용 점착시트가 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트인 것을 특징으로 하는 화상표시장치의 제조방법이다.
한편, 본 명세서에 기재된 "화상표시부를 갖는 베이스부와, 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 붙임"이란, 화상표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부 사이의 어느 부분을 붙여도, "화상표시부를 갖는 베이스부와, 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 붙임"이라는 표현에 포함되는 것을 의미하고, 예를 들어, 도 2의 중합물층(5a)와 중합물층(5b) 중 어느 쪽에 점착시트를 사용하여 붙여도, "화상표시부를 갖는 베이스부와, 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 붙임"이라는 표현에 포함되는 것을 의미한다.
화상 표시부를 갖는 베이스부와, 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 붙이는 공정의 예시를 목적으로, 제1 기재(基材)가 터치센서 일체형 보호부이고, 제2 기재가 편광판 있는 표시부인 도 5의 표시장치에서의 제조 공정을 예로써 설명한다.
본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를, 제1 기재인 터치센서 일체형 보호부의 터치센서 탑재면 측에서 인접시켜 배치하는 공정과, 제2 기재인 편광판 있는 표시부의 표면을 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 인접시켜 배치하는 공정과, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 가열 및/또는 가압하여 단차 또는 융기에 추종시키는 공정과, 또한 필요에 따라 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 이들 공정은 다양한 순서로 실시될 수 있다.
예를 들어, 하나의 구체적인 방법으로, 먼저, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 한쪽면을 제1 기재인 터치센서 일체형 보호부의 터치센서 탑재면 측에서 인접시켜 배치하고, 제2 기재인 편광판 있는 표시부의 표면을 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 또 다른 한쪽면에 인접시켜 배치한다. 즉, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 단차 또는 융기를 갖는 표면이 향하도록 하여, 터치센서 일체형 보호부(제1 기재)와 편광판 있는 표시부(제2 기재)의 사이에 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 끼운다. 이어서, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트를 가열 및/또는 가압하여 점착시트를 단차 또는 융기에 추종시킨다. 그런 다음, 필요에 따라 터치센서 일체형 보호부(제1 기재) 쪽 및/또는 편광판 있는 표시부(제2 기재) 쪽으로부터 이들 기재를 통하여 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사한다. 이렇게 하여, 터치센서 일체형 보호부(제1 기재)의 단차 또는 융기 근방에 공극을 형성하지 않고, 터치센서 일체형 보호부(제1 기재)와 편광판 있는 표시부(제2 기재)를 접착할 수 있다. 이 실시 양태에서는, 터치센서 일체형 보호부(제1 기판)와 편광판 있는 표시부(제2 기재)를 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 인접시킨 후 당해 점착시트를 가열 및/또는 가압하기 때문에, 편광판 있는 표시부(제2 기재)의 피착 표면에 단차나 융기가 있는 경우(즉, 화상표시모듈에 부착된 편광판 위에 당해 점착시트를 적용하는 경우)에, 편광판 있는 표시부(제2 기재)의 단차나 융기에도 당해 점착시트를 추종시켜서 그들의 형상 근방에서도 공극의 형성을 방지할 수 있다.
상기 방법에서는, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하는 경우에, 제1 기재 및 제2 기재 중 적어도 하나가, 그들을 통해 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트에 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사할 수 있도록, 적어도 부분적으로는 투명하다. 제1 기재의 단차 또는 융기 부분이 자외선을 투과하지 않는 경우, 제 1 기재 측으로부터 자외선을 조사하면, 그 단차 또는 융기 부분 바로 아래에는 자외선이 조사되지 않으나, 조사된 부분에서 발생된 라디칼의 이동 등에 의해 비조사 부분에서도 점착시트의 중합이 어느 정도 진행된다.
다른 구체적인 방법으로는, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 한쪽면을 터치센서 일체형 보호부(제1 기재)에 단차 또는 융기를 갖는 표면측(즉, 터치센서 탑재면측)에 인접시켜 배치한 후, 당해 점착시트를 가열 및/또는 가압하여 당해 점착시트를 단차 또는 융기에 추종시킨다. 그런 다음, 필요에 따라 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트의 개방면에 자외선을 조사하여 당해 점착시트를 더 중합한 후, 편광판 있는 표시부(제2 기재)를 당해 점착시트의 또 다른 한쪽면에 인접시켜 배치하여, 제2 기재를 당해 점착시트에 붙인다. 박리 필름이 투명하다면, 필요에 따라 박리 필름을 통해 점착시트에 자외선을 조사할 수도 있다. 이 예에서는 당해 점착시트의 전체면에 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사할 수 있기 때문에, 보다 균일하게 당해 점착시트를 중합할 수 있다. 제1 기재가, 당해 점착시트의 중합에 필요한 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사할 수 있도록, 적어도 부분적으로 투명하다면, 필요에 따라 제1 기재 쪽으로부터 자외선을 조사할 수도 있다. 이렇게 하여, 제1 기재의 단차 또는 융기 근방에 공극을 형성하지 않고, 제1 기재와 제2 기재를 접착할 수 있다.
상기 가열 공정은, 대류식 오븐, 핫 플레이트(hot plate), 히트 라미네이터(heat laminator), 오토클레이브(autoclave) 등을 이용하여 행할 수 있다. 점착시트의 유동을 촉진하여 보다 효율적으로 점착시트를 단차 또는 융기에 추종시키기 때문에, 히트 라미네이터, 오토클레이브 등을 이용하여 가열과 동시에 가압하는 것이 바람직하다. 오토클레이브를 이용한 가압은 광학용 점착시트의 탈포(脫泡)에 특히 유리하다. 본 발명 실시형태의 광학용 점착시트의 가열 온도는, 당해 점착시트가 연화 또는 유동하여 단차 또는 융기에 충분히 추종하는 온도이면 좋고, 일반적으로 약 30℃ 이상, 약 40℃ 이상 또는 약60℃ 이상으로 할 수 있으며, 약 150℃ 이하, 약 120℃ 이하 또는 약 100℃ 이하로 할 수 있다. 점착시트를 가압하는 경우, 가하는 압력은 일반적으로 약 0.05MPa 이상 또는 약 0.1MPa 이상, 약 2MPa 이하 또는 약 1MPa 이하로 할 수 있다.
