JP2005099614A - 電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 カラー表示が可能な電気光学装置において、セルギャップを均一化する。
【解決手段】 電気光学パネルは、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示パネルとすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【選択図】 図2
【解決手段】 電気光学パネルは、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示パネルとすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【選択図】 図2
Description
本発明は、液晶表示装置などの電気光学装置及びその製造方法に関する。
携帯電話、PDAなどの携帯端末装置の表示装置として、液晶表示装置に代表される電気光学装置が利用されている。例えば、液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、ガラスなどの一対の透明基板間に、シール材を介して液晶を封入してなる。カラー液晶表示パネルの場合には、一対の透明基板のうちいずれか一方の基板上(即ちセル内)にR(赤)、G(緑)、B(青)の3色、又は、ブラックマトリクス用の黒色を加えた4色のカラーフィルタ層が形成される。また、液晶表示パネルなどでは、上記のようなカラーフィルタ層の他にも、セル内に電極層、保護層、配向膜などの多数の層が形成される。カラーフィルタ層を備える一般的な液晶表示パネルの例が例えば特許文献1に記載されている。
液晶表示パネルの表示特性を表示エリア内において均一化するためには、セルギャップを均一化することが好ましい。このため、一般的に、シール材内に設けられる導電性材料や、セル内に散布されるスペーサのサイズを調整することにより、セルギャップの均一化が図られている。しかし、上述のように、液晶表示パネルのセル内には多数の層が積層されるため、セルギャップの均一化は難しい。特に、カラーフィルタ層などは各色の着色層が別工程で形成されるため、層厚のばらつきが生じやすく、セルギャップの均一化をより難しいものとしている。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、カラー表示が可能な電気光学装置において、セルギャップを均一化することを課題とする。
本発明の1つの観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された樹脂層と、前記樹脂層に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の上面と同一面上にあることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には内面、即ちセル側の面上に樹脂層が形成され、その樹脂層に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における樹脂層の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
上記の電気光学装置の一態様では、前記着色層は、3色のカラーフィルタ層と、前記電気光学装置の表示領域の外周を規定する遮光層とを含むことができる。また、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、一方の基板上に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、方の基板上に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、を有し、前記着色層は、当該着色層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、一方の基板上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には内面、即ちセル側の面上に樹脂層が形成され、その樹脂層に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における樹脂層の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、カラーフィルタ基板は、基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
上記のカラーフィルタ基板は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置に用いることができる。基板の一方には液晶などを保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
本発明の他の観点では、カラーフィルタ基板は、基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。基板の一方には液晶などを保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態について説明する。なお、以下の説明では、電気光学装置の例として、液晶表示装置を例に挙げて説明する。
[第1実施形態]
まず、本発明の第1実施形態について説明する。第1実施形態は、液晶表示パネルのセル内に形成される着色層及び絶縁層を、ガラス基板に設けられた凹部内に配置することにより、基板面を平坦化するものである。
まず、本発明の第1実施形態について説明する。第1実施形態は、液晶表示パネルのセル内に形成される着色層及び絶縁層を、ガラス基板に設けられた凹部内に配置することにより、基板面を平坦化するものである。
図1に第1実施形態に係る液晶表示パネルの平面図を示し、図2にそのA−A’断面による断面図を示す。図示のように、液晶表示パネル100は、いわゆるパッシブマトリクス式の液晶表示パネルであり、上側基板1aと下側基板n1bとをシール材2を介して貼り合わせて構成される。上側基板1a及び下側基板1bはともにガラスなどの透明基板である。下側基板1bは、その一辺(図1における下辺)において上側基板1aより広い張り出し領域を有し、その張り出し領域に例えばドライバIC15などが実装される。上側基板1aと下側基板1bとにより形成されたセル内に、液晶5が封入される。
カラーフィルタ基板でもある下側基板1bには矩形の凹部25が形成される。凹部25は、図1において、シール材2の内周より若干小さい領域に形成される。凹部25内には、図2に示されるように、着色層4が形成される。着色層4は、RGB各色のカラーフィルタ層4R、4G及び4Bと、隣接するカラーフィルタ層4R、4G及び4Bの境界を規定するブラックマトリクスとしての遮光層4BKと、表示領域の外周を規定する枠状の遮光層4FLとを含む。平面視すると、図1に示すように、枠状の遮光層4FLの内部に遮光層4BKが縦横にマトリクス状に配置され、その間に各色のカラーフィルタ層4R、4G及び4Bが設けられる(図1では図示を省略)。
