JP6810718B2 - 表示装置、及び表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、表示装置、及び表示装置の製造方法に関する。

従来、一対の基板間に液晶層を挟持させた液晶表示装置が知られている。これらの液晶表示装置では、液晶層は、各基板の内面に印刷方式やインクジェット方式によって形成された配向膜に挟まれて保持されている。配向膜は、インクのパターンエッジにおいて、厚みにムラが生じることがあり、配向膜の厚みムラに起因する表示品位の低下の原因となっていた。

そこで、表示装置の駆動領域の隣接部分に、微細な矩形の溝を複数配置することで、配向膜材料の誘導性を確保して、駆動領域と隣接部分との間の配向膜材料の配置状況の差を低減している表示装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７−２６３９９８号公報（２００７年１０月１１日公開）

しかしながら、上述の従来技術では、画素端に位置する印刷エッジのインクの盛り上がりを引き込みにくく、膜厚ムラを生じやすいため、表示不良が生じていた。

本発明の一態様は、表示領域に塗布されるインクのパターンを安定させ、表示領域におけるインク厚の乱れを低減する技術を実現することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る表示装置は、基板の表示領域にインクを塗布して形成される表示装置であって、上記基板には、上記インクを誘引する穴部が設けられており、上記穴部は、上記インクが流れ込む方向と直交する第３のテーパーが複数段の段形状に形成されており、上記第３のテーパーの各段の頂点を結ぶ接線角の角度は、上記インクが流れ込む側の第１のテーパー及び上記インクが押し出される側の第２のテーパーの角度よりも緩やかになるように構成されている。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法は、基板の表示領域にインクを塗布して形成される表示装置の製造方法であって、上記基板に透明層間絶縁膜を形成する絶縁膜形成ステップと、上記絶縁膜形成ステップにおいて形成された透明層間絶縁膜に、露光マスクを用いて現像を行うことにより、上記インクを誘引する穴部を形成する穴部形成ステップと、を含み、上記穴部形成ステップでは、上記インクが流れ込む方向と直交する第３のテーパーを複数段の段形状に形成し、上記第３のテーパーの各段の頂点を結ぶ接線角の角度を、上記インクが流れ込む側の第１のテーパー及び上記インクが押し出される側の第２のテーパーの角度よりも緩やかに形成する方法である。

本発明の一態様によれば、表示領域に塗布されるインクのパターンを安定させ、表示領域におけるインク厚の乱れを低減することができる。

実施形態１に係る表示装置の概略構成を模式的に示す平面図である。 基板の部分拡大図である。 穴部の構成を示す図であり、（ａ）は穴部の平面図、（ｂ）は穴部の断面図である。 穴部の構成を示す図であり、（ａ）は穴部の平面図、（ｂ）は穴部の断面図である。 穴部の形状と、インクの穴部への流れ込み方向との関係を模式的に示す図である。 穴部の形状と、インクの穴部への流れ込み方向との関係を模式的に示す図である。 マスクの平面図である。 （ａ）〜（ｃ）は穴部の形成工程を示す図である。 変形例１の穴部の配置構成を示す図である。 変形例２の穴部の配置構成を示す図である。 変形例３の穴部の配置構成を示す図である。 変形例４の穴部の配置構成を示す図である。 実施形態２に係る穴部の配置構成を示す平面図である。 実施形態２に係る穴部の断面図であり、図１３のＡ−Ａ断面図である。 実施形態２に係る穴部の断面図であり、図１３のＢ−Ｂ断面図である。 変形例の穴部の配置構成を示す平面図である。 変形例の穴部の断面図であり、図１６のＡ−Ａ断面図である。 変形例の穴部の断面図であり、図１６のＢ−Ｂ断面図である。 変形例の穴部の断面図であり、印刷方向に平行な方向で穴部２５を切断した断面を示す図である。 変形例の穴部の断面図であり、印刷方向に直交する方向で穴部２５を切断した断面を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は実施形態３に係る穴部の形成工程を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は実施形態３に係る穴部の形成工程を示す図である。

以下の説明において、表示装置１は、一対の基板間に液晶層を挟持させた液晶表示装置である場合を例に説明するが、表示装置１は、液晶表示装置に限定されるものではない。本実施形態にかかる表示装置１は、例えば、電気光学素子としてＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）を備えた有機ＥＬディスプレイ、電気光学素子として無機発光ダイオードを備えた無機ＥＬディスプレイ、電気光学素子としてＱＬＥＤ（Quantum dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）を備えたＱＬＥＤディスプレイ等であってもよい。

〔実施形態１〕
以下、本発明の一実施形態について、詳細に説明する。

図１は、表示装置１の概略構成を模式的に示す平面図である。表示装置１は、図示は省略するが、液晶表示パネルと、液晶表示パネルを駆動する駆動回路と、液晶表示パネルに光を照射する照明装置と、を備え、表示領域１０に画像をディスプレイ表示する。

