JP2015025905A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】狭額縁構造の液晶表示装置において、対向基板のシール部に形成した壁状配向膜ストッパによってシール材の移動が妨げられないようにして、シール材を均一に形成し、シール部の信頼性を向上させる。
【解決手段】ＴＦＴとこれを覆う有機パッシベーション膜が形成され、配向膜を有するＴＦＴ基板１０と、カラーフィルタ２２と柱状スペーサ２４を有し、配向膜１９を有する対向基板２０がシール部においてシール材３０を介して接着し、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に液晶５０が挟持されている。対向基板２０のシール部には、対向基板２０の辺と平行方向に壁状構造２６が形成され、ＴＦＴ基板１０の壁状構造２６に対応する位置には、有機パッシベーション膜１６の凹部１６１が前記ＴＦＴ基板１０の辺と平行方向に形成されている。これによって壁状構造２４とＴＦＴ基板１０との間隔を大きくし、硬化前のシール材３０の移動を容易にすることにより、シール材３０を均一に形成する。
【選択図】図２

Description

本発明は表示装置に係り、狭額縁としても、基板周辺におけるギャップむらを防止し、かつ、シール部の信頼性を確保出来る液晶表示装置に関する。

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。

液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やＤＳＣ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｔｉｌｌ Ｃａｍｅｒａ）等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。本明細書では、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶を挟持し、ＴＦＴ基板の下に下偏光板を貼り付け、対向基板の上に上偏光板を貼り付けたものを液晶表示パネルと称する。そして、液晶表示装置は、液晶表示パネル、バックライト等を含んだものを言う。

小型の液晶表示パネルでは、外形を小さく保ったまま、表示領域を大きくしたいという要求が強い。そうすると、表示領域の端部から液晶表示パネルの端部までの幅が小さくなり、いわゆる、狭額縁とする必要がある。

額縁領域には、ＴＦＴ基板と対向基板を接着するシール材が形成されている。また、液晶表示装置の表示領域には、液晶を初期配向させるための配向膜が形成されている。配向膜は、表示領域を確実に覆う必要があるので、配向膜の塗布面積は、表示領域よりも所定の幅大きくしなければならい。しかし、配向膜とシール材との接着強度は小さいので、配向膜をＴＦＴ基板あるいは配向基板の全面に形成すると、シール部の信頼性が低下する。

したがって、狭額縁の場合、配向膜がシール材と重ならないよう、あるいは、重なっても、接着強度に大きな問題が生じないように、重なる範囲を制限する必要がある。「特許文献１」には、シール材を形成する部分のＴＦＴ基板あるいは対向基板に配向膜と親和性の低い材料を形成し、配向膜をＴＦＴ基板あるいは対向基板の全面に形成してもシール材と配向膜の接触が無いようにしている構成が記載されている。「特許文献２」には、表示領域に形成する第１の配向膜の外形を規定するために、乾燥の速い他の材料によって形成する第２の配向膜を第１の配向膜よりも先に枠状に形成する構成が記載されている。

ところで、配向膜の配向処理は、ラビングと光配向とがある。「特許文献３」には、光配向を用いることによって、（１）画素部の複雑な段差構造に起因する配向乱れを低減し、（２）ラビング時に発生する静電気やラビング布の毛先の乱れやラビングによって発生する異物等の影響を防止することが記載されている。

特開２００７−３０４４５２号公報 特開２０１１−１４５５３５号公報 特開２００４−２０６０９１号公報

「特許文献１」に記載のような、ＴＦＴ基板あるいは対向基板のシール部に形成する配向膜材料と親和性の低い材料の例としては、ＴＦＴ基板側では、有機パッシベーション膜、対向基板側では、オーバーコート膜等が使用されるが、これらの材料は、配向膜材料を完全にはじくことは困難である場合がある。「特許文献２」に記載の方法では、第１の配向膜と第２の配向膜を別々に形成する必要があり、製造コストの点で問題が生ずる場合がある。