필요에 따라 행하여지는, 상기 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사하는 공정은, 저압 수은등, 중간압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프 등을 광원으로 이용하는 일반적인 자외선 조사장치, 예를 들어 벨트 컨베이어식 자외선 조사장치를 이용하여 행할 수 있다. 자외선 조사량은 일반적으로 약1000mJ/cm2~약5000mJ/cm2이다.
마지막으로, 본 발명 실시형태(VIII)에 대해 설명한다.
본 발명 실시형태(VIII)는 본 발명 실시형태(VI) 또는 본 발명 실시형태(VII)의 화상표시장치의 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치이다.
본 발명 실시형태(VIII)의 화상표시장치는, 표시장치의 본체가 광학 유리로 되어 있는 경우, 일반적으로 그 굴절율(nD)은 1.49~1.52가 된다. 또한, 굴절율(nD)이 1.55 정도의 강화 유리도 존재한다.
보호부(3)는 표시부(2)와 동일한 정도의 크기의 판 모양, 시트 모양 또는 필름 모양의 투광성 부재로 되어 있다. 이 투광성 부재로는, 예를 들어, 광학 유리나 플라스틱(폴리메타크릴산메틸 등의 아크릴 수지 등)을 적절히 사용할 수 있다. 보호부(3)의 표면 또는 이면에, 반사 방지막, 차광막, 시야각 제어막 등의 광학층을 형성하여도 좋다.
보호부(3)가 아크릴 수지로 되어 있는 경우에는, 일반적으로 그 굴절율(nD)은 1.49~1.51이 된다.
보호부(3)는 표시부(2)의 둘레부에 마련된 스페이서(4)를 통해 표시부(2) 상에 설치되어 있다. 이 스페이서(4)의 두께는 0.05~1.5mm 정도이며, 이로써 화상표시부(2)와 보호부(3)의 표면 사이 거리가 1mm 정도로 유지된다.
또한, 보호부(3)의 둘레부에는, 휘도 및 콘트라스트를 향상시키기 위해, 미도시의 테두리 모양의 차광부가 설치되어 있다.
우선, 본 발명 실시형태(VI)의 화상표시장치의 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치에 대해 상세히 설명한다.
화상 표시부(2)와 보호부(3)의 사이에는 중합물층(5a,5b)이 개재되어 있다. 본 발명 실시형태(VI)의 화상표시장치 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치의 경우, 이 중합물층(5a)과 중합물층(5b)에는, 본 발명 실시형태(III)의 중합물이 개재되어 있기 때문에, 가시광 영역의 중합물층(5a)과 중합물층(5b)의 투과율이 90 % 이상이 된다. 여기에서, 중합물층(5a)과 중합물층(5b)의 두께는 10~500㎛가 되도록 하는 것이 바람직하다. 중합물층(5a)과 중합물층(5b)의 두께는, 더 바람직하게는 10~350㎛이며, 특히 바람직하게는 10~300㎛이다.
또한, 중합물층(5a)과 중합물층(5b)에는 본 발명 실시형태(III)의 중합물이 개재되기 때문에, 25℃에서 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)의 굴절율(nD)은 1.45~1.55, 바람직하게는 1.48~1.52가 되므로, 화상표시부(2) 및 보호층(3)의 굴절율과 거의 동등하게 되어서 바람직하다. 이에 따라, 화상 표시부(2)로부터의 영상광의 휘도와 콘트라스트를 높여서 시인성을 향상시킬 수 있다.
본 발명 실시형태(VI)의 화상표시장치 제조방법에 의해 화상표시장치를 제조하는 경우, 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)에는 본 발명 실시형태(III)의 중합물이 개재되기 때문에, 23℃에서 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)의 인장 탄성율은 1×107Pa 이하, 바람직하게는 1×103~1×106Pa이 된다. 따라서, 화상표시부 및 보호부에 대하여, 중합성 조성물의 중합시 체적 수축에 기인하는 응력의 영향에 의한 변형의 발생을 방지할 수 있다.
본 발명 실시형태(VI)의 화상표시장치 제조방법에 의해 화상표시장치를 제조하는 경우, 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)에는 본 발명 실시형태(III)의 중합물이 개재되기 때문에, 중합성 조성물의 중합시 체적 수축율이 4.0% 이하, 바람직하게는 3.5% 이하, 더 바람직하게는 2.7% 이하, 가장 바람직하게는 2.3% 이하이다. 이로써, 중합성 조성물이 중합될 때 중합물층에 축적되는 내부 응력을 저감시킬 수 있고, 중합물층(5a)과 터치패널(7) 또는 보호부(3)와의 계면이나, 중합물층(5b)과 터치패널(7), 표시부(2) 또는 보호부(3)와의 계면에 변형이 생기는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 중합성 조성물을, 터치 패널(7)과 보호부(3)의 사이, 터치패널(7)과 표시부(2)의 사이, 또는 표시부(2)와 보호부(3)의 사이에 개재시켜, 그 중합성 조성물을 중합시킨 경우, 중합물층(5)과 표시부(2), 보호부(3), 터치 패널(7)과의 계면에서 발생하는 광의 산란을 감소시킬 수 있으며, 표시 화상의 휘도를 높이고 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태(III)의 중합물을 중합물층(5b)에 사용하는 경우에는, 이들 중합물의 유전율이 낮기 때문에, 중합물층(5b)의 두께를 얇게 할 수 있다.