液晶表示パネルでは、互いに対向して設けられた一対の基板２間に、表示用の媒質層としての液晶層が挟持されている。表示装置１は、一方の基板（アレイ基板）がＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が設けられたＴＦＴ基板である。ＴＦＴ基板は、ガラス基板上に絶縁層が設けられ、絶縁層上に共通電極および画素電極が設けられ、これらの電極を覆うように配向膜が設けられて構成されている。表示装置１の他方の基板（カラーフィルター基板）は、ガラス基板上に、カラーフィルター、誘電体層および配向膜を順に積層して構成されている。

配向膜は、配向膜材料を基板２上に、所望の膜厚となるように印刷法やインクジェット法などにより塗布して形成される。このように、配向膜が形成された一対の基板２は、スペーサにより所望のギャップを保持してシール剤によって貼り合わせられる。液晶パネルは、この基板２間の空隙に、液晶材料を含む媒質を封入することにより形成される。

このように、表示装置１は、基板２の表示領域１０にインクを塗布して形成される表示装置であって、例えば表示装置１がＱＬＥＤの場合には、表示領域１０には量子ドットを含むインクが印刷法やインクジェット法等により塗布される。

（表示装置１の構成について）
図１に示すように、表示装置１は、表示領域１０と、額縁領域２０と、端子領域４０と、を備えている。表示領域１０は、画像をディスプレイ表示する領域であり、複数の画素が、マトリクス状に配列されている。額縁領域２０は、表示領域１０の周囲の領域であり、一対の基板２をシール剤によって貼り合わせるシール部２１（図２参照）を含む領域である。端子領域４０には、金属薄膜でパターニングされた端子が形成され、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）が圧着されている。

図２は、基板２の部分拡大図である。ところで、配向膜の膜厚は、所定の厚さが有るため、額縁領域２０のシール部２１を、表示領域１０のパターンのエッジ１１から所定距離（例えば０．３ｍｍ以上）離す必要がある。

（穴部２５の構成について）
図２に示すように、基板２には、表示領域１０のパターンのエッジ１１から所定距離の領域Ａに、穴部２５が設けられている。領域Ａは、表示領域のパターンのエッジ１１から穴部２５のセンターまでの距離である。穴部２５の構成について後に詳述するが、穴部２５は、表示領域１０に塗布されたインクを誘引するための構造である。このように、基板２に、表示領域１０に塗布されたインクを誘引するための穴部２５を設けることで、表示領域１０において、インクの膜厚が不均一な領域が形成されるのを防ぐことができる。

また、配向膜とシールの密着性が悪い場合には、額縁領域２０のシール部２１とオーバーラップ量を調整する必要があり、シール部２１の最外周端から少なくとも０．２ｍｍ〜０．５ｍｍの距離（領域Ｂ）となるようにインク塗布位置やインク塗布量を制御することが望ましい。領域Ｂは、シール部２１の最外周端から穴部２５のセンターまでの距離である。

なお、穴部２５は、穴部２５のエッジが、表示領域１０のパターンのエッジ１１と接する位置まで近づけることで、領域Ａを最小とすることもできる。これにより、表示領域１０に塗布されたインクを穴部２５に誘引するとともに、穴部２５から押し出して領域Ｂへ誘導することもでき、表示領域１０において、インクの膜厚が不均一な領域が形成されるのを防ぐことができる。

穴部２５は、表示領域１０の周囲に１列に並べて複数配置されている。隣合う穴部２５は、互いに重ならない程度まで近づけて配置されていてもよいし、１個の穴部２５の長径Ｌ１程度の距離のピッチを有して配置されていてもよい。なお、隣合う穴部２５は、互いに僅かに重なって配置されていても、表示領域１０に塗布されたインクを適度に誘引することができる。

穴部２５は、インクのパターンのエッジ１１に対して長径Ｌ１の方向（第３のテーパーが延びる方向）を平行にして配置されている。なお、穴部２５を用いてインクを誘引する構成は、アレイ基板、及びカラーフィルター基板の両方に適用することができ、透明層間絶縁膜、配向膜、ＵＶ硬化性オーバーコートなどのパターニングに適宜に適用することができる。

図３、及び図４は、穴部２５の構成を示す図であり、（ａ）は穴部２５の平面図、（ｂ）は穴部２５の断面図である。

図３の（ａ）に示すように、穴部２５は、一方の辺が、他方の辺よりも長く形成されている。本実施形態では、長い方の辺を長径Ｌ１と称し、短い方の辺を短径Ｌ２と称する。図３の（ｂ）は、穴部２５の、センターを通る短径Ｌ２での断面を示している。図３の（ｂ）に示すように、穴部２５は、短径Ｌ２の一方のテーパーである第１のテーパー２６のテーパー角度が、短径Ｌ２の他方のテーパーである第２のテーパー２７のテーパー角度よりも緩やかに形成されている。なお、テーパー角度は、法線となす角度を示すものとして定義している。

