JP2015040879A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置において、額縁部220には、TFT基板とCF基板により狭持され、シール400で封止された液晶300が配置され、CF基板はBM102と色レジスト膜107とOC膜103と配向膜104と配向膜が外側に拡がるのを抑制するための壁106とを有し、壁106が配置されている領域において、CF基板上のBM102と色レジスト膜107が除去されている。
【選択図】図5A
【解決手段】液晶表示装置において、額縁部220には、TFT基板とCF基板により狭持され、シール400で封止された液晶300が配置され、CF基板はBM102と色レジスト膜107とOC膜103と配向膜104と配向膜が外側に拡がるのを抑制するための壁106とを有し、壁106が配置されている領域において、CF基板上のBM102と色レジスト膜107が除去されている。
【選択図】図5A
Description
本発明は、狭額縁の液晶表示装置に関する。
液晶表示装置では、画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等を有する画素がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、TFT基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板(CF基板)が配置され、基板周辺には液晶組成物を封止するシール材が設けられている。また、表示領域に対して周辺部(額縁)を小さくする、所謂狭額縁化の要求により配向膜とシール材とが近接して設けられている。シール材の形成領域にまで配向膜が形成された液晶表示装置は、例えば特許文献1に開示されている。
発明者等は、表示領域に対する周辺部(額縁)において、配向膜が所定の位置より外側に出ないよう抑制するための壁を設けた液晶表示装置について試作し、検討を行った。なお、額縁に配置される前記壁は、TFT基板とCF基板との間の距離を調整するための柱状スペーサ(有効表示領域に配置)を形成する際に合わせて形成した。額縁が広い場合には、特に液晶表示装置の特性に異常は認められなかったが、狭額縁の液晶表示装置では周辺表示領域で色ムラの発生が見られた。
本発明の目的は、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することにある。
上記目的を達成するための一実施形態として、有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、ブラックマトリクス(BM)、カラーフィルタ(色レジスト膜)、オーバーコート(OC)膜が順次積層された積層膜と、前記OC膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がることを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第2の基板上の前記BM、前記色レジスト膜、前記OC膜の少なくとも1層が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置とする。
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、ブラックマトリクス(BM)、カラーフィルタ(色レジスト膜)、オーバーコート(OC)膜が順次積層された積層膜と、前記OC膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がることを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第2の基板上の前記BM、前記色レジスト膜、前記OC膜の少なくとも1層が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置とする。
本発明によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。
発明者等は、狭額縁の液晶表示装置で発生した周辺表示領域での色ムラの原因を調べた。図1に発明者等が検討した液晶表示装置100の概略平面図を示す。中央部に有効表示領域210が配置されており、その周辺が、配向膜を堰き止めるための壁106及びシール400が形成された額縁220となっている。符号230は端子部を示す。この図のA−A’ライン(額縁部)での概略断面図を図2に示す。TFT基板とCF基板(対向基板)とが張り合わさった構成を有しており、TFT基板はガラス基板201と有機絶縁膜や無機絶縁膜、金属配線、半導体層等からなる積層膜(TFT膜)202を有し、CF基板はガラス基板101とブラックマトリクス(BM)102、オーバーコート(OC)膜103、配向膜を堰き止めるための壁106、配向膜104とを有する。TFT基板とCF基板との間には液晶300と液晶を封止するためのシール400が設けられている。図2中の破線は、狭額縁の場合のシールの先端(有効表示領域側の端部)を模式的に示す。また、記号a0は、壁106とTFT基板との間の間隔を示す。図1のA−A’ライン(額縁部)付近での平面図を図3と図4に示す。符号210は有効表示領域、符号221は広額縁、符号222は狭額縁である。図3は額縁が広い場合であり、配向膜104は矢印105の方向に拡がり、壁106で停止する。シール400は、TFT基板とCF基板とで挟まれることにより矢印401の方向に拡がり、壁106の手前で停止する。一方、図4は狭額縁の場合であり、配向膜104は矢印105の方向に拡がり、壁106で停止するが、シール400は壁106を越えて壁の反対側の領域にまで浸入する(破線部)ことが困難となる。つまり、シール400は壁106により堰止められ、十分に拡がる(潰れる)ことができず、特にシール形成領域においてTFT基板とCF基板との間のギャップが広がり所定値より大となってしまうこと、これにより色シフトが生じてしまうことが分かった。本発明はこの知見により生まれたものであり、配向膜は堰き止めつつ、壁106とTFT基板との間の間隔(図2に示すa0)を広げ、シールの通り道を確保するものである。
以下、本発明について実施例を用いて説明する。なお、図中において同一符号は同一構成要素を示す。
以下、本発明について実施例を用いて説明する。なお、図中において同一符号は同一構成要素を示す。
本発明の第1の実施例について図5A、図5B、図11A〜図11Tを用いて説明する。図5Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図5Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a1を、図2で示したa0よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上のブラックマトリクス(BM)102と色レジスト膜(カラーフィルタ)107を除去する構成とした。これにより、距離a1はBM102と色レジスト膜107の合計の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、BM102及び色レジスト膜107は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこれらの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。但し、本実施例ではBM102を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、TFT基板側に遮光メタル膜203を設置すればよい。他の実施例でも同様であるが、BMと色レジスト膜等のCF基板側の膜を壁の部分で除去する場合、完全に除去することなく、膜厚を薄くすることでもある程度の効果を得ることができる。更に、BMと色レジスト膜等のCF基板側の膜を壁の部分で除去することにより、それら膜を介して外部から侵入する水分を防ぐことが可能となる。
