JP2017122790A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を表示領域とシール部において、正確に制御する。【解決手段】第１の基板２００と第２の基板１００が周辺のシール部においてシール材１５０によって接着し、内部に液晶３００が封止され、表示領域５０と額縁領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域５０においては、前記第１の基板２００と前記第２の基板２００の間隔は第１の柱状スペーサ２１によって規定され、前記シール部においては、前記第１の基板２００と前記第２の基板１００の間隔は、第２の柱状スペーサ２４によって規定され、前記表示領域５０には画素毎にカラーフィルタ２０２が形成され、前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成されており、前記第２の柱状スペーサ２４は、前記平面状に形成されたカラーフィルタ２０２の上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。【選択図】図１３

Description

本発明は表示装置に係り、表示領域とシール部とにおける、ＴＦＴ基板と対向基板との間隔の差に起因した表示むらを対策した液晶表示装置に関する。

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板とは、基板の周辺に形成されたシール材によって接着している。シール材の内側において、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている構成となっている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。

ＴＦＴ基板と対向基板との間隔、すなわち、液晶層の層厚が変化すると、透過率が変化する。この透過率の変化は色毎に異なるために、色むらを生じやすい。ＴＦＴ基板と対向基板の間隔（以後ギャップということもある）は、例えば対向基板に形成された柱状スペーサによって規定される。表示領域と、表示領域の周辺すなわち額縁領域では、ＴＦＴ基板でも対向基板でも構造が異なるために、シール材が形成された部分では、ギャップの差が生じやすい。

特許文献１には、表示領域とシール材との間隔をできるだけ同じにするために、シール部においても、柱状スペーサの土台にカラーフィルタを配置する構成が記載されている。

特開２０１５−２５９０５号公報

液晶表示パネルは、表示領域とその周辺の額縁領域に分けられるが、表示領域と額縁領域とでは、層構成が異なるので、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を同一にするのは難しい。しかし、ギャップが表示領域と額縁領域で異なると表示領域周辺（表示領域のうち、額縁領域に近い領域）において色むらが発生する。

ＴＦＴ基板と対向基板の間隔は柱状スペーサによって規定されるが、柱状スペーサの土台となる層構造が、表示領域と額縁領域とでは異なる。シール部におけるギャップを表示領域におけるギャップにできるだけ合わせるために、額縁領域における柱状スペーサの土台をできるだけ表示領域と同じにする対策をとっても、製品によって、表示領域の層構成が異なるために、効果的に対策することが難しい。

本発明の課題は、額縁領域におけるギャップと表示領域におけるギャップを正確に制御することが出来る構成を実現することである。

本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。

（１）第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は第１の柱状スペーサによって規定され、前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は、第２の柱状スペーサによって規定され、前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、
前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成されており、前記第２の柱状スペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

（２）第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は第１の柱状スペーサによって規定され、前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は、第２の柱状スペーサによって規定され、前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成され、前記額縁領域における前記平面状のカラーフィルタの厚さは、前記表示領域におけるカラーフィルタの厚さよりも小さく、前記第２の柱状スペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

（３）第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は第１の柱状スペーサによって規定され、前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は、第２の柱状スペーサによって規定され、前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成され、前記第２の柱状スペーサの高さは、前記第１の柱状スペーサの高さよりも低く、前記第２の柱状スペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

（４）第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は第１の柱状スペーサによって規定され、前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は、第２の柱状スペーサによって規定され、前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成されており、前記第２の柱状スペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成され、前記ＴＦＴ基板において、前記表示領域には第１の有機パッシベーション膜が形成され、前記額縁領域には、前記第１の有機パッシベーション膜に連続して第２の有機パッシベーション膜が形成され、前記第２の有機パッシベーション膜の厚さは前記第１の有機パッシベーション膜の厚さよりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。