配向膜の外形を規定する別な方法として、対向基板において、オーバーコート膜に段差を形成することによって、配向膜の外形を規定する方法がある。しかし、オーバーコート膜の厚さは１μｍ程度であり、オーバーコート膜だけでは十分な段差を形成することが出来ないので、オーバーコート膜の下側にカラーフィルタを形成し、カラーフィルタの厚さによって段差を形成することが行われる。

しかし、このような方法によって形成される段差は配向膜のストッパとしては十分でない場合がある。ところで、ＴＦＴ基板と対向基板との間隔は、例えば、対向基板に形成された柱状スペーサを用いて規定される。この柱状スペーサを形成する際、対向基板のシール部に柱状スペーサと同じ材料により、壁状の配向膜ストッパを形成することによって、配向膜の外形を制御することが出来る。

額縁領域が小さくなるにしたがって、配向膜をシール材から完全に分離することは難しい状況になっている。そこで、シール材の接着強度が実質的に低下しない範囲にまで、配向膜の一部をシール材とオーバーラップさせて額縁領域を縮小することが行われている。この場合、壁状配向膜ストッパはシール部分に形成されることになる。

シール材は、硬化前は粘性体であり、ＴＦＴ基板と対向基板を柱状スペーサによって規定される間隔となるように接着した場合に、幅が所定の範囲に広がる。このとき、壁状配向膜ストッパが存在すると、これがシール材が広がることを妨げることになって、シール部のギャップが不均一になったり、シール部の信頼性が低下したりする。

本発明の課題は、対向基板側において、柱状スペーサと同時に形成された壁状の配向膜ストッパを使用する場合、シール材が配向膜ストッパによって広がりを妨げられないようにする構成と同時に、ＴＦＴ基板側において、配向膜のストッパを形成する構成を実現することである。

本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。

（１）ＴＦＴとこれを覆う有機パッシベーション膜が形成され、第１の配向膜を有するＴＦＴ基板と、カラーフィルタと柱状スペーサを有し、第２の配向膜を有する対向基板がシール部においてシール材を介して接着し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜の凹部が前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

（２）前記シール材の一部は前記第１の配向膜または前記第２の配向膜とオーバーラップしていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。

（３）ＴＦＴとこれを覆う有機パッシベーション膜が形成され、第１の配向膜を有するＴＦＴ基板と、カラーフィルタと柱状スペーサを有し、第２の配向膜を有する対向基板がシール部においてシール材を介して接着し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜の除去部が前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

（４）前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に他の壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記他の壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜に凹部が前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に形成されていることを特徴とする（３）に記載の液晶表示装置。

（５）前記シール材の一部は前記第１の配向膜または前記第２の配向膜とオーバーラップしていることを特徴とする（４）に記載の液晶表示装置。

本発明によれば、シール材の一部と配向膜とがオーバーラップする構成において、液晶表示パネルの対向基板側において、柱状スペーサと同時に形成する壁状配向膜ストッパを使用して配向膜の外形を規定することが出来る。このとき、ＴＦＴ基板と対向基板を接着する際のシール材の広がりが壁状配向膜ストッパによって妨げられることを防止し、シール材を均一に形成することが出来る。

同時に、ＴＦＴ基板側において、対向基板側に形成された壁状配向膜ストッパに対応する位置に凹部を形成することによって、この凹部をＴＦＴ基板側における配向膜ストッパとして使用することが出来る。これによって、シール部において、ギャップ変動の少ない、かつ、シール部の信頼性が高い液晶表示装置を実現することが出来る。

本発明の液晶表示装置の平面図である。 実施例１における図１のＡ−Ａ断面図である。 図１のＡ−Ａ断面に対応する部分の対向基板の平面図である。 本発明による液晶表示パネルの断面図の例である。 実施例２における図１のＡ−Ａ断面図である。

