JP2003280007A

JP2003280007A - 液晶セルおよび液晶セル集合体

Info

Publication number: JP2003280007A
Application number: JP2002086979A
Authority: JP
Inventors: Ryota Mizusako; 亮太水迫
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 2002-03-26
Filing date: 2002-03-26
Publication date: 2003-10-02

Abstract

(57)【要約】【課題】画素部の基板間ギャップを小さくし、しかも良
好なシール形状およびシール性のシール部を形成するこ
とができるアクティブマトリックス型の液晶セルを提供
する。【解決手段】一方の基板２の内面に、表示エリアＡを囲
むシール部Ｃに対応させて、前記シール部Ｃのシール幅
よりも大きい幅の凹部２１を形成し、一対の基板１，２
を、前記シール部Ｃにおいて枠状シール材２５を介して
接合した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、薄膜トランジス
タ（以下、ＴＦＴと記す）を能動素子とするアクティブ
マトリックス型の液晶セルおよび液晶セル集合体に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】ＴＦＴを能動素子とするアクティブマト
リックス型の液晶セルは、対向配置された一対の基板の
うち、一方の基板の他方の基板と対向する内面に、表示
エリア内にマトリックス状に配列形成された複数の画素
電極と、前記複数の画素電極にそれぞれ接続された複数
のＴＦＴと、前記複数のＴＦＴにゲート信号を供給する
複数のゲート配線と、前記複数のＴＦＴにデータ信号を
供給する複数のデータ配線とが設けられ、他方の基板の
前記一方の基板と対向する内面に、前記複数の画素電極
に対向する対向電極が設けられ、これらの基板が、前記
表示エリアを囲むシール部において枠状シール材を介し
て接合された構成となっている。

【０００３】この液晶セルは、前記一対の基板間の枠状
シール材により囲まれた領域に液晶を充填して液晶表示
素子とされる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記液晶セ
ルの画素部の基板間ギャップ（一方の基板の最も内面と
他方の基板の最も内面との間の間隔）は、従来、５μｍ
程度とされているが、最近では、液晶表示素子の画素部
（画素電極と対向電極とが互いに対向する領域）の液晶
層厚を小さくして応答速度を速くするために、前記液晶
セルの画素部の基板間ギャップを例えば１μｍ〜２μｍ
程度に小さくすることが望まれている。

【０００５】しかし、従来の液晶セルは、画素部の基板
間ギャップを小さくすると、前記枠状シール材のゲート
配線およびデータ配線の交差部に対応する部分に、シー
ル材幅の太りが生じる。

【０００６】すなわち、前記液晶セルは、前記一対の基
板のいずれかの内面上に、表示エリアを囲むシール部に
対応させて枠状シール材を印刷した後、前記一対の基板
を重ね合わせて加圧することにより、前記シール材を押
し潰して前記一対の基板の間隔を前記画素部の基板間ギ
ャップが予め定められた値になるように調整し、その状
態で前記シール材を硬化させて一対の基板を前記枠状シ
ール材を介して接合することにより組立てられる。

【０００７】この液晶セルの組立てにおいて、前記枠状
シール材は、スクリーン印刷により、基板間隔を画素部
の基板間ギャップが予め定められた値になるように調整
したときのシール部の基板間ギャップよりも厚く、且
つ、前記基板間隔の調整により押し潰されたシール材幅
が、予め定められた目標シール幅になるような幅に印刷
される。

【０００８】一方、前記液晶セルの一対の基板のうち、
複数の画素電極とＴＦＴと複数のゲート配線およびデー
タ配線が設けられた一方の基板は、両側縁のいずれか一
方と、上下縁のいずれか一方とに、他方の基板の外方に
突出する張り出し部を有しており、前記複数のゲート配
線は、前記シール部と交差させて一方の張り出し部に導
出され、前記複数のデータ配線は、前記シール部と交差
させて他方の張り出し部に導出されている。

【０００９】そのため、前記シール部の基板間ギャップ
は、シール部の全周にわたって一定ではなく、前記複数
のゲート配線およびデータ配線が交差している部分のギ
ャップが、他の部分のギャップよりも前記配線の膜厚に
応じた厚さだけ小さい。

【００１０】したがって、基板間隔を調整する際の枠状
シール材の潰れは、前記シール部の全周にわたって一様
ではなく、前記シール材のうち、前記複数のゲート配線
およびデータ配線の交差部に対応する部分が、他の部分
よりもさらに押し潰され、その部分のシール材幅が太く
なる。

【００１１】なお、前記ゲート配線およびデータ配線は
０．２μｍ〜０．７μｍの膜厚に形成されているため、
画素部の基板間ギャップが５μｍ程度の液晶セルを組立
てる場合は、前記配線の交差部に対応する部分と他の部
分とのシール材の潰れ量の比が極く小さく、したがっ
て、配線交差部に対応する部分のシール材幅の太りは、
ほとんど問題にならない程度である。

【００１２】しかし、画素部の基板間ギャップが１μｍ
〜２μｍの狭ギャップ液晶セルを組立てる場合は、配線
交差部に対応する部分と他の部分とのシール材の潰れ量
の比がかなり大きくなるため、ゲート配線およびデータ
配線に対応する部分に顕著なシール材幅の太りが生じ、
良好なシール形状が得られなくなる。

【００１３】しかも、熱硬化性樹脂からなる前記シール
材は、その硬化温度に加熱する過程で一旦粘度が急激に
低くなり、その後に硬化するが、前記画素部の基板間ギ
ャップが１μｍ〜２μｍの狭ギャップ液晶セルを組立て
る場合は、一方の基板のゲート配線およびデータ配線部
分と他方の基板との間隔が極く小さくなるため、硬化過
程で粘度が低くなったシール材が、毛細管現象により、
シール部から前記配線上の基板間隙に沿って流れ出し、
シール材幅がさらに大きくなるとともに、液晶セル内に
充填される液晶とシール材との接触面積が大きくなり、
シール材から液晶中へのイオン性不純物の溶け込みを増
大させるなどの影響を及ぼすようになる。

【００１４】図１３は、従来の狭ギャップ液晶セルの配
線交差部のシール形状を示しており、（ａ）は、シール
材を目標シール幅が得られる幅に印刷したときのシール
形状を示し、（ｂ）は、前記シール材を目標シール幅が
得られる幅よりも小さい幅に印刷したときのシール形状
を示している。

【００１５】図１３（ａ），（ｂ）のように、従来の狭
ギャップ液晶セルは、シール材ａの配線（ゲート配線ま
たはデータ配線）ｂの交差部に対応する部分の前記配線
ｂ上に沿った流れ出し部を含むシール材幅が他の部分の
シール材幅よりも太く、良好なシール形状が得られな
い。

【００１６】そして、前記シール材ａを目標シール幅Ｓ
が得られる幅に印刷した場合は、図１３（ａ）のよう
に、配線交差部に対応する部分の前記流れ出し部を含む
シール材幅が目標シール幅Ｗに比べて極端に太くなる。

【００１７】一方、前記シール材ａを目標シール幅Ｗが
得られる幅よりも小さい幅に印刷した場合は、図１３
（ｂ）のように、前記配線交差部に対応する部分の前記
流れ出し部を含むシール材幅が目標シール幅Ｓに近くな
るが、その場合は、隣り合う配線ｂ上に沿った流れ出し
部の間の部分のシール材幅が目標シール幅Ｗよりも小さ
くなり、その部分のシール性が低下し、シール不良を発
生する。

【００１８】この発明は、画素部の基板間ギャップを小
さくし、しかも良好なシール形状およびシール性のシー
ル部を形成することができるアクティブマトリックス型
の液晶セルを提供するとともに、画素部の基板間ギャッ
プが小さく、しかもシール部のシール形状およびシール
性が良好な液晶セルを得ることができる液晶セル集合体
を提供することを目的としたものである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】この発明の液晶セルは、
対向配置された一対の基板のうち、一方の基板の他方の
基板と対向する内面に、表示エリア内にマトリックス状
に配列形成された複数の画素電極と、前記複数の画素電
極にそれぞれ接続された複数のＴＦＴと、前記複数のＴ
ＦＴにゲート信号を供給する複数のゲート配線と、前記
複数のＴＦＴにデータ信号を供給する複数のデータ配線
とが設けられ、他方の基板の前記一方の基板と対向する
内面に、前記複数の画素電極に対向する対向電極が設け
られるとともに、前記一対の基板の少なくとも一方の内
面に、前記表示エリアを囲むシール部の少なくとも前記
複数のゲート配線およびデータ配線の交差部に対応させ
て、前記シール部のシール幅よりも大きい幅の凹部が形
成され、前記一対の基板が、前記シール部において枠状
シール材を介して接合されていることを特徴とする。

【００２０】この液晶セルは、一対の基板の少なくとも
一方の内面に、表示エリアを囲むシール部の少なくとも
複数のゲート配線およびデータ配線の交差部に対応させ
て、前記シール部のシール幅よりも大きい幅の凹部を形
成し、前記一対の基板を、前記シール部において枠状シ
ール材を介して接合したものであるため、前記一対の基
板の間隔を画素部の基板間ギャップが予め定められた値
になるように調整する際の前記シール材の配線交差部に
対応する部分と他の部分との潰れ量の比を小さくし、前
記配線交差部に対応する部分のシール材幅の太りをほと
んど無くすとともに、前記シール部における一方の基板
のゲート配線およびデータ配線部分と他方の基板との間
隔を大きくし、前記シール部から前記配線上への毛細管
現象によるシール材の流れ出しを無くすことができる。

