KR101577073B1 - 전기 광학 장치 및 컬러 필터 기판과 전자 기기 - Google Patents

Abstract

액정 장치 등의 전기 광학 장치에서, 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현한다. 전기 광학 장치는, 한 쌍의 기판(10, 20)과, 한 쌍의 기판 사이에 협지된 전기 광학 물질(50)과, 한 쌍의 기판 사이에서, 한 쌍의 기판 상에서 전기 광학 물질이 형성된 영역의 주위에 위치하는 시일 영역에 배치되어 있고, 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 시일재(52)와, 한쪽의 기판(20)에서의 전기 광학 물질이 형성된 영역에 형성된 오목부(25) 내에 형성된 착색층(4)을 구비한다. 또한, 착색층의 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면(4t)은, 한쪽의 기판에서의 시일재와 겹치는 시일 영역면(52t)보다도, 다른 쪽의 기판(10)측에 형성되어 있다.

기판, 전기 광학 물질, 시일재, 오목부, 착색층

Description

전기 광학 장치 및 컬러 필터 기판과 전자 기기{ELECTRO-OPTICAL DEVICE, COLOR FILTER SUBSTRATE AND ELECTRONIC APPARATUS}

본 발명은, 예를 들면 액정 장치 등의 전기 광학 장치 및 컬러 필터 기판과 그 전기 광학 장치를 구비한, 예를 들면 액정 프로젝터 등의 전자 기기의 기술 분야에 관한 것이다.

이 종류의 전기 광학 장치는, 복수의 화소부가 형성된 화소 영역의 주변에서의 시일 영역에서 시일재에 의해 한 쌍의 기판이 접합되고, 한 쌍의 기판 사이에는 전기 광학 물질로서 예를 들면 액정이 협지된다. 이 한 쌍의 기판 사이에서의 액정의 두께(셀 갭)를 제어하기 위하여, 적어도 시일 영역에 갭재(혹은 스페이서재)가 설치되어 한 쌍의 기판 사이의 간격(기판 사이 갭)이 제어된다.

화소 영역에 배치된 복수의 화소부의 각각에서 컬러 표시를 행하기 위해, 한 쌍의 기판 중 적어도 한쪽의 기판 상의 화소 영역에 착색층이 형성된다. 이 경우, 착색층이 형성되는 화소 영역과 착색층이 형성되지 않은 시일 영역에서는, 착색층이 배치되는 층에서 단차가 생겨, 기판 사이 갭이 서로 다르게 된다. 이와 같은 사태를 회피하기 위해, 예를 들면 특허 문헌 1에서는, 한쪽의 기판에서의 화소 영 역에 오목부를 형성하고, 이 오목부 내에 착색층을 형성함으로써 한쪽의 기판에서의 액정에 면하는 측의 상면을 균일하게 하는 기술이 제안되어 있다. 그 밖의, 본 발명에 관련되는 선행 기술 문헌으로서 특허 문헌 2 및 3이 존재한다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2005-099614호 공보

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2007-279101호 공보

[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 제2002-250811호 공보

여기서, 특허 문헌 1에 개시된 기술에 따르면, 한쪽의 기판에서, 화소 영역에서의 상면과 시일 영역에서의 상면이 동일면 상에 있으므로, 응답 속도를 높이기 위해 셀 갭을 좁게 하고자 하는 경우에는, 셀 갭을 제어하기 위한 갭재를 작게 할 필요가 있다. 그러나, 작은 갭재를 고정밀도로 제조하는 것은 곤란하며, 가령 고정밀도로 제조할 수 있었다고 하여도, 제조 코스트가 증대하게 될 우려가 있다. 이와 같이, 특허 문헌 1에 개시된 기술에 따르면, 비교적 낮은 제조 코스트로 셀 갭을 좁게 하는 것이 곤란하다고 하는 기술적 문제점이 있다.

본 발명은, 예를 들면 전술한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 컬러 표시를 행하는 것이 가능한 전기 광학 장치이며, 예를 들면 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능한 전기 광학 장치 및 그 제조 방법과 이와 같은 전기 광학 장치를 구비하여 이루어지는 전자 기기를 제공하는 것을 과제로 한다.

본 발명의 전기 광학 장치는 상기 과제를 해결하기 위해, 한 쌍의 기판과, 그 한 쌍의 기판 사이에 협지된 전기 광학 물질과, 상기 한 쌍의 기판 사이에서, 상기 한 쌍의 기판 상에서 상기 전기 광학 물질이 형성된 영역의 주위에 위치하는 시일 영역에 배치되어 있고, 상기 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 시일재와, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 전기 광학 물질이 형성된 영역에 형성된 오목부 내에 형성된 착색층을 구비하고, 상기 착색층의 상기 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면은, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 시일재와 겹치는 시일 영역면보다도, 다른 쪽의 상기 기판측에 형성되어 있다.

본 발명의 전기 광학 장치에 따르면, 한 쌍의 기판이 시일 영역에서 시일재에 의해 서로 접합되고, 이들 기판 사이에 전기 광학 물질로서 예를 들면 액정이 봉입된다. 즉, 한 쌍의 기판과 시일재에 둘러싸여진 내부 공간에 전기 광학 물질이 봉입된 구조를 채취한다. 이 전기 광학 물질이 차지하는 평면 영역이, 예를 들면 화소 영역 혹은 화소 어레이 영역(또는 「화상 표시 영역」이라고 부름)으로 되고, 이 영역에서의, 한 쌍의 기판의 서로 대면하는 표면에, 표시용의 전극이나 배향막이 형성된다. 시일재에는, 전형적으로는, 갭재 혹은 스페이서재가 산포 혹은 혼입되어 있고, 이 갭재에 의해 한 쌍의 기판 사이의 갭이 제어됨으로써, 셀 갭(액정의 두께)이 조정된다. 한 쌍의 기판 중 한쪽의 기판에서의 전기 광학 물질이 형성된 영역에는, 예를 들면 1화소 내에서, 예를 들면 R(적색)용, G(녹색)용, B(청색)용의 서브 화소가 형성되어 있고, 서브 화소에는 컬러 필터로서 본 발명에 따른 「착색층」이 형성된다. 각 서브 화소에서, 착색층을 개재하여 예를 들면 투과광 이 출사됨으로써, 화소 단위로 컬러 표시를 행하는 것이 가능하게 된다.