以下に実施例を用いて、本発明の内容を詳細に説明する。

図１は本発明が適用される液晶表示パネルの平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０が図示しないシール材３０によって接着し、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０の間に液晶層が挟持されている。ＴＦＴ基板１０は対向基板２０よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１０が１枚となっている部分は端子部１１０となっている。端子部１１０には、液晶表示パネルを駆動するＩＣドライバ１２０、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための図示しない端子等が形成されている。

図１において、表示領域１００の周囲で対向基板２０とＴＦＴ基板１０の端部にシール材３０が形成されている。表示領域１００端部と対向基板２０の端部までの距離ｆｗ、いわゆる額縁は１．５ｍｍ以下である。図１では、シール材３０の幅は誇張されて記載されているが、幅は０．６ｍｍ程度である。額縁ｆｗの幅を小さくするために、配向膜１９とシール材３０とはオーバーラップしており、このオーバーラップ量は０．０７ｍｍ程度である。

図２は、図１のＡ−Ａ断面図に相当するシール部の詳細断面図である。図３は、図２に示すＡ−Ａ断面付近における対向基板２０側の平面図である。図２において、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０がシール材３０を介して接着している。対向基板２０にはブラックマトリクス２１が形成されている。ブラックマトリクス２１には周辺付近において、ブラックマトリクス除去部２１１が存在している。ブラックマトリクス２１を介して、外部から水分等が浸入するが、この水分等の浸入をブラックマトリクス除去部２１１において遮断している。

ブラックマトリクス２１の上に紙面垂直方向に延在するカラーフィルタ２２がストライプ状に形成されている。図３にストライプ状に延在するカラーフィルタ２２が記載されている。カラーフィルタ２２は４本ストライプ状に形成されているが、最外周のカラーフィルタ２２１の幅ｗｆ１が最も幅が広く、１２０μｍであり、他のカラーフィルタ２２の幅ｗｆ２は、５０μｍである。カラーフィルタ２２は例えば、青カラーフィルタが使用される。なお、図２、図３では、表示領域１００におけるカラーフィルタは省略されている。図３におけるｆｗは、表示領域１００端部から対向基板２０端部までの額縁領域の幅を示している。

図２において、カラーフィルタ２２を覆って、オーバーコート膜２３が形成されている。オーバーコート膜２３の厚さは１μｍ程度である。一方、カラーフィルタ２２は厚さが２μｍ程度なので、カラーフィルタ２２によって、オーバーコート膜２３には凹凸が形成されている。カラーフィルタ２２が形成されている部分に対応して、周辺においてＴＦＴ基板１０と対向基板２０の間隔を規定するための柱状スペーサ２４が形成されている。柱状スペーサ２４は断面が略円形であり、根本においてφ１０μｍ程度である。

外周スペーサ２５は柱状ではなく、図３に示すように、紙面垂直方向にストライプ状に、対向基板２０の４辺の端部に沿って形成されている。外周スペーサ２５の幅ｗｐは１００μｍであり、柱状スペーサ２４の径φｃ１０μｍと比較して大きい。このように、外周スペーサ２５の幅ｗｐが柱状スペーサ２４の径に比較して大きいために、外周スペーサ２５の高さは柱状スペーサ２４の高さよりも大きくなる傾向にある。また、外周スペーサ２５は最外周のカラーフィルタ２２１の上に形成されたオーバーコート膜２３の上に形成されている。最外周のカラーフィルタ２２１は、幅が広いので、その上に形成されるオーバーコート膜２３の膜厚は、他のカラーフィルタ２２の上に形成されるオーバーコート膜２３に比較して膜厚が大きくなっている。

その結果、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隔は、図４に示すように、周辺において若干大きくなり、液晶表示パネルは全体として、内側に凸形状となる。つまり、図４において、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隔は、中央の間隔ｇｃよりも周辺における間隔ｇｐのほうが大きい。このように、内側に凸形状であると、液晶表示パネルに外部から応力が加わった場合、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０の間隔の変動を小さくすることが出来る。