【００２１】したがって、この液晶セルによれば、画素
部の基板間ギャップを小さくし、しかも良好なシール形
状およびシール性のシール部を形成することができる。

【００２２】このように、この発明の液晶セルは、一対
の基板の少なくとも一方の内面に、表示エリアを囲むシ
ール部の少なくとも複数のゲート配線およびデータ配線
が交差する部分に対応させて、前記シール部のシール幅
よりも大きい幅の凹部を形成し、前記一対の基板を、前
記シール部において枠状シール材を介して接合すること
により、画素部の基板間ギャップを小さくし、しかも良
好なシール形状およびシール性のシール部を形成するこ
とができるようにしたものである。

【００２３】この発明の液晶セルにおいて、前記シール
部に対応する凹部は、前記シール部の全周にわたって形
成するのが望ましい。

【００２４】また、この液晶セルにおいては、一方の基
板の内面に設けられた複数のゲート配線およびデータ配
線のシール部と交差する部分にそれぞれ同じ高さのギャ
ップ材受け部を形成するとともに、前記一方の基板の内
面に、前記シール部のうちの前記ゲート配線およびデー
タ配線が交差しない領域に対応させて、前記ギャップ材
受け部と同じ高さのギャップ材受け凸部を形成し、一対
の基板を、前記シール部において、ギャップ材が混入さ
れた枠状シール材を介して接合するのが好ましい。

【００２５】また、この発明の液晶セル集合体は、対向
配置された第１と第２の一対の基板材のうち、液晶セル
の一方の基板となる複数の基板領域を有する第１の基板
材の前記複数の基板領域の第２の基板材と対向する内面
にそれぞれ、表示エリア内にマトリックス状に配列形成
された複数の画素電極と、前記複数の画素電極にそれぞ
れ接続された複数のＴＦＴと、前記複数のＴＦＴにゲー
ト信号を供給する複数のゲート配線と、前記複数のＴＦ
Ｔにデータ信号を供給する複数のデータ配線とが設けら
れ、液晶セルの他方の基板となる複数の基板領域を有す
る第２の基板材の前記複数の基板領域の前記第１の基板
材と対向する内面にそれぞれ、前記複数の画素電極に対
向する対向電極が設けられるとともに、前記一対の基板
材の少なくとも一方の基板材の前記複数の基板領域の内
面にそれぞれ、前記表示エリアを囲むシール部の少なく
とも前記複数のゲート配線およびデータ配線の交差部に
対応させて、前記シール部のシール幅よりも大きい幅の
凹部が形成され、前記一対の基板材の前記複数の基板領
域がそれぞれ、前記シール部において枠状シール材を介
して接合されていることを特徴とする。

【００２６】この液晶セル集合体は、一対の基板材の少
なくとも一方の基板材の複数の基板領域の内面にそれぞ
れ、表示エリアを囲むシール部の少なくとも複数のゲー
ト配線およびデータ配線の交差部に対応させて、前記シ
ール部のシール幅よりも大きい幅の凹部を形成し、前記
一対の基板材の前記複数の基板領域をそれぞれ、前記シ
ール部において枠状シール材を介して接合したものであ
るため、前記一対の基板材の間隔を前記複数の基板領域
の画素部の基板間ギャップが予め定められた値になるよ
うに調整する際の前記シール材の配線交差部に対応する
部分と他の部分との潰れ量の比を小さくし、前記配線交
差部に対応する部分のシール材幅の太りをほとんど無く
すとともに、前記シール部における一方の基板材のゲー
ト配線およびデータ配線部分と他方の基板材との間隔を
大きくし、シール部から前記配線上への毛細管現象によ
るシール材の流れ出しを無くすことができる。

【００２７】したがって、この液晶セル集合体の第１と
第２の基板材をそれぞれ前記複数の基板領域毎に分離す
ることにより、画素部の基板間ギャップが小さく、しか
もシール部のシール形状およびシール性が良好な液晶セ
ルを得ることができる。

【００２８】このように、この発明の液晶セル集合体
は、一対の基板材の少なくとも一方の基板材の複数の基
板領域の内面にそれぞれ、表示エリアを囲むシール部の
少なくとも複数のゲート配線およびデータ配線の交差部
に対応させて、前記シール部のシール幅よりも大きい幅
の凹部を形成し、前記一対の基板材の前記複数の基板領
域をそれぞれ、前記シール部において枠状シール材を介
して接合することにより、画素部の基板間ギャップが小
さく、しかもシール部のシール形状およびシール性が良
好な液晶セルを得ることができるようにしたものであ
る。

【００２９】この発明の液晶セル集合体においては、前
記複数の基板領域のシール部に対応する凹部は、前記シ
ール部の全周にわたって均一な深さに形成し、前記第１
の基板材の複数の基板領域の内面に設けられた複数のゲ
ート配線およびデータ配線のシール部と交差する部分に
それぞれ同じ高さのギャップ材受け部を形成するととも
に、少なくとも一方の基板材の複数の基板領域の内面に
それぞれ、前記シール部のうちの前記ゲート配線および
データ配線が交差しない領域に対応させて、前記ギャッ
プ材受け部と同じ高さのギャップ材受け凸部を形成し、
前記一対の基板材の複数の基板領域をそれぞれ、前記シ
ール部において、ギャップ材が混入された枠状シール材
を介して接合するのが好ましい。

【００３０】さらに、この液晶セル集合体においては、
少なくとも一方の基板材の複数の基板領域の間の捨て領
域の複数箇所の内面に、前記基板領域のシール部に対応
する凹部と同じ深さの捨て凹部を形成するとともに、前
記第１の基板材の前記捨て領域の内面に、前記複数の捨
て凹部にそれぞれ対応させて、前記複数のゲート配線お
よびデータ配線の前記シール部と交差する部分に形成さ
れたギャップ材受け部および前記シール部のうちの前記
ゲート配線およびデータ配線が交差しない領域に対応さ
せて形成されたギャップ材受け凸部と同じ高さの捨てギ
ャップ材受け凸部を形成し、前記一対の基板材の前記捨
て領域を、前記複数の捨て凹部内に対応する部分におい
て、前記シール部に対応する枠状シール材中のギャップ
材と同じ径のギャップ材が混入された捨てシール材を介
して接合するのが望ましい。

【００３１】

【発明の実施の形態】図１〜図８はこの発明の液晶セル
の第１の実施例を示しており、図１は液晶セルの平面
図、図２は図１のI―I線に沿う断面図、図３は前記液晶
セルの一方の基板の一部分の配向膜とオーバーコート絶
縁膜を省略した拡大平面図、図４および図５は図３のIV
―IV線およびV―V線に沿う拡大断面図、図６は図１のVI
―VI線に沿う拡大断面図、図７は図１のVII―VII線に沿
う拡大断面図、図８は図１のVIII―VIII線に沿う拡大断
面図である。

【００３２】この液晶セルは、フィールドシーケンシャ
ル表示装置用または白黒画像表示装置用の液晶表示素子
を構成するためのアクティブマトリックス型液晶セルで
あり、図１〜図８に示したように、対向配置された一対
の透明基板１，２のうち、一方の基板、例えば表示の観
察側とは反対側である後側の基板１の内面、つまり他方
の基板である前側の基板２と対向する面に、表示エリア
（図１において二点鎖線で囲まれた領域）Ａ内にマトリ
ックス状に配列形成された複数の画素電極３と、前記複
数の画素電極３にそれぞれ接続された複数のＴＦＴ４
と、前記複数のＴＦＴ４にゲート信号を供給する複数の
ゲート配線１３と、前記複数のＴＦＴ４にデータ信号を
供給する複数のデータ配線１４とが設けられている。

【００３３】前記ＴＦＴ４は、図３および図４に示した
ように、後側基板１の基板面に形成されたゲート電極５
と、このゲート電極５を覆って設けられたゲート絶縁膜
６と、前記ゲート絶縁膜６の上に前記ゲート電極５と対
向させて形成されたｉ型半導体膜７と、このｉ型半導体
膜７のチャンネル領域の上に設けられたブロッキング絶
縁膜８と、前記ｉ型半導体膜７の両側部の上にｎ型半導
体膜９を介して形成されたソース電極１０およびドレイ
ン電極１１と、その上に設けられたオーバーコート絶縁
膜１２との積層膜からなっている。

【００３４】なお、前記ゲート電極５は低抵抗のアルミ
ニウム系合金膜により形成され、前記ゲート絶縁膜６と
ブロッキング絶縁膜８とオーバーコート絶縁膜１２は窒
化シリコン膜により形成されている。また、前記ｉ型半
導体膜７とｎ型半導体膜９はアモルファスシリコン膜ま
たはポリシリコン膜からなっており、さらに、前記ソー
ス電極１０とドレイン電極１１は、図２では単層膜とし
ているが、前記ｎ型半導体膜９とのコンタクト層である
クロム膜と、その上に形成されたアルミニウム系合金膜
との積層膜からなっている。

【００３５】また、前記複数のゲート配線１３は、後側
基板１の基板面に、各画素電極行の一側にそれぞれ沿わ
せて、前記ＴＦＴ４のゲート電極５と同じ金属膜（アル
ミニウム系合金膜）により、前記ゲート電極５と一体に
形成されている。この実施例では、図３に示したよう
に、前記ゲート配線１３の各画素電極３に対応する部分
をそれぞれ前記ゲート電極５としている。

【００３６】なお、前記ＴＦＴ４のゲート絶縁膜６は、
後側基板１の全体に、前記複数のゲート配線１２を覆っ
て形成されており、前記複数の画素電極３は、前記ゲー
ト絶縁膜６の上にＩＴＯ膜により形成され、これらの画
素電極３にそれぞれ、その画素電極３に対応するＴＦＴ
４のソース電極１０が接続されている。

【００３７】一方、前記複数のデータ配線１４は、前記
ゲート絶縁膜６の上に、各画素電極列の一側にそれぞれ
沿わせて、前記ＴＦＴ４のソース，ドレイン電極１０，
１１と同じ金属膜（クロム膜とアルミニウム系合金膜と
の積層膜）により、前記ドレイン電極１１と一体に形成
されている。