다음으로, 본 발명 실시형태(VII)의 화상표시장치 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치에 대해 상세히 설명한다.
화상 표시부(2)와 보호부(3)의 사이에는 중합물층(5a,5b)이 개재되어 있다. 본 발명 실시형태(VII)의 화상표시장치 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치의 경우에는, 이 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)에 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 개재되기 때문에, 가시광 영역의 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)의 투과율이 90% 이상이 된다. 여기에서, 중합물층(5a)과 중합물층(5b)의 두께는 10~500㎛가 되도록 하는 것이 바람직하다. 중합물층(5a)과 중합물층(5b)의 두께는, 더 바람직하게는 10~350㎛이며, 특히 바람직하게는 10~300㎛이다.
또한, 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)에는 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 개재되기 때문에, 25℃에서 중합물층(5a) 및 중합물층(5b)의 굴절율(nD)은 1.45~1.55, 바람직하게는 1.48~1.52가 되므로, 화상 표시부(2) 및 보호부(3)의 굴절율과 거의 동등하게 되어서 바람직하다. 이에 따라, 화상 표시부(2)로부터의 영상광의 휘도와 콘트라스트를 높여서 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태(VII)의 화상표시장치 제조방법에 의해 화상표시장치를 제조하는 경우, 중합물층(5a)와 중합물층(5b)에는 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트 개재되기 때문에, 화상표시부나 보호부의 단차나 융기에도 당해 점착시트를 추종시켜서 그 형상 근방에서도 공극의 형성을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트는 유연성이 있기 때문에, 보호부(3), 표시부(2), 터치 패널(7)이 요철 형상을 가지고 있어도, 나아가, 화상표시유닛의 표시면에 요철 표면 형상을 갖는 층(예를 들어, 편광판)이 설치되어 있다고 하여도, 시트 자체의 내부 잔류 응력이 완화되어 있어서, 화상표시장치에서의 표시 얼룩을 방지할 수 있다. 예를 들어, 도 4의 표시 장치의 경우, 광학용 점착시트는 충분한 접착력 및 친수성을 가지고 있기 때문에, 고온 고습 환경에서도 화상표시부(2)의 표시면(예를 들어, 편광판)과 광학용 점착시트(즉, 중합물층 5b)와의 계면 및 광학용 점착시트(즉, 중합물층 5b)와 터치센서 일체형 보호부(3)와의 계면에서 기포나 벗겨짐이 발생하지 않으며 백화도 생기지 않는다.
본 발명 실시형태(VIII)의 화상표시장치에 사용되는 광학 유리판으로는, 액정 셀의 액정을 협지하는 유리판이나, 액정 셀의 보호판으로 사용되는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 사용되는 아크릴 수지판으로는, 액정 셀의 보호판으로 사용되는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 이러한 광학 유리판이나 아크릴 수지판의 평균 표면 조도는 일반적으로 1.0nm이하이다.
또한, 본 발명 실시형태(VIII)의 화상표시장치는, 화상 표시부(2)와 보호부(3)의 사이에 본 발명 실시형태(III)의 중합물 또는 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트가 사용된 중합물층(5)이 충진되어 있기 때문에, 충격에 강하다.
또한, 화상 표시부(2)와 보호부(3)의 사이에 공극을 마련하는 종래예에 비해 화상표시장치를 박형으로 형성할 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태(VIII)의 화상표시장치는 여러 양태를 취할 수 있다. 예를 들어, 도 3과 도 5에 나타내는 바와 같이, 스페이서(4)를 생략하여 화상표시장치(1)를 제조하여도 좋다. 도 3의 중합물층(5b)의 경우, 화상표시장치는, 예를 들어, 표시부(2)의 편광판(6a) 상에 본 발명 실시형태(I) 또는 본 발명 실시형태(II)의 광중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치패널(7)을 형성하며, 전술한 것과 마찬가지의 광중합을 행하거나, 또는 예를 들어, 보호부(3), 중합물층(5a), 터치패널(7) 및 중합물층(즉, 광학용 점착시트 5b)으로 이루어진 적층체를 화상 표시부(2) 상의 표시면(즉, 편광판(6a) 표면)에 맞대어 붙임으로써 얻을 수 있다.
또한, 도 5의 중합물층(5b)의 경우, 화상표시장치는, 예를 들어, 표시부(2)의 편광판(6a) 상에 본 발명 실시형태(I) 또는 본 발명 실시형태(II)의 광중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치센서 일체형 보호부(3)를 형성하며, 전술한 것과 마찬가지의 광중합을 행하거나, 또는 예를 들어, 터치센서 일체형 보호부(3) 및 중합물층(즉, 광학용 점착시트 5b)으로 이루어진 적층체를 화상 표시부(2) 상의 표시면(즉, 편광판(6a) 표면)에 맞대어 붙임으로써 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 실시형태는, 전술한 액정표시장치 뿐 아니라, 예를 들어, 유기 EL, 플라즈마 디스플레이 장치 등 각종 패널 디스플레이에 적용할 수 있다.
[실시예]
이하 실시예에 의해 본 발명의 실시형태를 더욱 구체적으로 설명하나, 본 발명의 실시형태는 이하의 실시예에만 제한되는 것은 아니다.
<점도의 측정>
점도는 이하의 방법으로 측정하였다.