본 발명에서는, 착색층은, 한쪽의 기판에서의 전기 광학 물질이 형성된 영역(예를 들면 화소 영역)에 형성된 오목부 내에 형성되어 있다. 따라서, 착색층의 두께에 기인하여 생기는, 한쪽의 기판 상에서의 착색층이 형성된 영역(예를 들면 화소 영역)과 착색층이 형성되어 있지 않은 영역(예를 들면, 화소 영역의 주변에 위치하는, 시일 영역을 포함하는 주변 영역) 사이에서의 단차를 저감할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 한쪽의 기판에서의 다른 쪽의 기판에 대향하는 측의 표면에 배향막을 도포법에 의해 형성할 때, 한쪽의 기판 상에서의 착색층이 형성된 영역과 착색층이 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차에 기인하여 생기는 도포 불균일짐을 저감할 수 있다. 이에 의해, 한쪽의 기판 상에서의 도포 불균일짐에 기인하여 생기는 표시 불량을 저감할 수 있다.

또한 본 발명에서는 특히, 착색층의 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면은, 한쪽의 기판에서의 시일재와 겹치는 시일 영역면보다도, 다른 쪽의 기판측에 형성되어 있다. 즉, 예를 들면, 착색층은, 한쪽의 기판 상에서의 화소 영역에 형성된 오목부 내에, 착색층 상면이 시일 영역면보다도 다른 쪽의 기판에 근접하게 되도록 형성되어 있다. 따라서, 시일재에 갭재로서 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재가 산포 혹은 혼입된 경우라도, 전기 광학 물질의 두께(즉, 셀 갭)를 예를 들면 약 2.0um보다도 작게 할 수 있다. 바꿔 말하면, 시일재에 산포 혹은 혼입되는 갭재로서, 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재를 이용하여, 셀 갭을 예 를 들면 2.0um보다도 좁게 하는 것이 가능하다. 따라서, 본 발명의 전기 광학 장치에 따르면, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능하다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 전기 광학 장치에 따르면, 착색층의 두께에 기인하여 생기는, 한쪽의 기판 상에서의 착색층이 형성된 영역과 착색층이 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차를 저감할 수 있다. 또한, 시일재에 산포 혹은 혼입되는 갭재로서, 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재를 이용함으로써, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능하다. 이들 결과, 본 발명의 전기 광학 장치에 따르면, 고품위의 화상을 표시하는 것이 가능하게 된다.

본 발명의 전기 광학 장치의 일 양태에서는, 상기 시일재는, 상기 한 쌍의 기판 사이의 간격을 제어하는 갭재를 포함하여 이루어지고, 상기 전기 광학 물질의 두께를 G[um]로 하고, 상기 착색층 상면 및 상기 시일 영역면간에서의 단차의 크기를 d[um]로 할 때, 이하의 관계식

을 충족한다.

이 양태에 따르면, 예를 들면, 갭재로서 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 갭재가 이용되는 경우에서도, 단차의 크기 d가 예를 들면 약 1.2um로 되도록, 착색층의 두께에 따라서 오목부의 깊이가 조정됨으로써, 전기 광학 물질의 두께(즉, 셀 갭) G를 예를 들면 약 0.8um로 할 수 있다. 즉, 이 양태에 따르면, 갭 재로서 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 2.0um 이상인 비즈 형상의 갭재를 이용하여, 셀 갭을 예를 들면 2.0um보다도 확실하게 좁게 하는 것이 가능하다.

본 발명의 전기 광학 장치의 다른 양태에서는, 상기 오목부는, 한쪽의 상기 기판 및 한쪽의 상기 기판 상에 형성된 절연막 중 적어도 한쪽이 제거됨으로써 형성되어 있다.

이 양태에 따르면, 한쪽의 기판에서의 오목부는, 예를 들면, 한쪽의 기판에 대해(혹은 한쪽의 기판 상에 형성된 절연막에 대해), 에칭 처리가 실시됨으로써 형성된다. 따라서, 오목부를 용이하게 형성하는 것이 가능하다.

본 발명의 전기 광학 장치의 다른 양태에서는, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 시일 영역을 포함하는 영역에 상기 오목부를 규정하도록 형성되어 있고, 상기 착색층 상면 및 상기 시일 영역면간에서의 단차를 저감하기 위한 단차 저감막을 더 구비한다.

이 양태에 따르면, 단차 저감막이, 한쪽의 기판 상에서의 시일 영역을 포함하는 영역(전형적으로는, 전기 광학 물질이 형성된 영역의 주변에 위치하는 주변 영역)에, 오목부를 규정하도록 형성되어 있다. 단차 저감막이 형성됨으로써, 예를 들면 한쪽의 기판에 대해 에칭 처리를 실시하는 등 한쪽의 기판을 파들어가지 않고, 한쪽의 기판에 오목부를 용이하게 형성할 수 있다.

전술한 단차 저감막을 더 구비하는 양태에서는, 상기 단차 저감막은, 절연막, 금속막 및 포토레지스트 중 어느 하나로 이루어지도록 구성하여도 된다.

이 경우에는, 단차 저감막을, 바람직하게 형성할 수 있다.

본 발명의 컬러 필터 기판은 상기 과제를 해결하기 위해, 기판과, 상기 기판에 형성된 오목부와, 상기 오목부 내에 형성되고, 상기 오목부가 형성되어 있지 않은 기판면보다도 돌출되는 착색층을 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 기판과, 상기 기판 상에 형성된 절연막과, 상기 절연막의 일부를 제거하여 형성된 오목부와, 상기 오목부 내에 형성되고, 상기 오목부가 형성되어 있지 않은 상기 절연막 상면보다도 돌출되는 착색층을 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 제1 전기 광학 장치의 제조 방법은 상기 과제를 해결하기 위해, 한 쌍의 기판과, 그 한 쌍의 기판 사이에 협지된 전기 광학 물질과, 상기 한 쌍의 기판 사이에서, 상기 한 쌍의 기판 상에서 상기 전기 광학 물질이 형성된 영역의 주위에 위치하는 시일 영역에 배치되어 있고, 상기 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 시일재를 구비한 전기 광학 장치를 제조하는 전기 광학 장치의 제조 방법으로서, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 전기 광학 물질이 형성되는 영역에 오목부를 형성하는 오목부 형성 공정과, 상기 오목부 내에 착색층을, 그 착색층의 상기 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면이, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 시일재와 겹치는 시일 영역면보다도, 다른 쪽의 상기 기판측으로 되도록 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 오목부 및 상기 착색층이 형성된 한쪽의 상기 기판과 다른 쪽의 상기 기판을 상기 시일 영역에서 상기 시일재에 의해 접합하는 접합 공정을 포함한다.

