JP6347937B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は表示装置に係り、特に高精細画面においても透過率の減少が小さく、かつ、画素欠陥の少ない液晶表示装置に関する。
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等を有する画素がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、TFT基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やDSC(Digital Still Camera)等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。液晶表示装置では視野角特性が問題である。視野角特性は、画面を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合に、輝度が変化したり、色度が変化したりする現象である。視野角特性は、液晶分子を水平方向の電界によって動作させるIPS(In Plane Switching)方式が優れた特性を有している。
IPS方式も種々存在するが、例えば、コモン電極を平面ベタで形成し、その上に、絶縁膜を挟んで櫛歯状の画素電極を配置し、画素電極とコモン電極の間に発生する電界によって液晶分子を回転させる方式が透過率を大きくすることが出来るので、現在主流となっている。コモン電極と層間絶縁膜は平坦化膜を兼ねた、有機パッシベーション膜の上に形成される。
一方、液晶表示装置において、高精細画面として画素のサイズを小さくすると、画素電極とTFTのソース電極を接続するスルーホールの径の占める割合が大きくなる。
上記のようなIPS方式の液晶表示装置において、画素に占めるスルーホールの径の割合が大きくなると、有機パッシベーション膜とその上に形成される層間絶縁膜との接着強度が弱くなり、層間絶縁膜が剥がれるという問題を生ずる。特許文献1には、層間絶縁膜をスルーホール内には形成せず、有機パッシベーション膜の上にのみ形成することによって、層間絶縁膜に対するストレスを軽減し、層間絶縁膜の剥離を防止する構成が記載されている。
高精細画面となり、画素が小さくなるにしたがって、スルーホールの径も小さくしようとすると、スルーホールの壁部のテーパ角(以後スルーホールのテーパ角ということもある)を大きくしなければならない。一方、液晶を初期配向させるために配向膜が使用されるが、この配向膜材料は当初は液体の状態のものをフレキソ印刷あるいはインクジェット等によって塗布する。
スルーホールのテーパ角を大きくすると、配向膜材料を塗布した場合、表面張力のために、配向膜材料がスルーホール内に入り込まないという現象を生ずる。そうすると、スルーホール付近において、液晶の初期配向不良による光漏れや配向膜の膜厚むらによる輝度ばらつき等の表示不良を生ずる。「特許文献2」は、スルーホールの上辺の周辺において、高さを変化させることによって、配向膜がスルーホール内に流れ込みやすくした構成が記載されている。
特開2011−59314号公報 特開2007−322563号公報
最近は、小型の液晶表示装置においても、VGA(Video Graphics Array、640×480ドット)のような高精細画面が要求されている。ここで、ドットとは、赤画素、緑画素、青画素の3ピクセルがセットになったものであるから、ピクセル数でいうと1920×480になる。3インチの画面でVGAを可能にするには、ピクセルの短径は32μmというように、非常に小さなものになる。
画素が小さくなっても、所定の透過率を維持するためには、小さな面積にTFT、スルーホール等を配置し、画素電極面積が占める割合を出来るだけ大きくする必要がある。スルーホールの占める面積を小さくしようとすると、スルーホールのテーパ角が大きくなり、配向膜材料がスルーホール内にながれこみにくくなり、液晶の初期配向不良による光漏れや配向膜の膜厚むらによる輝度ばらつき等の表示不良を生ずる。
特許文献2に記載の構成のように、スルーホールの上部周囲において、高低差を設けようとすると、いわゆる有機パッシベーション膜を使用することが出来なくなる。有機パッシベーション膜は2乃至4μmと厚く形成されるので、表面が平坦になり、スルーホールの周囲において、高低差を形成することが困難になるからである。
一方、液晶表示装置の種類によっては、液晶層の層厚を一定にしたい等の要請から、有機パッシベーション膜を使用する必要がある。また、有機パッシベーション膜は膜厚が2乃至4μmと厚く形成されるので、有機パッシベーション膜にスルーホールを形成すると、スルーホールの占める面積が大きくなるという問題がさらに深刻になる。
図10は、IPS方式の液晶表示装置において、上記の問題点を示した断面図である。図10において、TFT基板100の上にゲート絶縁膜101が形成され、その上に図示しないTFTからのソース電極102が形成されている。ソース電極102およびゲート絶縁膜101の上に有機パッシベーション膜103が形成され、有機パッシベーション膜103の上にコモン電極104が形成されている。コモン電極104を覆って層間絶縁膜105が形成され、層間絶縁膜105の上にスリット1061を有する画素電極106が形成されている。