【００３８】さらに、前記ＴＦＴ４のオーバーコート絶
縁膜１２は、後側基板１の全体に、前記複数のデータ配
線１４を覆って、前記複数の画素電極３に対応する部分
が開口した格子膜状に形成されている。

【００３９】また、前記後側基板１は、その両側縁のい
ずれか一方（図１では右側縁）と、上下縁のいずれか一
方（図１では下縁）とに、他方の基板である前側基板２
の外方に突出する張り出し部１ａ，１ｂを有しており、
前記複数のゲート配線１３は、前記表示エリアＡを囲む
シール部Ｃと交差させて一方の張り出し部１ａに導出さ
れ、前記複数のデータ配線１４は、前記シール部Ｃと交
差させて他方の張り出し部１ｂに導出されている。

【００４０】前記張り出し部１ａ，１ｂに導出された複
数のゲート配線１３およびデータ配線１４は、前記張り
出し部１ａ，１ｂにそれぞれ搭載されるゲート側ドライ
バおよびデータ側ドライバ（図示せず）の複数の出力端
子に対応する位置に導かれている。

【００４１】図１において、前記表示エリアＡの右側と
下側の二点鎖線で囲まれた領域Ｂ１，Ｂ２はそれぞれ、
前記複数のゲート配線１３の導出領域と、前記複数のデ
ータ配線１４の導出領域を示している。

【００４２】そして、前記後側基板１の最も内面には、
前記シール部Ｃにより囲まれた領域の略全域にわたっ
て、ポリイミドからなる配向膜１５が設けられている。

【００４３】また、表示の観察側である前側の基板２の
前記後側基板１に対向する内面には、前記複数の画素電
極３に対向する部分に開口が設けられた格子膜状の遮光
膜１６と、前記複数の画素電極３に対向する対向電極１
７とが設けられている。

【００４４】なお、図では前記遮光膜１６を単層膜とし
ているが、この遮光膜１６は、前記後側基板２の基板面
に形成された酸化クロム膜とその上に形成されたクロム
膜との積層膜からなっており、その外周縁部が前記シー
ル部Ｃに重なる外形に形成されている。

【００４５】また、前記対向電極１７は、ＩＴＯ膜から
なる一枚膜状の電極であり、前記遮光膜１６を覆って、
この遮光膜１６の外形と略同じ形状に形成されている。

【００４６】そして、この前側基板２の最も内面には、
前記シール部Ｃにより囲まれた領域の略全域にわたっ
て、ポリイミドからなる配向膜１８が設けられている。

【００４７】さらに、前記前側基板２の内面には、前記
表示エリアＡ内に、前記複数のＴＦＴ４の側方の位置に
それぞれ対応させて、一対の基板１，２間の間隔を規定
するための複数のエリア内スペーサ１９ａ（図５参照）
が、前記ＴＦＴ４の配列ピッチと同じピッチで設けられ
るとともに、前記表示エリアＡと前記シール部Ｃの間の
領域（以下、エリア外領域と言う）の略全域に、前記エ
リア内スペーサ１９ａと同じ高さの複数のエリア外スペ
ーサ１９ｂ（図８参照）が、前記エリア内スペーサ１９
ａの配列ピッチと同程度のピッチで設けられている。

【００４８】このエリア内スペーサ１９ａおよびエリア
外スペーサ１９ｂは、いずれも樹脂膜からなる柱状スペ
ーサであり、前記遮光膜１６と対向電極１７との積層膜
の上に形成され、前記配向膜１８により覆われている。

【００４９】一方、前記後側基板１の内面には、前記表
示エリアＡ内に、前記複数のエリア内スペーサ１９ａに
それぞれ対応する複数のエリア内スペーサ当接部２０ａ
（図３および図５参照）が形成されるとともに、前記表
示エリアＡと前記シール部Ｃの間のエリア外領域に、前
記複数のエリア外スペーサ１９ｂにそれぞれ対応する複
数のエリア外スペーサ当接部２０ｂ（図８参照）が、前
記エリア内スペーサ当接部２０ａと同じ高さに形成され
ている。

【００５０】前記エリア内スペーサ当接部２０ａは、図
５に示したように、後側基板１の基板面に設けられた前
記ゲート配線１３のＴＦＴ４の側方の部分と、その上の
ゲート絶縁膜６と、前記ゲート絶縁膜６の上に前記デー
タ配線１４と同じ金属膜により形成された疑似電極１４
ａと、この疑似電極１４ａを覆って設けられた前記オー
バーコート絶縁膜１２との積層膜により形成され、前記
エリア外スペーサ当接部２０ｂは、図８に示したよう
に、後側基板１の基板面に前記ゲート配線１３と同じ金
属膜により形成された第１の疑似電極１３ａと、この疑
似電極１３ａを覆って設けられた前記ゲート絶縁膜６
と、前記ゲート絶縁膜６の上に前記データ配線１４と同
じ金属膜により形成された第２の疑似電極１４ｂと、こ
の疑似電極１４ｂを覆って設けられた前記オーバーコー
ト絶縁膜１２との積層膜により形成されている。

【００５１】また、前記一対の基板１，２のいずれか一
方、例えば前側基板１の内面には、表示エリアＡを囲む
シール部Ｃの全周にわたって、前記シール部Ｃのシール
幅（充分なシール性と基板接合強度が得られるシール
幅）よりも大きい幅の凹部２１が均一な深さに形成され
ている。

【００５２】この凹部２１は、前記シール部Ｃの内周縁
から基板外周縁にわたる幅に形成されており、前側基板
２の内面に設けられた遮光膜１６と対向電極１７の外周
部は、前記凹部２１の側面および底面上に形成されてい
る。

【００５３】前記凹部２１は、ガラスからなる前側基板
２の内面を凹部形成領域を除いてマスクし、この基板内
面の前記凹部形成領域をＨＦ（フッ化水素）等のエッチ
ング液によりエッチングすることにより形成されたもの
であり、この凹部２１の側面は、サイドエッチングによ
り凹部底面から基板内面に向かって基板中央方向に傾斜
するテーパー面に形成されているため、前記凹部２１の
形成後に前側基板２の内面に形成する遮光膜１６と対向
電極１７を、基板内面から前記凹部２１の側面および底
面上にわたって断線を生じさせること無く成膜すること
ができる。

【００５４】前記凹部２１を形成するためのエッチング
マスクは、例えば、基板内面に感光性レジストを塗布
し、そのレジスト膜を焼成した後に露光および現像処理
して形成するが、その場合は、前記レジスト膜の焼成温
度を低くして基板内面に対するマスクの密着度を弱くす
るのが好ましく、このようにすることにより、サイドエ
ッチングが進行しやすくして凹部側面をより緩やかな傾
斜角のテーパー面とし、遮光膜１６と対向電極１７を成
膜する際の断線をさらに効果的に無くすことができる。

【００５５】また、前記エッチングマスクは、感光性を
有するラミネートフィルムを用いて作成したフィルムマ
スクを基板内面に密着させて行なってもよく、その場合
も、サイドエッチングが進行しやすくして凹部側面をよ
り緩やかな傾斜角のテーパー面とし、遮光膜１６と対向
電極１７を成膜する際の断線をさらに効果的に無くすこ
とができる。

【００５６】なお、前記いずれのエッチングマスクを用
いる場合も、そのマスクにアライメントマークパターン
を形成し、前記凹部２１の形成時に、前記基板２の外周
部（最終的に切り捨てられる部分がある場合はその部
分）の任意箇所の内面にアライメントマークを同時にエ
ッチング形成するのが好ましく、このようにすることに
より、そのアライメントマークを利用して、後工程の遮
光膜１６および対向電極１７の形成時におけるこれらの
パターニング用マスクの位置合わせや、後述する枠状シ
ール材２５の印刷位置合わせを行なうことができる。

【００５７】また、前記後側基板１の内面に設けられた
前記複数のゲート配線１３およびデータ配線１４の前記
シール部Ｃと交差する部分にはそれぞれ、その配線に他
方の配線と同じ金属膜からなる疑似配線を積層してなる
同じ高さのギャップ材受け部２２，２３が形成されてい
る。

【００５８】すなわち、前記複数のゲート配線１３のシ
ール部Ｃと交差するギャップ材受け部２２は、図６に示
したように、ゲート配線１３を覆うゲート絶縁膜６の上
に、前記ゲート配線１３に対応させて、前記データ配線
１４と同じ金属膜からなる疑似配線１４ｃを形成するこ
とにより、前記ゲート配線１３とゲート絶縁膜６と前記
疑似配線１４ｃとオーバーコート絶縁膜１２との積層膜
により形成されている。

【００５９】なお、前記ゲート配線１３の導出部は、そ
の上のゲート絶縁膜６を除去することにより露出されて
おり、前記データ配線１４と同じ金属膜からなる疑似配
線１４ｃは、前記ゲート配線１３の導出部の電気抵抗を
下げるために、前記ゲート配線１３の導出部の上に延長
され、このゲート配線１３の導出部にその全長にわたっ
て直接積層されている。

【００６０】そして、前記疑似配線１４ｃが積層された
前記ゲート配線１３の導出部のドライバ接続端は、前記
オーバーコート絶縁膜１２に開口を設けることにより露
出されている。

【００６１】また、前記複数のデータ配線１４のシール
部Ｃと交差するギャップ材受け部２３は、図７に示した
ように、後側基板１の基板面に、前記データ配線１４に
対応させて、前記ゲート配線１３と同じ金属膜からなる
疑似配線１３ｂを形成することにより、疑似配線１３ｂ
とゲート絶縁膜６とデータ配線１４とオーバーコート絶
縁膜１２との積層膜により形成されている。