本発明の液晶表示装置の平面図である。 比較例としての、図１のＡ−Ａ断面図である。 図２のＡ部詳細図である。 図２のＢ部詳細図である。 表示領域において柱状スペーサを形成する方法を示す断面図である。 額縁領域において柱状スペーサを形成する方法を示す断面図である。 カラーフィルタが薄い場合での、シール部におけるＴＦＴ基板と対向基板の間隔を示す模式断面図である。 カラーフィルタが薄い場合での、表示領域におけるＴＦＴ基板と対向基板の間隔を示す模式断面図である。 カラーフィルタが厚い場合での、シール部におけるＴＦＴ基板と対向基板の間隔を示す模式断面図である。 カラーフィルタが厚い場合での、表示領域におけるＴＦＴ基板と対向基板の間隔を示す模式断面図である。 カラーフィルタが平面状である場合での、柱状スペーサを形成する方法を示す模式断面図である。 実際の表示領域における、柱状スペーサを形成する方法を示す模式断面図である。 カラーフィルタの幅と柱状スペーサの高さの定義を示す模式断面図である。 額縁領域におけるカラーフィルタの幅と、額縁領域における柱状スペーサと表示領域における柱状スペーサの高さの差との関係を示すグラフである。 実施例１の断面図である。 実施例１の平面図である。 実施例２の断面図である。 実施例２の平面図である。 実施例３の断面図である。 実施例３の平面図である。

図１は本発明が適用される液晶表示パネルの平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材１５０によって接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に液晶が挟持されている。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１００が１枚となっている部分は端子部１６０となっている。端子部１６０には、液晶表示パネルを駆動するドライバＩＣ１７０が搭載され、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板１８０が接続されている。

図１において、表示領域５０には走査線１０１が第１の方向に延在し、第２の方向に配列している。また、映像信号線１０２が第１の方向に延在し、第２の方向に配列している。走査線１０１と映像信号線１０２とで囲まれた領域が画素１０３となっている。狭額縁の液晶表示装置では、表示領域５０の端部と液晶表示装置の端部までの距離ｗｆは０．５ｍｍ程度にまで小さくなっている。このため、表示領域５０の外側の領域（以下、周辺領域、或いは、額縁領域ともいう）におけるギャップが表示領域におけるギャップと異なると、その影響が表示領域の周辺において影響をおよぼし、表示領域周辺における表示むらの原因になる。しかし、表示領域とその周辺の額縁領域とでは構造が異なるので、ギャップを同じにすることは簡単ではない。

図２は、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部の詳細断面図である。図２において、ＴＦＴ基板１００には配線層１１、有機パッシベーション膜１２、上部層構造１３が形成され、対向基板２００には、ブラックマトリクス２０１、カラーフィルタ２０２、オーバーコート膜２０３、ＴＦＴ基板と対向基板のギャップを規定するためのスペーサ（以下、柱状スペーサともいう）２１等が形成されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００はシール材１５０によって接着しており、シール材１５０の内側に液晶３００が封止されている。

ＴＦＴ基板１００における配線層１１は、ＴＦＴ、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、走査線、映像信号線等を含んでいる。上部層構造１３は、図３、図４で説明するように、表示領域５０と額縁領域では若干異なるが、画素電極、或いは、共通電極であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜、無機絶縁膜、配向膜等を含む。ＴＦＴ基板１００において、有機パッシベーション膜１２は平坦化膜の役割も有するので、膜厚は３．５μｍ程度と厚く形成される。有機パッシベーション膜１２の厚さは、通常は２乃至４μｍ程度である。有機パッシベーション膜１２は有機膜なので、外部から水分が浸透する。これを防止するために、有機パッシベーション膜１２に溝１２１を形成し、外部から侵入する水分を遮断する。溝１２１は基板の辺に沿って表示領域を囲むように形成される。

図２において、対向基板２００には、表示領域５０ではブラックマトリクス２０１が形成され、ブラックマトリクス２０１の開口部にカラーフィルタ２０２が形成されている。カラーフィルタ２０２は赤カラーフィルタ２０２Ｒ、緑カラーフィルタ２０２Ｇ、青カラーフィルタ２０２Ｂが並列して配置している。表示領域５０より外側の額縁領域ではブラックマトリクス２０１は連続して平面状に形成され、遮光膜としての役割をしている。ブラックマトリクス２０１にはスリット２０１１が形成されているが、これは、ブラックマトリクス２０１を伝わって外部から侵入する水分を遮断するためである。スリットは、対向基板において表示領域を囲むように全周に形成されている。スリット２０１１部分から光が漏れることを防止するために、ＴＦＴ基板１００側の対応する位置に遮光膜１４が形成されている。この遮光膜１４は、配線層１１を構成する金属と併用されることが多い。

図２において、対向基板２００の額縁領域には、柱状スペーサ２４が形成される場所に対応してカラーフィルタ２０１が島状に配置されている。表示領域５０と額縁領域とでＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔をそろえるためである。このカラーフィルタ２０２は断面なので島状に見えるが、実際は、所定の幅で表示領域５０を囲むように枠状に形成されている。対向基板２００において、カラーフィルタ２０２およびブラックマトリクス２０１を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３はカラーフィルタ２０２あるいはブラックマトリクス２０１の成分が液晶中に溶出することを防止する役割を有する。