図２に戻り、オーバーコート膜２３の上で、カラーフィルタ２２が存在しない部分には、対向基板の辺と平行方向に壁状構造を持つ、壁状配向膜ストッパ２４が形成されている。配向膜ストッパ２４は、紙面垂直方向に壁状に形成されており、対向基板２０の端部付近において、表示領域１００を囲むように形成されている。この様子を図３に示す。図２、図３においては、対向基板２０側の配向膜１９の外形はオーバーコート膜２３に形成された凸部によって規定されているが、配向膜材料が凸部を超えて外側に流出した場合、壁状配向膜ストッパ２６によって、配向膜材料をせきとめ、配向膜１９の外形を規定する。

図２、図３に示すように、この壁状配向膜ストッパ２６は内側と外側の２個形成されている。配向膜材料が内側の配向膜ストッパ２６を越えて外側に流出した場合、外側の配向膜ストッパ２６によって、配向膜材料をせきとめ、配向膜１９の外形を規定する。配向膜ストッパ２６は、柱状スペーサ２４と同じ材料で形成されているが、高さは、柱状スペーサ２４よりも低い。柱状スペーサ２４の高さは例えば、３μｍ程度であるが、配向膜ストッパ２６の高さは例えば、２．６μｍ程度である。柱状スペーサ２４も壁状配向膜ストッパ２６も同時に形成されるが、ハーフ露光方法を用いて、配向膜ストッパ２６の高さを低くしている。

配向膜ストッパ２６が高すぎると、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０をシール材３０を介して所定の間隔を持って貼りあわせた際、粘性体である硬化前のシール材３０が壁状配向膜ストッパ２６によって流動を妨げられ、シール材が均一に広がらない。一方、柱状スペーサ２４は、図３に示すように、柱状であるから、シール材３０の移動が妨げられることはない。図２および図３において、シール材３０が柱状スペーサ２４を迂回して、一部が配向膜１９とオーバーラップいていることを示している。

図２において、ガラスで形成したＴＦＴ基板１０にはアンダーコート膜１１が形成されている。アンダーコート膜１１は、図示しないＴＦＴにおける半導体層にガラス基板からの不純物が侵入することを防止する。アンダーコート膜１１の上に遮光膜１２が形成されている。遮光膜１２は、対向基板２０のブラックマトリクス除去部２１１に対応した部分に形成されている。バックライトからの光がブラックマトリクス除去部２１１から液晶表示パネルの表面に出射してコントラストを低下することを防止するためである。遮光膜１２は、表示領域１００に形成された図示しない走査線と同じ材料で同時に形成される。

遮光膜１２およびアンダーコート膜１１の上にゲート絶縁膜１３が形成されている。ゲート絶縁膜１３の上に、液晶表示パネルの表示領域に信号を与えるための配線１４およびコモン電圧を与えるためのコモン配線１５が形成されている。ゲート絶縁膜１３および配線１４の上に有機パッシベーション膜１６が形成されている。有機パッシベーション膜１６は図示しないＴＦＴや配線を保護する他に、平坦化膜としての役割も有しているので、２乃至３μｍというように厚く形成される。

図２は、いわゆるＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の構造の例に即して記載している。液晶表示装置はいわゆる視野角が問題であるが、ＩＰＳ方式は、液晶分子を基板と平行方向に回転させることによって、液晶層を透過する光の量を制御するので、視野角に対して優れた特性を持っている。

ＩＰＳ方式では、有機パッシベーション膜１６の上に平面ベタで第１の電極を形成し、層間絶縁膜である無機絶縁膜１７を介して、櫛歯状またはスリットを有する第２の電極を形成し、第１の電極と第２の電極に電圧を印加した場合において、第１の電極と第２の電極の間に形成される横電界によって、液晶分子を回転させることによって、画素を通過する光を制御するものである。第１の電極がコモン電極であれば第２の電極が画素電極であり、第１の電極が画素電極であれば、第２の電極はコモン電極である。