画素電極106は有機パッシベーション膜103および層間絶縁膜105に形成されたスルーホール108を介してソース電極102と接続している。画面が高精細となり、画素の面積が小さくなると、画素の透過率を確保するために、スルーホール108のテーパ角α0を大きくしてスルーホール占める面積を小さくする必要がある。
しかし、図10に示すように、スルーホール108のテーパ角α0が大きいと、当初液体である配向膜材料は、スルーホール108の上底1081からスルーホールの内部に流れ込みにくくなる。そうすると、スルーホールの内部に配向膜が形成されないという問題が生ずる。さらに、スルーホールの周辺において、配向膜107の厚さが大きくなり、配向膜107の膜厚むらが生ずるという問題も生ずる。そうすると、スルーホール108およびその周辺において液晶分子の初期配向不良による光漏れや配向膜の膜厚むらによる輝度ばらつき等の表示不良を生ずる。
本発明の課題は、TFT基板に有機パッシベーション膜を使用した液晶表示装置において、高精細画面として、画素の面積を小さくした場合にスルーホールの占める面積を限定した場合でも、配向膜材料がスルーホール内に入り込みやすくした液晶表示装置を実現することである。
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
(1)有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上にスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してTFTのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するTFT基板と、前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有し、前記カラーフィルタと前記カラーフィルタの間にブラックマトリクスが形成された対向基板を有し、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールの断面は、前記対向基板に近い側が上底であり、前記ソース電極の側が下底であり、前記上底の径は前記下底の径よりも大きく、前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの前記上底に近い側のテーパ角は、前記下底に近い側のテーパ角よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
(2)前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/6の位置における前記テーパ角は前記上底からD/3の位置におけるテーパ角よりも小さいことを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(3)前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/3の位置における前記テーパ角は前記上底から2D/3の位置におけるテーパ角よりも小さいことを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(4)有機パッシベーション膜の上に画素電極が形成され、前記画素電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上にスリットを有するコモン電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してTFTのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するTFT基板と、前記画素に対応する部分にカラーフィルタを有し、前記カラーフィルタと前記カラーフィルタの間にブラックマトリクスが形成された対向基板を有し、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールの断面は、前記対向基板に近い側が上底であり、前記ソース電極の側が下底であり、前記上底の径は前記下底の径よりも大きく、前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの前記上底に近い側のテーパ角は、前記下底に近い側のテーパ角よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
本発明によれば、高精細画面とし、画素の面積を小さくし、TFT基板に有機パッシベーション膜を使用した液晶表示装置であって、スルーホール径を小さくしても液晶配向膜材料を安定して、スルーホール内に形成することが出来る。したがって、スルーホール内に配向膜が存在しないことに起因する、あるいは、スルーホール周辺における配向膜の膜厚むらに起因する輝度ばらつき等の表示不良を防止することが出来る。