穴部２５は、第１のテーパー２６が、表示領域１０のパターンのエッジ１１からインクが流れ込む側に配置され、第２のテーパー２７が、穴部２５からインクが押し出される側に配置される。

第１のテーパー２６のテーパー角度は２５ｄｅｇ〜３５ｄｅｇであり、好適には３３ｄｅｇである。

図４の（ｂ）は、穴部２５の、センターを通る長径Ｌ１での断面を示している。図４の（ｂ）に示すように、穴部２５は、表示領域１０のパターンのエッジ１１からインクが流れ込む方向と直交する長径Ｌ１の両テーパーが、複数段の段形状に形成されている。この長径Ｌ１のテーパーを第３のテーパー３０と称する。本実施形態では、第３のテーパー３０は２段になっている例を示しているが、これに限らず、第３のテーパー３０は３段以上の複数段であってもよい。

第３のテーパー３０は、各段の頂点を結ぶ接線角の角度（テーパー角度）が５５ｄｅｇ以上であればよく、好適には６３ｄｅｇであるのが望ましい。第３のテーパー３０が、２段である構成では、穴部２５の底部３５から１段目の下段３１のテーパー角度が３５〜３６ｄｅｇ、２段目の上段３２のテーパー角度が５５〜５６ｄｅｇであるのが望ましい。

穴部２５は、最大外径が小さければ小さいほどインクを誘引しやすくすることができる。穴部２５は、例えば、最大外径が、長径Ｌ１を１８ｕｍ、短径Ｌ２を１４ｕｍとすることができる。また、第３のテーパー３０が、２段である穴部２５では、底部３５から１段目の下段３１の頂点における内径を、例えば、長径の側で１０ｕｍ、短径の側で６ｕｍとすることができる。なお、穴部２５の径寸法は、上述の各段の頂点を結ぶ接線角の角度と、各段のテーパー角度との関係を維持することができる範囲で更に小径としてもよい。

また、穴部２５は、下段３１の膜厚と、上段３２の膜厚とが、５０：５０で形成されていてもよいし、３０：７０や７０：３０で形成されていてもよく、その膜厚差によって限定されるものではない。

図５、及び図６は、穴部２５の形状と、インクの穴部２５への流れ込み方向との関係を模式的に示す図である。

図５は、穴部２５が、インクの塗布方向に沿って延びるテーパーの勾配だけが強く（急勾配）、インクの塗布方向に直交するテーパーの勾配がなだらかな形状である場合の、インクの塗布後の広がり方向と、インクの穴部２５への流れ込み方向との関係を示している。図５に示すように、インクの塗布方向に直交するテーパーの勾配をなだらかにすると、このなだらかな勾配によりインクの表面張力が決壊し、インクの塗布方向に対して垂直な方向に引き合う力が働く。これにより、なだらかな勾配に沿って穴部２５の内部にインクが誘引され、表示領域１０に塗布されたインクのパターンを安定させることができる。

また、図６は、穴部２５が、インクの塗布方向に沿って延びるテーパーのうち、インクが流れ込む側のテーパーの勾配が、インクが押し出される側のテーパーの勾配よりもなだらかな形状である場合のインクの塗布後の広がり方向と、インクの穴部２５への流れ込み方向との関係を示している。図６に示すように、インクが押し出される側のテーパーの勾配を強くすることで、インクが押し出される出口側で、インクを巻き込みながら穴部２５の内部にインクが入ろうとする作用が働く。よって、効率よくインクを穴部２５の内部に誘引することができ、表示領域１０に塗布されたインクのパターンを安定させることができる。

図３、及び図４に示したように、本実施形態の穴部２５は、インクが流れ込む側の第１のテーパー２６の角度が、インクが押し出される側の第２のテーパー２７の角度よりも緩やかに形成されている。さらに、穴部２５は、インクが流れ込む方向と直交する第３のテーパー３０のテーパー角度が第１のテーパー２６のテーパー角度、及び第２のテーパー２７のテーパー角度よりも緩やかに形成されている。よって、効率よくインクを穴部２５の内部に誘引することができ、表示領域１０に塗布されたインクのパターンを安定させることができる。

これらの構成によれば、穴部２５を表示領域１０の周囲に複数並べて設けたため、表示領域１０のエッジ１１において画素端で生じるインクの盛り上がりを穴部２５に効率良く誘導することができる。よって、表示領域１０の最外周の画素上の、例えばポリイミド膜等の膜厚を適切にコントロールすることができ、印刷精度の厳しい狭額縁設計の表示装置１にも好適に適用することができる。

