WO2018138824A1

WO2018138824A1 - 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法

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Publication number: WO2018138824A1
Application number: PCT/JP2017/002693
Authority: WO
Inventors: 伸一川戸; 学二星; 英士小池; 井上　智; 井上　毅; 勇毅小林
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-01-26
Filing date: 2017-01-26
Publication date: 2018-08-02
Also published as: CN110214198A; US20190360086A1; US10711338B2

Abstract

蒸着粒子を通す複数の開口（４）が設けられた金属製基板（２）を含む蒸着用マスク（１）であって、複数の開口（４）は、その開口（４）が一定の規則に沿って繰り返し配置された複数の開口群で構成されており、同一高さの複数の凸部（５）は、基板（２）全体を一方側から支持できる配置で、開口群形成領域（３）の外側にのみ設けられている。

Description

蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法

　本発明は、蒸着用マスクと、この蒸着用マスクの製造方法と、有機ＥＬ表示装置の製造方法とに関するものである。

　近年、さまざまなフラットパネルディスプレイが開発されており、特に、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置は、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、優れたフラットパネルディスプレイとして高い注目を浴びている。

　このような有機ＥＬ表示装置の製造工程においては、基板上に高精細な発光層を含む蒸着膜を形成するため、塗分け蒸着方法を用いる場合が多い。

　このような塗分け蒸着方法を用いて蒸着を行う際に、塗分け蒸着用マスクと、蒸着膜が形成される対象である基板とを、完全に密着させて蒸着を行うと、蒸着後に、塗分け蒸着用マスクを基板から離す際に、蒸着膜に欠損が生じてしまうという問題がある。具体的に例を挙げて説明すると、先ず、赤色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクを用いて、基板上に赤色発光層を形成した後、上記赤色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクとは異なる位置に開口が形成された緑色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクを用いて、基板上に緑色発光層を形成する場合において、上記緑色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクと、赤色発光層が形成された基板とを完全に密着させて蒸着を行うと、上記緑色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクの非開口部分が基板上の赤色発光層と直接接触することとなり、上記緑色発光層形成用の塗分け蒸着用マスクを基板から離す際に、赤色発光層に欠損が生じてしまうのである。

　このような問題点を解消するため、従来から以下のような試みがなされている。

　図１８は、同一のアクティブマトリクス基板１００内において、高さの異なるエッジカバー１０８ａ・１０８ｂを形成し、高さの高いエッジカバー１０８ｂによって、アクティブマトリクス基板１００と塗分け蒸着用マスク１０１とが、完全に密着しない場合を説明するための図である。

　図１８の（ａ）に図示されているように、アクティブマトリクス基板１００の塗分け蒸着用マスク１０１と対向する面には、高さの高いエッジカバー１０８ｂが設けられており、このエッジカバー１０８ｂによって、アクティブマトリクス基板１００と塗分け蒸着用マスク１０１とが、完全に密着しないように一定の距離を維持することができる。

　アクティブマトリクス基板１００と塗分け蒸着用マスク１０１とが、一定の距離に維持された状態で、蒸着源（図示せず）から射出された蒸着粒子が、塗分け蒸着用マスク１０１の開口１０３を介して、アクティブマトリクス基板１００上に、所定形状に形成されることとなる。

　図１８の（ｂ）は、アクティブマトリクス基板１００の概略構成を示す図である。

　図示されているように、アクティブマトリクス基板１００は、基板１０４上に、ＴＦＴ素子１０５と、平坦化膜である層間絶縁膜１０６と、電極１０７と、エッジカバー１０８ａ・１０８ｂとが設けられた構成となっている。

　エッジカバー（バンクとも称する）の本来の役割は、電極１０７の端部で発光層などの蒸着膜が薄く形成され、電極１０７と対向する電極（図示せず）との間で短絡するのを防止するために、電極１０７の端部を覆うように形成されるものである。そして、エッジカバーの高さは、後工程で、共通層（例えば、電極１０７と対向する電極層）を面一状に形成することを考慮すると、所定の高さ以上で形成するのは困難である。

　したがって、アクティブマトリクス基板１００においては、複数の電極１０７が規則的に形成されるアクティブエリアの境界に形成されるエッジカバーは、高さが高いエッジカバー１０８ｂ（高さ２μｍ）とし、アクティブエリア内に形成されるエッジカバーは、高さが低いエッジカバー１０８ａ（高さ１μｍ）とした。

　塗分け蒸着方法を用いて蒸着を行う際に、アクティブマトリクス基板１００を用いることにより、エッジカバー１０８ｂによって、アクティブマトリクス基板１００と塗分け蒸着用マスク１０１とが、完全に密着しないように一定の距離で維持できるので、塗分け蒸着用マスク１０１をアクティブマトリクス基板１００から離す際に、蒸着膜である発光層などに欠損が生じるのを抑制できる。

　また、特許文献１においては、塗分け蒸着用マスク側に凸部を設けた構成について記載されている。

　図１９は、特許文献１に開示されている塗分け蒸着用マスク２０１の概略構成を示す図である。

　図示されているように、塗分け蒸着用マスク２０１は、マスク本体２０２と枠体２０３とで構成されており、マスク本体２０２において、蒸着膜を形成する対象である基板と対向する面には、凸部２０５が図中上下方向に隣接する開口２０４間に形成されている。

　塗分け蒸着方法を用いて蒸着を行う際に、塗分け蒸着用マスク２０１を用いることにより、塗分け蒸着用マスク２０１と蒸着膜を形成する対象である基板とが、完全に密着しないようにできるので、塗分け蒸着用マスク２０１を蒸着膜を形成する対象である基板から離す際に、蒸着膜である発光層などに欠損が生じるのを抑制できると記載されている。

日本国公開特許公報「特開２００３‐３２３９８０号」公報（２００３年１１月１４日公開）日本国公開特許公報「平１０‐３３０９１０号」公報（１９９８年１２月１５日公開）

　しかしながら、図１８の（ａ）及び図１８の（ｂ）に図示するアクティブマトリクス基板１００において、高さが高いエッジカバー１０８ｂの高さは、同一アクティブマトリクス基板１００内の位置毎に、または、アクティブマトリクス基板１００毎に誤差が生じ得るので、アクティブマトリクス基板１００側に備えられたエッジカバー１０８ｂを用いて、アクティブマトリクス基板１００と塗分け蒸着用マスク１０１とを一定の距離で維持するのは困難である。

　また、特許文献１に開示されている塗分け蒸着用マスク２０１の場合は、図１９に図示されているように、マスク本体２０２の蒸着膜を形成する対象である基板と対向する面全体において、凸部２０５が図中上下方向に隣接する開口２０４間に形成されている。

　したがって、このような塗分け蒸着用マスク２０１を、エッジカバーを有するアクティブマトリクス基板に適用した場合、全ての凸部２０５がエッジカバーと接触することとなるが、一般的に、エッジカバーを形成する材料は、平坦化膜である図１８の（ｂ）に図示する層間絶縁膜１０６を形成する材料とは異なるとともに、上述したように、比較的膜厚が薄く形成されるため、エッジカバーの上部面の平坦性は高くない。さらに、エッジカバーの高さは、同一アクティブマトリクス基板内の位置毎に、または、アクティブマトリクス基板毎に誤差が生じるので、均一性が落ちる。

　よって、塗分け蒸着用マスク２０１を、エッジカバーを有するアクティブマトリクス基板に適用した場合、塗分け蒸着用マスク２０１とエッジカバーを有するアクティブマトリクス基板とを一定距離で維持するのは困難であるので、エッジカバーを有するアクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成するのは困難であるという問題がある。

　さらに、特許文献１に開示されている塗分け蒸着用マスク２０１のように、凸部２０５が隣接する開口２０４間に形成されている場合、塗分け蒸着用マスク２０１の剛性が塗分け蒸着用マスク２０１面内で不均一となり、開口２０４を微調整しながら、マスク本体２０２を枠体２０３に貼り合せることが難しくなる。したがって、塗分け蒸着用マスク２０１の開口２０４を介して、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成するのは困難となる。

　本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成することができる蒸着用マスク及び上記蒸着用マスクの製造方法を提供することを目的とする。

　本発明の蒸着用マスクは、上記の課題を解決するために、蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクであって、上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、同一高さの複数の凸部は、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ設けられていることを特徴としている。

　上記構成によれば、同一高さの複数の凸部は、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記基板の上記開口群形成領域の外側にのみ設けられているので、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成することができる蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の蒸着用マスクの製造方法は、上記の課題を解決するために、蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクの製造方法であって、上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ、同一高さの複数の凸部を形成する凸部形成工程を含むことを特徴としている。

　上記方法によれば、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記基板の上記開口群形成領域の外側にのみ、同一高さの複数の凸部を形成する凸部形成工程を含むので、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成することができる蒸着用マスクの製造方法を実現できる。