本発明が適用される液晶表示装置の画素の平面図である。 スルーホールの平面形状の例である。 実施例1の液晶表示装置の画素におけるスルーホール部分の断面図である。 実施例1の有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールの断面図である。 実施例1の有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールで壁面が滑らかになった場合の断面図である。 図5の詳細断面図である。 実施例1において、スルーホールに、3種類のテーパ角を形成した場合の断面図である。 実施例1において、第1テーパ角と第2のテーパ角の間に段部を設けたスルーホールの例を示す断面図である。 実施例2の液晶表示装置であって、スルーホール内も画像形成に利用した例である。 従来例の液晶表示装置におけるスルーホール付近の断面図である。
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
図1は、本発明が適用される液晶表示装置のTFT基板100における画素の平面図である。図1は、IPS方式の液晶表示装置の例である。図1において、走査線10が横方向に延在し、所定のピッチPYで縦方向に配列している。また、映像信号線20が縦方向に延在し、所定のピッチPXで横方向に配列している。走査線10と映像信号線20で囲まれた領域が画素となっている。
図1において、走査線10からゲート電極11が分岐し、ゲート電極11の上に半導体層30が形成されている。映像信号線20から分岐したドレイン電極21が半導体層30の上に形成されている。一方、ソース電極102が半導体層30の上に形成され、ソース電極102は画素電極106方向に延在し、画素電極106とオーバーラップする部分で、かつ、スルーホール108の下側では、幅が広くなっている。ソース電極102は、スルーホール108における光漏れを防止する遮光膜を兼ねている。
図1において、スリット1061を有する画素電極106が長方形状に形成されている。画素電極106の下には図示しない層間絶縁膜が形成され、その下に図示しない平面状のコモン電極が形成されている。画素電極106からの電気力線がスリット1061部分を通って図示しないコモン電極に向かって形成される。
図1において、画素電極106はスルーホール108を介してソース電極102と接続している。スルーホール108は図示しない膜厚の大きい有機パッシベーション膜に形成されるので、テーパを有し、径の大きい上底1081と径の小さい下底1082を有する。ソース電極102はスルーホール108よりもやや大きく形成され、スルーホール108に対する遮光膜の役割を兼ねている。
図1において、画素は長方形であるが、画素の小さいほうの径はPXである。また、図1におけるスルーホール108はほぼ正方形であるが、その横径はTXである。図2は、スルーホール108の平面形状の他の例である。図2(A)はスルーホール108が長方形の場合であり、短径はTXである。図2(B)はスルーホール108が円の場合であり、この場合の径は一定でTXである。図2(C)は、スルーホール108が楕円の場合であり、短径はTXである。
高精細画面においては、画素の面積が小さくなり、画素の面積に対してスルーホールの占める面積が相対的に大きくなる。具体的には、本発明は、スルーホールの短径TXが画素の短径PXの1/4以上の場合において、特に効果がある。画素の透過率を維持するためには、画素の面積が小さくなるにしたがって、スルーホールの面積も小さくするが、この場合、スルーホールのテーパを大きくすると、配向膜材料がスルーホール内に入り込みにくくなる。
図3は、この問題を対策した本発明のスルーホール108を含む部分の液晶表示装置の断面図である。図3において、TFT基板100の上にゲート絶縁膜101が形成され、その上にソース電極102が形成され、さらに、その上に有機パッシベーション膜103が形成されることは従来と同様である。本発明の特徴は、有機パッシベーション膜103のスルーホール108の形状である。
図3において、有機パッシベーション膜103に形成されるスルーホール108は、屈曲点を有し、上側のテーパ角α2のほうが下側のテーパ角α1よりも小さくなっている。しかし、有機パッシベーション膜103の上底の径は従来例と同じである。したがって、スルーホールの面積の画素に占める割合は従来と同じである。
有機パッシベーション膜103の上にコモン電極104が透明導電膜であるITO(Indium Tin Oxide)によって平面状に形成されている。コモン電極104は層間絶縁膜105によって覆われている。層間絶縁膜105は有機パッシベーション膜103に沿って形成され、スルーホール108が形成されている。層間絶縁膜105の上に画素電極106が形成されている。画素電極106はスルーホール108において、ソース電極102と接続し、TFTを介して画素電極106に映像信号が供給される。
画素電極106はスリット1061を有し、画素電極106からの電気力線がスリット1061を通して下方のコモン電極104に伸び、この電気力線によって液晶分子301を駆動し、画素における光の透過を制御する。画素電極106の上に配向膜107が形成されている。スルーホール108の上方のテーパ角が小さいため、当初液体である配向膜材料は、スルーホール108内に入り込みやすくなっている。したがって、本発明においては、図10に示したような、配向膜材料がスルーホール108に入り込まないという問題点は解決されている。