본 발명에 따른 제1 전기 광학 장치의 제조 방법에 따르면, 전술한 본 발명의 전기 광학 장치를 제조할 수 있다. 여기서 특히, 착색층 형성 공정에서, 한쪽의 기판 상에서의 오목부 내에 착색층을, 착색층 상면이 한쪽의 기판에서의 시일 영역면보다도, 다른 쪽의 기판측으로 되도록 형성한다. 따라서, 착색층의 두께에 기인하여 생기는, 한쪽의 기판 상에서의 착색층이 형성된 영역과 착색층이 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차를 저감할 수 있음과 함께, 시일재에 산포 혹은 혼입되는 갭재로서, 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재를 이용함으로써, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭의 전기 광학 장치를 제조 가능하다.

본 발명에 따른 제1 전기 광학 장치의 제조 방법의 일 양태에서는, 상기 오목부 형성 공정은, 한쪽의 상기 기판에 대해 에칭 처리를 실시함으로써, 상기 오목부를 형성한다.

이 양태에 따르면, 한쪽의 기판에 오목부를 용이하게 형성하는 것이 가능하다.

본 발명에 따른 제1 전기 광학 장치의 제조 방법의 다른 양태에서는, 상기 오목부 형성 공정은, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 시일 영역을 포함하는 영역에, 상기 오목부를 규정하도록, 상기 착색층 상면 및 상기 시일 영역면간에서의 단차를 저감하기 위한 단차 저감막을 형성한다.

이 양태에 따르면, 예를 들면 한쪽의 기판에 대해 에칭 처리를 실시하는 등으로 하여 한쪽의 기판을 파들어가지 않고, 단차 저감막을 형성함으로써 한쪽의 기판에 오목부를 용이하게 형성할 수 있다.

본 발명에 따른 제2 전기 광학 장치의 제조 방법은 상기 과제를 해결하기 위해, 한 쌍의 기판과, 그 한 쌍의 기판 사이에 협지된 전기 광학 물질과, 상기 한 쌍의 기판 사이에서, 상기 한 쌍의 기판 상에서 상기 전기 광학 물질이 형성된 영역의 주위에 위치하는 시일 영역에 배치되어 있고, 상기 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 시일재를 구비한 전기 광학 장치를 제조하는 전기 광학 장치의 제조 방법으로서, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 전기 광학 물질이 설치되는 영역에 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 한쪽의 상기 기판에서의 상기 시일 영역을 포함하는 영역에, 단차 저감막을, 상기 착색층의 상기 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면이, 상기 단차 저감막의 상기 시일재와 겹치는 단차 저감막 상면보다도, 다른 쪽의 상기 기판측으로 되도록, 형성함으로써 한쪽의 상기 기판에 오목부를 형성하는 오목부 형성 공정과, 상기 착색층 및 상기 오목부가 형성된 한쪽의 상기 기판과 다른 쪽의 상기 기판을 상기 시일 영역에서 상기 시일재에 의해 접합하는 접합 공정을 포함한다.

본 발명에 따른 제2 전기 광학 장치의 제조 방법에 따르면, 전술한 본 발명의 전기 광학 장치를 제조할 수 있다. 여기서 특히, 오목부 형성 공정에서, 한쪽의 기판에서의 시일 영역을 포함하는 영역에, 단차 저감막을, 착색층의 전기 광학 물질에 면하는 착색층 상면이, 단차 저감막의 시일재와 겹치는 단차 저감막 상면보다도, 한 쌍의 기판 중 다른 쪽의 기판측으로 되도록, 예를 들면 절연막, 금속막 및 포토레지스트 중 어느 하나로 형성함으로써 한쪽의 기판에 오목부를 형성한다. 따라서, 착색층의 두께에 기인하여 생기는, 한쪽의 기판 상에서의 착색층이 형성된 영역과 착색층이 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차를 저감할 수 있음과 함께, 시일재에 산포 혹은 혼입되는 갭재로서, 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재를 이용함으로써, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭의 전기 광학 장치를 제조 가능하다.

본 발명의 전자 기기는 상기 과제를 해결하기 위해, 전술한 본 발명의 전기 광학 장치(단, 그 각종 양태도 포함함)를 구비한다.

본 발명의 전자 기기에 따르면, 전술한 본 발명의 전기 광학 장치를 구비하여 이루어지므로, 고품질의 화상 표시를 행하는 것이 가능한, 투사형 표시 장치, 텔레비전, 휴대 전화, 전자 수첩, 워드 프로세서, 뷰 파인더형 또는 모니터 직시형의 비디오 테이프 레코더, 워크 스테이션, 영상 전화, POS 단말기, 터치 패널 등의 각종 전자 기기를 실현할 수 있다.

본 발명의 작용 및 다른 이득은 다음에 설명하는 실시하기 위한 최량의 형태로부터 명백하게 된다.

이하에서는, 본 발명의 실시 형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

<1. 전기 광학 장치>

이하의 실시 형태에서는, 본 발명의 전기 광학 장치의 일례인 구동 회로 내장형의 TFT 액티브 매트릭스 구동 방식의 액정 장치를 예로 든다.

<1-1. 제1 실시 형태>

제1 실시 형태에 따른 액정 장치에 대해서, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다.

우선, 본 실시 형태에 따른 액정 장치의 전체 구성에 대해서, 도 1 및 도 2 를 참조하여 설명한다. 여기에 도 1은, 본 실시 형태에 따른 액정 장치의 전체 구성을 도시하는 평면도이며, 도 2는, 도 1의 A-A'선 단면도이다. 또한, 도 2에서는, 각 부재를 도면 상에서 인식 가능한 정도의 크기로 하기 때문에, 그 각 부재마다 축척을 서로 다르게 하고 있다.

도 1 및 도 2에서, 본 실시 형태에 따른 액정 장치(100)에서는, TFT 어레이 기판(10)과 대향 기판(20)이 대향 배치되어 있다. TFT 어레이 기판(10)은 예를 들면 석영 기판, 글래스 기판 등의 투명 기판 또는 실리콘 기판이다. 대향 기판(20)도 예를 들면 TFT 어레이 기판(10)과 마찬가지의 재료로 이루어지는 투명 기판이다. TFT 어레이 기판(10)과 대향 기판(20) 사이에 액정층(50)이 봉입되어 있고, TFT 어레이 기판(10)과 대향 기판(20)은, 화상 표시 영역(10a)의 주위에 위치하는 시일 영역(52a)에 형성된 시일재(52)에 의해 서로 접착되어 있다. 또한, 화상 표시 영역(10a)은, 표시에 기여하는 광이 출사되어, 화상 표시를 행하는 것이 가능한 영역이다.