　本発明の一態様によれば、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成することができる蒸着用マスク及び上記蒸着用マスクの製造方法を提供できる。

開口群形成領域外に複数の凸部が備えられている蒸着用マスクの一例を示す図である。図１に図示した蒸着用マスクを用いて、蒸着を行う場合を説明するための図である。図１に図示した蒸着用マスクの開口群形成領域の部分拡大図である。アクティブマトリクス基板における、図３に図示した蒸着用マスクの凸部の当接領域を説明するための図である。図１に図示した蒸着用マスクの製造方法の一例を示す図である。図１に図示した蒸着用マスクとは、異なる位置に凸部を配置した他の蒸着用マスクの一例を示す図である。蒸着用マスクの他の製造方法の一例を示す図である。蒸着用マスクのさらに他の製造方法の一例を示す図である。図１に図示した蒸着用マスクとは異なる形状の蒸着用マスクに凸部を形成した場合の一例を示す図である。凹部内に凸部を形成した蒸着用マスクの製造方法の一例を示す図である。凹部内に凸部を形成した蒸着用マスクの製造方法の他の一例を示す図である。凹部内にビーズを含む材料からなる凸部を形成した蒸着用マスクの製造方法の一例を示す図である。凹部内にビーズを含む材料からなる凸部を形成した蒸着用マスクの製造方法の他の一例を示す図である。凹部内にビーズを含む材料からなる凸部を形成した後、凸部を覆う層をさらに形成した蒸着用マスクの製造方法の一例を示す図である。凹部内にビーズを含む材料からなる凸部を形成した後、凸部を覆う層をさらに形成した蒸着用マスクの製造方法の他の一例を示す図である。蒸着用マスクを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法の各工程を説明するための図である。図１６に図示した蒸着用マスクを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法の各工程に対応する図である。高さの異なるエッジカバーが備えられた従来のアクティブマトリクス基板と、従来の塗分け蒸着用マスクとが、完全に密着しない場合を説明するための図である。特許文献１に開示されている塗分け蒸着用マスクの概略構成を示す図である。

　本発明の実施の形態について図１から図１７に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。

　〔実施形態１〕
　図１から図９に基づき、本発明の実施形態１について説明する。

　図１は、開口群形成領域３外に複数の凸部５が備えられている蒸着用マスク１を示す図である。

　本実施形態においては、蒸着用マスク１が、蒸着膜形成工程の温度において変形などが生じない金属製マスクである場合を一例に挙げて説明するが、蒸着膜形成工程の温度において変形などが生じないのであれば、マスクの材質は特に限定されない。

　図１に図示されているように、蒸着用マスク１は、蒸着粒子を通す複数の開口４（貫通孔ともいう）が設けられた金属製基板２を含む。そして、開口群形成領域３内の複数の開口４は、一定の規則に沿って配置されており、金属製基板２内において、開口群形成領域３は複数個形成されている。

　なお、有機ＥＬ表示装置を製造するとき、より低コストで製造するために、大きな母基板にサブ基板（例えば５インチ）を複数同時に作成し、それを切り出して個々のサブ基板を作成する方法が用いられる場合ある。開口群形成領域３は、そのサブ基板に対応するマスク領域のことである。

　本実施形態においては、蒸着用マスク１において、開口群形成領域３を３０個形成している場合を一例に挙げるが、開口群形成領域３の数は、一つの開口群形成領域３のサイズや蒸着用マスク１のサイズに応じて適宜設定することができ、１つであってもよい。

　なお、一つの開口群形成領域３のサイズは、蒸着用マスク１を用いて蒸着された蒸着膜を含むアクティブマトリクス基板を分断して得られる３０個の有機ＥＬ表示装置のうちの一つの有機ＥＬ表示装置の表示領域のサイズに該当する。

　また、本実施形態においては、蒸着用マスク１が赤色発光層の蒸着用マスクである場合を一例に挙げて説明するので、蒸着用マスク１の各々の開口群形成領域３内の複数の開口４の配置は、蒸着用マスク１を用いて蒸着された蒸着膜を含むアクティブマトリクス基板を分断して得られる３０個の有機ＥＬ表示装置の赤色発光層の形状に応じた配置となっている。

　本実施形態においては、後述するように、赤色発光層からなる赤色絵素、緑色発光層からなる緑色絵素及び青色発光層からなる青色絵素が、１画素を形成する有機ＥＬ表示装置の製造に用いられる蒸着用マスクであるため、開口群形成領域３内の複数の開口４の配置が、絵素の配置に応じて一定の規則に沿って配置されている場合を一例に挙げて説明するが、例えば、各色絵素がペンタイル配置であったり、その他の配置である場合や各色絵素のサイズが異なる場合などには、開口群形成領域３内の複数の開口４の配置もこれに応じた配置となることは言うまでもない。

　図１に図示されているように、蒸着用マスク１において、アクティブマトリクス基板（図示せず）と対向する面２ａ上であって、開口群形成領域３の外には複数の凸部５が形成されている。蒸着用マスク１の場合においては、開口群形成領域３の４つの角部分に凸部５を設けているが、後述するように、蒸着用マスク全体を一方側から支持できる配置であればこれに限定されることはない。

　図２は、図１に図示した蒸着用マスク１を用いて、アクティブマトリクス基板１００ａに蒸着膜を形成する場合を説明するための図である。

　図２の（ａ）に図示されているように、蒸着用マスク１においては、アクティブマトリクス基板１００ａと対向する面２ａ上であって、開口群形成領域３の外には複数の凸部５の各々が、蒸着用マスク１全体を一方側（アクティブマトリクス基板１００ａ側）から支持できるように、高さ４μｍで配置されている。

　したがって、蒸着用マスク１のアクティブマトリクス基板１００ａと対向する面２ａと、アクティブマトリクス基板１００ａの蒸着用マスク１と対向する面との間に、４μｍの間隔を確保することができる。なお、図２の（ａ）は、蒸着用マスク１及びアクティブマトリクス基板１００ａの全体を図示するものではなく、一つの開口群形成領域３に該当する部分のみを図示したものである。

　本実施形態においては、凸部５を高さ４μｍで形成している場合を一例に挙げて説明したが、凸部５の高さは、以下の理由から２μｍよりは高く、５μｍよりは低く形成することが好ましい。凸部５の高さを２μｍ以下で形成した場合には、蒸着用マスク１とアクティブマトリクス基板１００ａとが接触する危険性が高まり、凸部５の高さを５μｍ以上で形成した場合には、実際の蒸着パターンにぼやけが生じてしまい、蒸着精度が低下するからである。

　図２の（ａ）に図示されているように、この凸部５によって、アクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とが、完全に密着しないように一定の距離を維持することができる。

　そして、アクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とが、一定の距離に維持された状態で、蒸着源（図示せず）から射出された蒸着粒子が、蒸着用マスク１の開口４を介して、アクティブマトリクス基板１００ａ上に、所定形状に形成されることとなるので、アクティブマトリクス基板１００ａに均一な蒸着膜を形成することができる。

　凸部５が備えられている蒸着用マスク１を用いる場合には、蒸着用マスク１の凸部５によって、アクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とが、一定の距離に維持できるので、図２の（ｂ）に図示されているように、アクティブマトリクス基板１００ａにおいては、例えば、高さ１μｍのエッジカバー１０８ａのみを設ければよい。

　また、図２の（ｃ）に図示されているように、蒸着用マスク１の開口群形成領域３と平面視において重なるアクティブマトリクス基板１００ａのアクティブ領域は、電極１０７及びエッジカバー１０８ａが含まれる領域である。

　蒸着用マスク１においては、開口群形成領域３の外に複数の凸部５が設けられているので、蒸着用マスク１の凸部５は、アクティブマトリクス基板１００ａのアクティブ領域とは接触せず、アクティブマトリクス基板１００ａにおける平坦化膜である層間絶縁膜１０６の上面と接触する。

　したがって、蒸着用マスク１を用いることにより、アクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とを、一定の距離で精度高く維持できる。

　図３は、蒸着用マスク１の開口群形成領域３の部分拡大図である。

　図３に図示されているように、蒸着用マスク１は、赤色発光層からなる赤色絵素、緑色発光層からなる緑色絵素及び青色発光層からなる青色絵素が、１画素を形成する有機ＥＬ表示装置の製造に用いられる赤色発光層の蒸着用マスクであるため、開口群形成領域３内の複数の開口４は、図中左右方向には第１開口ピッチで形成され、図中上下方向には第２開口ピッチで形成されている。

　なお、図中点線で示す開口４’は、赤色発光層からなる赤色絵素、緑色発光層からなる緑色絵素及び青色発光層からなる青色絵素が、１画素を形成する有機ＥＬ表示装置の製造に用いられる緑色発光層の蒸着用マスクに存在する開口であり、蒸着用マスク１には存在しない仮想の開口である。また、図中点線で示す開口４’’も、赤色発光層からなる赤色絵素、緑色発光層からなる緑色絵素及び青色発光層からなる青色絵素が、１画素を形成する有機ＥＬ表示装置の製造に用いられる青色発光層の蒸着用マスクに存在する開口であり、蒸着用マスク１には存在しない仮想の開口である。