시료 1ml를 사용하고 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사 제조, 형식: DV-II + Pro 스핀들, 형식번호: CPE-42)를 이용하여, 온도 25.0℃, 회전수 5rpm의 조건에서 점도가 거의 일정하게 됐을 때의 값을 측정하였다.
<수산기가의 측정>
JIS K 0070에 따라 수산기가를 측정하였다.
실시 합성례 1
교반기 및 증류 장치가 달린 1리터 4구 플라스크에, 수소첨가 폴리부타디엔폴리올((주)일본 소다 제조, 상품명: NISSO-PB GI-2000, 수산기가 47.3mgKOH/g) 540.0g, 아크릴산 n-부틸 162.0g, 디옥틸틴딜라우레이트 0.81g 및 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5- 디-터트-부틸-4-히드록시페닐) 프로피오네이트] (BASF사 제조, 상품명: IRGANOX1010) 3.51g을 투입하고, 공기 기류 하에서 130℃로 가열하여 생성되어 오는 n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸의 혼합액을 환류하면서, 10시간 정도에 걸쳐 서서히 반응계 밖으로 증류하였다. n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸이 나오지 않게 된 다음, 진공 펌프를 이용하여 반응계 안을 10kPa까지 감압하고, 다시 n-부탄올과 아크릴산 n-부틸을 계의 밖으로 증류하였다. 반응계를 1.5시간 정도 50Pa로 유지한 후, 반응기를 냉각하여 아크릴로일기 함유 수소첨가 폴리부타디엔 1을 얻었다.
실시 합성례 2
교반기 및 증류 장치가 달린 1리터 4구 플라스크에, 수소첨가 폴리부타디엔폴리올((주)일본 소다 제조, 상품명: NISSO-PB GI-3000, 수산기가 29.5mgKOH/g) 540.0g, 아크릴산 n-부틸 101g, 디옥틸틴딜라우레이트 0.81g 및 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5- 디-터트-부틸-4-히드록시페닐) 프로피오네이트] (BASF사 제조, 상품명: IRGANOX1010) 3.51g을 투입하고, 공기 기류 하에서 130℃로 가열하여 생성되어 오는 n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸의 혼합액을 환류하면서, 10시간 정도에 걸쳐 서서히 반응계 밖으로 증류하였다. n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸이 나오지 않게 된 다음, 진공 펌프를 이용하여 반응계 안을 10kPa까지 감압하고, 다시 n-부탄올과 아크릴산 n-부틸을 계의 밖으로 증류하였다. 반응계를 1.5 시간 정도 50Pa로 유지한 후, 반응기를 냉각하여 아크릴로일기 함유 수소첨가 폴리부타디엔 2를 얻었다.
실시 합성례 3
교반기 및 증류 장치가 달린 1리터 4구 플라스크에, 수소첨가 폴리이소프렌폴리올((주)이데미츠 흥산 제조, 상품명: 에폴, 수산기가 49.9) 540.0g, 아크릴산 n-부틸 162.0g, 디옥틸틴딜라우레이트 0.81g 및 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐) 프로피오 네이트] (BASF사 제조, 상품명: IRGANOX1010) 3.51g을 투입하고, 공기 기류 하에서 130℃로 가열하여 생성되어 오는 n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸의 혼합액을 환류하면서, 10시간 정도에 걸쳐 서서히 반응계 밖으로 증류하였다. n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸이 나오지 않게 된 다음, 진공 펌프를 이용하여 반응계 안을 10kPa까지 감압하고, 다시 n-부탄올과 아크릴산 n-부틸을 계의 밖으로 증류하였다. 반응계를 1.5 시간 정도 50Pa로 유지한 후, 반응기를 냉각하여 아크릴로일기 함유 수소첨가 폴리이소프렌 1을 얻었다.
(실시 배합례 1)
상기 아크릴로일기 함유 수소첨가 폴리이소프렌 1 60.0 질량부, 이소스테아릴아크릴레이트 ((주)오사카 유기화학 공업 제조, 상품명: ISTA) 40.0 질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 제조, 상품명: Irgacure 184) 0.8 질량부 및 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐옥사이드 (Lambson 제조, 상품명: SpeedCure TPO) 0.4 질량부를 자전·공전 믹서 ((주)신키 제조, 상품명 : あわとり
Figure 112014085358682-pct00005
ARE-310)를 이용하여 혼합하였다. 이 배합물을 중합성 조성물 A1으로 하였다. 중합성 조성물 A1의 25℃에서의 점도는 4900mPa·s이었다.
(실시 배합례 2∼실시 배합례 9 및 비교 배합례 1∼비교 배합례 2)
실시 배합례 1과 동일한 방법에 의해, 표 1 내지 표 3에 나타내는 배합 조성에 따라 배합하였다. 실시 배합례 2-9에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 A2∼중합성 조성물 A9로 하고, 비교 배합례 1 및 비교 배합례 2에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 B1과 중합성 조성물 B2로 하였다.
Figure 112014085358682-pct00006
Figure 112014085358682-pct00007
Figure 112014085358682-pct00008
<광학용 점착시트의 제조>
표 1 내지 표 3에 나타내는 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 각각 애플리케이터를 이용하여 막두께 200㎛가 되도록 실리콘 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, PET) 필름 (100mm×100mm×50㎛)에 도포하고, 상면을 25㎛ 두께의 실리콘 코팅된 PET 필름으로 덮은 후, 메탈할라이드램프를 이용한 컨베이어식 자외선 조사장치 ((주) 지에스 유아사 라이팅 제조, 상품명: GSN2-40)를 이용하여 실리콘 코팅된 PET 필름을 통해 조사 강도 190mW/cm2 (365nm 값), 조사량 2800mJ/cm2 (365nm 값)의 조건으로 자외선을 조사하여 중합성 조성물을 중합시켜서, 이형(離型) PET 필름에 끼워진 막두께 약 200㎛의 광학용 점착시트를 얻었다. 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 사용하여 제조된 상기 광학용 점착시트를 각각 점착시트 A1~점착시트 A9, 점착시트 B1 및 점착시트 B2로 하였다.