着色層4の上には、例えばSiO2などの絶縁層24が形成される。絶縁層24は、着色層4の保護層としての役割も有する。ここで、絶縁層24は、その上面(セル側の面)38が、凹部以外の領域における下側基板1bの上面(同じく、セル側の面)37と一致する、即ち、同一水平面上に位置するように凹部25内に形成される。これにより、下側基板1bの上面は平坦となる。
絶縁層24の上には、ITO(Indium-Tin Oxide)などの透明電極6が形成され、さらにその上に配向膜8が設けられる。なお、下側基板1bの外面には偏光板11が貼り付けられる。
一方、上側基板1aの下面(セル側の面)には透明電極7が設けられ、その上に配向膜9が設けられる。なお、上側基板1aの透明電極7と下側基板1bの透明電極6はいずれもストライプ形状を有し、相互に垂直方向に交差するように形成される。透明電極6と透明電極7の交差領域が1つの絵素(R、G、Bのいずれかのサブピクセル)を構成し、R、G、Bの3色分により1つのカラー画素が構成される。また、上側基板1aの外面には偏光板12が設けられている。
このように、本実施形態では、下側基板1bに形成された凹部内にカラーフィルタを含む着色層4及び絶縁層24が設けられ、絶縁層24の上面38と下側基板1bの凹部以外の領域における上面37とが平坦に構成される。よって、その上に透明電極6や配向膜8などが設けられた場合でも、下側基板1bの上面の平坦性を高めることができ、セルギャップの均一化が容易となる。なお、本実施形態では、絶縁層24上に形成される電極や配向膜などの構造には制限はなく、各種の層構造を採用することができる。
次に、上述の液晶表示パネル100の製造方法について説明する。まず、着色層4が設けられた下側基板1b(以下、「CF基板」とも呼ぶ。)の製造方法について図3及び図4を参照して説明する。図3はCF基板の製造方法のフローチャートであり、図4は各工程における層構造を示す断面図である。
まず、ガラス基板である下側基板1bの全面にレジスト22を塗布し(工程S1)、これを露光、パターニングし、凹部25を形成すべき凹部領域のレジスト22を剥離する(工程S2)。これにより、下側基板1b上には、凹部25以外の領域にマスクとして機能するレジスト22が残った状態となる。
次に、ガラスエッチングにより、凹部領域のガラスを除去し、凹部25を形成する(工程S3)。そして、凹部25が形成されるとレジスト22を剥離する(工程S4)。こうして、ガラスの下側基板1bに凹部25が形成される。ここで、凹部25は、後工程で形成する着色層4の層厚と絶縁層24の層厚の和に対応する深さで形成される。
次に、凹部25内に通常の方法によりカラーフィルタ層4R、4G及、4B、ブラックマトリクス4BK及び遮光層4FLを含む着色層4を形成し(工程S5)、さらにその上にSiO2などの絶縁層24を形成する(工程S6)このとき、絶縁層24は、その上面が下側基板1bの凹部25以外の領域における上面と一致するように形成される。これにより、着色層4及び絶縁層24が形成された状態で、下側基板1bの上面(セル側の面)が平坦となる。そして、その下側基板1b上に透明電極6及び配向膜8を形成し(工程S7)、CF基板が完成する。
次に、このCF基板を用いた液晶表示パネル100の製造方法について図5のフローチャートを参照して説明する。まず、図3及び図4を参照して説明した方法によりCF基板を製造する(工程S11)とともに、上側基板1aを製造する(工程S12)。なお、上側基板1aは、ガラス基板1a上に透明電極7及び配向膜9を形成することにより製造される。
次に、シール材2を介して上側基板1aと下側基板1bとを貼り合わせ、セル構造を形成する(工程S13)。そして、セル構造内に液晶を注入して注入口を封止する(工程S14)。最後に、上側基板1a及び下側基板1bの外面に偏光板11、12などを取り付け(工程S14)、液晶表示パネル100が完成する。
次に、工程S3におけるガラスエッチングについて説明する。エッチング液としては、フッ酸系の薬液を好適に使用することができる。例えば、フッ酸液、フッ化硫酸液、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸などのエッチング液を好適に使用することができる。また、それらを含む水溶液も使用することができる。例えば、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムと硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸と水素ニフッ化アンモニウムの水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液などを使用することができる。また、エッチング速度が遅いという面はあるが、苛性ソーダ(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)などの強アルカリ性の薬液を使用することもできる。
エッチング方法としては、一般的なガラスのエッチング方法である、上述のようなエッチング液を使用したウェットエッチングが好適であるが、エッチングガスを用いたドライエッチング方法なども使用できる。
また、液晶パネルを構成するガラス基板の原料は特に問わず、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラスなど各種のガラスを使用することができる。
エッチング処理を行う際のマスク方法としては、エッチング液として使用する薬液に対する耐性を有する耐薬品性材料を使用する方法、ポジレジストやネガレジストを塗布する方法などがある。耐薬品性材料としては、例えばワックス、油性のコーティングを行う、耐薬品性のテープを貼る、パテや粘度状の材料で被マスク部位を覆うなどの方法がある。
なお、本実施形態においては着色層4の形成方法は問わない。即ち、顔料などのレジストを用いたフォトリソグラフィーによる方法、インクジェットを利用する方法など各種の方法を採用することができる。
また、上記の説明は、いわゆるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネルの例であったが、本発実施形態はスイッチング素子としてTFD(Thin Film Diode)素子やTFT(Thin Film Transistor)素子などを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルにも適用が可能である。
図6に、本実施形態をTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネル200に適用した例を示す。図6において、上側基板1aが素子基板として構成される。上側基板1aの領域210の拡大図に示すように、上側基板1a上にTFD素子211と、画素電極213とが交互に形成されている。画素電極213に対応する下側基板1bの領域にR、G、Bのカラーフィルタ層4R、4G、4Bが形成され、TFD素子211に対応する領域には遮光層4BKが形成される。