　図３に図示されているように、開口群形成領域３は、少なくとも、複数の開口４と、図中左右方向の各開口４間の領域と、図中上下方向の各開口４間の領域とを含む領域であればよいが、本実施形態においては、凸部５が、より多様な形状のアクティブマトリクス基板のエッジカバーと接触するのを避けるため、開口群形成領域３の右端を開口群形成領域３内の右端に位置する開口４の右端から幅Ａ分広げており、開口群形成領域３の上端を開口群形成領域３内の上端に位置する開口４の上端から幅Ｂ分広げており、開口群形成領域３の左端を開口群形成領域３内の左端に位置する開口４の左端から幅Ｃ分広げており、開口群形成領域３の下端を開口群形成領域３内の下端に位置する開口４の下端から幅Ｄ分広げている。そして、広げた開口群形成領域３内には凸部５を設けていない。

　以上のように、上下左右の最端部に配置されるエッジカバー１０８ａを考慮し、開口群形成領域３を設定することにより、上下左右の最端部に配置されるエッジカバー１０８ａと開口群形成領域３の外に配置された複数の凸部５とが接触することを避けて、凸部５をアクティブマトリクス基板１００ａにおける平坦化膜である層間絶縁膜１０６の上面と接触させることができる。

　図４は、アクティブマトリクス基板１００ｂにおける、図３に図示した蒸着用マスク１の凸部５の当接領域を説明するための図である。

　図４の（ａ）に図示されているように、アクティブマトリクス基板１００ｂは、基板１０４上に、無機膜１０９と、アクティブ素子であるＴＦＴ素子（図示せず）の形成層に含まれる平坦化膜である層間絶縁膜１０６と、エッジカバー１０８ａと、突起１０８ａ’・１０８ａ’’・１０８ｃ・１０８ｄとが設けられた構成となっている。

　具体的に、エッジカバー１０８ａは、アクティブエリア（表示領域）内において、平坦化膜である層間絶縁膜１０６上に設けられており、突起１０８ａ’は、エッジカバー１０８ａと隣接するアクティブエリア外であって、平坦化膜である層間絶縁膜１０６上に設けられており、突起１０８ａ’’は、突起１０８ａ’と隣接して平坦化膜である層間絶縁膜１０６上に設けられており、突起１０８ｃは、平坦化膜である層間絶縁膜１０６が形成する開口内であって、無機膜１０９上に設けられており、突起１０８ｄは、平坦化膜である層間絶縁膜１０６上に設けられている。

　図示されているように、蒸着用マスク１の凸部５は、アクティブマトリクス基板１００ｂにおける図中の凸部の当接領域で、層間絶縁膜１０６と当接させてもよい。

　図４の（ａ）に図示されている凸部の当接領域は、図３に図示した蒸着用マスク１の開口群形成領域３の近くであるので、蒸着用マスク１とアクティブマトリクス基板１００ｂとの間の間隔（ＧＡＰ）を確実に確保することができる。

　なお、蒸着用マスク１の凸部５は、図４の（ａ）に図示されている凸部の当接領域でアクティブマトリクス基板１００ｂと当接させてもよいが、これに限定されることはなく、図４の（ｂ）に図示されている凸部の当接領域でアクティブマトリクス基板１００ｂと当接させてもよい。

　図４の（ｂ）に図示されている凸部の当接領域は、平坦化膜である層間絶縁膜１０６が形成する開口内で、突起１０８ｃと平坦化膜である層間絶縁膜１０６とで規制される領域であり、この凸部の当接領域において、蒸着用マスク１の凸部５は、アクティブマトリクス基板１００ｂにおけるＴＦＴ素子（図示せず）の形成層に含まれる平坦化膜である層間絶縁膜１０６よりも下層に形成される絶縁膜としての無機膜１０９と当接する。

　このように、蒸着用マスク１の凸部５をアクティブマトリクス基板１００ｂにおける無機膜１０９と当接させた場合には、蒸着用マスク１とアクティブマトリクス基板１００ｂとの間の間隔（ＧＡＰ）をより小さくできる。

　また、凸部５の高さが高くなる程、開口４のサイズに比べ、アクティブマトリクス基板１００ａ側に形成される蒸着膜のサイズが大きくなるため、凸部５の高さが高い場合の開口群形成領域３は、凸部５の高さが低い場合の開口群形成領域３より広く設定することが好ましい。

　図１及び図３に図示されているように、蒸着用マスク１における複数の開口４は、開口４が一定の規則に沿って繰り返し配置された３０個の開口群で構成されており、３０個の開口群の各々を含む領域が開口群形成領域３であるので、蒸着用マスク１においては、開口群形成領域３は３０個存在する。

　そして、各々の開口群形成領域３は、蒸着用マスク１を用いて蒸着された蒸着膜を含むアクティブマトリクス基板を分断して得られる３０個の有機ＥＬ表示装置の各々の表示領域であるアクティブ領域に該当する領域であり、具体的には、図２の（ｃ）に図示されているように、アクティブマトリクス基板１００ａにおける電極１０７及びエッジカバー１０８ａが形成された領域を含む領域である。

　本実施形態においては、以下のように、金属製基板２におけるアクティブマトリクス基板１００ａと対向する面２ａ上であって、開口群形成領域３の外に複数の凸部５を、金属製基板２とは異なる材料である樹脂材料を用いて形成する場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、例えば、電気鋳造などを用いて、凸部５は、金属製基板２と同一材料または、金属製基板２とは異なる金属材料によって形成されてもよい。

　図５は、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、光硬化性樹脂材料６を滴下した後、露光工程を経て形成した凸部５を備えた蒸着用マスク１の製造方法を示す図である。

　先ず、図５の（ａ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、蒸着粒子を通す複数の開口４が設けられた金属製基板２において、アクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上であって、開口群形成領域３の外側の所定位置に光硬化性樹脂材料６を滴下する。

　本実施形態においては、光硬化性樹脂材料６として、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどを含むアクリル系樹脂（アクリル系重合体）と光開始剤とを所定の溶媒に溶解させて、インクジェット方式の滴下装置７で用いることができる粘度であるとともに、滴下量に応じて、金属製基板２上において、膜厚調整が可能な粘度に調整した光硬化性樹脂材料を用いた。

　そして、図５の（ｂ）に図示されているように、光硬化性樹脂材料６は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、光硬化性樹脂材料６を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベーク（熱処理）を行ったが、このプリーベークは行わなくてもよい。

　それから、図５の（ｃ）に図示されているように、上記光開始剤が反応を開始する波長領域の光を用いて露光を行い、光硬化性樹脂材料６を光硬化させて、図５の（ｄ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側に高さ４μｍの凸部５を形成した。

　なお、光硬化性樹脂材料６には、アクリル系樹脂及び光開始剤以外に、凸部５の強度などを増加させるため、例えば、熱硬化性樹脂であるエポキシ系樹脂（エポキシ系重合体）及びシロキサン重合体の少なくとも一方と、重合開始剤としての熱酸発生剤とがさらに含まれていることが好ましく、このような場合には、上記熱硬化性樹脂を熱硬化させるため比較的高温で行われるポストベーク（熱処理）を行えばよい。

　また、蒸着用マスク１は、蒸着工程において用いられるマスクであることを考慮すると、光硬化性樹脂材料６に熱硬化性樹脂が含まれていない場合においても、比較的高温で行われるポストベーク（熱処理）は行うことが好ましく、このポストベーク（熱処理）の温度は、蒸着工程において蒸着用マスク１が使用される温度より高く設定することが好ましい。比較的高温で行われるポストベーク（熱処理）を行っていない有機膜の場合、蒸着工程において膜厚の変化が生じる恐れがあるからである。

　なお、ポストベーク（熱処理）の温度は、段階的に変化するように設定されていてもよく、この場合においては、複数の段階中、少なくとも一つの段階以上で、蒸着工程において蒸着用マスク１が使用される温度より高く設定することが好ましい。

　また、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上に光硬化性樹脂材料６を滴下する前に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａを、例えば、シランカップリング剤などで処理し、金属と有機膜との接着性を向上させてもよい。

　図６は、図１に図示した蒸着用マスク１とは、異なる位置に凸部５を配置した蒸着用マスク１ａ・１ｂを示す図である。

　図１に図示した蒸着用マスク１においては、開口群形成領域３の４つの角部分に凸部５を設けていたが、図６の（ａ）に図示されているように、凸部５は、開口群形成領域３の外であって、開口群形成領域３の４辺の中間位置近方に設けられていてもよい。さらには、図６の（ｂ）に図示されているように、図中左側の１５個の開口群形成領域３を大きい第１開口群形成領域とし、図中右側の１５個の開口群形成領域３を大きい第２開口群形成領域とした場合、凸部５は、上記第１開口群形成領域及び上記第２開口群形成領域の各々の４つの角部分と、上下方向の中間部分の両端とに設けられていてもよい。