（穴部２５の形成工程について）
図７は、穴部２５を形成する為に用いるマスク５０の一例を示す図である。図８は、穴部２５の形成工程を示す図であり、図８の（ａ）〜（ｃ）は各形成ステップを模式的に示す図である。

図７に示すように、マスク５０には、略中央部に設けられた５ｕｍ×５ｕｍの開口幅の開口５１と、大径開口５１の両サイドにそれぞれ設けられた１．５ｕｍ×４．５ｕｍの開口幅のスリット５２とが形成されている。マスク５０は、所謂グレートーンマスクであり、開口５１、及びスリット５２は、それぞれ露光量調整機能を備えている。

図８の（ａ）に示すように、穴部２５を形成する際には、まず、基板２の下地３６に、絶縁膜材料（例えば、ポジ有機材料）をスリットコーターで塗布し、真空乾燥、及びプリベークにより溶剤乾燥を行って透明層間絶縁膜３７を形成する。透明層間絶縁膜３７の膜厚は例えば３ｕｍとすることができる。（ＳＴＥＰ１）
なお、図示は省略するが、穴部２５の最上層には、パシベーション（ＳｉＮないしＳｉＯ）や透明電極（ＩＴＯないしＩＺＯ）が積層されてもよい。また、下地３６には、ベースコート（ＳｉＮ）やソースメタルが形成されていてもよい。

続いて、図８の（ｂ）に示すように、マスク５０越しにｉ線（３６５ｎｍ）を１９０ｍＪ程度、透明層間絶縁膜３７に対して照射する。これにより、透明層間絶縁膜３７には、開口５１、スリット５２の形状が露光される。（ＳＴＥＰ２）
図８の（ｃ）に示すように、露光された透明層間絶縁膜３７をアルカリ溶液、例えばＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）、を用いて現像する。現像後、１００℃で１０分間仮焼きを行い、更に２２０℃で４０分間追加加熱を行うことで、透明層間絶縁膜３７には、穴部２５が形成される。また、現像後の加熱によって、透明層間絶縁膜３７の膜厚は例えば２．３ｕｍとなっている。（ＳＴＥＰ３）
このように、インクを誘引する穴部２５の製造工程は、基板２に透明層間絶縁膜３７を形成する絶縁膜形成ステップと、絶縁膜形成ステップにおいて形成された透明層間絶縁膜３７に、露光用のマスク５０を用いて現像を行うことにより穴部２５形成する穴部形成ステップと、を含んでいる。そして、穴部形成ステップでは、第３のテーパー３０が、複数段の段形状に対応するスリット５２を備えた露光用のマスク５０を用い透明層間絶縁膜３７に現像を行うことにより１度の露光で形成される。

なお、図８の（ｃ）では、穴部２５を第３のテーパー３０の断面で示しているが、上記ＳＴＥＰ１〜３によって、第１のテーパー２６、及び第２のテーパー２７は、急峻なテーパー形状に形成されている。また、図示は省略するが、穴部２５は、透明層間絶縁膜３７に形成される構成に限らず、カラーフィルター用のオーバーコートで形成されていてもよい。

（変形例１）
図９は、穴部２５の配置構成の変形例１を示す図である。図９に示すように、表示領域１０の周囲には、複数の穴部２５が、複数列に並べて配置されていてもよい。この場合、各列間の穴部２５は、互いに重ならないようにできる限り近づけて配置されているのが望ましく、各列間の穴部２５のセンター間の距離を、穴部２５の短径L２と同じに設定してもよい。また、各列間の穴部２５をチドリ配置することで、各列間の穴部２５のセンター間の距離を、近づける構成としてもよい。

なお図９では、穴部２５は、表示領域１０の周囲に２列に配列されている例を示しているが、これに限らず、穴部２５は、表示領域１０の周囲に３列以上の複数列で配置されていてもよい。

（変形例２）
図１０は、穴部２５の配置構成の変形例２を示す図である。図１０に示すように、表示領域１０の周囲には、複数の穴部２５が、複数列に並べて配置されている。更に、表示領域１０の角部１２の周囲には、他の部分より多い列数で穴部２５が配置されている。穴部２５は、表示領域１０の角部１２の周囲では、角部１２の先端に対して放射状に配置されているのが望ましい。

表示領域１０に塗布されたインクは、表示領域１０の角部１２の周囲で平面的に円形に広がる。よって、表示領域１０の角部１２の周囲に、角部１２の先端に対して放射状に穴部２５を配置することで、効率よくインクを誘引することができる。

