JP2008015375A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】シール材近傍のギャップムラの発生を抑制し、製造歩留まりを向上することが可能な液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 シール材11によって貼り合わされたアレイ基板100と対向基板200との間に液晶層300を保持し、複数の画素PX(R、G、B)によって構成されたアクティブエリア12を備え、アレイ基板100は、アクティブエリア12の周辺に額縁状に配置された遮光層15と、遮光層15の外周に配置され遮光層15と同等の膜厚の平坦化層16と、を備え、シール材11は、遮光層15及び平坦化層16の上に配置されたことを特徴とする。
【選択図】 図2
【解決手段】 シール材11によって貼り合わされたアレイ基板100と対向基板200との間に液晶層300を保持し、複数の画素PX(R、G、B)によって構成されたアクティブエリア12を備え、アレイ基板100は、アクティブエリア12の周辺に額縁状に配置された遮光層15と、遮光層15の外周に配置され遮光層15と同等の膜厚の平坦化層16と、を備え、シール材11は、遮光層15及び平坦化層16の上に配置されたことを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
この発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に係り、特に、アクティブエリアの周辺に額縁状の遮光層を備えた液晶表示装置及びこの製造方法に関する。
液晶表示装置などの表示装置は、マトリクス状の画素によって構成されたアクティブエリアを備えている。このアクティブエリアは、画素の行方向に沿って延在する複数の走査線、画素の列方向に沿って延在する複数の信号線、これら走査線と信号線との交差部付近に配置されたスイッチング素子、スイッチング素子に接続された画素電極などを備えている。
アクティブエリアの周辺には、光漏れを防止するための遮光層が額縁状に配置されている。この遮光層は、色素や顔料を含有した感光性樹脂によって形成される場合が多い。このような感光性樹脂によって形成された遮光層は、十分な遮光性を確保するために比較的厚い膜厚を有している。レイアウト上の制約や製造プロセス上の制約などにより、遮光層を基板端部まで伸ばすことができない場合、シール材が塗布される位置の一部が遮光層と干渉することがある(例えば、特許文献1参照)。
特開2005−241826号公報
このようにシール材の下に遮光層のエッジが位置するような場合、シール材を塗布する際の塗布位置のバラツキにより、貼り合せた後のシール材の線幅にバラツキが生ずるおそれがある。このようなシール材の線幅のバラツキは、液晶表示パネルの4辺でのセルギャップを支持する面積比率に差を生じさせ、アクティブエリアのシール材近傍においてギャップムラに起因した表示不良を生じさせる原因となる。このような表示不良に対してはリペアが困難な場合が多く、製造歩留まりの低下を招く。
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、シール材近傍のギャップムラの発生を抑制し、製造歩留まりを向上することが可能な液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
この発明の第1の態様による液晶表示装置は、
シール材によって貼り合わされた第1基板と第2基板との間に液晶層を保持し、複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備え、
前記第1基板は、
前記アクティブエリアの周辺に額縁状に配置された遮光層と、
前記遮光層の外周に配置され、前記遮光層と同等の膜厚の平坦化層と、
を備え、
前記シール材は、前記遮光層及び前記平坦化層の上に配置されたことを特徴とする。
シール材によって貼り合わされた第1基板と第2基板との間に液晶層を保持し、複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備え、
前記第1基板は、
前記アクティブエリアの周辺に額縁状に配置された遮光層と、
前記遮光層の外周に配置され、前記遮光層と同等の膜厚の平坦化層と、
を備え、
前記シール材は、前記遮光層及び前記平坦化層の上に配置されたことを特徴とする。
この発明の第2の態様による液晶表示装置の製造方法は、
絶縁基板上にアクティブエリアに対応したパターンを形成し、アクティブエリアの周辺に額縁状に遮光層を形成し、遮光層の外周に遮光層と同等の膜厚の平坦化層を形成する第1基板の形成工程と、