　以上のように、凸部５の配置は、開口群形成領域３の外であって、蒸着用マスク１・１ａ・１ｂ全体を一方側から支持できる配置であれば、特に限定されない。

　これまでは、蒸着用マスク１の凸部５が、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、光硬化性樹脂材料６を滴下した後、露光工程を経て形成される場合を一例に挙げて説明したが、蒸着用マスク１の凸部５は、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、熱硬化性樹脂材料８を滴下した後、熱処理工程を経て形成されてもよい。

　図７は、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、熱硬化性樹脂材料８を滴下した後、熱処理工程を経て形成した凸部９を備えた蒸着用マスク１０の製造方法を示す図である。

　先ず、図７の（ａ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、蒸着粒子を通す複数の開口４が設けられた金属製基板２において、アクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上であって、開口群形成領域３の外側の所定位置に熱硬化性樹脂材料８を滴下する。

　本実施形態においては、熱硬化性樹脂材料８として、例えば、エポキシ系樹脂（エポキシ系重合体）及びシロキサン重合体の少なくとも一方と、重合開始剤としての熱酸発生剤とを所定の溶媒に溶解させて、インクジェット方式の滴下装置７で用いることができる粘度であるとともに、滴下量に応じて、金属製基板２上において、膜厚調整が可能な粘度に調整した熱硬化性樹脂材料を用いた。

　そして、図７の（ｂ）に図示されているように、熱硬化性樹脂材料８は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。

　それから、図７の（ｃ）に図示されているように、上記熱酸発生剤が重合を開始する温度以上で熱処理を行い、溶媒を除去するとともに、熱硬化性樹脂材料８を熱硬化させて、図７の（ｄ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側に高さ４μｍの凸部９を設けた蒸着用マスク１０を完成させた。

　また、蒸着用マスク１０は、蒸着工程において用いられるマスクであることを考慮すると、図７の（ｃ）に図示した熱処理の温度は、蒸着工程において蒸着用マスク１０が使用される温度より高く設定することが好ましい。比較的高温で行われる熱処理を行っていない膜の場合、蒸着工程において膜厚の変化が生じる恐れがあるからである。

　なお、図７の（ｃ）に図示した熱処理の温度は、段階的に変化するように設定されていてもよく、この場合においては、複数の段階中、少なくとも一つの段階以上で、蒸着工程において蒸着用マスク１０が使用される温度より高く設定することが好ましい。

　また、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上に熱硬化性樹脂材料８を滴下する前に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａを、例えば、シランカップリング剤などで処理し、金属と有機膜との接着性を向上させてもよい。

　また、蒸着用マスク１０が、蒸着工程において比較的高温で用いられることが想定される場合には、熱硬化性樹脂材料８として、有機無機ハイブリッド材料であって、熱硬化後に耐熱性の高い膜を形成するシロキサン重合体の含有量を増やすことが好ましい。

　以下では、蒸着用マスク１３の凸部１２を、インクジェット方式の滴下装置７を用いずに形成する場合について、図８に基づいて説明する。

　図８は、スリットコーターを用いて、光硬化性樹脂材料１１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａに塗布した後、露光・現像工程を経て形成した凸部１２を備えた蒸着用マスク１３の製造方法を示す図である。

　先ず、図８の（ａ）に図示されているように、スリットコーター（図示せず）を用いて、光硬化性樹脂材料１１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に塗布した。

　インクジェット方式の滴下装置７の代わりにスリットコーターを用いているので、インクジェット方式の滴下装置７を用いる場合のように、滴下量に応じて、金属製基板２上において、膜厚調整が可能な粘度に調整する必要まではないので、光硬化性樹脂材料１１の粘度調整の幅が大きくなる。

　本実施形態においては、光硬化性樹脂材料１１として、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどを含むアクリル系樹脂（アクリル系重合体）と光開始剤とを所定の溶媒に溶解させて、露光部分が光硬化するネガ型の光硬化性樹脂材料を用いたが、これに限定されることはなく、ポジ型の光硬化性樹脂材料を用いてもよい。

　また、本実施形態においては、スリットコーターを用いる場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、開口４のサイズや開口４の配置などを考慮した上で、光硬化性樹脂材料１１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に均一に塗布できる方法を適宜選択することができ、例えば、スクリーン印刷法やスピンコーターなどを用いてもよい。

　そして、図８の（ｂ）に図示されているように、開口３２ａを有するマスク３２を用いて、露光、現像及び熱処理することによって、図８の（ｃ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側に高さ４μｍの凸部１２を設けた蒸着用マスク１３を完成させた。

　上記熱処理は、省略することもできるが、蒸着用マスク１３が、蒸着工程において用いられるマスクであることを考慮すると、上記熱処理は行うことが好ましく、その熱処理の温度は、蒸着工程において蒸着用マスク１３が使用される温度より高く設定することが好ましい。また、この熱処理の温度は、段階的に変化するように設定されていてもよく、この場合においては、複数の段階中、少なくとも一つの段階以上で、蒸着工程において蒸着用マスク１３が使用される温度より高く設定することが好ましい。

　また、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上に光硬化性樹脂材料１１を塗布する前に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａを、例えば、シランカップリング剤などで処理し、金属と有機膜との接着性を向上させてもよい。

　図９は、複数のディバイデッドマスク１６を含み、凸部５が備えられた蒸着用マスク１４・２０・２０ａを示す図である。

　図９の（ａ）、図９の（ｂ）及び図９の（ｃ）に図示する蒸着用マスク１４・２０・２０ａは、中央部分に大きな開口１５ａを有するフレーム１５に、複数のディバイデッドマスク１６が、張力がかかった状態で固定（架張）されており、複数のディバイデッドマスク１６の各々における開口群形成領域１８が、平面視において、フレーム１５の中央部分に大きな開口１５ａと重なるように配置されている。

　複数のディバイデッドマスク１６の各々は、例えば、インバー材などの金属板１７で構成され、ディバイデッドマスク１６の一方側の面１６ａは、アクティブマトリクス基板と対向する面である。

　複数のディバイデッドマスク１６の各々は、図３に図示した開口群形成領域３と同様の開口群形成領域１８を、複数個含み、金属板１７において、開口群形成領域１８以外の領域が周囲領域１９である。

　図９の（ａ）に図示する蒸着用マスク１４においては、開口群形成領域１８の外側であるフレーム１５の４つの角部分に高さ４μｍの凸部５を設けた。なお、凸部５の配置位置はこれに限定されることはなく、例えば、フレーム１５の形状に沿って、ディバイデッドマスク１６が固定される箇所以外の全体に一定間隔で凸部５を配置してもよい。

　なお、蒸着用マスク１４においては、フレーム１５に凸部５を設けているため、フレーム１５とアクティブマトリクス基板との間の距離が４μｍに維持されるが、ディバイデッドマスク１６とアクティブマトリクス基板との間の距離を４μｍに維持したい場合には、後述する図９の（ｂ）及び図９の（ｃ）のように、ディバイデッドマスク１６上に高さ４μｍの凸部５を設けるか、ディバイデッドマスク１６の厚さを加えた高さの凸部５をフレーム１５に設ければよい。

　また、凸部５は、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定する前、すなわち、フレーム１５単体に先ず凸部５を設けた後に、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定してもよく、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定した後に、フレーム１５に凸部５を設けてもよい。

　図９の（ａ）に図示する蒸着用マスク１４においては、凸部５を、図５に図示した方法と同様の方法を用いて形成したが、これに限定されることはなく、フレーム１５の材質と凸部５の材質とを考慮し、適宜選択することができる。

　図９の（ｂ）に図示する蒸着用マスク２０においては、凸部５が複数のディバイデッドマスク１６の各々の図中上下方向の両端近方に設けられている。蒸着用マスク２０の場合、凸部５がディバイデッドマスク１６上に設けられているので、ディバイデッドマスク１６とアクティブマトリクス基板との間の距離を所定距離に維持することができる。

　また、蒸着用マスク２０の場合において、凸部５は、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定する前、すなわち、ディバイデッドマスク１６単体に先ず凸部５を設けた後に、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定してもよく、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定した後に、ディバイデッドマスク１６に凸部５を設けてもよい。

　図９の（ｃ）に図示する蒸着用マスク２０ａにおいては、凸部５がディバイデッドマスク１６のアクティブマトリクス基板と対向する面１６ａであって、開口群形成領域１８以外の領域である周囲領域１９に設けられている。蒸着用マスク２０ａの場合、凸部５がディバイデッドマスク１６の図中上下方向の中央部分にも設けられているので、ディバイデッドマスク１６とアクティブマトリクス基板との間の距離をより精度高く所定距離に維持することができる。