【００６２】なお、前記疑似配線１３ｂは、前記シール
部Ｃとの交差部だけに形成されており、したがって、前
記データ配線１４の導出部は単層膜からなっている。そ
して、このデータ配線１４の導出部のドライバ接続端
は、前記オーバーコート絶縁膜１２に開口を設けること
により露出されている。

【００６３】さらに、前記後側基板１の内面には、図８
に示したように、前記シール部Ｃのうちの前記ゲート配
線１３およびデータ配線１４が交差しない領域に対応さ
せて、前記ギャップ材受け部２２，２３と同じ高さの複
数のギャップ材受け凸部２４が、前記配線１３，１４が
交差しない領域の全周にわたり、前記ゲート配線１３お
よびデータ配線１４のピッチと同程度のピッチで形成さ
れている。

【００６４】このギャップ材受け凸部２４は、前記シー
ル部Ｃの幅方向に沿わせて、前記ゲート配線１３および
データ配線１４と同程度の幅に、且つ前記シール部Ｃの
シール幅よりも若干短い長さに形成された短配線状の凸
部であり、後側基板１の基板面に、前記ゲート配線１３
と同じ金属膜からなる第１の疑似配線１３ｃを形成する
とともに、前記ゲート絶縁膜６の上に、前記第１の疑似
配線１３ｃに対応させて、前記データ配線１４と同じ金
属膜からなる第２の疑似配線１４ｄを形成することによ
り、前記第１の疑似配線１３ｃとゲート絶縁膜６と第２
の疑似配線１４ｄとオーバーコート絶縁膜１２との積層
膜により形成されている。

【００６５】そして、前記後側基板１と前側基板２は、
前側基板２に設けられた前記複数のエリア内スペーサ１
９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂを、後側基板１に設
けられたエリア内スペーサ当接部２０ａおよびエリア外
スペーサ当接部２０ｂに、両基板１，２の最も内面に形
成された配向膜１５，１８を介して当接させることによ
り、表示エリアＡ内の複数の画素部の基板間ギャップ
（両基板１，２の最も内面間の間隔）ｄ_１および前記表
示エリアＡとシール部Ｃとの間のエリア外領域の基板間
ギャップ（画素部の基板間ギャップｄ_１と同じ）を前記
エリア内スペーサ１９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂ
により規定され、前記シール部Ｃにおいて枠状シール材
２５を介して接合されている。

【００６６】前記枠状シール材２５は、ガラス等からな
る粒子状のギャップ材２６が混入された熱硬化性樹脂で
あり、前記シール部Ｃの基板間ギャップｄ_２ａ，ｄ_２ｂ
は、前記シール材２５中のギャップ材２６を、後側基板
１の内面の前記ギャップ材受け部２２，２３およびギャ
ップ材受け凸部２４と前側基板２の内面の対向電極１７
の外周縁部との間に挟持させることにより規定されてい
る。

【００６７】なお、前記枠状シール材２５は、その各辺
のうち、後側基板１の張り出し部１ａ，１ｂに対応しな
い側の１つの辺部に、その辺部を部分的に欠落させて形
成された液晶注入口２７が設けられている。

【００６８】この液晶セルは、前側基板２の内面にシー
ル部Ｃに対応させて設けられた凹部２１の底面に枠状シ
ール材２５を印刷し、これらの基板１，２を重ね合わせ
て加圧することにより、一対の基板１，２の間隔（基板
面間の間隔）ｄ_０を、前記表示エリアＡ内の複数の画素
部の基板間ギャップｄ_１およびエリア外領域の基板間ギ
ャップが前記エリア内スペーサ１９ａおよびエリア外ス
ペーサ１９ｂにより規定される値になり、前記シール部
の基板間ギャップが前記枠状シール材２５に混入された
ギャップ材２６により規定される値になるように調整し
た後、その状態で前記枠状シール材２５を硬化させて一
対の基板１，２を接合することにより組立てられる。

【００６９】なお、図では省略しているが、前記後側基
板１の内面には、前記シール部Ｃの角部の外側に近接さ
せて、対向電極接続用のクロス電極と、このクロス電極
を後側基板１の張り出し部１ａ，１ｂに搭載されるゲー
ト側およびデータ側ドライバの一方または両方の基準電
位端子に接続するための基準電位配線が設けられ、前記
前側基板２の内面に設けられた対向電極１７には、その
角部から前記シール部Ｃの外側に延長されたクロス電極
接続部が形成されており、前記対向電極１７は、そのク
ロス電極接続部と前記クロス電極とを導電性樹脂等から
なるクロス材により接続することにより、前記基準電位
配線に接続される。

【００７０】この液晶セルは、前側基板２の内面に、表
示エリアＡを囲むシール部Ｃに対応させて、前記シール
部Ｃのシール幅よりも大きい幅の凹部２１を形成し、一
対の基板１，２を、前記シール部Ｃにおいて枠状シール
材２５を介して接合したものであるため、前記一対の基
板１，２の間隔ｄ_０を上記のように調整する際の前記シ
ール材２５のゲート配線１３およびデータ配線１４の配
線交差部に対応する部分と他の部分との潰れ量の比を小
さくし、前記配線１３，１４の交差部に対応する部分の
シール材幅の太りをほとんど無くすとともに、前記シー
ル部における後側基板１のゲート配線１３およびデータ
配線１４部分と前側基板２との間隔を大きくし、前記シ
ール部Ｃからゲート配線１３およびデータ配線１４上へ
の毛細管現象によるシール材２５の流れ出しを無くすこ
とができる。

【００７１】したがって、この液晶セルによれば、前記
画素部の基板間ギャップｄ_１を小さくし、しかも良好な
シール形状およびシール性のシール部Ｃを形成すること
ができる。

【００７２】この液晶セルにおいて、前側基板２の内面
にシール部Ｃに対応させて形成された凹部２１の深さ
は、予め定められた画素部の基板間ギャップｄ_１に応じ
て選べばよい。

【００７３】すなわち、前記画素部の基板間ギャップｄ
_１は、後側基板１と前側基板２の最も内面に設けられた
配向膜１５，１８間の間隔であり、後側基板１の配向膜
１５の画素部に対応する部分は、ＴＦＴ４のゲート絶縁
膜６と画素電極３との積層膜の上に形成され、前側基板
２の配向膜１８の前記画素部に対応する部分は、対向電
極１７の上に形成されているため、前記画素部の基板間
ギャップｄ_１を予め定められた値にしたときの基板間隔
（両基板１，２の基板面間の間隔）ｄ_０は、前記画素部
の基板間ギャップｄ_１に前記ゲート絶縁膜６と画素電極
３と対向電極１７と配向膜１５，１８の膜厚の合計値を
加算した値になる。

【００７４】前記ゲート絶縁膜６の膜厚は０．２〜０．
３μｍ、画素電極３の膜厚は約０．０５μｍ、対向電極
１７の膜厚は約０．１〜０．２μｍ、配向膜１５，１８
の膜厚はそれぞれ約０．０５μｍであり、したがって、
前記画素部の基板間ギャップｄ_１を例えば１μｍにした
ときの基板間隔ｄ_０は、約１．４５〜１．６５μｍにな
る。

【００７５】一方、前記シール部Ｃの基板間ギャップ
は、後側基板１のシール部Ｃに対応する部分の最も内面
と、前側基板２に形成された凹部２１の最も内面との間
の間隔であるが、このシール部Ｃの基板間ギャップは、
シール部Ｃの全周にわたって一定ではなく、前記複数の
ゲート配線１３およびデータ配線１４のギャップ材受け
部２２，２３と、前記ゲート配線１３およびデータ配線
１４が交差しない領域に対応させて前記ギャップ材受け
部２２，２３と同じ高さに形成された複数のギャップ材
受け凸部２４とに対応する部分の基板間ギャップｄ_２ａ
が、前記シール部Ｃの他の部分の基板間ギャップｄ_２ｂ
よりも、前記ゲート配線１３とデータ配線１４の両方の
膜厚の合計値に応じた厚さだけ小さい。

【００７６】一方、前記枠状シール材２５は、スクリー
ン印刷により、基板間隔ｄ_０を画素部の基板間ギャップ
ｄ_１を予め定められた値に調整したときのシール部Ｃの
基板間ギャップｄ_２ａ，ｄ_２ｂよりも厚く、且つ、前記
基板間隔ｄ_０の調整により押し潰されたシール材幅が、
予め定められた目標シール幅になるような幅に印刷す
る。

【００７７】そのため、前記基板間隔ｄ_０を調整する際
の枠状シール材２５の潰れは、前記シール部Ｃの全周に
わたって一様ではなく、前記シール材２５のうち、前記
複数のゲート配線１３およびデータ配線１４のギャップ
材受け部２２，２３と複数のギャップ材受け凸部２４と
に対応する部分が、他の部分よりもさらに押し潰され、
その部分のシール材幅が太くなる。

【００７８】しかし、この液晶セルでは、前側基板２の
内面に、前記シール部Ｃに対応させて、前記シール部Ｃ
のシール幅よりも大きい幅の凹部２１を形成しているた
め、前記シール部Ｃのギャップ材受け部２２，２３およ
びギャップ材受け凸部２４に対応する部分の基板間ギャ
ップｄ_２ａと、前記シール部Ｃの他の部分の基板間ギャ
ップｄ_２ｂとの比を小さくし、前記シール部Ｃのギャッ
プ材受け部２２，２３およびギャップ材受け凸部２４に
対応する部分と他の部分とのシール材２５の潰れ量の比
を小さくすることができる。

【００７９】前記凹部２１の深さは、前記画素部の基板
間ギャップｄ_１に対して反比例の関係に設定するのが好
ましく、画素部の基板間ギャップｄ_１を１μｍとする場
合の好ましい凹部２１の深さは２μｍ以上、画素部の基
板間ギャップｄ_１を２μｍとする場合の好ましい凹部２
１の深さは１μｍ以上である。

