JP2020021017A - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】現像によるＢＭの額縁部付近における線幅の細り、くびれ、コーナー形状の劣化が抑えられ、ＢＭ線幅の面内均一性に優れる高精細カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明性基板上に、ブラックマトリクス（ＢＭ）、着色画素、スペーサが形成され、ＢＭは、平面視で第１の方向に延在する第１ＢＭ線と、第２の方向に延在し、第１ＢＭ線と交差する第２ＢＭ線からなり、第１ＢＭ線は拡幅部を有し、第１ＢＭ線と第２ＢＭ線が交差する部分では、拡幅部を含め、断面視で第１ＢＭ線上に第２ＢＭ線が乗り上げており、拡幅部に乗り上げた部分の上にスペーサが形成されているカラーフィルタとする。【選択図】図１

Description

本発明は、透明性基板上にブラックマトリクス、着色画素、スペーサが形成されたカラーフィルタ、及びその製造方法に関する。

液晶表示装置は、一対の透明性基板間に液晶層を挟持した液晶パネルにより構成されている。具体的には、着色画素等を形成したカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動回路を形成したＴＦＴアレイ基板とを対向させ、ギャップを制御するスペーサを介して貼り合わせ、ギャップ内に液晶を封入して構成されている。

最近では、液晶パネル自身の大型化が要求されるとともに、生産効率の向上も求められるため、カラーフィルタ基板については、マザーガラスのサイズを大型化して、多面付けしたカラーフィルタ基板を効率良く製造することが特に重要である。例えば、図９（ａ）では、１枚のマザーガラス３０に４×４のカラーフィルタ基板４０が面付けされている。以下、本願では、面付けされたカラーフィルタ基板の単位を「セル」と呼ぶことがある。

各セル４０について見れば、図９（ｂ）、（ｃ）のように、ブラックマトリクス（ＢＭ）はセル４０内で着色画素４３を区画するために例えば格子状にパターニングされている。ＢＭパターンは、カラーフィルタ基板をＴＦＴアレイ基板と貼り合わせた後に、ＴＦＴアレイのソース配線と呼ばれる細線と、ゲート配線と呼ばれる太線に、平面視でそれぞれ略重なるようなＢＭ細線とＢＭ太線（図９では同じ線幅で表わしている）により格子状にパターニングされている。一方、セル４０同士は格子状パターンよりもはるかに太い線幅の額縁部４７により区画されている。

図７、８に、従来のカラーフィルタ基板の製造工程を示す。カラーフィルタ基板は、ガラス基板等からなる透明性基板１１上に、ＢＭ細線１２とＢＭ太線１３と額縁部１７とを一括で形成し（図７（ａ））、着色画素Ｒ、Ｇ、Ｂを形成した（図７（ｂ））後、ＢＭ１２、１３と着色画素の段差（不図示）を平坦化するための平坦化層１８、及びスペーサ形成層１４を塗工し（図８（ａ））、スペーサ１５、１６をパターン形成して製造される図８（ｂ）。これら一連のパターニングは通常、ネガ型の感光性樹脂組成物にフォトマスクを用いた露光、現像等を行うフォトリソグラフィを通して行われる。

以下、本願では、透明性基板上に、ＢＭ、着色画素、及びスペーサまで形成したカラーフィルタ基板を、単にカラーフィルタ（またはセル）と呼称する。

また、本願のカラーフィルタの平面図では、ＢＭ細線１２はすべてＤ１方向に延在し、ＢＭ太線１３はすべてＤ２方向に延在しており、同色の着色画素はすべてＤ２方向に配列しているが、これは細線上では色の切り替えが難しく、通常は太線上で行うためであり、Ｄ２方向にも色の切り替えは必要である。このため、位置によってはＢＭ細線１２がＤ２向に延在し、ＢＭ太線１３がＤ１向に延在する箇所もあるが、本願ではＢＭ細線１２はすべてＤ１方向に延在し、ＢＭ太線１３はすべてＤ２方向に延在しており、同色の着色画素はすべてＤ２方向に配列する箇所を例示して説明する。