次に、本実施例で示した液晶表示装置の製造方法について、図11A〜図11Tを用いて説明する。先ず、BMや色レジスト、壁等が形成されるガラス基板101を準備する(図11A)。なお、説明図において、中心から右側が有効表示領域を、左側が額縁を示す。次に、遮光のためのBMを塗布して1.5μmの厚さのBM膜102とする(図11B)。次いで、BM用のフォトマスク111aを用いて紫外線(UV)露光照射112を行う(図11C)。引き続き、余分なBMを除去し、所望のパターンを有するBM膜102を形成する(図11D)。この際、有効表示領域におけるBM除去だけでなく、額縁の壁形成領域におけるBMも除去される。この領域の幅は50μmとした。
次に、色レジスト(仮に、赤色R)を塗布して2μmの色レジスト膜107Rとする(図11E)。次いで、赤色レジスト用フォトマスク111bを用いてUV照射112を行う(図11F)。引き続き、余分な赤色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する赤色レジスト膜107Rを形成する(図11G)。
次に、緑色レジストを塗布して2μmの色レジスト膜107Gとする(図11H)。次いで、緑色レジスト用フォトマスク111cを用いてUV照射112を行う(図11I)。引き続き、余分な緑色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する緑色レジスト膜107Gを形成する(図11J)。
次に、青色レジストを塗布して2μmの色レジスト膜107Bとする(図11K)。次いで、青色レジスト用フォトマスク111dを用いてUV照射112を行う(図11L)。引き続き、余分な青色レジスト膜を除去し、所望のパターンを有する青色レジスト膜107Bを形成する(図11M)。この際、有効表示領域における青レジスト膜除去だけでなく、額縁の壁形成領域における青色レジスト膜も除去される。
次に、オーバーコート(OC)を塗布して2μmのOC膜103とする(図11N)。次いで、OC膜上にSOC(Space On Color filter)レジストを塗布して3μmのSOCレジスト膜とし、SOCレジスト膜用フォトマスク111eを用いてUV照射112を行う(図11O)。引き続き、余分なSOCレジスト膜を除去し、所望のパターンを有するSOCレジスト膜106を形成する(図11P)。この際、有効表示領域にはTFT基板とCF基板との間の距離を規定するための柱106が形成され、額縁においては配向膜の拡がりを抑制するための壁106が形成される。なお、本図では柱106が1本しか記載されていないが、実際には複数本の柱が形成される。
次に、配向膜を有効表示領域に塗布する。この配向膜の一部は有効表示領域から額縁まで拡がり、BM102と色レジスト膜107を除去することにより形成された凹部に浸入し、凹部に形成されたSOCレジスト膜の壁106で停止する(図11Q)。なお、配向膜の厚さは0.1μm程度である。次いで、液晶を封止するためのシール400を額縁の所定の箇所に塗布する(図11R)。引き続き、この基板(CF基板)と別途作製した10μmの積層膜202を有するTFT基板とを重ね合わせ(図11S)、貼り合わせることにより図5Aに示した液晶表示装置の構成が完成する(図11T)。BMや色レジスト膜が部分的に除去された壁形成領域の凹(溝)部は配向膜溜まりとして使用可能であり、配向膜の堰き止め効果が向上する。なお、図11S及び図11Tでは、図5Aと異なって基板の上下が反転しており、上側がTFT基板、下側がCF基板となっている。また、遮光メタル膜203は、BL102が除去された領域(幅50μm)を覆うように、幅70μmとした。また、TFT基板に設ける遮光メタル膜はゲート電極形成時に合わせて形成することができるため、工程数の増加はない。
上記製造方法により図1に示す液晶表示装置100を作製したところ、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないOC膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でSOCレジスト膜の壁を形成する部分におけるBLと色レジスト膜を除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁106と前記TFT基板との間の距離を広げることができる。尚、本実施例では、壁はSOCと同時に形成されているが、表示装置によっては高さが2種類のSOC(メインSOC、メインSOCよりも高さの低いサブSOC)を形成する場合がある。この場合、壁をサブSOCで形成した場合、シールが壁をより乗り越えやすくなる。
本発明の第2の実施例について、図6A及び図6Bを用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図6Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図6Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a2を、図2で示したa0よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上のブラックマトリクス(BM)102と色レジスト膜107、オーバーコート(OC)膜103を除去する構成とした。これにより、距離a2はBM102と色レジスト膜107、OC膜103の合計の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて実施例1で示した構成よりも拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。但し、本実施例ではBM102を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、TFT基板側に遮光メタル膜203を設置すればよい。
図11A〜図11Tに示す製造方法に倣い、図1に示す液晶表示装置100を作製した。なお、実施例1と製造方法の違いは、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域のOC膜を除去する工程が追加される点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域において、BMと色レジスト膜の他OC膜も除去することから、前記壁とTFT基板のTFT膜(絶縁膜)との間の距離を実施例1に示す構成よりも大きくすることができる。
本発明の第3の実施例について、図7A及び図7Bを用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図7Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図7Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a3を、図2で示したa0よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上の色レジスト膜107とオーバーコート(OC)膜103を除去する構成とした。これにより、距離a3は色レジスト膜107とOC膜103の合計の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、本実施例ではBM102を除去しないため、光抜けの懸念がなく光抜け対策は不要である。