【００８０】すなわち、例えば画素部の基板間ギャップ
ｄ_１を１μｍとしたときの基板間隔ｄ_０は、上述したよ
うに約１．４５〜１．６５μｍ程度であるため、前記凹
部２１の深さを２μｍとすると、前記シール部Ｃの基板
間隔（後側基板１の基板面と前側基板２の凹部２１の底
面との間の間隔）は、約３．４５〜３．６５μｍにな
る。

【００８１】一方、前記ゲート絶縁膜６の膜厚は上述し
たように０．２〜０．３μｍであり、また、ゲート配線
１３の膜厚は０．２〜０．４μｍ、データ配線１４の膜
厚は０．４〜０．７μｍ、オーバーコート絶縁膜１２の
膜厚は０．２〜０．３μｍ、遮光膜１６の膜厚は０．１
５〜０．２μｍ、対向電極１７の膜厚は上述したように
約０．１〜０．２μｍである。

【００８２】したがって、画素部の基板間ギャップｄ_１
を１μｍとし、前記凹部２１の深さを２μｍとしたと
き、つまりシール部Ｃの基板間隔が約３．４５〜３．６
５μｍであるときの前記シール部Ｃのギャップ材受け部
２２，２３およびギャップ材受け凸部２４に対応する部
分の基板間ギャップｄ_２ａと、前記シール部Ｃの他の部
分の基板間ギャップｄ_２ｂは、ｄ_２ａ＝約２．１５〜２．２μｍｄ_２ｂ＝約２．６５〜２．８μｍとなる。

【００８３】そして、前記枠状シール材２５は、前記シ
ール部Ｃのギャップ材受け部２２，２３およびギャップ
材受け凸部２４に対応する部分の基板間ギャップｄ_２ａ
と前記シール部Ｃの他の部分の基板間ギャップｄ_２ｂと
の比（ｄ_２ａ／ｄ_２ｂ）に対応した比率で押し潰される
ため、前記シール部Ｃのギャップ材受け部２２，２３お
よびギャップ材受け凸部２４に対応する部分のシール材
２５の潰れ量は、前記シール部Ｃの他の部分のシール材
２５の潰れ量に対して、約１．２〜１．３倍程度であ
る。

【００８４】これに対して、前側基板２にシール部Ｃに
対応する凹部２１を形成しないときの前記シールＣのギ
ャップ材受け部２２，２３およびギャップ材受け凸部２
４に対応する部分の基板間ギャップは約０．１５〜０．
２μｍ、前記シール部Ｃの他の部分の基板間ギャップは
約０．６５〜０．８μｍであり、その場合のシール部Ｃ
のギャップ材受け部２２，２３およびギャップ材受け凸
部２４に対応する部分のシール材２５の潰れ量は、前記
シール部Ｃの他の部分のシール材２５の潰れ量に対して
約４倍である。

【００８５】このように、この実施例の液晶セルは、前
記シール部Ｃのギャップ材受け部２２，２３およびギャ
ップ材受け凸部２４に対応する部分と他の部分とのシー
ル材２５の潰れ量の比が、前側基板２にシール部Ｃに対
応する凹部２１を形成していないものに比べて極く小さ
く、そのため、前記ギャップ材受け部２２，２３および
ギャップ材受け凸部２４に対応する部分のシール材幅の
太りをほとんど無くすことができる。

【００８６】しかも、この液晶セルは、前記シール部Ｃ
のギャップ材受け部２２，２３およびギャップ材受け凸
部２４に対応する部分の基板間ギャップｄ_２ａが、上述
したように、画素部の基板間ギャップｄ_１を１μｍと
し、前記凹部２１の深さを２μｍとしたときで約２．１
５〜２．２μｍと充分に大きいため、前記シール部Ｃか
らゲート配線１３およびデータ配線１４上への毛細管現
象によるシール材２５の流れ出しも無くすことができ
る。

【００８７】したがって、この液晶セルによれば、画素
部の基板間ギャップｄ_１を小さくし、しかも良好なシー
ル形状およびシール性のシール部Ｃを形成することがで
きる。

【００８８】この液晶セルは、前記画素部の基板間ギャ
ップｄ_１を上述したように例えば１μｍに小さくするこ
とができるため、この液晶セル内に液晶を充填すること
により、液晶層厚を小さくして応答速度を速くした液晶
表示素子を得ることができ、したがって、特に、フィー
ルドシーケンシャル表示装置用の液晶表示素子に好適で
ある。

【００８９】しかも、この実施例の液晶セルは、前側基
板２の内面の前記凹部２１を、シール部Ｃの全周にわた
って、前記シール部Ｃの内周縁から基板外周縁にわたる
幅に形成しているため、前側基板２のシール部Ｃの外側
に突出する外周縁部と後側基板１との隙間が充分大き
く、したがって、セル内に真空注入法により液晶を充填
する際に、液晶皿内の液晶が前側基板２の前記外周縁部
と後側基板１との隙間を毛細管現象により伝い上がるの
を防ぐことができる。

【００９０】なお、前記前側基板２の内面にシール部Ｃ
に対応させて設けられた凹部２１は、前記液晶注入口２
７に対応する非シール部を含んで前側基板２の全周にわ
たって形成するのが好ましく、前記凹部２１をこのよう
に形成することにより、前記液晶注入口２７の高さを大
きくし、狭ギャップ液晶セルでありながら、セル内への
液晶の注入効率を高くすることができる。

【００９１】ただし、前記凹部２１は、前記液晶注入口
２７に対応する非シール部を除いて、前記シール部Ｃの
全周にわたって形成してもよい。

【００９２】また、この実施例の液晶セルは、上述した
ように、前側基板２の内面の表示エリアＡ内に、複数の
エリア内スペーサ１９ａをＴＦＴ４の配列ピッチと同じ
ピッチで設けるとともに、前記表示エリアＡと前記シー
ル部Ｃの間のエリア外領域の略全域に、複数のエリア外
スペーサ１９ｂを前記エリア内スペーサ１９ａの配列ピ
ッチと同程度のピッチで設けているため、前記エリア外
領域の基板間ギャップを前記複数のエリア外スペーサ１
９ｂにより規定することができる。

【００９３】すなわち、前記エリア外スペーサ１９ｂが
無い場合は、後側基板１および前側基板２の前記エリア
外領域に対応する部分がセル内側に撓み変形し、その影
響により、表示エリアＡの外周部付近の画素部の基板間
ギャップｄ_１が変化する。

【００９４】しかし、この実施例の液晶セルは、後側基
板１および前側基板２の前記エリア外領域に対応する部
分が前記エリア外スペーサ１９ｂによりセル内側から支
えられるため、基板１，２のエリア外領域に対応する部
分がセル内側に撓み変形することはなく、したがって、
前記画素部の基板間ギャップｄ_１を、表示エリアＡの全
域にわたって均一にすることができる。

【００９５】さらに、この実施例の液晶セルは、後側基
板１の内面に設けられた複数のゲート配線１３およびデ
ータ配線１４のシール部Ｃと交差する部分にそれぞれ同
じ高さのギャップ材受け部２２，２３を形成するととも
に、前記前側基板２の内面に、前記シール部Ｃのうちの
前記ゲート配線１３およびデータ配線１４が交差しない
領域に対応させて、前記ギャップ材受け部２２，２３と
同じ高さの複数のギャップ材受け凸部２４を形成し、一
対の基板１，２を、前記シール部Ｃにおいて、ギャップ
材２６が混入された枠状シール材２５を介して接合てい
るため、前記シール材２５中のギャップ材２６により、
前記シール部Ｃの基板間ギャップｄ_２ａ，ｄ_２ｂを、前
記シール部Ｃの全周にわたって均一に、且つ前記画素部
の基板間ギャップｄ_１に応じて規定し、前記シール部付
近での基板１，２の反り変形を無くし、前記画素部の基
板間ギャップｄ_１を、表示エリアＡの全域にわたってよ
り均一にすることができる。

【００９６】前記シール材２５に混入するギャップ材２
６は、前記シール部Ｃのギャップ材受け部２２，２３お
よびギャップ材受け凸部２４に対応する部分の基板間ギ
ャップｄ_２ａと実質的に同じ直径のものであればよく、
例えば画素部の基板間ギャップｄ_１を１μｍとし、前記
凹部２１の深さを２μｍとする場合は、直径が約２．１
５〜２．２μｍのギャップ材を用いればよい。

【００９７】なお、上記実施例の液晶セルでは、シール
材部Ｃに対応する凹部２１を、対向電極１７が設けられ
た基板（実施例では前側基板）２に形成しているが、前
記凹部２１は、画素電極３およびＴＦＴ４とゲート配線
１３およびデータ配線１４が設けられた基板（実施例で
は後側基板）１に形成しても、あるいは両方の基板に形
成してもよい。

【００９８】ただし、前記ゲート配線１３とデータ配線
１４は、その断線を防ぐために、できるだけ平坦面上に
形成するのが好ましく、したがって、前記凹部２１は、
上記実施例のように対向電極１７が設けられた基板２に
形成するのが望ましい。

【００９９】また、上記実施例では、前記シール材部Ｃ
に対応する枠状シール材２５にギャップ材２６を混入さ
せているが、前記枠状シール材２５はギャップ材を混入
しないものでもよく、その場合は、前記ゲート配線１３
およびデータ配線１４のシール部Ｃと交差する部分のギ
ャップ材受け部２２，２３と、前記シール部Ｃのうちの
前記ゲート配線１３およびデータ配線１４が交差しない
領域に対応する複数のギャップ材受け凸部２４は不要で
ある。