図２における無機絶縁膜１７はこの層間絶縁膜である。無機パッシベーション膜の厚さは１４０ｎｍ乃至２００ｎｍ程度であり、有機パッシベーション膜の厚さに比較してはるかに小さい。対向基板２０に形成された柱状スペーサ２４は、有機パッシベーション膜１６の上に形成された無機絶縁膜１７と当接することによって、対向基板２０とＴＦＴ基板１０との間隔を規定する。なお、周辺においては、壁状の周辺スペーサ２５と、有機パッシベーション膜１６の上に形成された無機絶縁膜１７とが接触することによって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隔を規定している。

ＴＦＴ基板１０側における配向膜１９の外形規定は、有機パッシベーション膜１６に形成された凹部および有機パッシベーション膜１６の除去部によって行われる。有機パッシベーション膜１６の凹部１６１および除去部１６２はＴＦＴ基板１０の辺と平行方向に溝状に形成される。すなわち、有機パッシベーション膜１６の凹部１６１及び除去部１６２の内側に形成された壁が配向膜ストッパの役割を有する。図２において、有機パッシベーション膜１６における凹部１６１は２箇所形成され、除去部１６２は凹部１６１の外側に１箇所形成されている。有機パッシベーション膜１６は、厚さが２乃至３μｍ程度と厚いので、凹部１６１を１乃至１．５μｍ程度の深さに形成することが出来、配向膜ストッパとし利用することが出来る。すなわち、ＴＦＴ基板１０側では、配向膜ストッパは３段形成されていることになる。最初の凹部１６１によって、配向膜の外形を制御できない場合は、第２の凹部１６１、さらには、有機パッシベーション膜除去部１６２によって、配向膜１９の外形を制御することが出来る。

無機絶縁膜１７の上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による透明電極１８が紙面垂直方向に延在するように形成されている。これは、表示領域における櫛歯状、あるいはスリットを有する第２の電極を形成するときに同時に形成される。ＩＴＯ１８は無機絶縁膜１７に比べて配向膜１９との親和性が小さいので、有機パッシベーション膜１６に凹部１６１を形成した結果生じた凸部を配向膜材料が乗り越えにくくすることが出来る。ＩＴＯ１８の膜厚は４０ｎｍ乃至５０ｎｍ程度である。

有機パッシベーション膜１６の凹部１６１および除去部１６２は対向基板２０に形成された柱状スペーサ２４を避けて形成されている。内側から２番目の凹部１６１と有機パッシベーション膜１６の除去部１６２は、対向基板２０に形成された壁状配向膜ストッパ２６と対応する部分に形成されている。有機パッシベーション膜１６を通して外部から水分等が侵入するので、図２に示すように、有機パッシベーション膜１６に除去部１６２を形成することにより、この除去部１６２において、水分等を遮断し、水分等が液晶表示パネルの表示領域１００にまで侵入することを防止している。

本発明においては、有機パッシベーション膜１６に形成された凹部１６１および除去部１６２は、ＴＦＴ基板１０において、配向膜１９の外形を規定する以外にも重要な役割を有している。すなわち、図２に示すように、仮に、有機パッシベーション膜１６の凹部１６１および除去部１６２が存在しない場合、対向基板２０に形成された壁状配向膜ストッパ２６と有機パッシベーション膜１６の上に形成された無機絶縁膜１７との距離はｇ２であり、間隔が小さい。そうすると、硬化前の粘性体であるシール材３０の広がりが対向基板２０に形成された壁状配向膜ストッパ２６によって妨げられてしまう。これによって、シール材３０が不均一に存在することになり、シール部におけるＴＦＴ基板１０と対向基板２０の間隔のばらつきが生ずる。