対向基板２００における表示領域５０には、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定するためにメインスペーサ２１が形成されている。メインスペーサ２１は、図２では１本しか記載されていないが、実際には、表示領域５０において、所定の間隔を持って多数形成されている。表示領域５０には、メインスペーサ２１の他サブスペーサ２２が形成されている。サブスペーサ２２は、対向基板２００に押し圧力が加わった場合に、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が過度に小さくなることを防止するために設けられている。サブスペーサ２２の数はメインスペーサ２１の数よりも多い。

サブスペーサ２２はメインスペーサ２１よりも高さが０．４μｍほど低く形成されている。したがって、通常はＴＦＴ基板１００に接触していないが、対向基板２００が押し圧力を受けるとＴＦＴ基板１００側に接触し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が過度に小さくなることを防止するとともに、押し圧力が解除されたときの、ギャップの戻りを容易にする。サブスペーサ２１はメインスペーサ２２よりも高さが低いが、ハーフ露光技術を用いることによってメインスペーサ２１と同時に形成することが出来る。

図２において、額縁領域にはシール材１５０が形成されているシール部と、表示領域５０とシール材との間の緩衝領域とが形成されている。シール部では、シール材１５０が形成されている部分と、さらにその外側のスクライビング領域とに分かれている。液晶表示パネルは、マザー基板に多数の液晶表示パネルを形成し、マザー基板から個々の液晶表示パネルを取り出す。このとき、個々の液晶表示パネルを分離する際に、ガラスにスクライビングを入れ、衝撃を加えることによって、個々の液晶表示パネルを分離する。スクライビング領域には、衝撃によって個々の液晶表示パネルが分離しやすいように、シール材１５０は存在しないか、存在してもわずかであり、その代わり、土手状スペーサ２３が形成されている。土手状スペーサ２３は柱状スペーサ２１と同じプロセスで同時に形成される。またハーフ露光技術を用いて、サブスペーサ２２と同じ高さに形成される。土手状スペーサ２３の幅ｗｐは１００μｍ程度である。シール材１５０と土手状スペーサ２３との間に、シール材が存在しない領域があってもよい。

図２において、シール材１５０が形成された部分と緩衝領域には表示領域におけるメインスペーサ２１と同じプロセスによって額縁領域スペーサ２４が形成されている。図２に示すような構造の場合、後で説明するように、メインスペーサ２１と同じプロセスで形成しても、額縁領域スペーサ２４の高さはメインスペーサ２１の高さよりも低くなる。

図３は図２のＡ部の詳細断面図である。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップ、すなわち、液晶層の層厚は、メインスペーサ２１によって規定されている。メインスペーサ２１が接するＴＦＴ基板側の上部層構造１３は、例えばＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式においては、次のような構成になる。すなわち、有機パッシベーション膜１２の上にＩＴＯで形成されたコモン電極１３１、無機絶縁膜１３２、配向膜１３４がこの順で形成されている。コモン電極１３１は、画素において、無機絶縁膜１３２の上に形成された櫛歯状あるいはストライプ状の画素電極との間に形成される電界によって液晶の回転を制御して、画素における液晶の透過率を規定する。尚、コモン電極は、無機絶縁膜１３２と配向膜１３４との間に設けられる構成であってよく、メインスペーサが設けられる箇所にコモン電極を設けない構成であってもよい。

図４は、図２のＢ部の詳細断面図である。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップは額縁領域スペーサ２４とシール材に分散されているフィラー３０によって規定されている。フィラー３０は球状のプラスチックあるいはガラス等によって形成されているが、フィラー３０の粒径は、平均値μと分散σを持つ。シール材１５０におけるフィラー３０の径の平均値は０．４μｍ程度である。したがって、額縁領域スペーサ２４の高さは、表示領域５０におけるメインスペーサ２１の高さよりも０．４μｍ程度低くなることが望ましい。後で述べるように、額縁領域スペーサ２４は、メインスペーサ２１と同じプロセスで形成しても高さを低くすることが出来る。なお、図２における、表示領域外でシール材１５０が形成されていない緩衝領域では、柱状スペーサ２４は、ＴＦＴ基板１００側との間に０．４μｍ程度の差が生じているが、これは、表示領域５０におけるサブスペーサと同じ役割を有することになる。