【０１００】さらに、上記実施例では、シール部Ｃに対
応する凹部２１を、前記シール部Ｃの全周にわたって均
一な深さに形成しているが、前記枠状シール材２５にギ
ャップ材を混入させない場合は、前記凹部２１を、前記
シール部Ｃのうちの複数のゲート配線１３およびデータ
配線１４が交差する部分だけに形成してもよい。

【０１０１】ただし、前記凹部２１をシール部Ｃのうち
のゲート配線１３およびデータ配線１４の交差部だけに
形成すると、前記シール部Ｃの凹部内と基板面との間の
段差部のシール性が悪くなるおそれがある。

【０１０２】そのため、前記凹部２１は、上記実施例の
ようにシール部Ｃの全周にわたって均一な深さに形成す
るのが好ましく、このようにすることにより、前記シー
ル部Ｃをその全周にわたって、充分なシール性と基板接
合強度で均一にシールすることができる。

【０１０３】次に、この発明の液晶セル集合体の実施例
を説明する。図９〜図１２はこの発明の液晶セル集合体
の第１の実施例を示しており、図９は液晶セル集合体の
一部分の平面図、図１０は図９のX―X線に沿う断面図、
図１１および図１２は図９のXI―XI線およびXII―XII線
に沿う拡大断面図である。なお、この実施例の液晶セル
集合体は、図１〜図８に示した液晶セルの集合体であ
る。

【０１０４】この液晶セル集合体は、前記液晶セルの後
側基板１となる複数の基板領域１１０を有する第１の基
板材１０１と、前記液晶セルの前側基板２となる複数の
基板領域１２０を有する第２の基板材１０２とを、これ
らの基板材１０１，１０２の前記複数の基板領域１１
０，１２０の間にそれぞれ設けられた一辺に液晶注入口
２７を有する複数の枠状シール材２５を介して接合した
ものであり、この液晶セル集合体は、前記第１の基板材
１０１をその複数の基板領域１１０の各辺に沿った切断
ラインＬ１に沿って切断して前記複数の基板領域１１０
毎に切離し、前記第２の基板材１０２をその複数の基板
領域１２０の各辺に沿った切断ラインＬ２に沿って切断
して前記複数の基板領域１２０毎に切離すことにより、
個々の液晶セルに分離される。

【０１０５】まず、第１の基板材１０１について説明す
ると、この第１の基板材１０１は、前記液晶セルの後側
基板１となる複数の基板領域１１０と、これらの基板領
域１１０の間に確保された最終的に切り捨てられる捨て
領域１１１とを有している。

【０１０６】そして、この第１の基板材１０１の複数の
基板領域１０１の第２の基板材１０２と対向する内面に
はそれぞれ、図３〜図８に示したように、表示エリアＡ
内にマトリックス状に配列した複数の画素電極３と、前
記複数の画素電極３にそれぞれ接続された複数のＴＦＴ
４と、前記複数のＴＦＴ４にゲート信号を供給する複数
のゲート配線１３と、前記複数のＴＦＴ４にデータ信号
を供給する複数のデータ配線１４とが設けられるととも
に、前記表示エリアＡ内に複数のエリア内スペーサ当接
部２０ａが形成され、前記表示エリアＡとシール部Ｃの
間の前記エリア外領域に複数のエリア外スペーサ当接部
２０ｂが形成されており、その最も内面に、シール部Ｃ
により囲まれた領域の略全域にわたって配向膜１５が設
けられている。

【０１０７】なお、前記ＴＦＴ４のゲート絶縁膜６とオ
ーバーコート絶縁膜１２はそれぞれ、図１１および図１
２に示したように、前記第１の基板材１０１の全体にわ
たって形成されている。

【０１０８】次に、第２の基板材１０２について説明す
ると、この第２の基板材１０２は、前記液晶セルの前側
基板２となる複数の基板領域１２０と、これらの基板領
域１２０の間に確保された最終的に切り捨てられる捨て
領域１２１とを有している。

【０１０９】そして、この第２の基板材１０２の複数の
基板領域１２０の前記第１の基板材１０１と対向する内
面にはそれぞれ、図４〜図８に示したように、遮光膜１
６と前記遮光膜１６を覆って形成された対向電極１７と
が設けられるとともに、前記表示エリアＡ内に複数のエ
リア内スペーサ１９ａが設けられ、前記エリア外領域に
複数のエリア外スペーサ１９ｂが設けられており、その
最も内面に、前記シール部Ｃにより囲まれた領域の略全
域にわたって配向膜１８が形成されている。

【０１１０】また、この第２の基板材１０２の複数の基
板領域１２０の内面には、前記シール部Ｃにその全周に
わたって対応する凹部２１が、前記シール部Ｃの内周縁
から前記捨て領域１２１にまたがる幅に、且つ均一な深
さに形成されており、前記遮光膜１６と対向電極１７の
外周部は、前記凹部２１の前記基板領域１２０内の側面
および底面上に形成されている。

【０１１１】一方、前記第１の基板材１０１の複数の基
板領域１１０の内面に設けられた前記複数のゲート配線
１３およびデータ配線１４の前記シール部Ｃと交差する
部分にはそれぞれ、図６および図７に示したように、そ
の配線１３または１４に他方の配線１４または１３と同
じ金属膜からなる疑似配線１４ｃまたは１３ｂを積層し
てなる同じ高さのギャップ材受け部２２，２３が形成さ
れており、さらに、前記複数の基板領域１１０の内面に
は、図８に示したように、前記シール部Ｃのうちの前記
ゲート配線１３およびデータ配線１４が交差しない領域
に対応させて、前記ギャップ材受け部２２，２３と同じ
高さの複数のギャップ材受け凸部２４が、前記ゲート配
線１３およびデータ配線１４のピッチと同程度のピッチ
で形成されている。

【０１１２】さらに、図９〜図１１に示したように、前
記第２の基板材１０２の捨て領域１２１の内面には、前
記シール部Ｃに対応する凹部２１と同じ深さの複数の捨
て凹部２１ａが、前記捨て領域１２１の全域にわたって
略均一な間隔で形成されている。

【０１１３】なお、この実施例では図のように、前記捨
て凹部２１ａを、その捨て凹部２１ａの形成部に近い基
板領域１２０のシール部Ｃに対応する凹部２１と連続さ
せて形成しているが、この捨て凹部２１ａは、前記シー
ル部Ｃに対応する凹部２１と連続させずに独立状態で形
成してもよい。

【０１１４】そして、第１の基板材１０１の捨て領域１
１１の内面には、前記複数の捨て凹部２１ａにそれぞれ
対応させて、前記ゲート配線１３およびデータ配線１４
のギャップ材受け部２２，２３と同じ高さの複数の捨て
ギャップ材受け凸部２４ａが形成されており、また、第
２の基板材１０２の前記捨て領域１２１の底面には、前
記複数の捨てギャップ材受け凸部２４ａにそれぞれ対応
させて、前記基板領域１１０に設けられた遮光膜１６お
よび対向電極１７と同じ疑似遮光膜１６ａと疑似対向電
極１７ａが積層して形成されている。

【０１１５】また、図１２に示したように、前記第２の
基板材１０２の捨て領域１２１の内面には、前記複数の
捨て凹部２１ａの形成部を除く全域にわたって、複数の
捨てスペーサ１９ｃが、前記基板領域１２０のエリア内
スペーサ１９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂの配列ピ
ッチと同程度のピッチで設けられており、前記第１の基
板材１０１の捨て領域１１１の内面には、前記複数の捨
てスペーサ１９ｃにそれぞれ対応させて、複数の捨てス
ペーサ当接部２０ｃが形成されている。

【０１１６】なお、前記捨てスペーサ１９ｃは、第２の
基板材１０２の捨て領域１２１の内面の捨てスペーサ形
成部に形成された疑似遮光膜１６ｂと疑似対向電極１７
ｂとの積層膜上に、前記エリア内スペーサ１９ａおよび
エリア外スペーサ１９ｂと同じ高さに形成されており、
また、前記捨てスペーサ当接部２０ｃは、前記エリア外
スペーサ当接部２０ｂと同様に、基板材面にゲート配線
１３と同じ金属膜により形成された第１の疑似電極１３
ａと、ゲート絶縁膜６と、データ配線１４と同じ金属膜
により形成された第２の疑似電極１４ｂと、オーバーコ
ート絶縁膜１２との積層膜により、前記エリア内スペー
サ当接部２０ａと同じ高さに形成されている。

【０１１７】そして、前記第１の基板材１０１と第２の
基板材１０２は、第２の基板材１０２の複数の基板領域
１２０に設けられた複数のエリア内スペーサ１９ａおよ
びエリア外スペーサ１９ｂを、第１の基板材１０１の複
数の基板領域１２０に設けられたエリア内スペーサ当接
部２０ａおよびエリア外スペーサ当接部２０ｂに配向膜
１５，１８を介して当接させるととも、前記第２の基板
材１０２の捨て領域１２１に設けられた複数の捨てスペ
ーサ２０ｃを、前記第１の基板材１０１の捨て領域１１
１に形成された捨てスペーサ当接部２０ｃに直接当接さ
せることにより、前記基板領域１１０，１２０の表示エ
リアＡ内の画素部の基板間ギャップｄ_１（図６〜図８参
照）およびエリア外領域の基板間ギャップと前記捨て領
域１１１，１２１の基板間ギャップとを前記エリア内ス
ペーサ１９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂと捨てスペ
ーサ２０ｃにより規定され、複数の基板領域１１０，１
２０のシール部Ｃに対応する枠状シール材２５と、前記
捨て領域１１１，１２１の複数の捨て凹部２１ａにそれ
ぞれ対応する複数の捨てシール材２５ａとを介して接合
されている。