本発明では、対向基板２０に形成された壁状配向膜ストッパ２６に対応する部分のＴＦＴ基板１０側の有機パッシベーション膜１６に凹部１６１あるいは除去部１６２が形成されているので、壁状配向膜ストッパ２６と凹部１６１の底部との距離は、各々ｇ２あるいはｇ３に広がっている。したがって、硬化前の粘性体であるシール材３０は壁状配向膜ストッパ２６とＴＦＴ基板１０側との間を通り抜けて広がることが出来る。これによって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０をシール材３０を介して貼りあわせるときに、シール材３０を均一に形成することが出来る。

さらに図２に示す構成では、壁状配向膜ストッパ２６は、対向基板２０において、ストライプ状カラーフィルタ２２のない部分に形成されているので、ＴＦＴ基板１０との間にさらに大きいギャップを形成することが出来る。図２に示す本発明の構成によれば、壁状配向膜ストッパ２６の先端とＴＦＴ基板１０との間は、２μｍ乃至２．５μｍのギャップを形成することが出来るので、粘性体である硬化前のシール材３０は、壁状配向膜ストッパ２６とＴＦＴ基板１０の間を容易に移動することが出来る。有機パッシベーション膜除去部１６２における壁状配向膜ストッパ２６とＴＦＴ基板１０の間隔は、凹部１６２におけるよりもさらに大きくすることが出来る。有機パッシベーション膜１６の凹部１６１が形成された部分あるいは、有機パッシベーション膜１６の除去部１６２における、壁状配向膜ストッパ２６の先端とＴＦＴ基板１０の間隔は２μｍ以上とすることが望ましい。

図２において、有機パッシベーション膜１６の凹部１６１または除去部１６２の幅ｗ１は例えば１２０μｍ、有機パッシベーション膜１６に凹部１６１および凸部１６２を形成した結果生ずる有機パッシベーション膜の凸部の幅ｗ２は例えば５０μｍである。

図２において、シール材３０は、柱状スペーサ２４を迂回して、配向膜１９と一部オーバーラップする位置まで形成されている。シール材３０の内側には液晶が充填されている。シール材３０の内側から所定の距離離れた位置が表示領域１００となっている。

図５は、本発明の第２の実施例を示すシール部の断面図である。図２は図１のＡ−Ａ断面に相当するものである。図５が実施例１の図２異なるところは、ＴＦＴ基板１０における有機パッシベーション膜１６に形成された凹部１６１および除去部１６２である。図５では、凹部１６１が３か所形成され、その外側に除去部１６２が形成されている。すなわち、図５においては、配向膜をせき止める箇所は、断面で見て４箇所形成されている。ただし、シール材３０の接着強度を考慮すると、配向膜材料は、できるだけ内側の凹部１６１において、せき止められることが望ましい。

図５において、対向基板２０に形成された壁状配向膜ストッパ２６は、ＴＦＴ基板１０の有機パッシベーション膜１６の凹部１６１に対応した部分に形成されている。実施例１では、１個の壁状配向膜ストッパ２６は有機パッシベーション膜１６の凹部１６１に対応した部分に形成され、他１個の壁状配向膜ストッパ２６は有機パッシベーション膜１６の除去部１６２に形成されているが、図５に示す本実施例では、２個の壁状配向膜ストッパ２６とも、ＴＦＴ基板１０側の有機パッシベーション膜１６の凹部１６１に対応した部分に形成されている。効果はほぼ同様である。

図５において、有機パッシベーション膜除去部１６２に対応する部分の対向基板２０側には壁状配向膜ストッパ２６は形成されていないので、除去部の幅ｗ３は凹部の幅ｗ１と同じである必要ななく、ｗ１よりも小さくてもよい。すなわち、有機パッシベーション膜１６を通して侵入してくる外部からの水分等を遮断する幅があればよい。