　また、蒸着用マスク２０ａの場合においても、凸部５は、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定する前、すなわち、ディバイデッドマスク１６単体に先ず凸部５を設けた後に、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定してもよく、フレーム１５に複数のディバイデッドマスク１６を固定した後に、ディバイデッドマスク１６に凸部５を設けてもよい。

　また、図示は省略するが、凸部５は、フレーム１５とディバイデッドマスク１６との両方に設けられていてもよく、この場合においては、ディバイデッドマスク１６の厚さを考慮し、フレーム１５に設ける凸部５の高さより、ディバイデッドマスク１６に設ける凸部５の高さを、ディバイデッドマスク１６の厚さ分、低く設定すればよい。

　また、図９の（ａ）、図９の（ｂ）及び図９の（ｃ）に図示する蒸着用マスク１４・２０・２０ａにおいては、フレーム１５の前面、すなわち、フレーム１５において、アクティブマトリクス基板と対向する面側にディバイデッドマスク１６を固定した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、複数のディバイデッドマスク１６の各々における開口群形成領域１８が、平面視において、フレーム１５の中央部分に大きな開口１５ａと重なるように配置されるのであれば、ディバイデッドマスク１６は、フレーム１５の裏面、すなわち、フレーム１５において、アクティブマトリクス基板と対向する面とは反対側の面に固定されていてもよい。

　なお、本実施形態においては、凸部５をビーズを含まない材料を用いて形成する場合を一例に挙げて説明しているが、後述する実施形態３のように、凸部５はビーズを含む材料によって形成されてもよい。

　なお、本実施形態においては、凸部５を点状に形成している場合を一例に挙げて説明したが、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上における開口群形成領域３の外側に設けることができる形状であれば、その形状は特に限定されず、例えば、直線形状などに形成されていてもよい。

　〔実施形態２〕
　次に、図１０及び図１１に基づき、本発明の実施形態２について説明する。本実施形態においては、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａに凹部を有する第１樹脂層２３・２３ａを形成し、上記凹部に凸部５を形成している点において、実施形態１とは異なり、その他については実施形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１０は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部（金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する開口）を有する第１樹脂層２３を形成し、上記凹部に凸部５を形成した蒸着用マスク１０ａの製造方法を示す図である。

　先ず、図１０の（ａ）に図示されているように、スリットコーター（図示せず）を用いて、光硬化性樹脂材料２１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に塗布した。

　本実施形態においては、光硬化性樹脂材料２１として、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどを含むアクリル系樹脂（アクリル系重合体）と光開始剤とを所定の溶媒に溶解させて、露光部分が光硬化するネガ型の光硬化性樹脂材料を用いたが、これに限定されることはなく、ポジ型の光硬化性樹脂材料を用いてもよい。

　そして、図１０の（ｂ）に図示されているように、遮光部分２２ａと開口２２ｃとを有するマスク２２を用いて露光を行った後に、現像することによって、図１０の（ｃ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部を有する第１樹脂層２３を形成することができる。

　なお、上記凹部は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側に形成され、かつ、第１樹脂層２３に囲まれているのであれば、その形状は特に限定されない。

　それから、図１０の（ｄ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部に光硬化性樹脂材料６を滴下する。

　そして、図１０の（ｅ）に図示されているように、光硬化性樹脂材料６は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、光硬化性樹脂材料６を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、光硬化性樹脂材料６を光硬化させた。それから、比較的高温でポストベークを行い、図１０の（ｆ）に図示されているように、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部に高さ４μｍの凸部５を備えた蒸着用マスク１０ａを完成した。

　蒸着用マスク１０ａの製造工程においては、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部に光硬化性樹脂材料６を滴下するので、光硬化性樹脂材料６の金属製基板２上での広がりなどを大きく考慮する必要がなくなるので、用いることができる光硬化性樹脂材料６の粘度幅を広げることができる。

　また、凸部５の高さが４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３の厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、光硬化性樹脂材料６の広がりをより効果的に抑制することと、凸部５がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３によってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３の厚さは、凸部５の高さの５０％以上１００％未満であることが好ましく、凸部５の高さの８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３の厚さは、凸部５の高さの５０％である２μｍで形成した。

　図１１は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａを形成し、上記凹部に凸部５を形成した蒸着用マスク１０ｂの製造方法を示す図である。

　先ず、図１１の（ａ）に図示されているように、スリットコーター（図示せず）を用いて、光硬化性樹脂材料２１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に塗布した。

　そして、図１１の（ｂ）に図示されているように、遮光部分２２ａと、露光光を３０％透過するスリット開口２２ｂと、露光光を１００％透過する開口２２ｃとを有するマスク２２を用いて露光を行った後に、現像することによって、図１１の（ｃ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａを形成することができる。すなわち、上記凹部には、第１樹脂層２３ａが一定の膜厚で残っている。

　以上のように、蒸着用マスク１０ｂの製造工程には、ハーフ露光工程が含まれるが、このハーフ露光工程によって形成される凹部を有する第１樹脂層２３ａは、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に形成される膜であり、上記凹部のサイズや形状も、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側に形成され、かつ、第１樹脂層２３ａに囲まれているのであれば、特に限定されない。

　それから、図１１の（ｄ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部に光硬化性樹脂材料６を滴下する。

　そして、図１１の（ｅ）に図示されているように、光硬化性樹脂材料６は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、光硬化性樹脂材料６を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、光硬化性樹脂材料６を光硬化させた。それから、比較的高温でポストベークを行い、図１１の（ｆ）に図示されているように、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部に、凸部５を備えた蒸着用マスク１０ｂを完成した。

　なお、凸部５の高さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚と凸部５の高さとを合わせて４μｍとなるように設定した。

　蒸着用マスク１０ｂの場合、凸部５が上記凹部に残った第１樹脂層２３ａ上に形成されるので、凸部５が蒸着用マスク１０ｂから剥がれるのを抑制できる構成となっている。

　また、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚と凸部５の高さとを合わせて４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３ａの厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、光硬化性樹脂材料６の広がりをより効果的に抑制することと、凸部５がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３ａによってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚と凸部５の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満であることが好ましく、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚と凸部５の高さとを合わせた値の８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚と凸部５の高さとを合わせた値の５０％である２μｍで形成した。

　また、本実施形態においては、図１０の（ｄ）及び図１１の（ｄ）において、光硬化性樹脂材料６を用いる場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、熱硬化性樹脂材料８を用いてもよい。

　〔実施形態３〕
　次に、図１２及び図１３に基づき、本発明の実施形態３について説明する。本実施形態においては、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａに凹部を有する第１樹脂層２３・２３ａを形成し、上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を用いて凸部２６を形成している点において、実施形態２とは異なり、その他については実施形態２において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１２は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部（金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する開口）を有する第１樹脂層２３を形成し、上記凹部にビーズ２４を含む凸部２６を形成した蒸着用マスク２７の製造方法を示す図である。

　先ず、図１２の（ａ）に図示されているように、スリットコーター（図示せず）を用いて、光硬化性樹脂材料２１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に塗布した。

　そして、図１２の（ｂ）に図示されているように、遮光部分２２ａと開口２２ｃとを有するマスク２２を用いて露光を行った後に、現像することによって、図１２の（ｃ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部を有する第１樹脂層２３を形成することができる。

　それから、図１２の（ｄ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を滴下する。

　なお、ビーズ２４の平均粒径や形状は、凸部２６の高さを考慮した上で適宜選択することができる。

　そして、図１２の（ｅ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を光硬化させた。それから、比較的高温でポストベークを行い、図１２の（ｆ）に図示されているように、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部に、ビーズ２４を含む高さ４μｍの凸部２６を備えた蒸着用マスク２７を完成した。

　蒸着用マスク２７の製造工程においては、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を滴下するので、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の金属製基板２上での広がりなどを大きく考慮する必要がなくなるので、用いることができるビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の粘度幅を広げることができる。

　また、凸部２６の高さが４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３の厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の広がりをより効果的に抑制することと、凸部２６がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３によってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３の厚さは、凸部２６の高さの５０％以上１００％未満であることが好ましく、凸部２６の高さの８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３の厚さは、凸部２６の高さの５０％である２μｍで形成した。

　以上のように、蒸着用マスク２７においては、凸部２６はビーズ２４を含むので、凸部２６の高さ精度の向上と凸部２６の強度の向上を図ることができる。

　図１３は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａを形成し、上記凹部にビーズ２４を含む凸部２６を形成した蒸着用マスク２７ａの製造方法を示す図である。

　先ず、図１３の（ａ）に図示されているように、スリットコーター（図示せず）を用いて、光硬化性樹脂材料２１を金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａの開口４部分を除く全面に塗布した。

