JP5467565B2 - 電気光学装置、電子機器、カラーフィルタ基板及び製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の電気光学装置は、第1基板と、第1基板に対向する第2基板と、第1基板及び第2基板間に挟持される電気光学物質と、第1基板上の電気光学物質に対向する側に設けられる遮光層と、遮光層の上に設けられるカラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つと、を含む光学層と、光学層上に設けられる電極層と、電極層を貫通し、光学層まで達するスルーホールと、光学層と対向する底面全体がスルーホールを介して光学層と接すると共に、側面がスルーホールの内周全体に接するように設けられるフォトスペーサと、を備える。
上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様を含む)を備える。
本発明のカラーフィルタ基板は、上述した電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板(つまり、光学層、電極層及びフォトスペーサが設けられる第1基板)である。
本発明の電気光学装置の製造方法は、第1基板と、第1基板に対向する第2基板と、第1基板及び第2基板間に挟持される電気光学物質とを備える電気光学装置を製造する製造方法であって、第1基板上に、遮光層と、遮光層の上にカラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つと、を含む光学層を形成する第1形成工程と、光学層上に、電極層を形成する第2形成工程と、電極層に、光学層まで達するスルーホールを形成する第3形成工程と、光学層と対向する底面全体がスルーホールを介して光学層と接すると共に、側面がスルーホールの内周全体に接するフォトスペーサを形成する第4形成工程とを備える。
先ず、本実施形態に係る液晶装置の構成について、図1及び図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H’断面図である。
続いて、図3を参照して、本実施形態に係る液晶装置100の要部の電気的な構成について説明する。ここに、図3は、本実施形態に係る液晶装置100の要部の電気的な構成を概念的に示すブロック図である。
続いて、図4を参照して、対向基板20の詳細な構成について説明する。ここに、図4(a)は、対向基板20の詳細な構成を概念的に示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)の(VI)−(VI’)断面図である。
続いて、上述した対向基板20の変形例について説明する。
まず、図7を参照して、第1変形例について説明する。ここに、図7は、第1変形例に係る対向基板の詳細な構成を概念的に示す断面図である。
続いて、図8から図16を参照して、本実施形態に係る液晶装置100(特に、対向基板20)の製造方法について説明する。ここに、図8から図16は、本実施形態に係る液晶装置100(特に、対向基板20)の製造工程の一連の工程を概念的に示す断面図である。
続いて、図17及び図18を参照しながら、上述の液晶装置100を具備してなる電子機器の例を説明する。
Claims (7)
- 第1基板と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質と、
前記第1基板上の前記電気光学物質に対向する側に設けられる遮光層及び当該遮光層の上に設けられるカラーフィルタ層、または、前記遮光層、前記カラーフィルタ層及び当該カラーフィルタ層の上に設けられるオーバーコート層、を含む光学層と、
前記光学層上に設けられる電極層と、
前記電極層と共に、当該電極層側に配置される前記カラーフィルタ層、前記オーバーコート層、または、前記オーバーコート層及び前記カラーフィルタ層、を貫通して形成されるスルーホールと、
前記光学層と対向する底面全体が、前記スルーホールによって露出された前記遮光層または前記カラーフィルタ層の面全体と接すると共に、側面が前記スルーホールの内周全体に接するように設けられるフォトスペーサと、
を備える、電気光学装置。 - 前記フォトスペーサは、
前記スルーホールから突出した突出部を備え、当該突出部は前記スルーホールの内径より大きな外径を有し、前記スルーホールの外縁を構成する前記電極層の一部を覆う、請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記第1基板の前記電極層は共通電極であり、駆動時には、前記第2基板に形成される画素電極との間の電位差に基づく印加電圧が前記液晶層に印加される、請求項1または2に記載の電気光学装置。
- 前記フォトスペーサは、フォトレジストを材料として構成され、
前記光学層は、前記フォトスペーサとの間の密着強度が前記電極層と前記フォトスペーサとの間よりも高い材料で形成される、
請求項1から3のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置を備える、電子機器。
- 基板と、
前記基板上に設けられる遮光層及び当該遮光層の上に設けられるカラーフィルタ層、または、前記遮光層、前記カラーフィルタ層及び当該カラーフィルタ層の上に設けられるオーバーコート層、を含む光学層と、
前記光学層上に設けられる電極層と、
前記電極層と共に、当該電極層側に配置される前記カラーフィルタ層、前記オーバーコート層、または、前記オーバーコート層及び前記カラーフィルタ層、を貫通して形成されるスルーホールと、
前記光学層と対向する底面全体が、前記スルーホールによって露出された前記遮光層または前記カラーフィルタ層の面全体と接すると共に、側面が前記スルーホールの内周全体に接するように設けられるフォトスペーサと、
を備える、カラーフィルタ基板。 - 第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質とを備える電気光学装置を製造する製造方法であって、
前記第1基板上に、遮光層及び当該遮光層の上にカラーフィルタ層、または、前記遮光層、前記カラーフィルタ層及び当該カラーフィルタ層の上に設けられるオーバーコート層、を含む光学層を形成する第1形成工程と、
前記光学層上に、電極層を形成する第2形成工程と、
前記電極層と共に、当該電極層側に配置される前記カラーフィルタ層、前記オーバーコート層、または、前記オーバーコート層及び前記カラーフィルタ層、を貫通するスルーホールを形成する第3形成工程と、
前記光学層と対向する底面全体が、前記スルーホールによって露出された前記遮光層または前記カラーフィルタ層の面全体と接すると共に、側面が前記スルーホールの内周全体に接するフォトスペーサを形成する第4形成工程と、
を備える、製造方法。
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