<상기 점착시트를 이용한 시험편의 제작방법 및 초기 광학특성 평가>
상기 점착시트 A1~점착시트 A9, 점착시트 B1 및 점착시트 B2에 있어, 각각 기포가 계면에 들어가지 않도록 2장의 유리판(50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명: EAGLE XG(등록상표), CORNING 제조)으로 당해 점착시트의 양면으로부터 끼우도록, 점착시트에 2장의 유리판을 부착함으로써 시험편을 제작하였다.
점착시트 A1~점착시트 A9, 점착시트 B1 및 점착시트 B2를 사용하여 제작한 시험편을 각각 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 BS1 및 시험편 BS2로 하였다. 이들 시험편의 전체광선 투과율, b*를 후술하는 방법으로 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<시험편의 제작방법 및 초기 광학특성 평가>
상기 중합성 조성물 A3~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 각각 바 코터를 이용하여 막두께 200㎛가 되도록 유리판 (50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명: EAGLE XG(등록상표), CORNING 제조)에 도포하고, 동종 동형의 유리판으로 덮어 끼워 넣고, 메탈 할라이드 램프를 이용한 컨베이어식 자외선 조사장치 ((주)지에스 유아사 라이팅 제조, 상품명: GSN2-40)를 사용하여 유리판을 통해 조사강도 190mW/cm2 (365nm 값), 조사량 2800mJ/cm2 (365nm 값)의 조건으로 자외선을 조사하여 중합성 조성물을 중합시켜 유리판에 끼워진 막두께 약 200㎛의 평가 시험용 중합물막을 얻었다. 중합성 조성물 A3~A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 사용하여 제조된, 상기 유리판에 끼워진 막두께 약 200㎛의 평가 시험용 중합물막을, 각각 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BL1 및 시험편 BL2로 하였다. 이들 시험편의 전체광선 투과율, b*를 후술하는 방법으로 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<전체광선 투과율의 측정>
유리판 (50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명: EAGLE XG(등록상표), CORNING 제조) 1 장을 기준으로 사용하여, 상기 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BS1, 시험편 BS2, 시험편 BL1 및 시험편 BL2의 전체광선 투과율을 JIS K 7361-1에 따라 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<b*의 측정>
유리판 (50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명: EAGLE XG(등록상표), CORNING 제조) 1 장을 기준으로 사용하여, 상기 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BS1, 시험편 BS2, 시험편 BL1 및 시험편 BL2의 b*를 JIS Z 8729에 따라 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<헤이즈의 측정>
유리판 (50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명: EAGLE XG(등록상표), CORNING 제조) 1 장을 기준으로 사용하여, 상기 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BS1, 시험편 BS2, 시험편 BL1 및 시험편 BL2의 헤이즈(haze)를 JIS K 7136에 따라 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<유전율의 측정>
2장의 실리콘 코팅된 PET 필름을 사용하여 그 사이에 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 막두께 200㎛가 되도록 끼워넣고, 메탈 할라이드 램프를 이용한 컨베이어식 자외선 조사장치((주) 지에스 유아사 라이팅 제조, 상품명: GSN2-40)를 이용하여 실리콘 코팅된 PET 필름을 통해 조사강도 190mW/cm2 (365nm 값), 조사량 2800mJ/cm2 (365nm 값)의 조건으로 자외선을 조사하여 중합성 조성물을 중합시켜서, 실리콘 코팅된 PET 필름에 끼워진 막두께 약 200㎛의 평가 시험용 중합물막을 얻었다. 이 중합물 막을 실리콘 코팅된 PET 필름으로부터 박리하여, 임피던스 분석기((주)애질런트 테크놀로지 제조, 상품명: 4294A 정밀 임피던스 분석기 40Hz-110MHz)를 사용하여 중합물막의 유전율을 측정하였다. 그 결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다.
또한, 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2을 중합하여 얻어진, 실리콘 코팅된 PET 필름을 박리한 두께 200㎛의 중합물막을 각각 중합물막 A1~중합물막 A9, 중합물막 B1 및 중합물막 B2로 한다.
<중합시 체적 수축율의 측정>
중합 전의 중합성 조성물 A1~A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2와, 이들을 이하의 제조방법에 의해 중합하여 얻어진 중합물의 밀도를, 자동 비중계(형식: DMA-220H, (주)신광전자 제조)를 이용하여 23℃의 온도 조건에서 측정하고, 아래의 식으로부터 중합시 체적 수축율을 구하였다.
(중합시 체적 수축율의 측정에 사용되는 중합물의 제조방법)
중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A9, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2의 각 조성물을 막두께 약 2mm가 되도록 끼워 넣고, 메탈 할라이드 램프를 이용한 컨베이어식 자외선 조사장치((주) 지에스 유아사 라이팅 제조, 상품명: GSN2-40)를 사용하여 실리콘 코팅된 PET 필름을 통해 조사강도 190mW/cm2 (365nm 값), 조사량 4000mJ/cm2 (365nm 값)의 조건으로 자외선을 조사하여 중합성 조성물을 중합시켜, 실리콘 코팅된 PET 필름에 끼워진 막두께 약 2mm의 평가 시험용 중합물막을 얻었다. 이 중합물막을 실리콘 코팅된 PET 필름으로부터 박리하여, 이들 중합물을 밀도의 측정에 사용하였다.