前記第1基板の前記遮光層及び前記平坦化層の上にシール材を塗布する工程と、
前記シール材により前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第1基板と前記第2基板との間に液晶層を封止する工程と、
を備えたことを特徴とする。
絶縁基板上にアクティブエリアに対応したパターンを形成し、アクティブエリアの周辺に額縁状に遮光層を形成し、遮光層の外周に遮光層と同等の膜厚の平坦化層を形成する第1基板の形成工程と、
前記第1基板の前記遮光層及び前記平坦化層の上にシール材を塗布する工程と、
前記シール材により前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第1基板と前記第2基板との間に液晶層を封止する工程と、
を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、シール材近傍のギャップムラの発生を抑制し、製造歩留まりを向上することが可能な液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することができる。
以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。
図1及び図2に示すように、この実施の形態に係る液晶表示装置、例えばアクティブマトリクス型液晶表示装置は、略矩形平板状の液晶表示パネル1を備えている。この液晶表示パネル1は、アレイ基板(第1基板)100と、アレイ基板100に対向配置された対向基板(第2基板)200と、アレイ基板100と対向基板200との間に保持された液晶層300と、によって構成されている。これらアレイ基板100と対向基板200とは、液晶層300を保持するための所定のギャップを形成しつつシール材11によって貼り合わせられている。液晶層300は、アレイ基板100と対向基板200との間に封入された液晶組成物によって構成されている。
このような液晶表示パネル1は、画像を表示する略矩形状のアクティブエリア12を備えている。このアクティブエリア12は、マトリクス状に配置された複数の画素PX(R、G、B)によって構成されている。このアクティブエリア12は、シール材11によって囲まれた内側に規定されている。
アレイ基板100は、ガラス基板などの光透過性を有する絶縁基板110を用いて構成され、アクティブエリア12において、画素PXの行方向に沿って延在する複数の走査線Yや、画素PXの列方向に沿って延在する複数の信号線Xなどを備えている。これら走査線Y及び信号線Xは、絶縁層を介して互いに異なる層に配置されている。また、アレイ基板100は、アクティブエリア12において、これらの走査線Yと信号線Xとの交差部付近において画素PX毎に配置されたスイッチング素子112、このスイッチング素子112に接続された画素電極114などを備えている。
カラー表示タイプの液晶表示装置では、液晶表示パネル1は、複数種類の画素、例えば赤(R)を表示する赤色画素、緑(G)を表示する緑色画素、青(B)を表示する青色画素を有している。すなわち、赤色画素PXRは、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタ層116Rを備えている。緑色画素PXGは、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタ層116Gを備えている。青色画素PXBは、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタ層116Bを備えている。
図2に示した実施の形態においては、カラーフィルタ・オン・アレイ(COA)構造を採用しており、アレイ基板100は、アクティブエリア12において、画素PX毎に配置されたカラーフィルタ層116(R、G、B)を備えている。カラーフィルタ層116(R、G、B)は、赤色(R)、緑色(G)、及び青色(B)にそれぞれ着色された複数の着色樹脂からなり、それぞれ赤色、緑色、及び青色の各色成分の光を透過する。
このようなアレイ基板100の構造についてより詳細に説明する。
すなわち、図3に示すように、スイッチング素子112は、例えばポリシリコン膜によって形成された半導体層SCを有するnチャネル型の薄膜トランジスタによって構成されている。この半導体層SCは、絶縁基板110上に配置されたアンダーコーティング層120上に配置され、チャネル領域SCCの両側にそれぞれ不純物をドープすることによって形成されたドレイン領域SCD及びソース領域SCSを有している。