図11A〜図11Tに示す製造方法に倣い、図1に示す液晶表示装置100を作製した。なお、実施例2との製造方法の違いは、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域のBMを除去する工程が不要な点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域において、BMを除去しないため、光抜け対策が不要である。
本発明の第4の実施例について、図8A及び図8Bを用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図8Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図8Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a4を、図2で示したa0よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上の色レジスト膜107を除去する構成とした。これにより、距離a4は色レジスト膜107の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、色レジスト膜107は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。また、本実施例ではBM102を除去しないため、光抜けの懸念がなく光抜け対策は不要である。
図11A〜図11Tに示す製造方法に倣い、図1に示す液晶表示装置100を作製した。なお、実施例1との製造方法の違いは、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域のBMを除去する工程が不要な点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないOC膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でSOCレジスト膜の壁を形成する部分における色レジスト膜を除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁106と前記TFT基板との間の距離を広げることができる。また、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域において、BMを除去しないため、光抜け対策が不要である。
本発明の第5の実施例について、図9A及び図9Bを用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図9Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図9Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。本実施例は額縁に色レジスト膜がない場合の例である。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a5を、図2で示したa0(図2において色レジスト膜がない場合を想定)よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上のブラックマトリクス(BM)102を除去する構成とした。これにより、距離a5はBM102の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。また、BM102は有効表示領域では加工されて用いられるため、額縁の壁部分におけるこの膜の除去は工程数を増やすことなく行うことができる。但し、本実施例ではBM102を除去するため、光抜けが懸念される。光抜けの影響がある場合の対策としては、例えば、TFT基板側に遮光メタル膜203を設置すればよい。
図11A〜図11Tに示す製造方法に倣い、図1に示す液晶表示装置100を作製した。なお、実施例1との製造方法の違いは、額縁に色レジスト膜を残さない点である。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、通常の製造工程では含まれないOC膜の除去は含まれておらず、通常の製造工程で含まれている加工工程でSOCレジスト膜の壁を形成する部分におけるBMを除去しており、製造工程を増加させることなく、前記壁106と前記TFT基板との間の距離を広げることができる。
本発明の第6の実施例について、図10A及び図10Bを用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用することができる。図10Aは本実施例に係る液晶表示装置における額縁部の概略断面図であり、図10Bは本実施例に係る液晶表示装置における概略平面図であり、上図はCF基板、下図はTFT基板を示す。本実施例は額縁に色レジスト膜がない場合の例である。
本実施例では、配向膜104の拡がりを停止するための壁106とTFT基板の最表面との間の距離a6を、図2で示したa0(図2において色レジスト膜がない場合を想定)よりも大きくするために、壁106を形成する領域において、CF基板上のオーバーコート(OC)膜103を除去する構成とした。これにより、距離a6はOC膜103の厚さ分だけ距離a0よりも広く確保できる。これにより、シール400が壁106を越えて拡がり易くなり、TFT基板とCF基板との間の距離の変動を低減できる。これにより、周辺表示領域における色ムラの発生を抑制することができる。また、配向膜104は壁106で堰きとめられ、拡がりを抑制できる。これにより、信頼性寿命を確保することができる。
図11A〜図11Tに示す製造方法に倣い、図1に示す液晶表示装置100を作製した。なお、実施例5との製造方法の違いは、壁106を形成する領域において、CF基板上のBM102は除去せず、OC膜103を除去する点にある。この液晶表示装置を評価した結果、周辺液晶表示部での色ムラは認められなかった。
以上、本実施例によれば、狭額縁であっても、周辺表示領域における色ムラを低減・防止可能な液晶表示装置を提供することができる。また、SOCレジスト膜の壁106を形成する領域において、BMを除去しないため、光抜け対策が不要である。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、カラーフィルタをTFT基板側に形成する構成であったとしても、BMやOC膜を除去することで本願発明を実現することが可能となる。また、SOCをCF基板側に設けず、TFT基板側にスペーサを形成する構成とし、壁をTFT基板側のスペーサと同時に形成することも可能である。その場合、壁が形成される箇所のTFT基板側に形成される膜の一部を除去することも可能である。もちろん、壁に対向する対向基板側の膜を除去してもよい。もちろん、CF基板側に壁が形成される場合であっても、壁に対向するTFT基板側の何かしらの膜を除去することで本願発明の効果を得ることができる。また、壁は、表示領域の周辺全体を閉塞する形状で設けているが、額縁に余裕のある箇所、例えば図1の端子部230側に設けない構成であってもよい。また、上述の実施形態では、液晶表示装置について記載しているが、有機ELであっても、防湿やタッチパネル一体化の目的等で、有機EL素子が形成されるTFT基板に対向する基板を設け、TFT基板と対向基板とをシールで接着する場合が考えられるが、そのような構成の有機EL型表示装置であっても本願発明を適用することが可能となる。その場合、カラーフィルタを使用する有機EL型表示装置であれば、本願のカラーフィルタが対応させることが出来るが、他の有機膜や無機膜であっても本願発明を適用することが可能となる。上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
以上、本願発明を詳細に説明したが、以下に列挙する発明の形態も含まれる。