【０１１８】前記枠状シール材２５と捨てシール材２５
ａは、いずれも、ガラス、シリカ、或いは樹脂等からな
る同じ径の粒子状ギャップ材２６が混入された熱硬化性
樹脂であり、前記複数の基板領域１１０，１２０のシー
ル部Ｃの基板間ギャップｄ_２ _ａ，ｄ_２ｂ（図８参照）
は、前記シール材２５中のギャップ材２６を、第１の基
板材１０１のギャップ材受け部２２，２３およびギャッ
プ材受け凸部２４と第２の基板材１０２の対向電極１７
の外周縁部との間に挟持させることにより規定され、前
記捨て領域の基板間ギャップは、前記捨てシール材２５
ａ中のギャップ材２６を、第１の基板材１０１の捨てギ
ャップ材受け凸部２４ａと第２の基板材１０２の疑似対
向電極１７ａとの間に挟持させることにより規定されて
いる。

【０１１９】この液晶セル集合体は、液晶セルの前側基
板２となる複数の基板領域１２０を有する第２の基板材
１０２の複数の基板領域１２０の内面にそれぞれ、表示
エリアＡを囲むシール部Ｃに対応させて、前記シール部
Ｃのシール幅よりも大きい幅の凹部２１を形成し、前記
液晶セルの後側基板１となる複数の基板領域１１０を有
する第１の基板材１０１と前記第２の基板材１０２との
複数の基板領域１１０，１２０をそれぞれ、前記シール
部Ｃにおいて枠状シール材２５を介して接合したもので
あるため、これらの基板材１０１，１０２の間隔ｄ
_０（図４および図５参照）を前記複数の基板領域１１
０，１２０の画素部の基板間ギャップｄ_１が予め定めら
れた値になるように調整する際の前記シール材２５のゲ
ート配線１３およびデータ配線１４の交差部に対応する
部分と他の部分との潰れ量の比を小さくし、前記配線１
３，１４の交差部に対応する部分のシール材幅の太りを
ほとんど無くすとともに、前記シール部２１における第
１の基板材１０１のゲート配線１３およびデータ配線１
４部分と第２の基板材１０２との間隔を大きくし、シー
ル部Ｃから前記配線１３，１４上への毛細管現象による
シール材２５の流れ出しを無くすことができる。

【０１２０】したがって、この液晶セル集合体の第１と
第２の基板材１０１，１０２をそれぞれ前記複数の基板
領域１１０，１２０毎に分離することにより、画素部の
基板間ギャップｄ_１が小さく、しかもシール部Ｃのシー
ル形状およびシール性が良好な液晶セルを得ることがで
きる。

【０１２１】しかも、この実施例においては、前記複数
の基板領域１１０，１２０のシール部Ｃに対応する凹部
２１を、前記シール部Ｃの全周にわたって均一な深さに
形成し、第１の基板材１０１の複数の基板領域１１０の
内面に設けられた複数のゲート配線１３およびデータ配
線１４のシール部Ｃと交差する部分にそれぞれ同じ高さ
のギャップ材受け部２２，２３を形成するとともに、前
記第１の基板材１０１の複数の基板領域１１０の内面に
それぞれ、前記シール部Ｃのうちの前記ゲート配線１３
およびデータ配線１４が交差しない領域に対応させて、
前記ギャップ材受け部２２，２３と同じ高さのギャップ
材受け凸部２４を形成し、前記一対の基板材１０１，１
０２の複数の基板領域１１０，１２０をそれぞれ、前記
シール部Ｃにおいて、ギャップ材２６が混入された枠状
シール材２５を介して接合しているため、前記シール材
２５中のギャップ材２６により、前記シール部Ｃの基板
間ギャップｄ_２ａ，ｄ_２ｂを、前記シール部Ｃの全周に
わたって均一に、且つ前記画素部の基板間ギャップｄ_１
に応じて規定し、前記シール部付近での基板材１０１，
１０２の反り変形を無くし、前記画素部の基板間ギャッ
プｄ_１を、表示エリアＡの全域にわたってより均一にす
ることができる。

【０１２２】さらに、この実施例では、前記第１の基板
材１０１の複数の基板領域１１０の間の捨て領域１１１
の複数箇所の内面に、前記基板領域１１０のシール部Ｃ
に対応する凹部２１と同じ深さの捨て凹部２１ａを形成
するとともに、前記第１の基板材１０１の前記捨て領域
１１１の内面に、前記複数の捨て凹部２１ａにそれぞれ
対応させて、前記複数のゲート配線１３およびデータ配
線１４の前記シール部Ｃと交差する部分に形成されたギ
ャップ材受け部２２，２３および前記シール部Ｃのうち
の前記ゲート配線１３およびデータ配線１４が交差しな
い領域に対応させて形成されたギャップ材受け凸部２４
と同じ高さの捨てギャップ材受け凸部２４ａを形成し、
前記一対の基板材１０１，１０２の前記捨て領域１１
１，１２１を、前記複数の捨て凹部２４ａ内に対応する
部分において、前記シール部Ｃに対応する枠状シール材
２５中のギャップ材と同じギャップ材２６が混入された
捨てシール材２５ａを介して接合しているため、この捨
てシール材２５ａ中のギャップ材２６により、一対の基
板材１０１，１０２の捨て領域１１１，１２１の基板間
ギャップを前記画素部の基板間ギャップｄ_１に応じて規
定し、前記捨て領域１１１，１２１での基板材１０１，
１０２の反り変形を無くし、前記画素部の基板間ギャッ
プｄ_１を、表示エリアＡの全域にわたってさらに均一に
することができる。

【０１２３】また、この実施例では、上述したように、
第２の基板材１０２の捨て領域１２１の内面に、前記複
数の捨て凹部２１ａの形成部を除く全域にわたって、複
数の捨てスペーサ１９ｃを、基板領域１２０のエリア内
スペーサ１９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂの配列ピ
ッチと同程度のピッチで、且つ前記エリア内スペーサ１
９ａおよびエリア外スペーサ１９ｂと同じ高さに設け、
第１の基板材１０１の捨て領域１１１の内面に、基板領
域１１０のエリア内スペーサ当接部２０ａおよびエリア
外スペーサ当接部２０ｂと同じ高さの複数の捨てスペー
サ当接部２０ｃを形成しているため、前記複数の捨てス
ペーサ１９ｃにより、前記捨て領域１１１，１２１での
基板材１０１，１０２の反り変形をさらに確実に防ぎ、
前記画素部の基板間ギャップｄ_１を、表示エリアＡの全
域にわたってさらに均一にすることができる。

【０１２４】ただし、前記両方の基板材１０１，１０２
の最も内面の配向膜１５，１８は、前記基板領域１１
０，１２０のシール材部Ｃにより囲まれた領域だけに設
けられているため、前記エリア内スペーサ１９ａおよび
エリア外スペーサ１９ｂは前記配向膜１５，１８を介し
て前記エリア内スペーサ当接部２０ａおよびエリア外ス
ペーサ当接部２０ｂに当接するのに対し、前記捨てスペ
ーサ１９ｃは、前記捨てスペーサ当接部２０ｃに直接当
接するが、前記配向膜１５，１８の膜厚はそれぞれ０．
０５μｍ程度と極く薄く、したがって、前記捨てスペー
サ１９ｃと捨てスペーサ当接部２０ｃとの間に配向膜１
５，１８が無いことによる捨て領域１１１，１２１での
基板材１０１，１０２の内面側への撓み変形は無視でき
る。

【０１２５】なお、上記実施例の液晶セル集合体では、
複数の基板領域１１０，１２０のシール材部Ｃに対応す
る凹部２１と、捨て領域１１１，１２１に対応する捨て
凹部２１ａとを、基板領域１２０に対向電極１７が設け
られた第２の基板材１０２に形成しているが、これらの
凹部２１，２１ａは、基板領域１１０に画素電極３およ
びＴＦＴ４とゲート配線１３およびデータ配線１４が設
けられた第１の基板材１に形成しても、あるいは両方の
基板材１０１，１０２に形成してもよい。

【０１２６】ただし、前記ゲート配線１３とデータ配線
１４は、その断線を防ぐために、できるだけ平坦面上に
形成するのが好ましいため、前記凹部２１は、上記実施
例のように、基板領域１２０に対向電極１７が設けられ
た第２の基板２に形成するのが望ましい。

【０１２７】また、上記実施例では、前記シール材部Ｃ
に対応する枠状シール材２５と、捨て領域１１１，１２
１に対応する捨てシール材２５ａとにギャップ材２６を
混入させているが、前記枠状シール材２５および捨てシ
ール材２５ａは、ギャップ材を混入しないものでもよ
く、その場合は、前記ゲート配線１３およびデータ配線
１４のシール部Ｃと交差する部分のギャップ材受け部２
２，２３と、前記シール部Ｃのうちの前記ゲート配線１
３およびデータ配線１４が交差しない領域に対応する複
数のギャップ材受け凸部２４および前記捨て凹部２１ａ
内の捨てギャップ材受け凸部２４ａは不要である。

【０１２８】

【発明の効果】この発明の液晶セルは、一対の基板の少
なくとも一方の内面に、表示エリアを囲むシール部の少
なくとも複数のゲート配線およびデータ配線が交差する
部分に対応させて、前記シール部シール幅よりも大きい
幅の凹部を形成し、前記一対の基板を、前記シール部に
おいて枠状シール材を介して接合したものであるため、
画素部の基板間ギャップを小さくし、しかも良好なシー
ル形状およびシール性のシール部を形成することができ
る。

【０１２９】この発明の液晶セルにおいて、前記シール
部に対応する凹部は、前記シール部の全周にわたって形
成するのが望ましく、このようにすることにより、前記
シール部をその全周にわたって、充分なシール性と基板
接合強度で均一にシールすることができる。