また、対向基板２０側において、配向膜１９はカラーフィルタライン２２によって形成されたオーバーコート膜２３の凸部で外形が規定されているが、配向膜１９がこの凸部を乗り越えてははみ出した場合に、壁状配向膜ストッパ２６によって、配向膜材料をせき止めることも実施例１と同様である。

実施例１および実施例２では、壁状配向膜ストッパ２６は対向基板２０に断面で見て２個形成されているが、１個でも、３個以上とすることもできる。壁状配向膜ストッパ２６の数は、額縁領域の幅をどの程度まで小さくするかによって決めることが出来る。

図２、図５等は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置を例にとって説明したが、本発明は、ＩＰＳ方式に限らず、他の方式の液晶表示装置においても適用することが出来る。なお、ＩＰＳ方式においては、いわゆる光配向膜を用いる場合がある。ＩＰＳ方式の液晶表示装置は、いわゆるプレティルト角を必要としないので、光配向に適している。

光配向は、例えば、３００ｎｍ以下の偏光紫外線を照射して、ポリイミド等で形成される配向膜の所定の方向の主鎖を断ち切ることにより配向膜に一軸異方性を与えるものである。このように、光配向では、配向膜が紫外線によって表面が弱くなるので、配向膜のシール材との接着強度はラビング配向の場合に比較して小さくなる。したがって、本発明は、光配向を行った配向膜を有する液晶表示装置において、特に効果がある。

１０…ＴＦＴ基板、 １１…アンダーコート膜、 １２…遮光膜、 １３…ゲート絶縁膜、 １４…配線、 １５…コモン絶縁膜、 １６…有機パッシベーション膜、 １７…無機絶縁膜、 １８…ＩＴＯ、 ２０…対向基板、 ２１…ブラックマトリクス、 ２２…カラーフィルタライン、 ２３…オーバーコート膜、 ２４…柱状スペーサ、 ２５…外周スペーサ、 ２６…壁状配向膜ストッパ、 ３０…シール材、 ５０…液晶、 １００…表示領域、 １１０…端子部、 １２０…ＩＣドライバ、 １６１…有機パッシベーション膜凹部、 １６２…有機パッシベーション膜除去部、 ２１１…ブラックマトリクス除去部、 ２２１…外周カラーフィルタライン

Claims (12)

1. ＴＦＴとこれを覆う有機パッシベーション膜が形成され、第１の配向膜を有するＴＦＴ基板と、カラーフィルタと柱状スペーサを有し、第２の配向膜を有する対向基板がシール部においてシール材を介して接着し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
   前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜の凹部が前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記シール材の一部は前記第１の配向膜または前記第２の配向膜とオーバーラップしていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記壁状構造の高さは、前記柱状スペーサの高さよりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 前記対向基板の前記シール部には、ストライプ状カラーフィルタが形成され、前記ストライプ状カラーフィルタの上には、オーバーコート膜が形成され、前記柱状スペーサは、前記オーバーコート膜を挟んでストライプ状カラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 前記壁状構造は、前記ストライプ状カラーフィルタが存在しない部分に形成されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 前記壁状構造は複数形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 前記壁状構造の先端と前記有機パッシベーション膜の凹部が形成された部分におけるＴＦＴ基板との距離は２μｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
8. ＴＦＴとこれを覆う有機パッシベーション膜が形成され、第１の配向膜を有するＴＦＴ基板と、カラーフィルタと柱状スペーサを有し、第２の配向膜を有する対向基板がシール部においてシール材を介して接着し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
   前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜の除去部が前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
9. 前記対向基板のシール部には、前記対向基板の辺と平行方向に他の壁状構造が形成され、前記ＴＦＴ基板の前記他の壁状構造に対応する位置には、前記有機パッシベーション膜に前記ＴＦＴ基板の辺と平行方向に凹部が形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 前記シール材の一部は前記第１の配向膜または前記第２の配向膜とオーバーラップしていることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
11. 前記液晶表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は光配向処理されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。

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