スイッチング素子112のゲート電極112Gは、ゲート絶縁膜121を介して半導体層SCのチャネル領域SCCに対向して配置されている。このゲート電極112Gは、対応する走査線Yに電気的に接続されている(あるいは走査線と一体に形成されている)。スイッチング素子112のソース電極112S及びドレイン電極112Dは、層間絶縁膜122上に配置されている。ソース電極112Sは、ゲート絶縁膜121及び層間絶縁膜122を貫通するコンタクトホールを介して半導体層SCのドレイン領域SCDにコンタクトしているとともに、対応する信号線Xに電気的に接続されている(あるいは信号線と一体に形成されている)。ドレイン電極112Dは、ゲート絶縁膜121及び層間絶縁膜122を貫通するコンタクトホールを介して半導体層SCのドレイン領域SCDにコンタクトしている。
画素電極114は、カラーフィルタ層116(R、G、B)上に配置されている。この画素電極114は、カラーフィルタ層を貫通するコンタクトホールを介してドレイン電極112Dに電気的に接続されている。この画素電極114は、バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型の液晶表示装置においては、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの光透過性を有する金属材料によって形成される。また、画素電極114は、対向基板200側から入射する外光を選択的に反射して画像を表示する反射型の液晶表示装置においては、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する金属材料によって形成される。
このような構成のアレイ基板100における少なくともアクティブエリア12の表面は、配向膜130によって覆われている。配向膜130は、画素電極114全体を覆うように配置されている。この配向膜130は、液晶層300に含まれる液晶分子をアレイ基板100に対して所定方向に配向する。
一方、対向基板200は、ガラス基板などの光透過性を有する絶縁基板210を用いて構成され、アクティブエリア12において、複数の画素PXに共通の対向電極211などを備えている。この対向電極211は、ITOなどの光透過性を有する金属材料によって形成されている。
このような構成の対向基板200における少なくともアクティブエリア12の表面は、配向膜212によって覆われている。この配向膜212は、液晶層300に含まれる液晶分子を対向基板200に対して所定方向に配向する。
また、アレイ基板100は、アクティブエリア12の周辺に規定された周辺領域14において、遮光層15などを備えている。すなわち、この遮光層15は、アクティブエリア12の周縁に沿って額縁状に配置されている。この遮光層15は、光の透過を遮るために有色樹脂、例えば黒色の色素や顔料を含有した感光性樹脂によって形成されている。
液晶表示パネル1におけるアレイ基板100及び対向基板200のそれぞれの外面には、偏光板PL1及び偏光板PL2が設けられている。偏向板PL1及びPL2は、例えばそれぞれの偏光軸が互いに直交するように配置される。
ところで、この実施の形態に係る液晶表示装置おいては、アレイ基板100は、周辺領域14において、平坦化層16を備えている。すなわち、この平坦化層16は、遮光層15の外周に沿って額縁状に配置されている。この平坦化層16は、遮光層15の膜厚T15と同等の膜厚T16を有している。シール材11は、遮光層15及び平坦化層16の上に配置されている。
このように、同等の膜厚の遮光層15及び平坦化層16を並列に配置したことにより、段差のない平坦化な領域を拡大することができ、レイアウト上の制約や製造プロセス上の制約などにより遮光層15を基板端部まで伸ばすことができない場合であっても、シール材11が塗布される領域のマージンを拡大することが可能となる。
したがって、シール材を塗布する際の塗布位置にバラツキが生じたとしても、一対の基板を貼り合せた後に広がったシール材11が遮光層15のエッジに位置することを防止でき、段差に跨ってシール材11を配置したときのようなセルギャップを支持する面積比率の差を低減することが可能となる。これにより、アクティブエリア12のシール材11近傍におけるギャップムラの発生を抑制することができ、表示品位の良好な液晶表示パネル1を提供することができる。このため、製造歩留まりを向上することが可能となる。
上述した平坦化層16は、同一基板(ここではアレイ基板)上に遮光層15とともに配置される樹脂層を用いて形成可能である。例えば、COA構造を採用したアレイ基板100に遮光層15を配置する構成においては、平坦化層16は、カラーフィルタ層116と同一材料によって形成しても良い。これにより、平坦化層16を形成するための別途の工程が不要となり、製造コストの増大を抑制することができる。