（変形例３）
図１１は、穴部２５の配置構成の変形例３を示す図である。図１１に示すように、穴部２５は、表示領域１０の角部１２の周囲に部分的に配置されていてもよい。表示領域１０の角部１２の周囲では、表示領域１０に塗布されたインクの広がり方が他の部分とは異なるため、角部１２の周囲に局所的にインクが流れたりする場合がある。

穴部２５を表示領域１０の角部１２の周囲に部分的に配置することにより、表示領域１０に塗布されたインクは、表示領域１０の全体から均等に額縁領域２０に誘導される。これにより、表示領域１０におけるインクのパターンを安定させ、インク厚の乱れを低減することができる。

（変形例４）
図１２は、穴部２５の配置構成の変形例４を示す図である。図１２に示すように、表示領域１０には、エッジ１１の一部が、平面視で直線ではなく湾曲した形状に形成された湾曲部１３を備える場合がある。このような湾曲部１３の周囲では、表示領域１０に塗布されたインクの広がり方が他の部分とは異なる。

湾曲部１３を有する表示領域１０の周囲に穴部２５を配列する場合には、穴部２５は、湾曲部１３の周囲では、湾曲部１３の湾曲したエッジ１１に沿って、並べられる。穴部２５は、湾曲部１３の周囲では、湾曲部１３の湾曲したエッジ１１に対して、長径Ｌ１が平行に並ぶように配列されるのが望ましい。

このように、湾曲部１３の周囲では、湾曲部１３の湾曲したエッジ１１に対して、長径Ｌ１が平行に並ぶように穴部２５を配列することで、表示領域１０の形状に沿った形で、表示領域１０に塗布されたインクを穴部２５に引き込むことができ、表示領域１０におけるインク厚の均一性を保つことができる。

湾曲部１３は、表示領域１０に形成された、指紋センサーやカメラ用のノッチ部であってもよく、穴部２５は、ノッチ部におけるインク厚の乱れを低減するためにも好適に用いることができる。

〔実施形態２〕
本発明の実施形態２について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

上述の実施形態１では、穴部２５が表示領域１０の周囲に配置されている例を示した。この実施形態２では、穴部２５に類似する構成を有する穴部１２５が、表示領域１０の画素中に配置されている例を示す。図１３は、穴部１２５の配置構成を示す平面図である。図１４、及び図１５は、穴部１２５の構成を示す断面図であり、図１４は図１３のＡ−Ａ断面図、図１５は図１３のＢ−Ｂ断面図である。

図１３に示すように、穴部１２５は、表示領域１０の画素中に配置されて、画素電極１７５に電流を流すための構造であり、画素電極１７５を、ソースメタル１６１、及び半導体層１７７を介してゲート１７６に接続する。穴部１２５は、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に対して直交する方向に長径Ｌ１が並ぶように配置される。

図１４、及び図１５に示すように、穴部１２５は、ベースコート１３６が塗布された下地の上に形成された透明絶縁膜１３７に形成されている。ベースコート１３６及び透明絶縁膜１３７の表面にはパシベーション１７１が積層されていてもよい。穴部１２５には、底部１３５にソースメタル１６１が配置され、図１４に示した、長径Ｌ１の断面に延びる第３のテーパー３０に沿って画素電極１６０が配置されている。ソースメタル１６１は、ソースバスライン電極１６１ａと、ドレイン電極１６１ｂと、を含んで構成されている。

穴部１２５に、表示領域１０に塗布されたインクが均一に誘引されない場合には、表示領域１０内にセサミムラ（またはサメ肌ムラ）と呼ばれる点状群のムラが発生する。穴部１２５を、インクの印刷方向に対して、長径Ｌ１が直交し、短径Ｌ２が平行になるように、配置することで、表示領域１０に塗布されたインクを均一に、穴部２５の内部に誘導することができ、表示領域１０内にセサミムラが発生するのを防ぐことができる。

穴部１２５は、ＩＰＳとして用いられる水平配向膜や、ＶＡで用いられる垂直配向、及び光配向膜のいずれにも適用することができる。更に穴部１２５は、ＯＬＥＤにおいても、有機ＥＬ層を印刷またはインクジェットで表示領域１０に形成する際の塗布ムラを回避するための構造として好適に用いることができる。このように、穴部１２５は、そのインク種に因らず（例えば、液晶配向膜インクや有機ＥＬ層インク等）、表示領域１０に塗布されたインクを、穴部１２５に導くことによって、表示領域１０におけるインク厚の乱れを低減することができる。

穴部１２５は、最大外径、及び、底部３５の径がより小さい構造であるほど、インクを効率良く穴部１２５内に誘導することができるため、セサミムラの対策として効果的である。穴部１２５は、底部３５の径が５μｍ以下であるのが望ましく、最大外径が底部３５の径より大きく、且つ１５μｍ以下であるのが望ましい。