図４に戻り、ＴＦＴ基板１００側の上部層構造１３では、有機パッシベーション膜１２の上に無機絶縁膜１３２が形成され、その上に配向膜１３４が形成されている。シール材１５０内のフィラー３０は配向膜１３４と接する。無機絶縁膜１３２と配向膜１３４との間には、ＩＴＯが形成される場合がある。ＩＴＯ膜は、画素電極と同時に形成されるが、画素電極とは絶縁されており、ＩＴＯ膜にはコモン電圧が印加される。

図５および図６は、各々、表示領域および額縁領域における柱状スペーサの形成方法を示す模式断面図である。図５および図６は、図２乃至４と異なり、対向基板２００の向きが上下逆になっている。図５において、対向基板２００の上にブラックマトリクス２０１とカラーフィルタ２０２が形成され、その上にオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３の上に柱状スペーサ２１を形成するための感光性の樹脂２５を所定の厚さｈ１で塗布する。樹脂２５は、例えば、透明なアクリル樹脂が使用されるが、シリコン樹脂等が使用される場合もある。図５において、感光性樹脂２５を露光し、現像することによって、高さがｈ１である柱状スペーサが形成される。

図６は、図２の額縁領域における柱状スペーサ２４の形成方法を示す模式断面図である。図６において、対向基板２００の上に遮光膜となるブラックマトリクス２０１が平面状に形成され、その上にカラーフィルタ２０２が島状に形成され、その上にオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３の上に柱状スペーサ２４を形成するために感光性樹脂２５を塗布する。なお、図６は断面図なのでカラーフィルタ２０２は島状に見えるが、実際の製品では、表示領域を囲むように、ストライプ状に形成されている。

図６において、ブラックマトリクス２０１の厚さは例えば、０．４μｍ程度であり、カラーフィルタ２０２の厚さは、２μｍ以上である場合が多い。島状に形成された２μｍ以上の厚さを有するカラーフィルタ２０２の上では、感光性樹脂２５を塗布したときのレベリング効果によって、感光性樹脂２５の厚さが小さくなる。例えば、島状のカラーフィルタ２０２が無い部分における感光性樹脂２５の厚さがｈ１となるように塗布したとしても、カラーフィルタ２０２の上における感光性樹脂２５の厚さはｈ２になる。額縁領域柱状スペーサは島状カラーフィルタの上に形成されるので、柱状スペーサ２４の高さはｈ１よりも低いｈ２となる。この差が表示領域５０と額縁領域における柱状スペーサの高さの差になる。

問題は、島状に形成されたカラーフィルタ２０２の厚さによって、図６における柱状スペーサ２４の高さが異なるということである。一方、表示領域では、図５に示すように、カラーフィルタ２０２が全面に形成されているので、レベリング効果の厚さへの影響は小さい。したがって、カラーフィルタ２０２の厚さによって、表示領域と額縁領域の柱状スペーサの高さが異なってくるという現象を生ずる。

図７Ａおよび図７Ｂは、カラーフィルタ２０２が薄い場合における表示領域とシール部におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔の差を示す模式断面図である。図６に示すように、カラーフィルタ２０２が薄いと、レベリング効果による柱状スペーサ２４の高さの目減りは小さくなり、表示領域における柱状スペーサ２１の高さとシール部における柱状スペーサ２４の高さの差は小さくなる。

シール部においては、柱状スペーサ２４とＴＦＴ基板１００の間にフィラー３０が存在することになるので、シール部におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔は、ｈ２＋ｈｆ＝ｈ３になる。なお、フィラー３０の径ｈｆは０．４μｍ程度である。一方、表示領域においては、柱状スペーサ２１の高さｈ１によってＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が規定されるが、ｈ３＞ｈ１になると、シール部におけるギャップは、表示領域におけるギャップよりも大きくなる。

図８Ａおよび図８Ｂは、カラーフィルタ２０２が厚い場合における表示領域とシール部におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔の差を示す模式断面図である。図６に示すように、カラーフィルタ２０２が厚いと、レベリング効果による柱状スペーサ２４の高さの目減りは大きくなり、表示領域における柱状スペーサ２１の高さとシール部における柱状スペーサ２４の高さの差は大きくなる。

シール部においては、柱状スペーサ２４とＴＦＴ基板１００の間にフィラー３０が存在するので、シール部におけるギャップはｈ２＋ｈｆ＝ｈ３となる。表示領域においては、柱状スペーサ２１の高さｈ１によってギャップが規定される。ｈ２がｈ１に比べて非常に小さくなると、フィラー３０の存在を考慮しても、ｈ３＜ｈ１となり、シール部におけるギャップは、表示領域におけるギャップよりも小さくなる。