또한, TFT 어레이 기판(10) 및 대향 기판(20)은, 본 발명에 따른 「한 쌍의 기판」의 일례이며, 대향 기판(20)이 본 발명에 따른 「한쪽의 기판」의 일례이며, TFT 어레이 기판(10)이 본 발명에 따른 「다른 쪽의 기판」의 일례이다.

시일재(52)는, 양 기판을 접합하기 위한, 예를 들면 자외선 경화 수지, 열 경화 수지 등으로 이루어지고, 제조 프로세스에서 TFT 어레이 기판(10) 상에 도포된 후, 자외선 조사, 가열 등에 의해 경화하게 된 것이다. 또한, 예를 들면 시일재(52) 내에는, TFT 어레이 기판(10)과 대향 기판(20)과의 간격(기판 사이 갭)을 소정값으로 하기 위한 글래스 파이버 혹은 글래스 비즈 등의 비즈 형상의 갭재(56)가 산포되어 있다.

도 1에서, 시일재(52)가 배치된 시일 영역(52a)의 내측에 병행하여, 화상 표시 영역(10a)의 액연 영역(53a)을 규정하는 차광성의 액연 차광막(53)이, 대향 기판(20)측에 형성되어 있다. 액연 차광막(53)은, 예를 들면 차광성 금속막 등의 차광성 재료로 형성되어 있다. 또한, 도 2를 참조하여 후술하는 바와 같이, 대향 기판(20)에서의 TFT 어레이 기판(10)에 대향하는 측(즉, 도 2 중에서 상측)에는, 오목부(25)가 형성되어 있고, 액연 차광막(53)은 오목부(25) 내에 형성되어 있다.

TFT 어레이 기판(10) 상에서의, 시일재(52)가 배치된 시일 영역(52a)의 외측에 위치하는 영역에는, 데이터선 구동 회로(101) 및 외부 회로 접속 단자(102)가 TFT 어레이 기판(10)의 1변을 따라서 형성되어 있다. 이 1변을 따른 시일 영역(52a)보다도 내측에, 샘플링 회로(7)가 TFT 어레이 기판(10)의 법선 방향으로부터 보아 액연 차광막(53)에 겹치도록 하여 형성되어 있다. 또한, 주사선 구동 회로(104)는, 이 1변에 인접하는 2변을 따른 시일 영역(52a)의 내측에, TFT 어레이 기판(10)의 법선 방향으로부터 보아 액연 차광막(53)에 겹치도록 하여 형성되어 있다. 또한, TFT 어레이 기판(10) 상에는, 대향 기판(20)의 4개의 코너부에 대향하는 영역에, 양 기판 사이를 상하 도통재(107)로 전기적으로 접속하기 위한 상하 도통 단자(106)가 배치되어 있다. 이들에 의해, TFT 어레이 기판(10)과 대향 기판(20) 사이에서 전기적인 도통을 취할 수 있다.

TFT 어레이 기판(10) 상에는, 외부 회로 접속 단자(102)와, 데이터선 구동 회로(101), 주사선 구동 회로(104), 상하 도통 단자(106) 등을 전기적으로 접속하기 위한 주회 배선(90)이 형성되어 있다.

도 2에서, TFT 어레이 기판(10) 상에는, 화소 스위칭용의 TFT(Thin Film Transistor)나 예를 들면 주사선, 데이터선 등의 배선, 예를 들면 주사선 구동 회로(104), 데이터선 구동 회로(101) 등의 회로를 구성하는 각종 전자 소자가 만들어 넣어진 적층 구조가 형성되어 있다. 화상 표시 영역(10a)에는, 화소 스위칭용의 TFT나 주사선, 데이터선 등의 배선의 상층에, 절연막(14)을 개재하여, ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 재료로 이루어지는 화소 전극(9)이 매트릭스 형상으로 형성되어 있다. 화소 전극(9) 상에는, 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시된 배향막(도시 생략)이 형성되어 있다.

한편, 대향 기판(20)에서의 TFT 어레이 기판(10)에 대향하는 측(즉, 액정층(50)에 면하는 측)에는, 오목부(25)가 형성되어 있고, 이 오목부(25) 내에 RGB(즉, 적색, 녹색, 청색)에 대응하는 컬러 필터층(4)(즉, 컬러 필터층(4R, 4G, 4B))이 서브 화소마다 형성되어 있다. 또한, 컬러 필터층(4)은, 본 발명에 따른 「착색층」의 일례이다.

오목부(25)는, 대향 기판(20)에서의 시일 영역(52a)보다도 내측의 영역(즉, 화상 표시 영역(10a) 및 액연 영역(53a)을 포함하는 영역)이, 우묵하게 들어가도록 형성되어 있다. 오목부(25)는, 예를 들면 대향 기판(20)에 대해 에칭 처리가 실시됨으로써 형성된다. 또한, 오목부(25)는 대향 기판(20) 대신에 혹은 추가하여, 대향 기판(20) 상에 형성된 절연막에 대해 에칭 처리가 실시됨으로써 형성되어도 된 다.

적색의 컬러 필터층(4R)은, 적색의 광(즉, 예를 들면 625∼740㎚의 파장을 갖는 광)만을 통과시키는 컬러 필터층이며, 녹색의 컬러 필터층(4G)은, 녹색의 광(즉, 예를 들면 500∼565㎚의 파장을 갖는 광)만을 통과시키는 컬러 필터층이며, 청색의 컬러 필터층은, 청색의 광(즉, 예를 들면 450∼485㎚의 파장을 갖는 광)만을 통과시키는 컬러 필터층이다. 예를 들면 적색의 컬러 필터층에 대응하는 서브 화소, 녹색의 컬러 필터층에 대응하는 서브 화소, 및 청색의 컬러 필터층에 대응하는 서브 화소라고 하는, 3개의 서브 화소의 집합으로부터, 하나의 화소(즉, 하나의 컬러 화소 혹은 풀 컬러 화소)가 구축되어 있다.

대향 기판(20)에 형성된 오목부(25) 내에는, 인접하는 컬러 필터층(4)의 경계를 규정하는 블랙 매트릭스(23)가 예를 들면 차광성 금속(예를 들면 알루미늄) 등의 차광성 재료로 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(23)는, 대향 기판(20) 상에서 평면적으로 보아 격자 형상으로 패터닝되어 있다. 이와 같이, 블랙 매트릭스(23)가 화상 표시 영역(10a)에서 인접하는 서브 화소간을 따라서 형성됨으로써, 서브 화소간의 혼색이나 표시 화상의 콘트라스트비의 향상에 공헌하고 있다.