穴部１２５は、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に平行な短径の、印刷方向に対して印刷開始側、又はインクジェットスキャン方向に対してスキャン開始側の面にテーパーを有していてもよい。

また、穴部１２５は、印刷方向に対して印刷終了側、又はインクジェットスキャン方向に対してスキャン終了側の面にテーパーを有していてもよいが、印刷、又はスキャンの終了側のテーパーは、印刷、又はスキャンの開始側のテーパーとは非対称であるのが望ましい。穴部１２５の印刷、又はスキャンの開始側のテーパー、及び、印刷、又はスキャンの終了側のテーパーの角度は、３０ｄｅｇ近傍であるのが望ましく、インクが流れ込む側のテーパーである印刷、又はスキャンの開始側のテーパーが、インクが押し出される側のテーパーである印刷、又はスキャンの終了側のテーパーよりも３ｄｅｇ程度緩やかであるのが望ましい。

このテーパー差をつける手段としては、図１５ないし図１８に示すように、穴部１２５の底部１３５に配置された下層メタルを印刷やインクジェット塗布方向の終端側に位置するテーパー２６ないしテーパー３０と重ねることで形成される。

また、下層メタルの膜厚は例えば４００ｎｍとすることができる。ここで、下層メタルとは、ゲートバスライン（ゲート１７６）ないしソースバスライン（ソースメタル１６１）で同時に形成されるメタルパターンを示す。

このように、表示領域１０の画素中に穴部１２５を設け、穴部１２５の長径Ｌ１をインクの印刷方向に対して直交させて配置することで、穴部１２５に、表示領域１０に塗布されたインクを均一に誘引することができ、表示領域１０内にセサミムラが発生するのを防ぐことができる。

図１６から図１８は、穴部１２５の変形例を示す図である。この変形例の穴部１２５は、図１６に示すように、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に直交する方向に、図１８で示す長径Ｌ１が並ぶように配置されていてもよい。図１７は、図１６のＡ−Ａ断面図、図１８は図１６のＢ−Ｂ断面図である。

図１７、及び図１８に示すように、穴部１２５は、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に平行な方向に長径Ｌ１が並ぶように配置されている場合であっても、インクが流れ込む側の第１のテーパー２６の角度が、インクが押し出される側の第２のテーパー２７の角度よりも緩やかになるように構成されている。また、インクが流れる方向に直交する短径側の第３のテーパー３０は複数段の段形状に形成されていてもよい。

図１９、及び図２０は、図１６に示した画素領域１７５の外側の額縁領域２０（不図示）に穴部２５を形成した場合の穴部２５の変形例を示す図である。図１９は、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に平行な方向で穴部２５を切断した場合の穴部２５の断面図を示している。図２０は、印刷方向、又はインクジェットスキャン方向に直交する方向で穴部２５を切断した場合の穴部２５の断面図を示している。

図１９、及び図２０に示すように、画素領域１７５の外側の額縁領域２０に穴部２５を形成する場合には、インクが押し出される側の第２のテーパー２７を複数段の段形状に形成してもよい。また、インクが流れる方向に直交する第３のテーパー３０の少なくとも一方を複数段の段形状に形成してもよい。

〔実施形態３〕
本発明の実施形態３について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

上述の実施形態１では、開口５１、及びスリット５２がそれぞれ露光量調節機能を備えたマスク５０を用いて一度の露光で、複数段のテーパーを形成する例を示した。この実施形態３では、複数段のテーパーを各段毎に露光して形成する穴部２５の形成工程について説明する。

図１５の（ａ）〜（ｃ）、及び図１６の（ａ）〜（ｃ）は各形成ステップを模式的に示す図である。図１５の（ａ）〜（ｃ）は、形成工程のステップ１〜３をそれぞれ示し、図１６の（ａ）〜（ｃ）は、形成工程のステップ４〜６をそれぞれ示している。