　そして、図１３の（ｂ）に図示されているように、遮光部分２２ａと、露光光を３０％透過するスリット開口２２ｂと、露光光を１００％透過する開口２２ｃとを有するマスク２２を用いて露光を行った後に、現像することによって、図１３の（ｃ）に図示されているように、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａを形成することができる。すなわち、上記凹部には、第１樹脂層２３ａが一定の膜厚で残っている。

　それから、図１３の（ｄ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を滴下する。

　そして、図１３の（ｅ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を光硬化させた。それから、比較的高温でポストベークを行い、図１３の（ｆ）に図示されているように、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部に、ビーズ２４を含む凸部２６を備えた蒸着用マスク２７ａを完成した。

　なお、ビーズ２４を含む凸部２６の高さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２６の高さとを合わせて４μｍとなるように設定した。

　蒸着用マスク２７ａの場合、ビーズ２４を含む凸部２６が上記凹部に残った第１樹脂層２３ａ上に形成されるので、ビーズ２４を含む凸部２６が蒸着用マスク２７ａから剥がれるのを抑制できる構成となっている。

　また、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２６の高さとを合わせて４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３ａの厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の広がりをより効果的に抑制することと、ビーズ２４を含む凸部２６がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３ａによってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２６の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満であることが好ましく、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２６の高さとを合わせた値の８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２６の高さとを合わせた値の５０％である２μｍで形成した。

　また、本実施形態においては、図１２の（ｄ）及び図１３の（ｄ）において、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を用いる場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、ビーズを含む熱硬化性樹脂材料を用いてもよい。

　〔実施形態４〕
　次に、図１４及び図１５に基づき、本発明の実施形態４について説明する。本実施形態においては、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａに凹部を有する第１樹脂層２３・２３ａを形成し、上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて、凸部２９を形成している点において、実施形態３とは異なり、その他については実施形態２において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態３の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１４は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部（金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する開口）を有する第１樹脂層２３を形成し、上記凹部に、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて、凸部２９を形成した蒸着用マスク３０の製造方法を示す図である。

　図１４の（ａ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を滴下する。

　なお、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出する凹部を有する第１樹脂層２３の形成工程については、上述した実施形態３において既に説明しているので、ここではその説明を省略する。

　そして、図１４の（ｂ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を光硬化させた。

　その後、図１４の（ｃ）に図示されているように、硬化されたビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を覆うように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、熱硬化性樹脂材料２８を滴下する。なお、この際に、熱硬化性樹脂材料２８は、第１樹脂層２３の上面の一部も覆うように滴下している。

　それから、図１４の（ｄ）に図示されているように、比較的高温でポストベークを行い、図１４の（ｅ）に図示されているように、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部に、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて、高さ４μｍの凸部２９を形成した蒸着用マスク３０を完成した。なお、凸部２９は、熱硬化性樹脂材料２８によって、その上面がより広く形成されているとともに、第１樹脂層２３の上面とも接触する。

　したがって、蒸着用マスク３０を用いた場合、アクティブマトリクス基板は凸部２９と接触するので、傷がつき難く、凸部２９は蒸着用マスク３０から剥がれ難い。

　また、凸部２９の高さが４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３の厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の広がりをより効果的に抑制することと、凸部２９がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３によってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３の厚さは、凸部２９の高さの５０％以上１００％未満であることが好ましく、凸部２９の高さの８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３の厚さは、凸部２９の高さの５０％である２μｍで形成した。

　本実施形態においては、図１４の（ｂ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の形成幅を、第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部の幅より狭く形成した場合を一例に挙げて説明したが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の形成幅は第１樹脂層２３に囲まれた上記凹部の幅と同じであってもよい。

　また、本実施形態においては、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて凸部２９を形成した場合を一例に挙げたが、これに限定されることはなく、ビーズを含む光硬化性樹脂材料のみやビーズを含む熱硬化性樹脂材料のみやビーズを含む熱硬化性樹脂材料と、光硬化性樹脂材料とを用いて、凸部２９を形成してもよい。

　図１５は、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａ上の開口群形成領域３の外側全面に、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａを形成し、上記凹部に、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて、凸部２９ａを形成した蒸着用マスク３０ａの製造方法を示す図である。

　図１５の（ａ）に図示されているように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部にビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を滴下する。

　なお、金属製基板２のアクティブマトリクス基板と対向する面２ａが露出しない凹部を有する第１樹脂層２３ａの形成工程については、上述した実施形態３において既に説明しているので、ここではその説明を省略する。

　そして、図１５の（ｂ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５は、膜厚調整が可能な粘度に調整されているので、金属製基板２上において、大きく広がらずに、その滴下量に応じて、一定の膜厚に形成することができる。なお、本実施形態においては、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を一定の膜厚に形成した後に、溶媒を除去するため比較的低温でプリーベークを行った後に、露光を行い、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を光硬化させた。

　その後、図１５の（ｃ）に図示されているように、硬化されたビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５を覆うように、インクジェット方式の滴下装置７を用いて、熱硬化性樹脂材料２８を滴下する。なお、この際に、熱硬化性樹脂材料２８は、第１樹脂層２３ａの上面の一部も覆うように滴下している。

　それから、図１５の（ｄ）に図示されているように、比較的高温でポストベークを行い、図１５の（ｅ）に図示されているように、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部に、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５と、熱硬化性樹脂材料２８とを用いて、高さ４μｍの凸部２９を形成した蒸着用マスク３０ａを完成した。なお、凸部２９は、熱硬化性樹脂材料２８によって、その上面がより広く形成されているとともに、第１樹脂層２３ａの上面とも接触する。

　したがって、蒸着用マスク３０ａを用いた場合、アクティブマトリクス基板は凸部２９と接触するので、傷がつき難く、凸部２９は蒸着用マスク３０ａから剥がれ難い。

　また、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２９の高さとを合わせて４μｍである場合には、上記凹部を囲む第１樹脂層２３ａの厚さは４μｍ未満であれば、特に限定されないが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の広がりをより効果的に抑制することと、凸部２９がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、第１樹脂層２３ａによってもアクティブマトリクス基板が支持される構成とすることを考慮すると、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２９の高さとを合わせた高さの５０％以上１００％未満であることが好ましく、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２９の高さとを合わせた高さの８０％以上１００％未満であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、第１樹脂層２３ａの厚さは、上記凹部に残った第１樹脂層２３ａの膜厚とビーズ２４を含む凸部２９の高さとを合わせた高さの５０％である２μｍで形成した。

　本実施形態においては、図１５の（ｂ）に図示されているように、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の形成幅を、第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部の幅より狭く形成した場合を一例に挙げて説明したが、ビーズ２４を含む光硬化性樹脂材料２５の形成幅は第１樹脂層２３ａに囲まれた上記凹部の幅と同じであってもよい。

　蒸着用マスク３０ａの場合、ビーズ２４を含む凸部２９が上記凹部に残った第１樹脂層２３ａ上に形成されるので、ビーズ２４を含む凸部２９が蒸着用マスク３０ａから剥がれるのを抑制できる構成となっている。

　〔実施形態５〕
　次に、図１６及び図１７に基づき、本発明の実施形態５について説明する。本実施形態においては、蒸着用マスク１を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。説明の便宜上、実施形態１から４の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１６は、蒸着用マスク１を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法の各工程を説明するための図であり、図１７は、図１６に図示した蒸着用マスク１を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法の各工程に対応する図である。

　蒸着用マスク１を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法においては、図１７の（ａ）に図示されているように、先ず、蒸着用マスク１の凸部５と、ダミー基板（平面基板）１１０とを当接させて、ダミー基板１１０に対する蒸着用マスク１の開口４の位置を合わせる工程（Ｓ１）を行う。なお、ダミー基板１１０とは、アクティブマトリクス基板１００ａの製造に用いられる蒸着膜などが形成されていない基板である。

　上記工程（Ｓ１）においては、ダミー基板１１０を用いているので、蒸着用マスク１の凸部５と、ダミー基板１１０とを当接させて、ダミー基板１１０に対する蒸着用マスク１の開口４の位置を合わせることができる。すなわち、蒸着用マスク１の凸部５と、ダミー基板１１０とを当接させた状態で、ダミー基板１１０に対して、蒸着用マスク１を移動させながら、位置合わせを行うことができる。ダミー基板１１０には、エッジカバー１０８ａなどの突起部がないので、蒸着用マスク１の移動時に、蒸着用マスク１の凸部５との接触などを考慮する必要がない。

　なお、図１７の（ａ）には図示していないが、蒸着用マスク１は、移動可能なマスクホルダーに支持されており、ダミー基板１１０は、固定された基板ホルダーに支持されている。

　以上のように、蒸着用マスク１の凸部５と、ダミー基板１１０とを当接させた状態で、事前に、蒸着用マスク１の開口４の位置合わせを行っているので、後述するアクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とを当接させた状態で、蒸着用マスク１を用いて、アクティブマトリクス基板１００ａに蒸着膜を形成する工程（Ｓ３）において、蒸着用マスク１の開口４の位置ずれが生じるのを抑制することができる。