또한, 도 2에서는 도시를 생략하지만, 대향 기판(20) 상의 적층 구조에서의 블랙 매트릭스(23)와 컬러 필터층(4)과의 층간에는, 절연막(27)(도 3 참조)이 예를 들면 BSG(Boron Silicate Glass:붕소 실리케이트 글래스) 등의 절연 재료로 형성되어 있다. 절연막(27)은, 블랙 매트릭스(23)를 보호하는 보호막으로서의 기능을 갖고 있다. 구체적으로는, 제조 프로세스에서, 블랙 매트릭스(23)가 형성된 후에 행 해지는 포토 에칭 처리에 이용되는 알카리성의 현상액에 의해 예를 들면 알루미늄으로 형성된 블랙 매트릭스(23)가 부식되게 되는 것을, 절연막(27)에 의해 방지할 수 있다.

대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)의 상층측에는, 오버코트막(24)이, 대향 기판(20)의 거의 전체면을 덮도록, 예를 들면 아크릴 수지, 산화 실리콘(SiO₂) 등의 절연 재료로 형성되어 있다. 오버코트막(24)은, 컬러 필터층(4)을 보호하는 보호막으로서의 기능을 갖고 있다.

오버코트막(24) 상에는, ITO 등의 투명 재료로 이루어지는 대향 전극(21)이 복수의 화소 전극(9)과 대향하고, 대향 기판(20)의 거의 전체면에 걸쳐서(예를 들면 베타 형상으로) 형성되어 있다. 대향 전극(21) 상에는 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시된 배향막(도시 생략)이 형성되어 있다.

액정층(50)은, 본 발명에 따른 「전기 광학 물질」의 일례로서의 예를 들면 일종 또는 수종류의 네마틱 액정을 혼합한 액정으로 이루어지고, 이들 한 쌍의 배향막(즉, 화소 전극(9) 상에 형성된 배향막, 및 대향 전극(21) 상에 형성된 배향막)간에서, 소정의 배향 상태를 취한다.

또한, 여기서는 도시하지 않지만, TFT 어레이 기판(10) 상에는, 데이터선 구동 회로(101), 주사선 구동 회로(104) 외에, 제조 도중이나 출하 시의 상기 액정 장치의 품질, 결함 등을 검사하기 위한 검사 회로, 검사용 패턴 등이 형성되어 있어도 된다.

다음으로, 본 실시 형태에 따른 액정 장치의 대향 기판측의 구성에 대해서, 도 1 및 도 2 외에 도 3을 참조하여 상세하게 설명한다. 여기에 도 3은, 도 2에 도시하는 단면도의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대도이다.

도 2 및 도 3에서, 본 실시 형태에서는, 전술한 바와 같이, 컬러 필터층(4) 및 액연 차광막(53)은, 대향 기판(20)에 형성된 오목부(25) 내에 형성되어 있다. 따라서, 컬러 필터층(4)의 두께(즉 층 두께)나 액연 차광막(53)의 두께(즉 막 두께)에 기인하여 생기는, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이 형성된 영역(즉, 화상 표시 영역(10a)) 및 액연 차광막(53)이 형성된 영역과, 컬러 필터층(4) 및 액연 차광막(53)의 어느 것도 형성되어 있지 않은 영역(즉, 시일 영역(52a)) 사이에서의 단차를 저감할 수 있다. 따라서, 예를 들면 대향 기판(20)의 최상층측에 형성된 대향 전극(21) 상에 배향막을 도포법에 의해 형성할 때, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이나 액연 차광막(53)이 형성된 영역(바꿔 말하면, 시일 영역(52)으로부터 내측의 영역)과 컬러 필터층(4)이나 액연 차광막(53)이 형성되어 있지 않은 영역(바꿔 말하면, 시일 영역(52a)) 사이에서의 단차에 기인하여 생기는 도포 불균일짐을 저감할 수 있다. 이에 의해, 대향 기판(20) 상에서의 도포 불균일짐에 기인하여 생기는 표시 불량을 저감할 수 있다.

또한 본 실시 형태에서는 특히, 컬러 필터층(4)의 액정층(50)에 면하는 컬러 필터층 상면(4t)은, 대향 기판(20)에서의 액정층(50)에 면하는 측의 표면 중 시일 영역(52a)에서의 표면인 시일 영역면(52t)보다도, TFT 어레이 기판(10)측에 형성되어 있다. 즉, 본 실시 형태에서는 특히, 컬러 필터층(4)은 대향 기판(20) 상에 형 성된 오목부(25) 내에, 컬러 필터층 상면(4t)이, 대향 기판(20)에서의 시일재(52)와 겹치는 시일 영역면(52t)보다도 TFT 어레이 기판(10)에 근접하게 되도록 형성되어 있다. 보다 구체적으로는, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이 형성된 영역과 컬러 필터층(4)이 형성되어 있지 않은 시일 영역(52a) 사이에서의 단차 d1과, 액정층(50)의 두께(즉, 셀 갭) G 사이에, (셀 갭 G의 크기)+(단차 d1의 크기)≥2.0um의 관계식이 성립하도록, 컬러 필터층(4)의 두께 및 오목부(25)의 깊이가 조정되어 있다. 바꿔 말하면, 컬러 필터층 상면(4t) 및 시일 영역면(52t)간에서의 단차 d2와 셀 갭 G 사이에, (셀 갭 G의 크기)+(단차 d2의 크기)≥2.0um의 관계식이 성립하도록, 컬러 필터층(4)의 두께 및 오목부(25)의 깊이가 조정되어 있다.

따라서, 시일재(52)에 포함되는 비즈 형상의 갭재(56)의 직경 R1이 약 2.0um인 경우라도, 셀 갭 G를 예를 들면 약 2.0um보다도 작게 할 수 있다. 바꿔 말하면, 시일재(52)에 산포 혹은 혼입되는 갭재(56)로서, 비교적 저렴한 예를 들면 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 글래스, 글래스 파이버 등의 갭재를 이용하여, 셀 갭 G를 예를 들면 2.0um보다도 좁게 하는 것이 가능하다. 예를 들면, 갭재(56)로서 직경이 약 2.0um인 비즈 형상의 갭재가 이용되는 경우에서도, 단차 d1(혹은 단차 d2)의 크기가 예를 들면 약 1.2um로 되도록, 컬러 필터층(4)의 두께에 따라서 오목부(25)의 깊이가 조정됨으로써, 셀 갭 G의 크기를 약 0.8um로 할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 따른 액정 장치(100)에 따르면, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능하다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 액정 장치(100)에 따르면, 컬 러 필터층(4)의 두께에 기인하여 생기는, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이 형성된 영역과 컬러 필터층(4)이 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차를 저감할 수 있다. 또한, 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능하다.