図3において、TFT基板100と対向して対向基板200が配置され、TFT基板100と対向基板200の間に液晶層300が挟持されている。対向基板200において、画素電極106に対応してカラーフィルタが形成されている。しかし、スルーホール108に対応した部分にはブラックマトリクス202が形成されている。スルーホール108部分は画素形成に寄与しないので、コントラストを向上させるためにブラックマトリクス202によって遮光している。カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202を覆ってオーバーコート膜203が形成されている。オーバーコート膜203を覆って配向膜107が形成されている。
図3において、TFT基板100における有機パッシベーション膜103は他の膜に比較して膜厚が大きいので、スルーホール108の形状は、有機パッシベーション膜103のスルーホール108の形状によって決まる。図4は、有機パッシベーション膜103のスルーホール108部の形状を示す断面図である。有機パッシベーション膜103の膜厚Dは2乃至4μm程度であり、他の膜に比較して非常に厚い。
有機パッシベーション膜103は感光性樹脂が使用されるので、パターニングにレジストを使用する必要がない。感光性樹脂としては、アクリル系、シリコン系等の樹脂が使用される。また、現像後の加熱によって、テーパ角度を制御することが可能であるポジ型の感光性樹脂が使用される。
図4において、スルーホールの上底付近のテーパ角α2は、下底付近のテーパ角α1よりも小さい。配向膜材料がスルーホール内に流れ込みやすくするためである。図4において、スルーホールは上底1081と下底1082の間において屈曲点1083を有し、これによって、スルーホールの108の上底1081と下底1082におけるテーパ角に差を持たせている。図4において、スルーホールの上底1081付近のテーパ角α2は、10度以上60度以下であり、より好ましくは、10度以上50度以下である。
図4において、有機パッシベーション膜103の膜厚をDとしたとき、有機パッシベーション膜103の上面からD/3の位置におけるテーパ角α2は、有機パッシベーション膜103の上面から2D/3の位置におけるテーパ角α1よりも小さい。あるいは、有機パッシベーション膜103の上面からD/3より上の位置におけるテーパ角は、有機パッシベーション膜の上面から2D/3の位置より下側のテーパ角よりも小さい部分が存在するということも出来る。
図4において、上側のテーパ角α2は、C−C線を基準に測定する。C−C線は、有機パッシベーション膜103の上面を結んだ線であるA−A線と平行な線である。また、下側のテーパ角α1は、B−B線を基準に測定する。B−B線は、有機パッシベーション膜103の上面を結んだ線であるA−A線と平行な線である。
このようにスルーホール108に屈曲点1083を持たせ、スルーホール108の上底1081側のテーパ角を下底1082側のテーパ角よりも小さくする方法は、ハーフ露光方法を用いて行うことが出来る。すなわち、有機パッシベーション膜103はポジ型の感光性樹脂であるから、上底1081付近における露光量を下底付近における露光量1082よりも小さくすることによって、テーパ角に差を持たせることが出来る。
ハーフ露光は、マスクの透過率を変えることによって行われる。例えば、スルーホール108の中心付近では、完全な透過とし、スルーホール108の外側は完全な遮光とし、中間部分のハーフ露光する部分は、例えば、細かいスリットを形成して光の透過を制御することが出来る。テーパ角度はハーフ露光部分におけるスリットの密度を変化させることによって制御することが出来る。
本発明においては、有機パッシベーション膜103にポジ型感光性樹脂を使用しているので、現像後の加熱によって、スルーホール108のテーパをなだらかにすることが出来る。図5は、現像後、加熱することによって、スルーホール108のテーパをなだらかにした例であり、点線1085が加熱後のスルーホール108の形状を示している。この場合、屈曲点は明確には見えない場合が多い。
図5において、有機パッシベーション膜103の膜厚をDとした場合、有機パッシベーション膜103の上面からD/3の位置におけるスルーホール108の壁の接線がC−C線とのなす角度α2は、上面から2D/3の位置におけるスルーホール108の壁の接線がB−B線とのなす角度α1よりも小さい。あるいは、有機パッシベーション膜103の上面からD/3より上の位置におけるスルーホール108の壁の接線がC−C線とのなす角度は、有機パッシベーション膜103の上面から2D/3の位置より下側におけるスルーホール108の壁の接線がB−B線とのなす角度より小さい部分が存在するということも出来る。ここで、B−B線およびC−C線は有機パッシベーション膜103の上面を結ぶA−A線と平行な線である。
図6は、現像後、加熱することによって、スルーホールのテーパをなだらかにした例をさらに詳しく描いた断面図であり、点線1085が加熱後のスルーホールの形状を示している。図6において、有機パッシベーション膜103の膜厚をDとした場合、有機パッシベーション膜103の上面からD/6の位置におけるスルーホール108の壁の接線がE−E線とのなす角度α3は、上面からD/3の位置におけるスルーホール108の壁の接線がC−C線とのなす角度α2よりも小さい。あるいは、有機パッシベーション膜103の上面からD/6より上の位置におけるスルーホール108の壁の接線がE−E線とのなす角度は、有機パッシベーション膜103の上面からD/3より下の位置におけるスルーホール108の壁の接線がC−C線とのなす角度より小さい部分が存在するということも出来る。ここで、E−E線およびC−C線は有機パッシベーション膜103の上面を結ぶA−A線と平行な線である。