本発明の特徴は、シール部における柱状スペーサ２４の高さがカラーフィルタ２０２の厚さの影響によってばらつかないように、シール部におけるカラーフィルタ２０２を平面状に形成することである。図９に示すように、カラーフィルタ２０２が平面状に形成されていれば、カラーフィルタ２０２の厚さが変化しても、柱状スペーサ２０４の高さｈ２は影響を受けることがない。

ところで、実際の製品では、図１０に示すように、表示領域においても、ブラックマトリクス２０１の影響等により、凹凸は存在する。図１０において、柱状スペーサ２１はブラックマトリクス２０１の上に形成されるので、ブラックマトリクス２０１が無い部分よりも柱状スペーサ２１の高さは小さくなる。例えば、ブラックマトリクス２０１の無い部分における柱状スペーサの高さをｈ４とした場合、実際の製品における柱状スペーサの高さはｈ４よりも低いｈ１となる。

すなわち、シール部において、カラーフィルタ２０２を平面状に形成すると、シール部における柱状スペーサ２４の高さが、表示領域における柱状スペーサ２１の高さよりも大きくなることになる。つまり、シール部において、カラーフィルタ２０２を平面的に形成することによって、カラーフィルタ２０２の厚さによって、シール部における柱状スペーサの高さが影響を受けることを防止することはできるが、シール部におけるギャップの増加を防止することが必要になる。

図１１および図１２は、この問題を解決するための、評価結果である。カラーフィルタ２０２が同じ厚さであっても、カラーフィルタの幅ｗｂを変えることによって、形成される柱状スペーサ２４の高さが異なる。図１１は、カラーフィルタの幅と、柱状スペーサの高さの関係を定義する模式断面図である。なお、オーバーコート膜２０３の形成においてもレベリングの効果は生ずる。したがって、柱状スペーサ２４の高さは、カラーフィルタ２０２の厚さ、カラーフィルタの幅、オーバーコート膜２０３等によるレベリングの効果によって影響を受けることになる。

図１１において、カラーフィルタの幅ｗｂを変えていくと、形成される柱状スペーサの高さｈ２は異なることになる。図１０に示す表示領域における柱状スペーサの高さｈ１と図１１における柱状スペーサの高さｈ２との差を、カラーフィルタの幅ｗｂを変化させてプロットしたものが図１２である。

図１２において、横軸が図１１に示すカラーフィルタ２０２の幅ｗｂで、縦軸が図１１に示す柱状スペーサ２４の高さｈ２と図１０に示す表示領域における柱状スペーサ２１の高さの差、ｈ２−ｈ１である。図１２に示すように、カラーフィルタ２０２の幅ｗｂが５０μｍ程度であると、ｈ２はｈ１よりも０．６μｍ低くなる。カラーフィルタの２０２幅ｗｂが１００μｍ程度であると、ｈ２とｈ１はほぼ等しくなる。カラーフィルタの幅ｗｂがシール部を含む額縁において、平面になるといえる、１０００μｍ程度になると、シール部における柱状スペーサ２４の高さｈ２が表示領域における柱状スペーサ２１の高さｈ１よりも０．６μｍ高くなる。上記では、ｗｂが１０００μｍ以上を平面としているが、本明細書では、４００μｍ以上であれば平面であるとする。また、カラーフィルタを表示領域を囲むように形成せず、島状に形成する場合であっても、最も短い径が４００μｍ以上であれば平面であるとする。

つまり、本発明におけるように、柱状スペーサの土台となるカラーフィルタを平面で形成すると、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔がシール部において、表示領域よりも０．６μｍ大きくなることになる。さらに、シール部においては、柱状スペーサ２４とＴＦＴ基板１００との間に径が０．４μｍ程度のフィラー３０が入り込む。したがって、表示領域とシール部におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップを同等にするためには、シール部において、ギャップ小さくするような手段を採用する必要がある。

カラーフィルタ２０２を額縁領域において平面状に形成することによって額縁領域における柱状スペーサ２４の高さがカラーフィルタの厚さの影響を受けることを回避するとともに、実施例１乃至３に示す手段によって、表示領域と額縁領域におけるＴＦＴ基板と対向基板の間隔を同等にすることが出来る。