<1-2. 제2 실시 형태>

제2 실시 형태에 따른 액정 장치에 대해서, 도 4를 참조하여 설명한다. 여기에 도 4는, 제2 실시 형태에서의 도 2와 동일 취지의 단면도이다. 또한, 도 4에서, 도 1 내지 도 3에 도시한 제1 실시 형태에 따른 구성 요소와 마찬가지의 구성 요소에 동일한 참조 부호를 붙이고, 그들의 설명은 적절하게 생략한다.

도 4에서, 제2 실시 형태에 따른 액정 장치(200)는, 전술한 제1 실시 형태에서의 대향 기판(20) 대신에, 대향 기판(20b) 및 단차 저감막(29)을 구비하는 점에서, 전술한 제1 실시 형태에 따른 액정 장치(100)와 다르고, 그 밖의 점에 대해서는, 전술한 제1 실시 형태에 따른 액정 장치(100)와 대략 마찬가지로 구성되어 있다.

도 4에서, 본 실시 형태에서는 특히, 평탄한 투명 기판으로 이루어지는 대향 기판(20b) 상에서의 시일 영역(52a)에, 오목부(25b)를 규정하도록 단차 저감막(29)이 형성되어 있고, 이 오목부(25b) 내에 컬러 필터층(4)이나 액연 차광막(53)이 형성되어 있다. 단차 저감막(29)은, 예를 들면 산화 실리콘, 질화 실리콘 등의 절연막으로 형성되어 있고, 컬러 필터층 상면 및 시일 영역면간에서의 단차를 저감하는 기능을 갖고 있다. 또한, 단차 저감막(29)은, 절연막 대신에, 예를 들면 ITO막 등의 도전막, 금속막이나 포토레지스트로 형성되어도 된다.

따라서, 본 실시 형태에 따른 액정 장치(200)에 따르면, 전술한 제1 실시 형태에 따른 액정 장치(100)와 마찬가지로, 컬러 필터층(4)의 두께나 액연 차광막(53)의 두께에 기인하여 생기는, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이 형성된 영역 및 액연 차광막(53)이 형성된 영역과, 컬러 필터층(4) 및 액연 차광막(53)의 어느 것도 형성되어 있지 않은 영역 사이에서의 단차를 저감할 수 있고, 또한 비교적 낮은 제조 코스트로 협 셀 갭을 실현 가능하다.

또한, 전술한 제1 및 제2 실시 형태에서는, 대향 기판(20)(혹은(20b)) 상에 컬러 필터층(4)이 형성되는 경우(즉, 대향 기판이 컬러 필터 기판으로서 기능하는 경우)를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 전기 광학 장치가 소위 온칩 컬러 필터 구조(즉, 컬러 필터층이 화소 전극과 동일 기판 상에 만들어 넣어지는 구조)를 갖는 경우에도 적용 가능하다.

<2. 전기 광학 장치의 제조 방법>

전술한 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법에 대해서, 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명한다.

<2-1. 제조 방법 1>

전술한 제1 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례에 대해서, 도 5를 참조하여 설명한다. 여기에 도 5는, 제1 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례를, 도 2에 도시한 단면도에 대응하여, 순서대로 나타내는 공정 단면도이다. 또한, 여기서는, 본 실시 형태에 특징적인 대향 기판(20)측의 제조 방법에 대해서 주로 설명하는 것으로 하고, 그 밖의 부분의 제조 방법에 대해서는 설명을 적절하게 생략한다.

우선, 도 5의 (a)에 도시한 공정에서, 투명 기판으로 이루어지는 대향 기판(20) 상에서의 시일 영역(52a)보다도 내측의 영역에 오목부(25)를 형성한다. 구체적으로는, 투명 기판으로 이루어지는 대향 기판(20) 상에서의 시일 영역(52a)을 덮도록 레지스트막(510)을 형성하고, 이 레지스트막(510)을 마스크로 하여 대향 기판(20)에 대해 에칭 처리를 실시한다. 이에 의해, 시일 영역(52a)보다도 내측의 영역(즉, 화상 표시 영역(10a) 및 액연 영역(53a))이 우묵하게 들어가도록, 대향 기판(20)에 오목부(25)가 형성된다. 그 후, 레지스트막(510)을 제거한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 오목부(25)는, 그 깊이가 약 1.0um로 되도록 형성된다.

다음으로, 도 5의 (b)에 도시한 공정에서, 스퍼터링법에 의해 대향 기판(20) 상의 전체면에 예를 들면 알루미늄 등의 차광성 금속막을 형성하고, 이 차광성 금속막을 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 패터닝함으로써, 오목부(25) 내의 화상 표시 영역(10a)에 격자 형상의 블랙 매트릭스(23)를 형성함과 함께 오목부(25) 내의 액연 영역(53a)에 액연 차광막(53)을 형성한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 블랙 매트릭스(23) 및 액연 차광막(53)은, 각각이 차광성을 충분히 발휘하기 위하여, 각각의 두께가 약 1.5um로 되도록 형성된다.

다음으로, 도 5의 (c)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20)에서의 화상 표시 영역(10a)에, R(적색), G(녹색), B(청색) 각각에 대응한 컬러 필터층(4)을 형성한다. 예를 들면, 처음에 R에 대응하는 포토레지스트를 포함한 컬러 레지스트를 대향 기판(20) 상에 균일하게 도포한다. 그 후, 노광 및 패터닝을 행하여, 불필요한 컬러 레지스트를 제거하여, 컬러 필터층(4R)을 완성시킨다. 다음으로, G에 대응하는 포토레지스트를 포함한 컬러 레지스트를, 앞서 형성한 컬러 필터층(4R) 및 대향 기판(20) 상에 도포하고, 불필요한 컬러 레지스트를 제거하여 컬러 필터층(4G)을 완성시킨다. 마찬가지로, B에 대응하는 포토레지스트를 포함한 컬러 레지스트를 앞서 형성한 컬러 필터층(4R 및 4G) 및 대향 기판(20) 상에 도포하고, 불필요한 컬러 레지스트를 제거하여 컬러 필터층(4B)을 완성시킨다. 이와 같이 하여, 대향 기판(20)에서의 화상 표시 영역(10a)에 RGB 각각에 대응한 컬러 필터층(4)이 완성된다.

또한, 본 실시 형태에서는, 컬러 필터층(4)은 컬러 필터로서의 기능을 발휘하기 위하여, 그 두께가 약 1.8um로 되도록 형성된다.