なお、カラーフィルタ層116を用いて平坦化層16を形成する場合、赤色カラーフィルタ層116R、緑色カラーフィルタ層116G、及び、青色カラーフィルタ層116Bの少なくとも1つを用いて形成すればよい。複数のカラーフィルタ層を用いる場合、図4に示すように、それぞれのカラーフィルタ層116(R、G、B)を並べて配置しても良いし、図5に示すように、遮光層15と同等の膜厚を形成するために、複数のカラーフィルタ層を積層して配置しても良い。
また、上述した平坦化層16は、配向膜130と同一材料によって形成しても良い。これにより、平坦化層16を形成するための別途の工程が不要となり、製造コストの増大を抑制することができる。
上述したような構成の液晶表示装置は、以下のようにして製造される。
アレイ基板100の製造工程では、まず、絶縁基板110上にアンダーコーティング層120を形成した後、画素毎に島状の半導体層SCを形成する。続いて、ゲート絶縁膜121を形成した後、走査線Y、ゲート電極112Gなどの各種配線を形成する。
続いて、ゲート電極112Gをマスクとして、半導体層SCに不純物を注入し、チャネル領域SCCの両側にドレイン領域SCD及びソース領域SCSを形成した後、基板全体をアニールすることにより不純物を活性化する。続いて、層間絶縁膜122を形成した後、ゲート絶縁膜121及び層間絶縁膜122を貫通するコンタクトホールを形成し、信号線X、ドレイン領域SCDにコンタクトしたドレイン電極112D、ソース領域SCSにコンタクトしたソース電極112Sなどの各種配線を形成する。
続いて、各色の画素毎に対応する色のカラーフィルタ層116(R、G、B)を形成する。すなわち、スピンナーにより、赤色の顔料を分散させた感光性樹脂材料を基板全面に塗布する。そして、この樹脂材料を、赤色画素PXRに対応した部分に光が照射されるようなフォトマスクを介して露光する。そして、この樹脂材料を現像した後に水洗し、さらに、焼成する。これにより、赤色カラーフィルタ層116Rを形成する。
続いて、同様の工程を繰り返すことにより、緑色の顔料を分散させた感光性樹脂材料を用いて緑色画素PXGに緑色カラーフィルタ層116Gを形成し、さらに、青色の顔料を分散させた感光性樹脂材料を用いて青色画素PXBに青色カラーフィルタ層116Bを形成する。図4に示したような平坦化層16を形成する場合には、各カラーフィルタ層116(R、G、B)を形成する際に、同時に周辺領域14に額縁状のパターンを形成し、平坦化層16とする。
続いて、各画素のカラーフィルタ層116(R、G、B)にドレイン電極112Dまで貫通するコンタクトホールを形成した後、スパッタ法などによりITOを成膜し、その後にITOをパターニングすることによってスイッチング素子112に電気的に接続された画素電極114を形成する。このようにして、アクティブエリア12に対応した各種パターンが形成される。
続いて、スピンナーにより、例えば黒色の感光性樹脂材料を基板全面に塗布する。その後、この樹脂材料を所定のパターン形状のフォトマスクを用いて露光する。そして、この樹脂材料を現像した後に、焼成する。これにより、アクティブエリア12の周縁に沿って配置された遮光層15が形成される。
続いて、基板全面に、配向膜材料を塗布し、この配向膜材料に対して必要に応じてラビングなどの配向処理を施し、配向膜130が形成される。なお、この配向膜130を形成する際に、同時に周辺領域14に額縁状のパターンを形成し、平坦化層16としても良い。これにより、アレイ基板100が製造される。
一方、対向基板200の製造工程では、まず、絶縁基板210上にスパッタ法などによりITOを成膜した後に、ITOをパターニングすることによって対向電極211を形成する。その後、基板全体に配向膜材料を塗布し、この配向膜材料に対して必要に応じてラビングなどの配向処理を施し、配向膜212が形成される。これにより、対向基板200が製造される。
液晶表示パネル1の製造工程では、まず、シール材11を液晶注入口を残してアレイ基板100の周辺領域14に額縁状に塗布する。このとき、シール材11は、遮光層15及び平坦化層16が配置された平坦面上に十分に広いマージンをもって塗布可能である。その後、アレイ基板100の配向膜130と対向基板200の配向膜212とが互いに対向するようにアレイ基板100と対向基板200とを配置し、加圧しつつ加熱してシール材11を硬化させて両基板を貼り合わせる。続いて、液晶組成物を液晶注入口から注入し、さらに液晶注入口を紫外線硬化樹脂などで封止することによって液晶層300を形成する。さらに、アレイ基板100の外面に偏向板PL1を設けるとともに、対向基板200の外面に偏向板PL2を設ける。