また、図6において、角度α2とα1の関係は、図5において説明したのと同様である。したがって、図6において、スルーホールのテーパ角は、α1<α2<α3の関係となっている。すなわち、図6において、スルーホール108の上方におけるほど、スルーホール108のテーパ角は小さくなっている。したがって、図6に示すスルーホール108は、液体である配向膜材料はスルーホール内に流れ込みやすい形状となっている。またテーパ角α1が大きく急峻なほど実効的なスルーホールの占める割合を小さくすることができ、画素の透過率を向上させる効果も期待できる。図6において、テーパ角α1は、60度以上、より好ましくは70度以上である。
図7は、スルーホール108に屈曲点を2箇所設けて、スルーホール108のテーパ角を3種類形成し、スルーホール108の上底1081側ほどテーパ角を小さくした構造のスルーホール108の断面図である。図7のようなスルーホール108は、透過率の異なる2種類のハーフ露光を用いることによって形成することが出来る。
図7において、有機パッシベーション膜103の膜厚をDとしたとき、スルーホール108の上面からD/6下方におけるテーパ角はα3であり、スルーホール108の上面からD/3下方におけるテーパ角はα2であり、スルーホール108の上面から2D/3下方におけるテーパ角はα1である。テーパ角α3の基準となるE−E線、テーパ角α2の基準となるC−C線、テーパ角α3の基準となるB−B線は各々、有機パッシベーション膜103の上面を結ぶA−A線と平行な線である。図7において、スルーホール108の上底付近のテーパ角α3は、10度以上、45度以下、より好ましくは、10度以上30度以下である。
図7は、現像後のスルーホール108の断面である。有機パッシベーション膜103はポジ型を用いているので、現像後、加熱することによって、スルーホール108の形状がなだらかになり、2つの屈曲点1083が見えなくなり、スルーホール108の上底1081側ほどテーパ角が小さい滑らかな曲線とすることが出来る。またテーパ角α1が大きく急峻なほど実効的なスルーホールの占める割合を小さくすることができ、画素の透過率を向上させる効果も期待できる。図7において、テーパ角α1は、60度以上、より好ましくは70度以上である。
図8は、本実施例によるスルーホール108の他の形態を示す断面図である。図8が図4等と異なる点は、テーパ角α1を有する第1の壁面とテーパ角α2を有する第2の壁面との間に段部1084が形成されている点である。ここで、テーパ角α2はスルーホール108の上面からD/3の位置におけるテーパ角であり、テーパ角α1はスルーホールの上面から2D/3の位置におけるテーパ角である。
図8において、テーパ角α2は、テーパ角α1よりも小さい。図8において、スルーホール108の上底1091付近のテーパ角α2は、10度以上60度以下、より好ましくは、10度以上50度以下である。
テーパ角α1と段部1084との間は角度が大きいが、段部の幅wは小さいので、この部分において液体である配向膜材料が溜まることはない。一方、スルーホール108の上面に近い第2の壁のテーパα2は小さいので、配向膜材料がスルーホール108の上底1081付近で溜まり、スルーホール108内に流入しないという現象は免れる。したがって、図8のようなスルーホール108形状であっても、配向膜材料がスルーホール108内に流入しやすいことに変わりは無い。またテーパ角α1が大きく急峻なほど実効的なスルーホールの占める割合を狭めることができ、画素の透過率を向上させる効果も期待できる。
本実施例は、実施例1における図3あるいは図4に示すように、スルーホール108に屈曲点を形成し、スルーホール108の上底に近い部分のテーパ角を下底に近い部分のテーパ角よりも小さくすることによって、配向膜材料がスルーホール108内に流れ込み易くしたことによって、スルーホール内にも配向膜107を一様に形成することが出来ることを利用して、スルーホール108内も液晶分子301の配向を可能にし、画素の透過率を向上させることが出来る構成を実現するものである。
本実施例を示す図9において、ゲート絶縁膜101の上に有機パッシベーション膜103が形成されている。有機パッシベーション膜103に形成されたスルーホール108は上底に近い部分のテーパ角のほうが下底に近い部分のテーパ角よりも小さい。有機パッシベーション膜103の上には、スルーホール108の下底に近い部分にまでコモン電極104が形成されている。但し、コモン電極104はゲート絶縁膜の上に形成されたソース電極102とは導通していない。
コモン電極104を覆って層間絶縁膜105が形成され、層間絶縁膜105の上に画素電極106が形成されている。画素電極106には、スルーホール108にまでスリット1061が形成されている。したがって、図9の構成によれば、スルーホール108の内部まで、液晶分子301を制御することが出来る。つまり、スルーホール108の部分も画像形成に利用することが出来るで、画素の透過率を向上させることが出来、画面の輝度を上げることが可能になる。