図１５の（ａ）に示すように、穴部２５を形成する際には、まず、基板２の下地３６に、絶縁膜材料（例えば、ポジ有機材料）をスリットコーターで塗布し、真空乾燥、及びプリベークにより溶剤乾燥を行って透明層間絶縁膜３７を形成する。透明層間絶縁膜３７の膜厚は例えば３ｕｍとすることができる。（ＳＴＥＰ１）
続いて、図１５の（ｂ）に示すように、マスク１５０越しにｉ線（３６５ｎｍ）を１９０ｍＪ程度、透明層間絶縁膜３７に対して照射する。マスク１５０は例えば、５ｕｍ×５ｕｍの開口幅の開口１５１を備えた露光用のマスクである。透明層間絶縁膜３７には、開口１５１の形状が露光される。（ＳＴＥＰ２）
図１５の（ｃ）に示すように、露光された透明層間絶縁膜３７をアルカリ溶液、例えばＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）、を用いて現像する。現像後、１００℃で１０分間仮焼きを行い、更に２２０℃で４０分間追加加熱を行うことで、透明層間絶縁膜３７には、開口１５１の形状に応じた穴１２０が透明層間絶縁膜３７に形成される。（ＳＴＥＰ３）
続いて、図１６の（ａ）に示すように、穴１２０が形成された透明層間絶縁膜３７の上に、更に透明層間絶縁膜（ネガ有機材料）をスリットコーターで塗布し、真空乾燥、及びプリベークにより溶剤乾燥を行って１層目と２層目とが積層された透明層間絶縁膜３７を形成する。（ＳＴＥＰ４）
続いて、図１６の（ｂ）に示すように、マスク１５２越しにｉ線（３６５ｎｍ）を４００ｍＪ程度、１層目と２層目とが積層された透明層間絶縁膜３７に対して照射する。マスク１５２は、開口１５１よりも大きな開口を有する露光用のマスクであってもよいし、図７に示したように段形状に対応するサイドのスリット１５２を備えた露光用のマスクであってもよい。（ＳＴＥＰ５）
図１６の（ｃ）に示すように、１度目の露光時の露光量よりも大きな露光量で露光された透明層間絶縁膜３７をアルカリ溶液、例えばＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）、を用いて現像する。現像後、１００℃で１０分間仮焼きを行い、更に２２０℃で４０分間追加加熱を行うことで、透明層間絶縁膜３７には、マスク１５２の開口の形状に応じた穴１３０が透明層間絶縁膜３７に形成される。（ＳＴＥＰ６）
このように、基板に透明層間絶縁膜を形成する絶縁膜形成ステップと、絶縁膜形成ステップにおいて形成された透明層間絶縁膜に、露光マスクを用いて現像を行うことにより、穴部を形成する穴部形成ステップと、を段数に応じた回数繰り返す（ＳＴＥＰ４〜６を繰り返す）ことで、複数段のテーパーを形成する事が可能である。

なお、マスク１５０、及びマスク１５２は、それぞれ開口が露光量調節機能を備えているマスクであってもよい。

〔まとめ〕
本発明の態様１に係る表示装置（１）は、基板（２）の表示領域（１０）にインクを塗布して形成される表示装置（１）であって、上記基板（２）には、上記インクを誘引する穴部（２５）が設けられており、上記穴部（２５）は、上記インクが流れ込む方向と直交する第３のテーパー（３０）が複数段の段形状に形成されており、上記第３のテーパー（３０）の各段の頂点を結ぶ接線角の角度は、上記インクが流れ込む側の第１のテーパー（２６）及び上記インクが押し出される側の第２のテーパー（２７）の角度よりも緩やかになるように構成されている。

上記の構成によれば、効率よく穴部（２５）にインクを誘導することができるため、表示領域（１０）に塗布されるインクのパターンを安定させ、表示領域（１０）におけるインク厚の乱れを低減する。

本発明の態様２に係る表示装置（１）は、上記の態様１において、上記穴部（２５）は、上記第１のテーパー（２６）の角度が、上記第２のテーパー（２７）の角度よりも緩やかに形成されている構成としてもよい。

本発明の態様３に係る表示装置（１）は、上記の態様１又は２において、上記穴部（２５）は、上記インクが流れ込む方向に平行な短径（Ｌ２）が１４ｕｍ以下、上記インクが流れ込む方向と直交する長径（Ｌ１）が１８ｕｍ以下に形成されている構成としてもよい。

本発明の態様４に係る表示装置（１）は、上記の態様１から３において、上記穴部（２５）は、上記インクのパターンのエッジ（１１）に対して上記長径（Ｌ１）の方向を平行にして配置されている構成としてもよい。

本発明の態様５に係る表示装置（１）は、上記の態様１から４において、上記穴部（２５）は、上記表示領域（１０）の周囲に並べて複数配置されている構成としてもよい。

本発明の態様６に係る表示装置（１）は、上記の態様５において、複数の上記穴部（２５）は、上記表示領域（１０）の周囲に１列に並べて配置されている構成としてもよい。

本発明の態様７に係る表示装置（１）は、上記の態様５において、複数の上記穴部（２５）は、上記表示領域（１０）の周囲に複数列に並べて配置され、各列間の上記穴部（２５）はチドリ配置されている構成としてもよい。

本発明の態様８に係る表示装置（１）は、上記の態様４から７の何れか一項において、上記表示領域（１０）は、平面視で湾曲した湾曲部（１３）を備えている構成としてもよい。