図１３は実施例１における額縁領域の断面図である。図１３は図１のＡ−Ａ断面図に相当するものである。図１４は、実施例１での額縁領域におけるカラーフィルタ２０２の形成領域である。図１３の構成は、額縁領域におけるカラーフィルタ２０２を除いて図２で説明したのと同様である。図１３において、カラーフィルタ２０２は額縁領域において、平面状に形成されている。但し、額縁領域におけるカラーフィルタ２０２の厚さは、表示領域５０におけるカラーフィルタ２０２の厚さよりも１μｍ小さい。

図１２に示すように、カラーフィルタ２０２を平面状に形成することによって、柱状スペーサ２４は表示領域よりも０．６μｍ高くなる。また、シール部においては、柱状スペーサ２４とＴＦＴ基板１００の間に径が０．４μｍのフィラー３０が入り込むので、０．６μｍ＋０．４μｍ＝１μｍだけ、カラーフィルタ２０２の厚さを小さくしている。これによって、表示領域と額縁領域におけるギャップの差を小さくすることが出来る。

なお、図１３において、ブラックマトリクス２０１に形成されたスリット２０１１においては、カラーフィルタ２０２を形成していないことは、図２と同様である。また、ブラックマトリクス２０１のスリット２０１１より外側のカラーフィルタ２０２の厚さは、表示領域５０におけるカラーフィルタ２０２の厚さと同じである。この領域にはシール材１５０がほとんど存在していないのと、スペーサも柱状スペーサではなく、土手状スペーサ２３が存在しており、他のシール部とは構成が異なるからである。

図１４は、実施例１での対向基板２００の額縁領域において、カラーフィルタ２０２を形成する領域を示す平面図である。図１４において、平面状に形成された厚さの小さいカラーフィルタ２０２１が表示領域５０を枠状に囲んでいる。カラーフィルタ２０２１の外側には、ブラックマトリクスのスリット２０１１に対応して、カラーフィルタが存在していない領域が形成され、その外側のスクライビング領域には、表示領域と同じ厚さのカラーフィルタ２０２が形成されている。

本実施例によって、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔をシール部と表示領域において、同等にすることが出来るので、表示領域５０の周辺領域におけるギャップの変動に伴う色むらの発生等を防止することが出来る。

図１５は実施例１における額縁領域の断面図である。図１５は図１のＡ−Ａ断面図に相当するものである。図１６は、実施例２での額縁領域におけるカラーフィルタ２０２の形成領域である。図１５の構成は、額縁領域におけるカラーフィルタ２０２及び柱状スペーサ２４を除いて図２で説明したのと同様である。図１５において、カラーフィルタ２０２は額縁領域において、平面状に形成されていることは図１３と同様である。しかし、図１５においては、カラーフィルタ２０２の厚さは表示領域５０におけるカラーフィルタ２０２の厚さと同じである。その代わり、本実施例では、ハーフ露光技術を用いて、柱状スペーサ２４の高さを、図１３に示す実施例１の場合よりも１μｍ低い、ｈ５としている。なお、この高さｈ５は、表示領域に形成された柱状スペーサ２１の高さｈ２よりも０．４μｍ低くなっている。これによって、柱状スペーサ２４の高さとフィラー３０の径の合計の高さを表示領域における柱状スペーサ２１の高さと同等としている。

なお、図１５において、ブラックマトリクス２０１に形成されたスリット２０１１においては、カラーフィルタ２０２を形成していないこと、スリット２０１１より外側のカラーフィルタ２０２の厚さは表示領域５０におけるカラーフィルタ２０２の厚さと同じであることは、図１３で説明したのと同様である。

図１６は、実施例２での対向基板２００の額縁領域において、カラーフィルタ２０２を形成する領域および、柱状スペーサ２１、２２、２４の配置を示す平面図である。図１６において、平面状のカラーフィルタ２０２がスリット２０１１を除く額縁領域全域に形成されている。図１６では、額縁領域に形成されたカラーフィルタ２０２の厚さは、表示領域５０に形成されたカラーフィルタ２０２の厚さと同じである。

図１６において、シール部および、シール部と表示領域の間に形成された柱状スペーサ２４は、ハーフ露光技術を用いて通常形成されるよりも１μｍ低くなっている。言い換えると、本実施例では、柱状スペーサ２４の高さは表示領域における柱状スペーサ２１の高さよりも０．６μｍ低くなっている。これによって、表示領域とシール部におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を同等にすることが出来る。なお、図１６において、表示領域５０には、通常状態においてＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定する柱状スペーサ２１と対向基板に押し圧力が加わった場合に、ＴＦＴ基板１００と接触するサブ柱状スペーサ２２が形成されている。