중합시 체적 수축율(%) = 〔(중합물의 밀도 - 중합성 조성물의 밀도) / (중합물의 밀도)〕×100
그 결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다.
<굴절율 측정>
상기 중합물막 A1~중합물막 A9, 중합물막 B1 및 중합물막 B2를 사용하여, JIS K 7105에 따라 중합물막의 굴절율을 측정하였다. 그 결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다.
<인장 탄성율의 측정>
상기 중합물막 A1~중합물막 A9, 중합물막 B1 및 중합물막 B2를 각각 인장 시험기 ((주) 시마즈 제작소 제조, EZ Test/CE)에 고정하고, 23℃에서 인장 속도 500mm/분으로 시험을 실시하여, 중합물막의 인장 탄성율을 구하였다. 그 결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다.
<고온 조건에서 보존되었을 때의 전체광선 투과율, b* 값 및 헤이즈의 측정>
상기 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BS1, 시험편 BS2, 시험편 BL1 및 시험편 BL2를 각각 70℃, 85℃ 및 95℃의 항온기에 넣고 500시간 경
과 후의 시험편을 사용하여, 상기의 방법으로 시험편의 전체광선 투과율, b* 값 및 헤이즈를 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
<고온다습 조건에서 보존되었을 때의 전체광선 투과율, b* 값 및 헤이즈의 측정>
상기 시험편 AS1~시험편 AS9, 시험편 AL3~시험편 AL9, 시험편 BS1, 시험편 BS2, 시험편 BL1 및 시험편 BL2를 각각 온도 60℃, 습도 90% RH의 항온항습기에 넣고 500 시간 경과 후의 시험편을 사용하여, 상기의 방법으로 시험편의 전체광선 투과율, b* 값 및 헤이즈를 측정하였다. 그 결과를 표 6 내지 표 8에 나타낸다.
Figure 112014085358682-pct00009
Figure 112014085358682-pct00010
Figure 112014085358682-pct00011
Figure 112014085358682-pct00012
Figure 112014085358682-pct00013
표 4 내지 표 8의 결과로부터, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어진 중합물은, 고온 조건에서 장기간 보존된 경우에도 착색 등의 외관 변화가 일어나기 어렵고 양호한 광 투과성을 유지할 수 있다는 것을 알았다.
또한, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물은 중합시 체적 수축율이 낮고, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어진 중합물은, 고온 조건에서 장기간 보존된 경우에도 착색 등의 외관 변화가 일어나기 어렵고 양호한 광 투과성을 유지할 수 있다는 것을 알았다.
이상과 같이, 본 발명 실시형태(I)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어진 중합물막은, 고온 조건에서 장기간 보존된 경우에도 착색 등의 외관 변화가 일어나기 어렵고 양호한 광 투과성을 유지할 수 있다. 또한, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물은 중합시 체적 수축율이 낮고, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 중합하여 얻어진 중합물막은, 고온 조건에서 장기간 보존된 경우에도 착색 등의 외관 변화가 일어나기 어렵고 양호한 광 투과성을 유지할 수 있다. 따라서, 상기 중합물막을, 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성 보호부의 사이에 개재되는 투명 광학수지층으로 사용하는 경우에는, 양호한 광학 점착층을 제공할 수 있다.
따라서, 상기 중합물을 화상표시장치에 사용하는 것은 유용하다.
[부기]
(중합성 조성물, 중합물, 광학용 점착시트, 화상표시장치 및 그 제조방법)
본 발명의 실시형태는, 예를 들어 스마트폰이나 태블릿 PC등에 사용되는 액정표시장치 등 화상표시장치에 사용되는 중합성 조성물, 당해 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물, 당해 조성물을 이용한 화상표시장치의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치에 관한 것이다.
본 발명의 실시형태는, 상기 과제를 해결하기 위하여, 중합시 체적 수축율이 작고 유전율이 낮으며 열에 의한 착색이 적은 중합물을 제조하기 위한 중합성 조성물 및 당해 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물(광학용 점착시트를 포함), 당해 중합물을 이용한 화상표시장치 및 당해 화상표시장치의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명 실시형태의 발명자들은 상기 과제를 해결하려고 연구를 거듭한 결과, 특정 구조를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 포함하는 중합성 조성물은, 중합시 체적 수축율이 작고 중합에 의해 얻어진 중합물이 저 유전율이며 열에 의한 착색이 적어지는 것을 발견, 본 발명의 실시형태를 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 실시형태(I)는, 화상표시장치의 화상표시부와 투광성 보호부의 사이에 개재되는 중합체층을 형성하고 있는 중합물을 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 이하의 성분 1, 이하의 성분 2 및 이하의 성분 3을 필수 성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물에 관한 것이다.
성분 1 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르의 에스테르 교환 반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물,
성분 2 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 함유하는 화합물,
성분 3 광중합 개시제.
본 발명의 실시형태(II)는, 화상표시장치의 화상 표시부와 투광성 보호부의 사이에 개재되는 중합물층을 형성하고 있는 중합물을 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 이하의 성분 1, 이하의 성분 2, 이하의 성분 3 및 이하의 성분 4를 필수 성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물에 관한 것이다.
성분 1 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르의 에스테르 교환 반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산과의 탈수 축합 반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물,
성분 2 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 함유하는 화합물,
성분 3 광중합 개시제,
성분 4 분자 내에 (메타)아크릴로일기가 없고, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합성 개시 기능 중 어느 기능도 갖지 않으며, 탄소 원자 및 수소 원자로 구성되거나 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 구성되는 화합물.
본 발명의 실시형태(III)는 본 발명의 실시형태(I) 또는 본 발명의 실시형태(II)에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물에 관한 것이다.