本発明の態様９に係る表示装置（１）は、上記の態様４から７の何れか一項において、上記表示領域（１０）は、角部（１２）を備え、上記角部（１２）の周囲には、複数の上記穴部（２５）が、上記角部（１２）の先端に対して放射状に配置されている構成としてもよい。

本発明の態様１０に係る表示装置（１）は、上記の態様１から３の何れか一項において、上記穴部（２５）は、上記インクの印刷方向に対して、上記長径（Ｌ１）が直交するように、上記表示領域（１０）の画素中に配置され、上記第３のテーパー（３０）に沿って配置された画素電極（１６０）と、底部（１３５）に配置されたソースメタル（１６１）と、を備えている構成としてもよい。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

１ 表示装置
２ 基板
１０ 表示領域
１１ エッジ
１２ 角部
１３ 湾曲部
２５、１２５ 穴部
２６ 第１のテーパー
２７ 第２のテーパー
３０ 第３のテーパー
３７ 透明層間絶縁膜
５０、１５０、１５２ マスク
１６０ 画素電極
１６１ ソースメタル
Ｌ１ 長径
Ｌ２ 短径

Claims (12)

1. 基板の表示領域に配向膜材料または量子ドットを含むインクである塗布材料を塗布して形成される表示装置であって、
   上記基板には、上記表示装置の形成時において上記塗布材料を誘引する穴部が設けられており、
   上記穴部は、上記表示領域のパターンのエッジと平行な方向に延びる第３のテーパーが複数段の段形状に形成されており、
   上記第３のテーパーの各段の頂点を結ぶ接線角の角度は、上記表示領域の上記パターンの上記エッジ側の第１のテーパー及び上記表示領域の上記パターンの上記エッジから遠い側の第２のテーパーの角度よりも緩やかになるように構成されている
   ことを特徴とする表示装置。
2. 上記穴部は、上記第１のテーパーの角度が、上記第２のテーパーの角度よりも緩やかに形成されている
   ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
3. 上記穴部は、上記表示領域の上記パターンの上記エッジと直交する短径が１４ｕｍ以下、上記表示領域の上記パターンの上記エッジと平行な長径が１８ｕｍ以下に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
4. 上記穴部は、上記表示領域の周囲に並べて複数配置されていることを特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の表示装置。
5. 複数の上記穴部は、上記表示領域の周囲に１列に並べて配置されていることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
6. 複数の上記穴部は、上記表示領域の周囲に複数列に並べて配置され、各列間の上記穴部はチドリ配置されていることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
7. 上記表示領域は、平面視で湾曲した湾曲部を備えていることを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の表示装置。
8. 上記表示領域は、角部を備え、
   上記角部の周囲には、複数の上記穴部が、上記角部の先端に対して放射状に配置されていることを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の表示装置。
9. 基板の表示領域に配向膜材料または量子ドットを含むインクである塗布材料を塗布して形成される表示装置であって、
   上記基板には、上記表示装置の形成時において上記塗布材料を誘引する穴部が設けられており、
   上記穴部は、上記塗布材料の印刷方向に対して直交する方向に延びる第３のテーパーが複数段の段形状に形成されており、
   上記第３のテーパーの各段の頂点を結ぶ接線角の角度は、上記塗布材料の印刷方向の始端側の第１のテーパー及び終端側の第２のテーパーの角度よりも緩やかになるように構成され、
   上記穴部は、
   上記表示領域の画素中に配置され、
   上記第３のテーパーに沿って配置された画素電極と、底部に配置されたソースメタルと、を備えていることを特徴とする表示装置。
10. 基板の表示領域に配向膜材料または量子ドットを含むインクである塗布材料を塗布して形成される表示装置の製造方法であって、
    上記基板に透明層間絶縁膜を形成する絶縁膜形成ステップと、
    上記絶縁膜形成ステップにおいて形成された透明層間絶縁膜に、露光マスクを用いて現像を行うことにより、上記表示装置の形成時において上記塗布材料を誘引する穴部を形成する穴部形成ステップと、を含み、
    上記穴部形成ステップでは、上記表示領域のパターンのエッジと平行な方向に延びる第３のテーパーを複数段の段形状に形成し、上記第３のテーパーの各段の頂点を結ぶ接線角の角度を、上記表示領域の上記パターンの上記エッジ側の第１のテーパー及び上記表示領域の上記パターンの上記エッジから遠い側の第２のテーパーの角度よりも緩やかに形成する
    ことを特徴とする表示装置の製造方法。
11. 上記穴部形成ステップでは、上記第３のテーパーが、上記複数段の段形状に対応するスリットを備えた露光マスクを用いて上記透明層間絶縁膜に現像を行うことにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
12. 上記絶縁膜形成ステップと、上記穴部形成ステップとを繰り返し行うことにより、上記第３のテーパーを複数段の段形状に形成することを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の製造方法。

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