図１７は実施例３における額縁領域の断面図である。図１７は図１のＡ−Ａ断面図に相当するものである。図１８は、実施例３での額縁領域におけるカラーフィルタ２０２の形成領域である。図１７の構成は、対向基板２００の額縁領域におけるカラーフィルタ２０２及び柱状スペーサ２４、ＴＦＴ基板１００の額縁領域における有機パッシベーション膜１２２の構成を除いて図２で説明したのと同様である。

実施例３において、対向基板２００側にはカラーフィルタ２０２が平面状に形成されているが、このカラーフィルタ２０２の厚さは表示領域５０におけるカラーフィルタ２０２の厚さと同等である。シール部の柱状スペーサ２４は、平面状に形成されたカラーフィルタ２０２の上に形成されているために、表示領域における柱状スペーサ２１よりも０．６μｍ高く形成されている。したがって、フィラー３０が柱状スペーサ２４とＴＦＴ基板１００の間に入り込むことを考慮すると、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔は、シール部において表示領域よりも１μｍ大きくなる。

本実施例では、ＴＦＴ基板２００における有機パッシベーション膜１２１の膜厚を表示領域における有機パッシベーション膜１２の膜厚よりも１μｍ薄くすることによって、シール部と表示領域におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を同等にしている。有機パッシベーション膜１２は、表示領域では３．５μｍ程度形成されているので、１μｍ薄くしても有機パッシベーション膜が無くなることはない。

図１７のＴＦＴ基板１００において、有機パッシベーション膜の溝１２１より外側の有機パッシベーション膜１２の厚さは、表示領域における有機パッシベーション膜１２の厚さと同じである。また、図１７の対向基板２００において、スリット２０１１より外側に形成されたカラーフィルタ２０２の厚さは表示領域におけるカラーフィルタ２０２の厚さと同じである。すなわち、ブラックマトリクス２０１のスリット２０１１より外側、あるいは、有機パッシベーション膜１２２の溝１２１より外側の領域であるスクライビング領域には、シール材がほとんど存在しておらず、また、スペーサも土手状スペーサ２３であり、シール材が形成された領域とは、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔の規定方法が異なるからである。

このように、実施例３においても、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を表示領域と額縁領域とで同等にすることが出来るので、ギャップの変動に起因する表示領域周辺における色むらや輝度むらを抑制することが出来る。

実施例１乃至３は、代表的な例である。製品によっては、実施例１、２、３を適宜組み合わせて、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を表示領域と額縁領域において制御することが出来る。

本発明が優れている点は、カラーフィルタの厚さに関わらす、表示領域と額縁領域における基板の間隔をばらつきなく、正確に制御できる点である。したがって、例えば、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を表示領域とシール部とで意図的に変えたい場合等においても、本発明を使用することによって、カラーフィルタの膜厚の影響を受けることなく、表示領域と額縁領域における基板間のギャップを正確に制御することが出来る。

額縁領域におけるカラーフィルタは、青カラーフィルタを用いることが最も多い。すなわち、額縁領域にはブラックマトリクスが存在しているが、ブラックマトリクスは０．４μｍ程度と薄いので、ブラックマトリクスの材料によっては、遮光効果が十分でない場合もありうる。青カラーフィルタは他の色よりも遮光効果が優れているので、ブラックマトリクスの遮光効果を補うことが出来る。但し、本発明の目的は、青カラーフィルタに限らず、赤カラーフィルタあるいは緑カラーフィルタを使用しても達成することが出来る。

実施例１乃至３では、フィラーの平均粒径は、０．４μｍであるとしたが、フィラーの径はこれに限らない。フィラーの粒径に応じて、実施例１では、額縁領域におけるカラーフィルタの厚さ調整し、実施例２では額縁領域の柱状スペーサの高さを調整し、実施例３では額縁領域における有機パッシベーション膜の厚さを調整すればよい。尚、スペーサは、その断面が円形の柱状に限定されるものではなく、断面が多角形、或いは長円（楕円）等の形状であってもよい。また、ＴＦＴ基板上に、スペーサと対応する構造物（台座、或いは、対向スペーサ等）を設けてもよい。