본 발명의 실시형태(IV)는 화상표시장치의 화상표시부와 투광성 보호부의 사이에 개재되는 중합물층으로 사용되는 광학용 점착시트를 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 본 발명 실시형태(I) 또는 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물인 것을 특징으로 하는 중합성 조성물에 관한 것이다.
본 발명 실시형태(V)는, 본 발명 실시형태(IV)의 중합성 조성물을 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하여 중합시킴으로써 얻어지는, 두께 10~500㎛의 중합물층을 갖는 광학용 점착시트에 관한 것이다.
본 발명 실시형태(VI)는, 화상표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 중합성 조성물을 개재하여 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, 본 발명 실시형태(II)의 중합성 조성물을 개재하여 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하는 공정을 가지는 화상표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명 실시형태(VII)는 화상표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부를 광학용 점착시트를 이용하여 부착하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, 당해 광학용 점착시트가 본 발명 실시형태(V)의 광학용 점착시트인 것을 특징으로 하는 화상표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명 실시형태(VIII)는 본 발명 실시형태(VI) 또는 본 발명 실시형태(VII)의 화상표시장치 제조방법에 의해 제조된 화상표시장치에 관한 것이다.
더 말하면, 본 발명의 실시형태는 이하의 [1]~[16]에 관한 것이다.
[1] 화상표시장치의 화상표시부와 투광성 보호부 사이에 개재되는 중합물층을 형성하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이,
(성분 1) 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산에스테르의 에스테르 교환반응 및/또는 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 (메타)아크릴산의 탈수 축합반응에 의해 생성되는 (메타)아크릴레이트 화합물,
(성분 2) 탄소수 6 이상의 탄화수소기 및 (메타)아크릴로일기를 함유하는 화합물 및
(성분 3) 광중합 개시제
를 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[2] (성분 4) 분자 내에 (메타)아크릴로일기가 없고, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합성 개시 기능 중 어느 기능도 갖지 않으며, 탄소 원자 및 수소 원자로 구성되거나 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 구성되는 화합물
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 중합성 조성물.
[3] 상기 성분 4의 화합물이 25℃에서 액상인 화합물 및 25℃에서 고체인 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 [2]에 기재된 중합성 조성물.
[4] 상기 25℃에서 액상인 화합물이, 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수소첨가 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수소첨가 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔폴리올, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 액상 폴리이소프렌폴리올, 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올 및 수소첨가 다이머디올을 포함하는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [3]에 기재된 중합성 조성물.
[5] 상기 25℃에서 액상인 화합물이 분자 내에 1개 이하의 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 [3]에 기재된 중합성 조성물.
[6] 상기 25℃에서 액상인 화합물이, 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부타디엔, 액상 수소첨가 폴리이소프렌, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올 및 수소첨가 다이머디올을 포함하는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 [5]에 기재된 중합성 조성물.
[7] 상기 25℃에서 고체인 화합물이 수소첨가 석유수지, 테르펜계 수소첨가 수지 및 수소첨가 로진에스테르를 포함하는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [3]~[6] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물.
[8] (성분 5) 알코올성 수산기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 [1]~[7]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물.
[9] 상기 수소첨가 폴리올레핀폴리올이 수소첨가 폴리부타디엔폴리올 및/또는 수소첨가 폴리이소프렌 폴리올인 것을 특징으로 하는 [1]~[8]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물.
[10] [1]~[9]에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물.
[11] 상기 중합물층이 형성된 광학용 점착시트를 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 당해 중합성 조성물이 [1]~[8]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물인 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[12] [11]의 중합성 조성물을 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하여 중합시킴으로써 얻어지는 두께 10~500㎛의 중합물층을 가지는 광학용 점착시트.
[13] 화상표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 중합성 조성물을 개재하여 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, [2]~[9]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 개재하여 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 당해 조성물에 조사하는 공정을 가지는 화상표시장치의 제조방법.
[14] 화상표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 광학용 점착시트를 사용하여 중합물층을 부착하는 공정을 갖는 화상표시장치의 제조방법으로서, 당해 광학용 점착시트가 [12]에 기재된 광학용 점착시트인 것을 특징으로 하는 화상표시장치의 제조방법.
[15] [13]또는[14]에 기재된 방법에 의해 제조된 화상표시장치.
[16] 화상표시부가 액정표시패널인 것을 특징으로 하는 [15]에 기재된 화상표시장치.
한편, 본 명세서에 기재된 "중합물"이란, 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 중합물이면, 형태 등에 특별히 제한은 없고, 본 명세서에 기재된 "광학용 점착시트" 도 중합물에 포함되는 것을 의미한다.
또한, 본 명세서에 기재된 "화상표시부와 투광성 보호부의 사이에 개재되는 중합물층"이란, 화상표시부와 투광성 보호부 사이의 모든 중합물층을 의미하는데, 예를 들어, 도 2의 5a와 5b 의 어느 쪽도 포함되는 것을 의미한다.
본 발명 실시형태의 중합성 조성물에 의하면, 저유전율의 중합물을 제공할 수 있기 때문에, 종래보다 도 2~도 5의 중합물 (5b, 광학용 점착시트를 포함)을 더 얇게 한 경우에도 중합물이 컨덴서 기능을 가지지 않고, 그 결과, 종래의 것보다 훨씬 전기적 오작동을 방지할 수 있다. 즉, 액정 패널 등의 화상표시장치를 박층화할 수 있게 된다.
또한, 본 발명 실시형태의 중합성 조성물에 의하면, 그것을 화상 표시부와 보호부의 사이에 적용하여 중합시켰을 때의 체적 수축에 의한 응력을 최소한으로 억제할 수 있기 때문에, 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 중합성 조성물을 개재하여 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 이용하여 화상표시장치를 제조할 때에, 이 응력이 화상 표시부와 보호부에 대해 미치는 영향도 최소한으로 억제할 수 있다. 따라서, 본 발명 실시형태의 화상표시장치에 의하면, 화상표시부 및 보호부에서 변형이 거의 발생하지 않는다.