다음으로, 도 5의 (d)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20) 상의 거의 전체면을 덮도록 오버코트막(24)을 형성한다. 오버코트막(24)은, 예를 들면 아크릴 수지, 산화 실리콘 등의 투명한 절연 재료가 소정의 막 두께로 균일하게 도포됨으로써 형성된다.

계속해서, 오버코트막(24) 상에 대향 전극(21)을 형성한다. 대향 전극(21)은, ITO 등의 투명 재료로 형성된다.

계속해서, 대향 전극(21) 상에 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시된 배향막(도시 생략) 등이 형성됨으로써, 대향 기판이 완성된다.

이와 같이 하여 완성하게 된 대향 기판(20)은, 별도로, 소자나 배선 등이 형성된 TFT 어레이 기판(10)(도 2 참조)과, 시일 영역(52a)에 배치된 시일재(52)(도 2 참조)에 의해 접합되고, 액정층(50)이 양 기판 사이에 협지되는 것 등에 의해, 제1 실시 형태에 따른 액정 장치(100)가 완성된다. 이와 같이 하여 완성하게 된 액정 장치(100)는, 대향 기판(20) 상에서의 컬러 필터층(4)이 형성된 영역(즉, 화상 표시 영역(10a)) 및 액연 차광막(53)이 형성된 영역과, 컬러 필터층(4) 및 액연 차광막(53)의 어느 것도 형성되어 있지 않은 영역(즉, 시일 영역(52a)) 사이에서의 단차를 저감할 수 있음과 함께, 시일재(52)에 포함되는 비즈 형상의 갭재(56)의 직경이 약 2.0um인 경우라도, 셀 갭의 크기를 예를 들면 약 2.0um보다도 작게 할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 셀 갭 G의 크기는, 약 0.8um로 되어 있다.

<2-2. 제조 방법 2>

전술한 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례에 대해서, 도 6을 참조하여 설명한다. 여기에 도 6은, 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례를, 도 4에 도시한 단면도에 대응하여, 순서대로 나타내는 공정 단면도이다. 또한, 여기서는, 본 실시 형태에 특징적인 대향 기판(20b)측의 제조 방법에 대해서 주로 설명하는 것으로 하고, 그 밖의 부분의 제조 방법에 대해서는 설명을 적절하게 생략한다.

우선, 도 6의 (a)에 도시한 공정에서, 평탄한 투명 기판으로 이루어지는 대향 기판(20b)의 전체면에 예를 들면 알루미늄막 등의 차광성 금속막을 형성하고, 이 차광성 금속막을 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 패터닝함으로써, 대향 기판(20b)에서의 화상 표시 영역(10a)에 격자 형상의 블랙 매트릭스(23)를 형성함과 함께 대향 기판(20b)에서의 액연 영역(53a)에 액연 차광막(53)을 형성한다.

다음으로, 도 6의 (b)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20b)에서의 시일 영역(52a)에, 단차 저감막(29)을 예를 들면, 산화 실리콘, 질화 실리콘 등의 절연막으로 형성한다. 단차 저감막(29)에 의해 오목부(25b)가 규정되고, 블랙 매트릭스(23) 및 액연 차광막(53)은 오목부(25b) 내에 배치되어 있게 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 단차 저감막(29)은, 그 두께가 약 1.0um로 되도록 형성됨으로써, 오목부(25b)의 깊이는, 약 1.0um로 되어 있다.

다음으로, 도 6의 (c)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20)에서의 화상 표시 영역(10a)에, RGB 각각에 대응한 컬러 필터층(4)을 형성한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 컬러 필터층(4)은, 그 두께가 약 1.8um로 되도록 형성된다.

계속해서, 대향 기판(20b) 상의 거의 전체면을 덮도록 오버코트막(24)을 형성하고, 그 후 오버코트막(24) 상에 대향 전극(21)을 형성한다. 계속해서, 대향 전극(21) 상에 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시된 배향막(도시 생략) 등이 형성됨으로써, 대향 기판이 완성된다. 이와 같이 하여 완성하게 된 대향 기판(20b)은, 별도로, 소자나 배선 등이 형성된 TFT 어레이 기판(10)(도 4 참조)과, 시일 영역(52a)에 배치된 시일재(52)(도 4 참조)에 의해 접합되고, 액정층(50)이 양 기판 사이에 협지되는 것 등에 의해, 제2 실시 형태에 따른 액정 장치(200)가 완성된다.

<2-3. 제조 방법 3>

전술한 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 다른 예에 대해서, 도 7을 참조하여 설명한다. 여기에 도 7은, 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 다른 예를, 도 4에 도시한 단면도에 대응하여, 순서대로 나타내는 공정 단면도이다. 또한, 여기서는, 본 실시 형태에 특징적인 대향 기판(20)측의 제조 방법에 대해서 주로 설명하는 것으로 하고, 그 밖의 부분의 제조 방법에 대해서는 설명을 적절하게 생략한다.

이 예의 제조 방법은, 컬러 필터층(4)을 형성한 후에 단차 저감막(29)을 형성하는 점에서, 도 6을 참조하여 전술한 제조 방법의 일례와 다르고, 그 밖의 점에 대해서는, 도 6을 참조하여 전술한 제조 방법의 일례와 대략 마찬가지이다. 또한, 도 6을 참조하여 전술한 제조 방법의 일례에서는, 컬러 필터층(4)을 형성하기 전에 단차 저감막(29)을 형성한다.

우선, 도 7의 (a)에 도시한 공정에서, 평탄한 투명 기판으로 이루어지는 대향 기판(20b)의 전체면에 예를 들면 알루미늄 등의 차광성 금속막을 형성하고, 이 차광성 금속막을 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 패터닝함으로써, 대향 기판(20b)에서의 화상 표시 영역(10a)에 격자 형상의 블랙 매트릭스(23)를 형성함과 함께 대향 기판(20b)에서의 액연 영역(53a)에 액연 차광막(53)을 형성한다.

계속해서, 대향 기판(20b)에서의 화상 표시 영역(10a)에, RGB 각각에 대응한 컬러 필터층(4)을 형성한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 컬러 필터층(4)은, 그 두께가 약 1.8um로 되도록 형성된다.

다음으로, 도 7의 (b)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20b)에서의 시일 영역(52a)에, 단차 저감막(29)을 예를 들면, 산화 실리콘, 질화 실리콘 등의 절연막으로 형성한다. 단차 저감막(29)에 의해 오목부(25b)가 규정되고, 컬러 필터층(4), 블랙 매트릭스(23) 및 액연 차광막(53)은 오목부(25b) 내에 배치되어 있게 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 단차 저감막(29)은, 그 두께가 약 1.0um로 되도록 형성됨으로써, 오목부(25b)의 깊이는, 약 1.0um로 되어 있다.