　次に、図１７の（ｂ）に図示されているように、蒸着用マスク１は固定した状態で、固定された基板ホルダーに支持されているダミー基板１１０をアクティブマトリクス基板１００ａに置き換える工程（Ｓ２）を行う。

　それから、図１７の（ｃ）に図示されているように、蒸着用マスク１を用いて、アクティブマトリクス基板１００ａに蒸着膜を形成する工程（Ｓ３）を行う。

　上記工程（Ｓ３）においては、アクティブマトリクス基板１００ａと蒸着用マスク１とを当接させた状態で、蒸着源（図示せず）から射出された蒸着粒子が、蒸着用マスク１を介して、アクティブマトリクス基板１００ａ上に、所定形状に形成されることとなる。

　なお、本実施形態においては、ダミー基板１１０を用いて、事前に、蒸着用マスク１の開口４の位置合わせを行う場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、例えば、図１７の（ｂ）に図示されているように、蒸着用マスク１の凸部５と、アクティブマトリクス基板１００ａの平坦化膜である層間絶縁膜１０６とを当接させた状態で、アクティブマトリクス基板１００ａ及び蒸着用マスク１の一方を、他方に対して、移動させながら、位置合わせを行ってもよい。この場合においては、移動時に、アクティブマトリクス基板１００ａのエッジカバー１０８ａと蒸着用マスク１の凸部５との接触などを考慮する必要がある。

　〔まとめ〕
　本発明の態様１に係る蒸着用マスクは、蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクであって、上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、同一高さの複数の凸部は、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ設けられていることを特徴としている。

　本発明の態様２に係る蒸着用マスクは、上記態様１において、上記凸部は、光硬化性樹脂材料を含む樹脂で形成されていてもよい。

　上記構成によれば、光硬化を用いて、上記凸部を形成することができる。

　本発明の態様３に係る蒸着用マスクは、上記態様１において、上記凸部は、熱硬化性樹脂材料を含む樹脂で形成されていてもよい。

　上記構成によれば、熱硬化を用いて、上記凸部を形成することができる。

　本発明の態様４に係る蒸着用マスクは、上記態様２または３において、上記凸部は、ビーズが含まれた樹脂で形成されていてもよい。

　上記構成によれば、凸部の高さ精度の向上と凸部の強度の向上を図ることができる。

　本発明の態様５に係る蒸着用マスクは、上記態様１から４の何れかにおいて、上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々は、上記フレームに固定されていてもよい。

　上記構成によれば、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定した蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の態様６に係る蒸着用マスクは、上記態様１から５の何れかにおいて、上記基板の上記開口群形成領域の外側には、上記基板を露出する凹部が設けられた第１樹脂層が形成されており、上記凸部は、上記凹部に上記凹部から突出する高さで設けられていてもよい。

　上記構成によれば、上記凸部を、上記凹部に設けるので、上記凸部の幅の制御が容易である。

　本発明の態様７に係る蒸着用マスクは、上記態様１から５の何れかにおいて、上記基板の上記開口群形成領域の外側には、同一深さの凹部が設けられた第１樹脂層が形成されており、上記凸部は、上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで設けられていてもよい。

　上記構成によれば、上記凸部を、上記凹部に設けるので、上記凸部の幅の制御が容易であるとともに、上記凸部は、上記第１樹脂層上に形成されるので、上記凸部が上記蒸着用マスクから剥がれ難くなる。

　本発明の態様８に係る蒸着用マスクは、上記態様６において、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凸部の高さの５０％以上１００％未満であってもよい。

　上記構成によれば、上記凸部がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、上記第１樹脂層によってもアクティブマトリクス基板が支持される。

　本発明の態様９に係る蒸着用マスクは、上記態様７において、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凹部内の上記第１樹脂層の厚さと上記凸部の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満であってもよい。

　本発明の態様１０に係る蒸着用マスクは、上記態様６から９の何れかにおいて、上記凸部は、上記凹部と上記凹部を囲む上記第１樹脂層の上面の一部とに形成されていてもよい。

　上記構成によれば、凸部と接触するアクティブマトリクス基板に傷がつき難く、凸部は蒸着用マスクから剥がれ難い。

　本発明の態様１１に係る蒸着用マスクは、上記態様１から１０の何れかにおいて、上記凸部は、点状に形成されていてもよい。

　上記構成によれば、上記凸部は、点状に形成されているので、上記凸部が直線形状に形成される場合などに比べると、アクティブマトリクス基板のエッジカバーとの接触を抑制することができる。

　本発明の態様１２に係る蒸着用マスクの製造方法は、蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクの製造方法であって、上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ、同一高さの複数の凸部を形成する凸部形成工程を含むことを特徴としている。

　本発明の態様１３に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２において、上記凸部形成工程においては、光硬化性樹脂材料を含む液状の樹脂材料を所定の箇所に滴下し、光硬化することで、上記凸部を形成してもよい。

　上記方法によれば、液状の樹脂材料の滴下方法と、光硬化とを用いて、上記凸部を形成することができる。

　本発明の態様１４に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２において、上記凸部形成工程においては、熱硬化性樹脂材料を含む液状の樹脂材料を所定の箇所に滴下し、熱硬化することで、上記凸部を形成してもよい。

　上記方法によれば、液状の樹脂材料の滴下方法と、熱硬化とを用いて、上記凸部を形成することができる。

　本発明の態様１５に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１３または１４において、上記凸部形成工程においては、ビーズが含まれた液状の樹脂材料を用いてもよい。

　上記方法によれば、凸部の高さ精度の向上と凸部の強度の向上を図ることができる。

　本発明の態様１６に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２から１５の何れかにおいて、上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定する架張工程は、上記凸部形成工程の前に行われてもよい。

　上記方法によれば、上記凸部を備えているとともに、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定した蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の態様１７に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２から１５の何れかにおいて、上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定する架張工程は、上記凸部形成工程の後に行われてもよい。

　本発明の態様１８に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２から１７の何れかにおいて、上記基板の上記開口群形成領域の外側に、上記基板を露出する凹部が設けられた第１樹脂層を形成する工程と、上記凸部を上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程とを含み、上記凸部を上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程においては、液状の樹脂材料を、上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成してもよい。

　上記方法によれば、液状の樹脂材料を、上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成するので、上記凸部の幅の制御が容易である。

　本発明の態様１９に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２から１７の何れかにおいて、上記基板の上記開口群形成領域の外側に、同一深さの凹部が設けられた第１樹脂層を形成する工程と、上記凸部を上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程とを含み、上記凸部を上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程においては、液状の樹脂材料を、上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成してもよい。

　上記方法によれば、液状の樹脂材料を、上記第１樹脂層上の上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成するので、上記凸部の幅の制御が容易であるとともに、上記凸部が上記蒸着用マスクから剥がれ難い。

　本発明の態様２０に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１８において、上記第１樹脂層を形成する工程においては、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凸部の高さの５０％以上１００％未満で形成されていてもよい。

　上記方法によれば、上記凸部がアクティブマトリクス基板の荷重などによって押し込まれた場合に、上記第１樹脂層によってもアクティブマトリクス基板が支持される蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の態様２１に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１９において、上記第１樹脂層を形成する工程においては、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凹部内の上記第１樹脂層の厚さと上記凸部の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満で形成されていてもよい。

　本発明の態様２２に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１８から２１の何れかにおいて、上記凸部は、上記凹部と上記凹部を囲む上記第１樹脂層の上面の一部とに形成されていてもよい。

　上記方法によれば、凸部と接触するアクティブマトリクス基板に傷がつき難く、凸部が蒸着用マスクから剥がれ難い、蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の態様２３に係る蒸着用マスクの製造方法は、上記態様１２から２２の何れかにおいて、上記凸部形成工程において、上記凸部は点状に形成されていてもよい。

　上記方法によれば、上記凸部が直線形状に形成される場合などに比べると、アクティブマトリクス基板のエッジカバーとの接触を抑制することができる蒸着用マスクを実現できる。

　本発明の態様２４に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記態様１から１１の何れかに記載の蒸着用マスクの凸部と、平面基板とを当接させて、上記平面基板に対する上記蒸着用マスクの開口の位置を合わせる工程を含む。

　上記方法によれば、蒸着用マスクの凸部と、平面基板とを当接させて、上記平面基板に対する上記蒸着用マスクの開口の位置合わせを行うので、後工程である蒸着工程において、上記蒸着用マスクの開口の位置ずれが生じるのを抑制することができる。

　本発明の態様２５に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記態様２４において、上記平面基板をアクティブマトリクス基板に置き換える工程と、上記蒸着用マスクの凸部と、上記アクティブマトリクス基板とを当接させた状態で、上記蒸着用マスクを用いて、上記アクティブマトリクス基板に蒸着膜を形成する工程とを含んでいてもよい。