また、図7に、本実施形態をTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネル300に適用した例を示す。図7において、上側基板1aが素子基板として構成される。上側基板1aの領域310の拡大図に示すように、上側基板1a上にTFT素子311と、画素電極312とが交互に形成されている。画素電極312に対応する下側基板1bの領域にR、G、Bのカラーフィルタ層4R、4G、4Bが形成され、TFT素子311に対応する領域には遮光層4BKが形成される。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第1実施形態は、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4及び絶縁層24を形成し、絶縁層24の上面と、凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第2実施形態では、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4のみを形成し、着色層4の上面と凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第1実施形態は、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4及び絶縁層24を形成し、絶縁層24の上面と、凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第2実施形態では、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4のみを形成し、着色層4の上面と凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。
図8に第2実施形態によるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネル400の断面図を示す。なお、この断面図は図1に示すA−A’断面に対応する。第1実施形態と同一の構成部分については説明を省略する。
図8に示すように、下側基板1bには凹部25が形成されており、その凹部25内に着色層4が形成されている。ここで、着色層4の上面61は、凹部25以外の領域における下側基板1bの上面62と一致している、即ち同一平面上にある。絶縁層24は下側基板1b及び着色層4を覆うように形成される。また、絶縁層24上には第1実施形態と同様に、透明電極6及び配向膜8が形成される。
このように、着色層4を凹部25内に形成し、その上面61を下側基板1bの上面と一致させることによっても、下側基板1bの上面を平坦化することができる。一般的に、着色層4は絶縁層24や他の各種の保護層などと比較して凹凸が生じやすいので、着色層4のみを下側基板1bに設けた凹部25内に収容することとしても、下側基板1bを平坦化する効果は得られる。
第2実施形態による液晶表示パネル400の製造方法は、第1実施形態による液晶表示パネル100と基本的に同様である。但し、下側基板1bに形成する凹部25の深さは、着色層4の深さと一致させる。
また、第2実施形態も第1実施形態と同様に、TFD素子やTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルに適用可能である。
[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態について説明する。第1実施形態は、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4及び絶縁層24を形成し、絶縁層24の上面と凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第3実施形態では、下側基板1bに凹部25を形成する代わりに、下側基板1b上にまず樹脂層を形成し、その樹脂層に凹部を形成することとした。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。第1実施形態は、下側基板1bに形成した凹部25内に着色層4及び絶縁層24を形成し、絶縁層24の上面と凹部以外の領域における下側基板1bの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第3実施形態では、下側基板1bに凹部25を形成する代わりに、下側基板1b上にまず樹脂層を形成し、その樹脂層に凹部を形成することとした。
図9に第3実施形態によるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネル500の断面図を示す。なお、この断面図は図1に示すA−A’断面に対応する。第1実施形態と同一の構成部分については説明を省略する。
図8に示すように、下側基板1b上には樹脂層47が形成されており、樹脂層47に凹部25aが形成されている。凹部25a内には、着色層4及び絶縁層24が形成されている。ここで、絶縁層24の上面71は、凹部25a以外の領域における樹脂層47の上面72と一致している、即ち同一平面上にある。絶縁層24上には第1実施形態と同様に、透明電極6及び配向膜8が形成される。
このように、絶縁層24の上面71と、凹部25a以外の領域における樹脂層47の上面72とを一致させているので、第1実施形態と同様に、セルギャップの均一化が容易となる。また、ガラス基板である下側基板1bに凹部を形成する代わりに、樹脂層47を形成してそこに凹部を形成することにより、ガラスエッチングなどの処理を行う必要がなくなるので、製造工程を簡略化することができる。
第3実施形態による液晶表示パネル500の製造方法は、下側基板1bにガラスエッチングにより凹部を構成する工程の代わりに、下側基板1b上に樹脂層47を形成し、次にその樹脂層47に対して第1実施形態と同様に凹部25aを形成するようにすればよい。それ以外の、着色層4、絶縁層24その他の各層の形成方法などは第1実施形態と同様である。また、樹脂層47に形成する凹部25aの深さは、着色層4と絶縁層24の厚さの和と一致させる。
第3実施形態による液晶表示パネル500の製造方法は、下側基板1bにガラスエッチングにより凹部を構成する工程の代わりに、下側基板1b上に樹脂層47を形成し、次にその樹脂層47に対して第1実施形態と同様に凹部25aを形成するようにすればよい。それ以外の、着色層4、絶縁層24その他の各層の形成方法などは第1実施形態と同様である。また、樹脂層47に形成する凹部25aの深さは、着色層4と絶縁層24の厚さの和と一致させる。
また、第3実施形態も第1実施形態と同様に、TFD素子やTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルに適用可能である。