다음으로, 도 7의 (c)에 도시한 공정에서, 대향 기판(20) 상의 거의 전체면을 덮도록 오버코트막(24)을 형성하고, 그 후 오버코트막(24) 상에 전극(21)을 형성한다. 계속해서, 대향 전극(21) 상에 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시된 배향막(도시 생략) 등이 형성됨으로써, 대향 기판이 완성된다. 이와 같이 하여 완성하게 된 대향 기판(20b)은, 별도로, 소자나 배선 등이 형성된 TFT 어레이 기판(10)(도 4 참조)과, 시일 영역(52a)에 배치된 시일재(52)(도 4 참조)에 의해 접합되고, 액정층(50)이 양 기판 사이에 협지되는 것 등에 의해, 제2 실시 형태에 따른 액정 장치(200)가 완성된다.

<3. 전자 기기>

다음으로, 전술한 전기 광학 장치인 액정 장치를 각종의 전자 기기에 적용하는 경우에 대해 설명한다.

우선, 전술한 액정 장치를, 가반형의 퍼스널 컴퓨터(소위 노트북 컴퓨터)의 표시부에 적용한 예에 대해서, 도 8을 참조하여 설명한다. 도 8은, 이 퍼스널 컴퓨터의 구성을 도시하는 사시도이다. 도 8에 도시한 바와 같이, 퍼스널 컴퓨터(1200)는 키보드(1202)를 구비한 본체부(1204)와, 전술한 액정 장치를 적용한 표시부(1205)를 구비하고 있다.

다음으로, 전술한 액정 장치를, 휴대 전화기의 표시부에 적용한 예에 대해서, 도 9를 참조하여 설명한다. 도 9는, 이 휴대 전화기의 구성을 도시하는 사시 도이다. 도 9에 도시한 바와 같이, 휴대 전화기(1300)는, 복수의 조작 버튼(1302)과 함께, 전술한 액정 장치를 적용한 표시부(1305)를 구비한다.

또한, 본 발명의 전기 광학 장치를 적용 가능한 전자 기기로서는, 도 8 및 도 9를 참조하여 설명한 전자 기기 외에도, 프로젝터, 뷰 파인더형, 모니터 직시형의 비디오 테이프 레코더, 카 네비게이션 장치, 페이저, 전자 수첩, 전자 계산기, 워드 프로세서, 워크 스테이션, 영상 전화, POS 단말기, 터치 패널을 구비한 장치 등을 들 수 있다.

또한 본 발명은, 전술한 실시 형태에서 설명한 액정 장치 이외에도, 실리콘 기판 상에 소자를 형성하는 반사형 액정 장치(LCOS), 플라즈마 디스플레이(PDP), 전계 방출형 디스플레이(FED, SED), 유기 EL 디스플레이, 디지털 마이크로미러 디바이스(DMD), 전기 영동 장치 등에도 적용 가능하다.

본 발명은, 전술한 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 특허 청구의 범위 및 명세서 전체로부터 이해되는 발명의 요지 혹은 사상에 반하지 않는 범위에서 적절하게 변경 가능하며, 그와 같은 변경을 수반하는 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 그 전기 광학 장치를 구비하여 이루어지는 전자 기기도 또한 본 발명의 기술적 범위에 포함되는 것이다.

도 1은 제1 실시 형태에 따른 액정 장치의 전체 구성을 도시하는 평면도.

도 2는 도 1의 A-A'선 단면도.

도 3은 도 2에 도시한 단면도의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대도.

도 4는 제2 실시 형태에서의 도 2와 동일 취지의 단면도.

도 5는 제1 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례를, 순서대로 나타내는 공정 단면도.

도 6은 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 일례를, 순서대로 나타내는 공정 단면도.

도 7은 제2 실시 형태에 따른 액정 장치의 제조 방법의 다른 예를, 순서대로 나타내는 공정 단면도.

도 8은 전기 광학 장치를 적용한 전자 기기의 일례인 퍼스널 컴퓨터의 구성을 도시하는 사시도.

도 9는 전기 광학 장치를 적용한 전자 기기의 일례인 휴대 전화의 구성을 도시하는 사시도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

4, 4R, 4G, 4B : 컬러 필터층

4t : 컬러 필터층 상면

9 : 화소 전극

10 : TFT 어레이 기판

10a : 화상 표시 영역

20, 20b : 대향 기판

21 : 대향 전극

23 : 블랙 매트릭스

24 : 오버코트막

25, 25b : 오목부

27 : 절연막

29 : 단차 저감막

50 : 액정층

52 : 시일재

52a : 시일 영역

52t : 시일 영역면

53 : 액연 차광막

53a : 액연 영역

56 : 갭재

G : 셀 갭

d1, d2 : 단차

Claims (8)

1. 한 쌍의 기판과,

   상기 한 쌍의 기판 사이에 협지된 전기 광학 물질과,

   상기 한 쌍의 기판 사이의 간격을 제어하는 갭재를 포함하고, 상기 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 시일재와,

   상기 시일재의 내측에, 상기 한 쌍의 기판 중 하나의 기판 또는 상기 하나의 기판 상에 형성된 절연막에 형성된 오목부와,

   상기 오목부 내에 설치된 착색층

   을 구비하고,

   상기 착색층의 상면은, 상기 하나의 기판 또는 상기 하나의 기판 상에 형성된 절연막의 상기 시일재와 겹치는 시일 영역면보다도, 상기 한 쌍의 기판 중 다른 하나의 기판 측에 더 가까이 형성되어 있고,

   상기 전기 광학 물질의 두께를 G[㎛]로 하고, 상기 착색층의 상면 및 상기 시일 영역면 간에서의 단차의 크기를 d[㎛]로 할 때, 이하의 관계식

   G+d≥2.0㎛

   을 충족하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 오목부 내에, 액연 차광막을 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 오목부 내에, 상기 착색층과 인접하는 다른 착색층 사이에 설치된 차광성 금속과,

   상기 착색층과 상기 차광성 금속 사이의 층에, 상기 차광성 금속을 덮도록 설치된 다른 절연막을 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
4. 제3항에 있어서,

   상기 차광성 금속은 알루미늄으로 형성되고, 상기 다른 절연막은 BSG로 형성되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
5. 제1항에 기재된 전기 광학 장치를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자 기기.
6. 삭제
7. 삭제
8. 삭제

Images