１１…配線層、 １２…有機パッシベーション膜、 １３…上部層構造、 １４…遮光膜、 ２１…メイン柱状スペーサ、 ２２…サブ柱状スペーサ、 ２３…土手状柱状スペーサ、 ２４…額縁領域柱状スペーサ ２５…柱状スペーサ用塗布膜、 ３０…フィラー、 ５０…表示領域、 １００…ＴＦＴ基板、 １０１…走査線、 １０２…映像信号線、 １０３…画素、 １２１…有機パッシベーション膜溝、 １２２…有機パッシベーション膜薄膜部、 １３１…コモン電極、 １３２…無機絶縁膜、 １３３…シールド電極、 １３４…配向膜、 １５０…シール材、 １６０…端子部、 １７０…ドライバＩＣ、 １８０…フレキシブル配線基板、 ２００…対向基板、 ２０１…ブラックマトリクス、 ２０２…カラーフィルタ、 ２０３…オーバーコート膜、 ３００…液晶、 １２２１…有機パッシベーション膜の溝、 １２２２…有機パッシベーション膜の薄膜部、 ２０１１…ブラックマトリクススリット、 ２０２１…カラーフィルタ薄膜部

Claims (20)

1. 第１の基板と第２の基板とがシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、前記シール材が形成されたシール部と表示領域とを有する液晶表示装置であって、
   前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は第１のスペーサによって規定され、
   前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は、第２のスペーサによって規定され、
   
   前記シール部では、カラーフィルタが平面状に形成されており、
   前記第２のスペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタと前記第1基板との間に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記第２のスペーサと前記平面状のカラーフィルタとの間にはオーバーコート膜が存在することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記シール材はフィラーを有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間隔は、前記シール部において、前記第２のスペーサと前記フィラーとによって規定されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
4. 前記カラーフィルタは、平面状に形成された遮光膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記遮光膜には、表示領域を囲むようなスリットが形成されており、前記スリットの上には、前記平面状のカラーフィルタは形成されていないことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、
   前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は第１のスペーサによって規定され、
   前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板の間隔は、第２のスペーサによって規定され、
   前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、
   前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成され、
   前記額縁領域における前記平面状のカラーフィルタの厚さは、前記表示領域におけるカラーフィルタの厚さよりも小さく、
   前記第２のスペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
7. 前記第２のスペーサと前記平面状のカラーフィルタとの間にはオーバーコート膜が存在することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記シール材はフィラーを有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間隔は、前記シール部において、前記第２のスペーサと前記フィラーによって規定されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
9. 前記第２の柱状スペーサの高さは、前記第１の柱状スペーサの高さよりも高いことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
10. 前記カラーフィルタは、平面状に形成された遮光膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
11. 第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、
    前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は第１のスペーサによって規定され、
    前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は、第２のスペーサによって規定され、
    前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、
    前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成され、
    前記第２のスペーサの高さは、前記第１のスペーサの高さよりも低く、
    前記第２のスペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
12. 前記第２のスペーサと前記平面状のカラーフィルタとの間にはオーバーコート膜が存在することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記シール材はフィラーを有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間隔は、前記シール部において、前記第２のスペーサと前記フィラーによって規定されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
14. 前記額縁領域に形成された前記平面状のカラーフィルタの厚さは、前記表示領域に形成されたカラーフィルタと同等の厚さであることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
15. 前記カラーフィルタは、平面状に形成された遮光膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
16. 第１の基板と第２の基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、表示領域と額縁領域を有する液晶表示装置であって、
    前記表示領域においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は第１のスペーサによって規定され、
    前記シール部においては、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔は、第２のスペーサによって規定され、
    前記表示領域には画素毎にカラーフィルタが形成され、
    前記額縁領域には、カラーフィルタが平面状に形成されており、
    前記第２のスペーサは、前記平面状に形成されたカラーフィルタの上に形成され、
    前記ＴＦＴ基板において、前記表示領域には第１の有機パッシベーション膜が形成され、前記額縁領域には、前記第１の有機パッシベーション膜と連続して第２の有機パッシベーション膜が形成され、前記第２の有機パッシベーション膜の厚さは前記第１の有機パッシベーション膜の厚さよりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
17. 前記第２のスペーサと前記平面状のカラーフィルタとの間にはオーバーコート膜が存在することを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
18. 前記シール材はフィラーを有し、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板の間隔は、前記シール部において、前記第２のスペーサと前記フィラーとによって規定されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
19. 前記第２のスペーサの高さは、前記第１のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
20. 前記カラーフィルタは、平面状に形成された遮光膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。

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