【０１３０】また、この液晶セルにおいては、一方の基
板の内面に設けられた複数のゲート配線およびデータ配
線のシール部と交差する部分にそれぞれ同じ高さのギャ
ップ材受け部を形成するとともに、前記一方の基板の内
面に、前記シール部のうちの前記ゲート配線およびデー
タ配線が交差しない領域に対応させて、前記ギャップ材
受け部と同じ高さのギャップ材受け凸部を形成し、一対
の基板を、前記シール部において、ギャップ材が混入さ
れた枠状シール材を介して接合するのが好ましく、この
ようにすることにより、前記画素部の基板間ギャップ
を、表示エリアの全域にわたってより均一にすることが
できる。

【０１３１】また、この発明の液晶セル集合体は、一対
の基板材の少なくとも一方の基板材の複数の基板領域の
内面にそれぞれ、表示エリアを囲むシール部の少なくと
も複数のゲート配線およびデータ配線の交差部に対応さ
せて、前記シール部のシール幅よりも大きい幅の凹部を
形成し、前記一対の基板材の前記複数の基板領域をそれ
ぞれ、前記シール部において枠状シール材を介して接合
したものであるため、画素部の基板間ギャップが小さ
く、しかもシール部のシール形状およびシール性が良好
な液晶セルを得ることができる。

【０１３２】この発明の液晶セル集合体においては、前
記複数の基板領域のシール部に対応する凹部は、前記シ
ール部の全周にわたって均一な深さに形成し、前記第１
の基板材の複数の基板領域の内面に設けられた複数のゲ
ート配線およびデータ配線のシール部と交差する部分に
それぞれ同じ高さのギャップ材受け部を形成するととも
に、少なくとも一方の基板材の複数の基板領域の内面に
それぞれ、前記シール部のうちの前記ゲート配線および
データ配線が交差しない領域に対応させて、前記ギャッ
プ材受け部と同じ高さのギャップ材受け凸部を形成し、
前記一対の基板材の複数の基板領域をそれぞれ、前記シ
ール部において、ギャップ材が混入された枠状シール材
を介して接合するのが好ましく、このようにすることに
より、前記画素部の基板間ギャップを、表示エリアの全
域にわたってより均一にすることができる。

【０１３３】さらに、この液晶セル集合体においては、
少なくとも一方の基板材の複数の基板領域の間の捨て領
域の複数箇所の内面に、前記基板領域のシール部に対応
する凹部と同じ深さの捨て凹部を形成するとともに、前
記第１の基板材の前記捨て領域の内面に、前記複数の捨
て凹部にそれぞれ対応させて、前記複数のゲート配線お
よびデータ配線の前記シール部と交差する部分に形成さ
れたギャップ材受け部および前記シール部のうちの前記
ゲート配線およびデータ配線が交差しない領域に対応さ
せて形成されたギャップ材受け凸部と同じ高さの捨てギ
ャップ材受け凸部を形成し、前記一対の基板材の前記捨
て領域を、前記複数の捨て凹部内に対応する部分におい
て、前記シール部に対応する枠状シール材中のギャップ
材と同じ径のギャップ材が混入された捨てシール材を介
して接合するのが望ましく、このようにすることによ
り、前記画素部の基板間ギャップを、表示エリアの全域
にわたってさらに均一にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の液晶セルの一実施例を示す平面図。

【図２】図１のI―I線に沿う断面図。

【図３】前記液晶セルの一方の基板の一部分の配向膜と
オーバーコート絶縁膜を省略した拡大平面図。

【図４】図３のIV―IV線に沿う拡大断面図。

【図５】図３のV―V線に沿う拡大断面図。

【図６】図１のVI―VI線に沿う拡大断面図。

【図７】図１のVII―VII線に沿う拡大断面図。

【図８】図１のVIII―VIII線に沿う拡大断面図。

【図９】この発明の液晶セル集合体の一実施例を示す一
部分の平面図。

【図１０】図９のX―X線に沿う断面図。

【図１１】図９のXI―XI線に沿う拡大断面図。

【図１２】図９のXII―XII線に沿う拡大断面図。

【図１３】従来の狭ギャップ液晶セルの配線交差部のシ
ール形状を示す図。

【符号の説明】

１，２…基板３…画素電極４…ＴＦＴ１２…オーバーコート絶縁膜１３…ゲート配線１４…データ配線１５…配向膜１６…遮光膜１７…対向電極１８…配向膜１９ａ…エリア内スペーサ１９ｂ…エリア外スペーサ１９ｃ…捨てスペーサ２１…凹部２１ａ…捨て凹部２２，２３…ギャップ材受け部２４…ギャップ材受け凸部２４ａ…捨てギャップ材受け凸部２５…枠状シール材２５ａ…捨てシール材２６…ギャップ材２７…液晶注入口１０１…第１の基板材１０２…第２の基板材１１０，１２０…基板領域１１１，１２１…捨て領域Ｌ１，Ｌ２…切断ライン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H089 KA15 LA07 LA09 LA15 LA16 LA19 LA20 LA32 LA33 LA43 LA45 LA47 MA04Y NA06 NA12 NA19 NA24 NA28 NA32 NA39 NA45 QA03 QA11 QA12 QA14 5C094 AA03 AA13 AA43 AA46 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 DA07 DA12 DB01 DB02 EA04 EA05 EB02 EC02 EC03 FA01 FA02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向配置された一対の基板のうち、一方の
基板の他方の基板と対向する内面に、表示エリア内にマ
トリックス状に配列形成された複数の画素電極と、前記
複数の画素電極にそれぞれ接続された複数の薄膜トラン
ジスタと、前記複数の薄膜トランジスタにゲート信号を
供給する複数のゲート配線と、前記複数の薄膜トランジ
スタにデータ信号を供給する複数のデータ配線とが設け
られ、他方の基板の前記一方の基板と対向する内面に、
前記複数の画素電極に対向する対向電極が設けられると
ともに、前記一対の基板の少なくとも一方の内面に、前
記表示エリアを囲むシール部の少なくとも前記複数のゲ
ート配線およびデータ配線の交差部に対応させて、前記
シール部シール幅よりも大きい幅の凹部が形成され、前
記一対の基板が、前記シール部において枠状シール材を
介して接合されていることを特徴とする液晶セル。
【請求項２】シール部に対応する凹部は、前記シール部
の全周にわたって均一な深さに形成されていることを特
徴とする請求項１に記載の液晶セル。
【請求項３】一方の基板の内面に設けられた複数のゲー
ト配線およびデータ配線のシール部と交差する部分にそ
れぞれ同じ高さのギャップ材受け部が形成されるととも
に、前記一方の基板の内面に、前記シール部のうちの前
記ゲート配線およびデータ配線が交差しない領域に対応
させて、前記ギャップ材受け部と同じ高さのギャップ材
受け凸部が形成されており、一対の基板が、前記シール
部において、ギャップ材が混入された枠状シール材を介
して接合されていることを特徴とする請求項２に記載の
液晶セル。
【請求項４】対向配置された第１と第２の一対の基板材
のうち、液晶セルの一方の基板となる複数の基板領域を
有する第１の基板材の前記複数の基板領域の第２の基板
材と対向する内面にそれぞれ、表示エリア内にマトリッ
クス状に配列形成された複数の画素電極と、前記複数の
画素電極にそれぞれ接続された複数の薄膜トランジスタ
と、前記複数の薄膜トランジスタにゲート信号を供給す
る複数のゲート配線と、前記複数の薄膜トランジスタに
データ信号を供給する複数のデータ配線とが設けられ、
液晶セルの他方の基板となる複数の基板領域を有する第
２の基板材の前記複数の基板領域の前記第１の基板材と
対向する内面にそれぞれ、前記複数の画素電極に対向す
る対向電極が設けられるとともに、前記一対の基板材の
少なくとも一方の基板材の前記複数の基板領域の内面に
それぞれ、前記表示エリアを囲むシール部の少なくとも
前記複数のゲート配線およびデータ配線の交差部に対応
させて、前記シール部のシール幅よりも大きい幅の凹部
が形成され、前記一対の基板材の前記複数の基板領域が
それぞれ、前記シール部において枠状シール材を介して
接合されていることを特徴とする液晶セル集合体。
【請求項５】複数の基板領域のシール部に対応する凹部
は、前記シール部の全周にわたって均一な深さに形成さ
れ、第１の基板材の複数の基板領域の内面に設けられた
複数のゲート配線およびデータ配線のシール部と交差す
る部分にそれぞれ同じ高さのギャップ材受け部が形成さ
れるとともに、少なくとも一方の基板材の複数の基板領
域の内面にそれぞれ、前記シール部のうちの前記ゲート
配線およびデータ配線が交差しない領域に対応させて、
前記ギャップ材受け部と同じ高さのギャップ材受け凸部
が形成されており、一対の基板材の複数の基板領域がそ
れぞれ、前記シール部において、ギャップ材が混入され
た枠状シール材を介して接合されていることを特徴とす
る請求項４に記載の液晶セル集合体。
【請求項６】一対の基板材はそれぞれ、その複数の基板
領域の間に捨て領域を有しており、少なくとも一方の基
板材の前記捨て領域の複数箇所の内面に、前記基板領域
のシール部に対応する凹部と同じ深さの捨て凹部が形成
されるとともに、第１の基板材の前記捨て領域の内面
に、前記複数の捨て凹部にそれぞれ対応させて、複数の
ゲート配線およびデータ配線の前記シール部と交差する
部分に形成されたギャップ材受け部および前記シール部
のうちの前記ゲート配線およびデータ配線が交差しない
領域に対応させて形成されたギャップ材受け凸部と同じ
高さの捨てギャップ材受け凸部が形成され、前記一対の
基板材の前記捨て領域が、前記複数の捨て凹部内に対応
する部分において、前記シール部に対応する枠状シール
材中のギャップ材と同じ径のギャップ材が混入された捨
てシール材を介して接合されていることを特徴とする請
求項５に記載の液晶セル集合体。