以上のような製造方法によってアクティブマトリクス型カラー液晶表示パネルが製造される。このようにして製造したカラー液晶表示装置を点灯表示したところ、ギャップムラに起因した表示不良が発生せず、表示品位に優れていることを確認できた。
なお、上述した実施の形態では、カラーフィルタ層116(R、G、B)をアレイ基板100側に設けたCOA構造を採用した場合について説明したが、カラーフィルタ層116(R、G、B)は対向基板200側に設けても良い。
すなわち、図6に示すように、アクティブエリア12において、アレイ基板100は、絶縁基板110上に、走査線及び信号線の交差部近傍に配置されたスイッチング素子112、スイッチング素子112を覆うように配置された絶縁層125、絶縁層125上に配置された画素電極114、画素電極114を覆うように配置された配向膜130などを備えている。
また、対向基板200は、カラーフィルタ層116(R、G、B)、カラーフィルタ層116(R、G、B)上に配置された対向電極211、対向電極211を覆うように配置された配向膜212、アクティブエリア12の外周に沿って額縁状に配置された遮光層15などを備えている。
このような構造の液晶表示パネル1においても、遮光層15の外周に、遮光層15と同等の膜厚の平坦化層16を配置することにより、シール材11を遮光層15及び平坦化層16からなる平坦面上に配置することが可能となる。このため、上述した実施の形態と同様の効果が得られる。
なお、この平坦化層16は、カラーフィルタ層116(R、G、B)の少なくとも1つ、あるいは、配向膜212などを用いて形成することが可能であることは言うまでもない。
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
PX…画素 Y…走査線 X…信号線 PXR…赤色画素 PXG…緑色画素 PXB…青色画素 1…液晶表示パネル 11…シール材 12…アクティブエリア 14…周辺領域 15…遮光層 16…平坦化層 100…アレイ基板 110…絶縁基板 112…スイッチング素子 114…画素電極 116(R、G、B)…カラーフィルタ層 130…配向膜 200…対向基板 210…絶縁基板 211…対向電極 212…配向膜 300…液晶層
Claims (6)
- シール材によって貼り合わされた第1基板と第2基板との間に液晶層を保持し、複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備え、
前記第1基板は、
前記アクティブエリアの周辺に額縁状に配置された遮光層と、
前記遮光層の外周に配置され、前記遮光層と同等の膜厚の平坦化層と、
を備え、
前記シール材は、前記遮光層及び前記平坦化層の上に配置されたことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1基板は、さらに、アクティブエリアにおいて、画素毎に配置されたカラーフィルタ層を備え、
前記平坦化層は、前記カラーフィルタ層と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1基板は、さらに、アクティブエリアにおいて、基板表面を覆うように配置された配向膜を備え、
前記平坦化層は、前記配向膜と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 絶縁基板上にアクティブエリアに対応したパターンを形成する工程、アクティブエリアの周辺に額縁状に遮光層を形成する工程、遮光層の外周に遮光層と同等の膜厚の平坦化層を形成する工程を含む第1基板の形成工程と、
前記第1基板の前記遮光層及び前記平坦化層の上にシール材を塗布する工程と、
前記シール材により前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第1基板と前記第2基板との間に液晶層を封止する工程と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記平坦化層は、アクティブエリアにおいて、画素毎に配置されるカラーフィルタ層を形成する工程で同時に形成されたことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記平坦化層は、アクティブエリアにおいて、基板表面を覆うように配置される配向膜を形成する工程で同時に形成されたことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。
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