JP2009216978A - 電気光学装置、電子機器、カラーフィルタ基板及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電気光学装置(100)は、第1基板(20)と、第2基板(10)と、電気光学物質(50)と、第1基板上に設けられると共に、遮光層(211)、カラーフィルタ(212)層及びオーバーコート層(213)の少なくとも1つを含む光学層と、光学層上に設けられる電極層(21)と、光学層まで貫通するスルーホール(21a)と、スルーホールを介して光学層と接するように設けられるフォトスペーサ(210)とを備える。
【選択図】図4
Description
本発明の電気光学装置は、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質と、前記第1基板上の前記電気光学物質に対向する側に設けられると共に、遮光層、カラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つを含む光学層と、前記光学層上に設けられる電極層と、前記電極層を貫通し、前記光学層まで達するスルーホールと、少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するように設けられるフォトスペーサとを備える。
上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様を含む)を備える。
本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板上に設けられると共に、遮光層、カラーフィルタ層及びカバー層の少なくとも1つを含む光学層と、前記光学層上に設けられる電極層と、前記電極層を貫通し、前記光学層まで達するスルーホールと、少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するように設けられるフォトスペーサとを備える。つまり、本発明のカラーフィルタ基板は、上述した電気光学装置に用いられるファラーフィルタ基板(つまり、光学層、電極層及びフォトスペーサが設けられる第1基板)である。
本発明の電気光学装置の製造方法は、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質とを備える電気光学装置を製造する製造方法であって、前記第1基板上に、遮光層、カラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つを含む光学層を形成する第1形成工程と、前記光学層上に、電極層を形成する第2形成工程と、前記電極層に、前記光学層まで達するスルーホールを形成する第3形成工程と、少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するフォトスペーサを形成する第4形成工程とを備える。
前記光学層上に形成された前記電極層上にポジ型の第1フォトレジストを塗布する第1塗布工程と、前記一部の領域が露光されるパターンを有するフォトマスクを用いて、前記第1フォトレジストを露光する第1露光工程とを備え、前記第4形成工程は、前記電極層上にネガ型の第2フォトレジストを塗布する第2塗布工程と、前記フォトマスクを用いて、前記第2フォトレジストを露光する第2露光工程とを備える。
先ず、本実施形態に係る液晶装置の構成について、図1及び図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H’断面図である。
続いて、図3を参照して、本実施形態に係る液晶装置100の要部の電気的な構成について説明する。ここに、図3は、本実施形態に係る液晶装置100の要部の電気的な構成を概念的に示すブロック図である。
続いて、図4を参照して、対向基板20の詳細な構成について説明する。ここに、図4(a)は、対向基板20の詳細な構成を概念的に示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)の(VI)−(VI’)断面図である。
続いて、上述した対向基板20の変形例について説明する。
まず、図7を参照して、第1変形例について説明する。ここに、図7は、第1変形例に係る対向基板の詳細な構成を概念的に示す断面図である。
続いて、図8から図16を参照して、本実施形態に係る液晶装置100(特に、対向基板20)の製造方法について説明する。ここに、図8から図16は、本実施形態に係る液晶装置100(特に、対向基板20)の製造工程の一連の工程を概念的に示す断面図である。
続いて、図17及び図18を参照しながら、上述の液晶装置100を具備してなる電子機器の例を説明する。
Claims (11)
- 第1基板と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質と、
前記第1基板上の前記電気光学物質に対向する側に設けられると共に、遮光層、カラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つを含む光学層と、
前記光学層上に設けられる電極層と、
前記電極層を貫通し、前記光学層まで達するスルーホールと、
少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するように設けられるフォトスペーサと
を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 前記スルーホールの内周に、前記フォトスペーサの外周が接していることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記フォトスペーサは、前記スルーホールの内径より大きな外径を有する部分を備えていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記フォトスペーサは、前記スルーホールに嵌合する嵌合部を備えていることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
- 前記フォトスペーサは、前記スルーホールの外縁を構成する前記電極層の端部の少なくとも一部を覆うことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
- 基板と、
前記基板上に設けられると共に、遮光層、カラーフィルタ層及びカバー層の少なくとも1つを含む光学層と、
前記光学層上に設けられる電極層と、
前記電極層を貫通し、前記光学層まで達するスルーホールと、
少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するように設けられるフォトスペーサと
を備えることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板間に挟持される電気光学物質とを備える電気光学装置を製造する製造方法であって、
前記第1基板上に、遮光層、カラーフィルタ層及びオーバーコート層の少なくとも1つを含む光学層を形成する第1形成工程と、
前記光学層上に、電極層を形成する第2形成工程と、
前記電極層に、前記光学層まで達するスルーホールを形成する第3形成工程と、
少なくとも一部が前記スルーホールを介して前記光学層と接するフォトスペーサを形成する第4形成工程と
を備えることを特徴とする製造方法。 - 前記第3形成工程は、前記光学層上に形成された前記電極層のうちの一部の領域において、前記光学層を露出させるように、前記電極層を除去する除去工程を備えることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
- 前記除去工程は、
前記光学層上に形成された前記電極層上にポジ型の第1フォトレジストを塗布する第1塗布工程と、
前記一部の領域が露光されるパターンを有するフォトマスクを用いて、前記第1フォトレジストを露光する第1露光工程と
を備え、
前記第4形成工程は、
前記電極層上にネガ型の第2フォトレジストを塗布する第2塗布工程と、
前記フォトマスクを用いて、前記第2フォトレジストを露光する第2露光工程と
を備えることを特徴とする請求項9に記載の製造方法。 - 前記除去工程は、
前記光学層上に形成された前記電極層上にネガ型の第1フォトレジストを塗布する第1塗布工程と、
前記一部の領域以外の領域が露光されるパターンを有するフォトマスクを用いて、前記第1フォトレジストを露光する第1露光工程と
を備え、
前記第4形成工程は、
前記電極層上にポジ型の第2フォトレジストを塗布する第2塗布工程と、
前記フォトマスクを用いて、前記第2フォトレジストを露光する第2露光工程と
を備えることを特徴とする請求項9に記載の製造方法。
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