[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100乃至500を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
次に、本発明による液晶表示装置100乃至500を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
図10は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル100乃至500と、これを制御する制御手段410を有する。ここでは、液晶表示パネル100乃至500を、パネル構造体401と、半導体ICなどで構成される駆動回路402とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。
表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。
表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路400Bへ供給する。駆動回路400Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図11を参照して説明する。
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図11(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図11(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部724を備える。
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図11(a)に示したパーソナルコンピュータや図11(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
なお、本発明の電気光学装置は、上述のTFD素子やTFT素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示パネルのみならず、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけも同様に適用することが可能である。
また、本発明は、液晶表示装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
1a 上側基板、 1b 下側基板、 2 シール材、 4 着色層、 5 液晶層、
6,7 透明基板、 8、9 配向膜、 11、12 偏光板、 24 絶縁層、
25 凹部
6,7 透明基板、 8、9 配向膜、 11、12 偏光板、 24 絶縁層、
25 凹部
Claims (10)
- 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。 - 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、
前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。 - 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された樹脂層と、前記樹脂層に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の上面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。 - 前記着色層は、3色のカラーフィルタ層と、前記電気光学装置の表示領域の外周を規定する遮光層とを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
- 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、
前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、を有し、
前記着色層は、当該着色層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、
前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、
前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とするカラーフィルタ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003335529A JP2005099614A (ja) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | 電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法 |
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JP2005099614A true JP2005099614A (ja) | 2005-04-14 |
Family
ID=34462884
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JP (1) | JP2005099614A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN101666936A (zh) * | 2008-09-01 | 2010-03-10 | 精工爱普生株式会社 | 电光装置、滤色器基板及电子设备 |
US9671640B2 (en) | 2013-07-24 | 2017-06-06 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, electro-optical device, and projection-type display device |
-
2003
- 2003-09-26 JP JP2003335529A patent/JP2005099614A/ja not_active Withdrawn
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US8189142B2 (en) | 2008-09-01 | 2012-05-29 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, color filter substrate and electronic apparatus |
KR101577073B1 (ko) | 2008-09-01 | 2015-12-11 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학 장치 및 컬러 필터 기판과 전자 기기 |
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