画素電極106の上には配向膜107が形成されているが、スルーホール108の上底に近い部分はテーパ角が小さくなっており、配向膜材料がスルーホール108内に流入しやすくなっているので、スルーホール108内にも一様に配向膜107を形成することが出来、スルーホール108内にコモン電極1061が形成され、画素電極106のスリット1061が形成された部分まで、画像形成に利用することが出来る。
従来は、スルーホール108内では、液晶分子301は制御されないので、スルーホール108における光漏れを防止するために、遮光膜としての役割を有するソース電極102は、スルーホール108の下部において、スルーホール108全体を覆っていた。また、対向基板200に形成された遮光のためのブラックマトリクス202もスルーホール108全体を覆っていた。その分、画素における透過率が減少していた。
本実施例における図9を実施例1の図3と比較するとわかるように、遮光のためのソース電極で幅SW、および、ブラックマトリクスの幅BWは図9におけるほうか図3におけるよりも小さくなっている。言い換えると、図9におけるソース電極102の面積および対向基板200に形成されたブラックマトリクス202の面積は、図3におけるソース電極102の面積および対向基板200に形成されたブラックマトリクス202の面積よりも小さい。その分、図9の構成では画素の透過率を上げることが出来る。特に、スルーホールの上程からD/3の位置におけるテーパ角が小さく緩やかで、2D/3の位置におけるテーパ角が急峻なほど液晶層厚みの影響を受けず有効な表示が可能な領域を確保し、画素の透過率を向上させる効果も大きい。なお、図9における対向基板200の構成は、ブラックマトリクス202の面積が小さい他は、図3で説明したのと同様であるから説明を省略する。
配向膜107は液晶分子301を初期配向させるための配向処理を行うことが必要である。従来行われてきたラビング処理では、凹部における配向膜107にまでラビングすることが困難である。これに対して、偏光紫外線を用いて配向膜107に一軸異方性を与える、いわゆる光配向処理の方法がある。光配向は、スルーホール108の内側にまで、偏光紫外線を照射することが可能なので、スルーホール108の内部の配向膜に対して配向処理を行うことが出来る。
本発明では、スルーホール108の上底に近い部分は、スルーホール108のテーパ角が小さいので、この部分に画素電極106のスリット1061を形成し、画像形成のための領域として用いることは容易である。
以上は、有機パッシベーション膜103の上にコモン電極104を形成し、これを覆って層間絶縁膜105を形成し、その上にスリット1061を有する画素電極106を形成するいわゆる画素電極トップの構成について説明した。一方、有機パッシベーション膜103の上に画素電極106を形成し、これを覆って層間絶縁膜105を形成し、その上にスリットを有するコモン電極104を形成するいわゆるコモン電極トップの構成が存在する。この構成も、スルーホール108内においては、画素電極106がソース電極102と接続し、その上に層間絶縁膜104が形成され、その上にコモン電極104がスルーホール内全体に形成されている。
このようなコモン電極トップ構造のIPS方式液晶表示装置においても、本発明を適用することが出来る。すなわち、有機パッシベーション膜103のスルーホール上底に近い部分のテーパ角を下底に近い部分のテーパ角よりも小さくすることによって、液晶材料がスルーホール内に流れ込みやすくすることは、実施例1で説明したのと同様である。また、スルーホール内のコモン電極104にスリットを形成することによって、スルーホール内も画像形成に寄与させることが出来ることも、実施例2で説明したのと同様である。
また、画素のスイッチング素子として使用されるTFTは、ゲートトップ構造とゲートボトム構造とが存在する。図3に示す構成は、ゲートボトム型のTFTを前提としているが、これに限らず、本発明はいずれのTFT構造の場合についても適用することが出来る。また、以上の実施例では、IPS方式の液晶表示装置を例にとって説明したが、本発明は、配向膜を有する他の方式の液晶表示装置についても適用することが出来る。
以上の説明では、ゲート絶縁膜およびソース電極の上に有機パッシベーション膜が直接形成されている構成について説明したが、ゲート絶縁膜およびソース電極の上にSiN等の無機パッシベーション膜が形成されている構成の場合であっても本発明を適用することが出来る。
また、以上の説明では、カラーフィルタを対向基板に形成した構成であるが、カラーフィルタをTFT基板側に形成した場合にも本発明を適用することが出来る。また、以上の実施例において、着色した有機パッシベーション膜をカラーフィルタとして使用することも可能である。この場合も本発明を問題なく適用することが出来る。すなわち、これらの場合は、カラーフィルタが各実施例における有機パッシベーション膜に相当するとして本発明を適用すればよい。
10…走査線、 11…ゲート電極、 20…映像信号線、 21…ドレイン電極、 30…半導体層、 100…TFT基板、 101…ゲート絶縁膜、 102…ソース電極、 103…有機パッシベーション膜、 104…コモン電極、 105…層間絶縁膜、 106…画素電極、 107…配向膜、 108…スルーホール、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ、 202…ブラックマトリクス、 203…オーバーコート膜、 300…液晶層、 301…液晶分子、 1081…スルーホール上底、 1082…スルーホール下底、 1083…スルーホール屈曲点、 1084…スルーホール段部、 1085…熱処理後のスルーホール