(1)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第2の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁が形成される領域における前記第2の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第1の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする表示装置。
(2)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第2の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする表示装置。
(3)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が形成される領域における前記第2の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第1の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
(4)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。
(1)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第2の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁が形成される領域における前記第2の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第1の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする表示装置。
(2)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間を封止するシールとが配置され、
前記第2の基板は、前記シールが跨って配置される壁を有し、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする表示装置。
(3)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が形成される領域における前記第2の基板から前記壁が形成される領域に対向する前記第1の基板の表面迄の距離は、前記壁が形成される領域の周辺からの距離よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
(4)有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁の高さは、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱の高さよりも低く、前記複数の柱に対する前記壁の低さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。
100…液晶表示装置、101…CFガラス基板、102…ブラックマトリクス(BM)、103…オーバーコート(OC)膜、104…配向膜、105…配向膜の広がり方向、106…柱(壁)、107…色レジスト膜、107R…赤色レジスト膜、107B…青色レジスト膜、107G…緑色レジスト膜、111a、b、c、d、e…フォトマスク、112…紫外線(UV)露光光照射、201…TFTガラス基板、202…TFT膜(有機絶縁膜や無機絶縁膜、金属配線、半導体層等からなる積層膜)、203…遮光メタル膜、210…有効表示領域、220…額縁(部)、221…広額縁、222…狭額縁、230…端子部、300…液晶、400…シール、401…シールの広がり方向。
Claims (13)
- 有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、ブラックマトリクス(BM)、色レジスト膜、オーバーコート(OC)膜が順次積層された積層膜と、前記OC膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第2の基板上の前記BM、前記色レジスト膜、前記OC膜の少なくとも1層が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記BMと前記色レジスト膜であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項2記載の液晶表示装置において、
前記第1の基板は、除去された前記BMの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記BMと前記色レジスト膜と前記OC膜であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項4記載の液晶表示装置において、
前記第1の基板は、除去された前記BMの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記色レジスト膜と前記OC膜であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記色レジスト膜であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、
前記壁は、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱と同一材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 有効表示領域と、前記有効表示領域を取り囲む額縁部とを有する液晶表示装置において、
前記額縁部には、第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板により狭持され、シールにより封止された液晶とが配置され、
前記第2の基板は、ブラックマトリクス(BM)、オーバーコート(OC)膜が順次積層された積層膜と、前記OC膜の前記液晶側に配置された配向膜と、前記配向膜が前記有効表示領域に対して外側に拡がるのを抑制するための壁とを有し、
前記シールは、前記壁を跨いで配置され、
前記壁が配置されている領域において、前記第2の基板上の前記BM又は前記OC膜が部分的に除去されており、除去された層の厚さに応じて前記壁から前記第1の基板までの距離が広がっていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項9記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記BMであることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項10記載の液晶表示装置において、
前記第1の基板は、除去された前記BMの領域を覆うように形成された遮光メタル膜を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項9記載の液晶表示装置において、
前記除去された層は、前記OC膜であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項9記載の液晶表示装置において、
前記壁は、前記有効表示領域に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との距離を決めるための複数の柱と同一材料で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
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