또한, 본 발명 실시형태의 중합물 및 광학 점착시트는, 그 굴절율이, 종래의 액정표시패널과 보호부 사이에 설치되는 공극에 비해, 화상표시부의 구성 패널이나 보호부의 구성 패널의 굴절율에 가깝고, 보호부와 중합물과의 계면이나 중합물과 화상표시부와의 계면, 보호부와 광학 점착시트와의 계면이나 광학 점착시트와 화상표시부와의 계면에서의 광의 반사가 억제된다. 그 결과, 본 발명 실시형태의 화상표시장치에 의하면, 표시 불량이 없는 고휘도 및 고콘트라스트의 디스플레이가 가능하게 된다.
또한, 화상표시부가 액정표시패널인 경우에는, 액정 재료의 배향 불량 등으로 인한 디스플레이 불량을 확실하게 방지하여 고품질의 디스플레이를 행할 수 있다.
또한, 본 발명 실시형태의 화상표시장치에 의하면, 화상표시부와 보호부의 사이에 중합물 또는 광학 점착시트가 개재되기 때문에, 충격에 강하게 된다.
또한, 본 발명 실시형태의 중합물 및 광학 점착시트는 중합물 또는 광학 점착시트가 열 이력을 받은 경우에도, 중합물 또는 광학 점착시트가 착색되기 어려우므로, 고휘도 및 고콘트라스트의 디스플레이를 장시간 지속시키는 것이 가능하다.
또한, 본 발명의 실시형태에 의하면, 화상표시부와 보호부의 사이에 공극을 설치한 종래예에 비해 박형의 화상표시장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시형태 및 구체적인 예가 첨부 도면을 참조하여 설명되었지만, 본 발명은 예시적인 실시형태 및 구체적인 예의 어느 것에도 한정되지 않으며, 예시적인 실시형태 및 구체적인 예는 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서 변형·변경되거나 조합될 수 있다.
본 출원은 일본국에서 2012년 3월 28일에 출원된 일본 특허출원 제2012-074249 호에 근거한 우선권의 이익을 주장하며, 따라서 그 전체 내용은 여기에 참조로써 통합된다.
1 표시장치
2 표시부
3 보호부 (단, 도 4 및 도 5에서는 터치센서 일체형 보호부)
4 스페이서
5a, 5b 중합물(층)
6a, 6b 편광판

Claims (17)

  1. 중합성 조성물로서,
    수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산에스테르 사이의 에스테르 교환 반응에 의해 생성된 화합물, 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 아크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물 및 수소첨가 폴리올레핀폴리올과 메타크릴산 사이의 탈수 축합 반응에 의해 생성된 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제1 성분과,
    탄소수 6 이상의 탄화수소기와 아크릴로일기를 포함하는 화합물 및 탄소수 6 이상의 탄화수소기와 메타크릴로일기를 포함하는 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제2 성분과,
    광중합 개시제를 포함하는 군으로부터 선택된 제3 성분과,
    제4 성분
    을 포함하고,
    상기 제4 성분은, 25℃에서 액상인 화합물을 포함함과 함께,
    상기 25℃에서 액상인 화합물은, 액상폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부텐, 액상 수소첨가 폴리부타디엔, 액상 수소첨가 폴리이소프렌, 액상 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 액상 수소첨가 폴리이소프렌폴리올 및 수소첨가 다이머디올을 포함하는 군으로부터 선택된 물질을 포함하는 것인, 중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제4 성분은, 25℃에서 고체인 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제2항에 있어서,
    상기 25℃에서 고체인 화합물은, 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지 및 수소첨가 로진에스테르를 포함하는 군으로부터 선택된 물질을 포함하는 것인 중합성 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    알코올성 수산기를 갖는 아크릴로일기를 함유하는 화합물 및 알코올성 수산기를 갖는 메타크릴로일기를 함유하는 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 제5 성분을 더 포함하는 중합성 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 수소첨가 폴리올레핀폴리올은 수소첨가 폴리부타디엔폴리올 및 수소첨가 폴리이소프렌폴리올을 포함하는 군으로부터 선택된 물질을 포함하는 것인 중합성 조성물.
  10. 제1항에 기재된 중합성 조성물을 광중합시킴으로써 얻어지는 중합물.
  11. 점착시트로서,
    제10항에 기재된 중합물을 포함하고, 10㎛ 이상 500㎛ 이하의 두께를 갖는 층을 포함하는 점착시트.
  12. 화상표시장치의 제조방법으로서,
    화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부의 사이에 제1항에 기재된 중합성 조성물을 개재시키는 단계 및,
    상기 중합성 조성물을 광중합시킴으로써 상기 베이스부와 상기 보호부의 사이에 중합물층을 형성하는 단계를 포함하는 화상표시장치의 제조방법.
  13. 화상표시장치의 제조방법으로서,
    제11항에 기재된 점착시트를 사용하여 화상 표시부를 갖는 베이스부와 투광성 보호부를 접착하는 단계를 포함하는 화상표시장치의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 화상 표시부는 액정표시패널을 포함하는 것인 화상표시장치의 제조방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 화상 표시부는 액정표시패널을 포함하는 것인 화상표시장치의 제조방법.
  16. 제12항에 기재된 화상표시장치의 제조방법에 의해 제조되는 화상표시장치.
  17. 제13항에 기재된 화상표시장치의 제조방법에 의해 제조되는 화상표시장치.
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