Claims (12)

  1. 有機パッシベーション膜の上にコモン電極が形成され、前記コモン電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上にスリットを有する画素電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してTFTのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するTFT基板と、対向基板を有し、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
    前記有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールの断面は、前記対向基板に近い側が上底であり、前記ソース電極の側が下底であり、前記画素の短径が延在する方向の前記上底の径は、前記画素の前記短径の1/4以上であり、
    前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/3の位置におけるテーパ角は、前記上底から2D/3の位置におけるテーパ角よりも小さく、
    前記上底から2D/3の位置における前記テーパ角は60度以上であることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/6の位置におけるテーパ角は前記上底からD/3の位置における前記テーパ角よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/3の位置における前記テーパ角は前記上底から2D/3の位置における前記テーパ角よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. 前記上底からD/6の位置における前記テーパ角は10度乃至30度であることを特徴とする請求項2または3に記載の液晶表示装置。
  5. 前記上底からD/3の位置における前記テーパ角は10度乃至50度であることを特徴とする請求項2または3に記載の液晶表示装置
  6. 前記画素電極には、前記スルーホール内においても前記スリットが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  7. 有機パッシベーション膜の上に画素電極が形成され、前記画素電極を覆って、層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の上にスリットを有するコモン電極が形成され、前記有機パッシベーション膜および前記層間絶縁膜に形成されたスルーホールを介してTFTのソース電極と画素電極が導通する構成の画素を有するTFT基板と、対向基板を有し、前記TFT基板と前記対向基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
    前記有機パッシベーション膜に形成されたスルーホールの断面は、前記対向基板に近い側が上底であり、前記ソース電極の側が下底であり、前記画素の短径が延在する方向の前記上底の径は、前記画素の前記短径の1/4以上であり、
    前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前
    記上底からD/3の位置におけるテーパ角は、前記上底から2D/3の位置におけるテーパ角よりも小さく、
    前記上底から2D/3の位置における前記テーパ角は、60度以上であることを特徴とする液晶表示装置。
  8. 前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/6の位置におけるテーパ角は前記上底からD/3の位置における前記テーパ角よりも小さいことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. 前記有機パッシベーション膜に形成された前記スルーホールの深さをDとしたとき、前記上底からD/3の位置における前記テーパ角は前記上底から2D/3の位置における前記テーパ角よりも小さいことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
  10. 前記上底からD/6の位置における前記テーパ角は10度乃至30度であることを特徴とする請求項8または9に記載の液晶表示装置。
  11. 前記上底からD/3の位置における前記テーパ角は10度乃至50度であることを特徴とする請求項8または9に記載の液晶表示装置。
  12. 前記コモン電極には、前記スルーホール内においても前記スリットが形成されていることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
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