　上記方法によれば、上記蒸着用マスクの凸部と、上記アクティブマトリクス基板とを当接させた状態で、上記蒸着用マスクを用いて、上記アクティブマトリクス基板に蒸着膜を形成する工程において、上記蒸着用マスクの開口の位置ずれが生じるのを抑制することができる。

　本発明の態様２６に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記態様１から１１の何れかに記載の蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程を含む方法である。

　上記方法によれば、アクティブマトリクス基板に均一な蒸着膜を形成することができる有機ＥＬ表示装置の製造方法を実現できる。

　本発明の態様２７に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記態様２６において、上記蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程においては、上記蒸着用マスクの凸部を、上記アクティブマトリクス基板上に設けられたアクティブ素子の形成層に含まれる層間絶縁膜よりも下層の絶縁膜と当接させてもよい。

　上記方法によれば、蒸着用マスクとアクティブマトリクス基板との間の間隔（ＧＡＰ）をより小さくできる。

　本発明の態様２８に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記態様２６において、上記蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程においては、上記蒸着用マスクの凸部を、上記アクティブマトリクス基板上に設けられたアクティブ素子の形成層に含まれるとともに、上記アクティブマトリクス基板における表示領域の近くに形成された層間絶縁膜と当接させてもよい。

　上記方法によれば、蒸着用マスクとアクティブマトリクス基板との間の間隔（ＧＡＰ）を確実に確保することができる。

　〔付記事項〕
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明は、蒸着用マスクと、蒸着用マスクの製造方法と、有機ＥＬ表示装置の製造方法とに利用することができる。

　１　　　　　蒸着用マスク
　１ａ　　　　蒸着用マスク
　１ｂ　　　　蒸着用マスク
　２　　　　　金属製基板（基板）
　２ａ　　　　アクティブマトリクス基板と対向する面（基板の一方側の面）
　３　　　　　開口群形成領域
　４　　　　　開口（貫通孔）
　４’　　　　開口（貫通孔）
　４’’　　　開口（貫通孔）
　５　　　　　凸部
　６　　　　　光硬化性樹脂材料
　７　　　　　インクジェット方式の滴下装置
　８　　　　　熱硬化性樹脂材料
　９　　　　　凸部
　１０　　　　蒸着用マスク
　１０ａ　　　蒸着用マスク
　１０ｂ　　　蒸着用マスク
　１１　　　　光硬化性樹脂材料
　１２　　　　凸部
　１３　　　　蒸着用マスク
　１４　　　　蒸着用マスク
　１５　　　　フレーム
　１５ａ　　　開口
　１６　　　　ディバイデッドマスク（分断された基板）
　１７　　　　金属板
　１８　　　　開口群形成領域
　１９　　　　周囲領域
　２０　　　　蒸着用マスク
　２０ａ　　　蒸着用マスク
　２１　　　　光硬化性樹脂材料
　２３　　　　第１樹脂層
　２３ａ　　　第１樹脂層
　２４　　　　ビーズ
　２５　　　　光硬化性樹脂材料
　２６　　　　凸部
　２７　　　　蒸着用マスク
　２７ａ　　　蒸着用マスク
　２８　　　　熱硬化性樹脂材料
　２９　　　　凸部
　３０　　　　蒸着用マスク
　３０ａ　　　蒸着用マスク
　１００ａ　　アクティブマトリクス基板
　１００ｂ　　アクティブマトリクス基板
　１０６　　　層間絶縁膜
　１０９　　　無機膜（絶縁膜）
　１１０　　　ダミー基板（平面基板）

Claims

　蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクであって、
　上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、
　開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、
　同一高さの複数の凸部は、上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ設けられていることを特徴とする蒸着用マスク。
　上記凸部は、光硬化性樹脂材料を含む樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
　上記凸部は、熱硬化性樹脂材料を含む樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
　上記凸部は、ビーズが含まれた樹脂で形成されていることを特徴とする請求項２または３に記載の蒸着用マスク。
　上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、
　上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々は、上記フレームに固定されていることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　上記基板の上記開口群形成領域の外側には、上記基板を露出する凹部が設けられた第１樹脂層が形成されており、
　上記凸部は、上記凹部に上記凹部から突出する高さで設けられていることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　上記基板の上記開口群形成領域の外側には、同一深さの凹部が設けられた第１樹脂層が形成されており、
　上記凸部は、上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで設けられていることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凸部の高さの５０％以上１００％未満であることを特徴とする請求項６に記載の蒸着用マスク。
　上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凹部内の上記第１樹脂層の厚さと上記凸部の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満であることを特徴とする請求項７に記載の蒸着用マスク。
　上記凸部は、上記凹部と上記凹部を囲む上記第１樹脂層の上面の一部とに形成されていることを特徴とする請求項６から９の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　上記凸部は、点状に形成されていることを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板を含む蒸着用マスクの製造方法であって、
　上記複数の開口中の少なくとも一部は、その開口が一定の規則に沿って繰り返し配置された一つ以上の開口群で構成されており、
　開口群形成領域は、少なくとも、上記各開口群に属する複数の開口と、上記各開口群に属する複数の開口中の隣接する開口間の領域と、を含む上記基板における領域であり、
　上記基板全体を一方側から支持できる配置で、上記開口群形成領域の外側にのみ、同一高さの複数の凸部を形成する凸部形成工程を含むことを特徴とする蒸着用マスクの製造方法。
　上記凸部形成工程においては、光硬化性樹脂材料を含む液状の樹脂材料を所定の箇所に滴下し、光硬化することで、上記凸部を形成することを特徴とする請求項１２に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記凸部形成工程においては、熱硬化性樹脂材料を含む液状の樹脂材料を所定の箇所に滴下し、熱硬化することで、上記凸部を形成することを特徴とする請求項１２に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記凸部形成工程においては、ビーズが含まれた液状の樹脂材料を用いることを特徴とする請求項１３または１４に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、
　上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定する架張工程は、上記凸部形成工程の前に行われることを特徴とする請求項１２から１５の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記蒸着粒子を通す複数の開口が設けられた基板である複数個の分断された基板と、中心部が開口である枠状のフレームとを備え、
　上記複数個の分断された基板の各々における上記蒸着粒子を通す複数の開口と、上記フレームの開口とが、平面視において重なるように、上記複数個の分断された基板の各々を、上記フレームに固定する架張工程は、上記凸部形成工程の後に行われることを特徴とする請求項１２から１５の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記基板の上記開口群形成領域の外側に、上記基板を露出する凹部が設けられた第１樹脂層を形成する工程と、上記凸部を上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程とを含み、
　上記凸部を上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程においては、液状の樹脂材料を、上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成することを特徴とする請求項１２から１７の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記基板の上記開口群形成領域の外側に、同一深さの凹部が設けられた第１樹脂層を形成する工程と、上記凸部を上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程とを含み、
　上記凸部を上記第１樹脂層上の上記凹部に上記凹部から突出する高さで形成する工程においては、液状の樹脂材料を、上記凹部の所定の箇所に滴下し、硬化することで、上記凸部を形成することを特徴とする請求項１２から１７の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記第１樹脂層を形成する工程においては、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凸部の高さの５０％以上１００％未満で形成されていることを特徴とする請求項１８に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記第１樹脂層を形成する工程においては、上記凹部を囲む上記第１樹脂層の高さは、上記凹部内の上記第１樹脂層の厚さと上記凸部の高さとを合わせた値の５０％以上１００％未満で形成されていることを特徴とする請求項１９に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記凸部は、上記凹部と上記凹部を囲む上記第１樹脂層の上面の一部とに形成されていることを特徴とする請求項１８から２１の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　上記凸部形成工程において、上記凸部は点状に形成されていることを特徴とする請求項１２から２２の何れか１項に記載の蒸着用マスクの製造方法。
　請求項１から１１の何れか１項に記載の蒸着用マスクの凸部と、平面基板とを当接させて、上記平面基板に対する上記蒸着用マスクの開口の位置を合わせる工程を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
　上記平面基板をアクティブマトリクス基板に置き換える工程と、
　上記蒸着用マスクの凸部と、上記アクティブマトリクス基板とを当接させた状態で、上記蒸着用マスクを用いて、上記アクティブマトリクス基板に蒸着膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項２４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
　請求項１から１１の何れか１項に記載の蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
　上記蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程においては、上記蒸着用マスクの凸部を、上記アクティブマトリクス基板上に設けられたアクティブ素子の形成層に含まれる層間絶縁膜よりも下層の絶縁膜と当接させることを特徴とする請求項２６に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
　上記蒸着用マスクの凸部と、アクティブマトリクス基板とを当接させる工程においては、上記蒸着用マスクの凸部を、上記アクティブマトリクス基板上に設けられたアクティブ素子の形成層に含まれるとともに、上記アクティブマトリクス基板における表示領域の近くに形成された層間絶縁膜と当接させることを特徴とする請求項２６に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。