スペーサは、高さの高いメインスペーサ１５と高さの低いサブスペーサ１６を含むことが多い。メインスペーサ１５は液晶層のギャップ規制を目的とし、サブスペーサ１６は液晶パネルに機械的な圧力がかかったときの塑性変形防止を目的とする。メインスペーサ１５とサブスペーサ１６は、平面視においても大きさを異ならせた設計仕様で形成される。
高さの異なるスペーサ１５、１６は、それぞれの高さに応じて異なった透過率をもつフォトマスク、すなわち光透過部と半透過（ハーフトーン）部を有するフォトマスク（ハーフトーンマスク）を用いて形成されることが多い。

近年の液晶表示装置の高明度化、高精細化によりＢＭパターンの設計線幅も高精細化しており、ＢＭパターンと額縁部の設計線幅差が大きくなることで、製造工程中のアルカリ現像液を用いた、額縁部とＢＭパターンの一括現像プロセスにおいて、局所的な現像レート差が生じ、ＢＭパターン面内の線幅均一性が損なわれる原因となっている。

図９（ｂ）、（ｃ）には、ブラックフォトレジストからなる塗膜に、パターン照射を行い、現像により画素を区分するＢＭ線（ＢＭ細線とＢＭ太線を区別しない場合、単にＢＭ線と呼ぶことにする）４４と、その周囲を囲む額縁部４７からなるセル４０を形成する際の、現像工程における現像液の未消費領域４１と消費領域４２を例示している。画素４３はブラックフォトレジストが除去されるため、現像液が疲労し消費領域４２となるが、額縁部４７はブラックフォトレジストが除去されないため、現像液の疲労がなく、未消費領域４１となる。

図１０は、ＢＭ線４４の細り４５を示しており、額縁部４７に近づくに従い、現像液が活性化するため、中央部のＢＭ線４４の線幅と比較して現像が進み、細くなってしまう。図１１は、ＢＭ線４４のくびれ４６を示しており、細り４５と同様に、額縁部４７に近接する部分の現像が進み、線幅が急激に細くなりくびれ４６が生じている。細り４５やくびれ４６が昂じた場合はＢＭ線の剥れとなる。

前記のように、ＢＭパターンの面内の線幅均一性の劣化は、額縁部４７に近づくに従って大きくなり、ＢＭ細線とＢＭ太線が交差する部分においては、コーナー形状の劣化（鈍角化または弧状化）を伴う。これらは、カラーフィルタが大型化するほど顕著になり、表示品質を悪化させる原因となる。

そこで、ＢＭパターン形成用のマスクにおいて、カラーフィルタの額縁部近傍領域のＢＭの線幅を、あらかじめ現像工程でセル内部領域の線幅に対して細くなる分だけ太く設計する補正を施しておくという方法が開示されている（特許文献１）。

しかしながら、上記のような現像工程にてＢＭの線幅がカラーフィルタの内部領域に対して細くなるカラーフィルタの額縁部近傍領域は、ＢＭパターンの形状によって異なる。そのため、現像工程においてＢＭ線幅が実際に細るカラーフィルタ額縁部近傍領域を正確に把握しておくことは容易ではない。

同様に、様々な形状のＢＭパターンを有するカラーフィルタに対して、セル額縁部近傍領域を正確に把握して、上記の露光マスクの線幅補正を適正に施すことは膨大な手間と困難を有する。

さらに、セル形状も用途によっては単純な四角形から例えば円形のような複雑なものも登場しており、その点においても、上記の露光マスクの線幅補正を施す実際の作業に対して大きな障壁となる。

一方、大型基板上の現像処理の均一化（現像液分布、置換効率の均一化）については、傾斜搬送、現像液スプレーノズルの揺動などの対策が行われている。この対策は、基板全面に対する現像処理の均一化には寄与するものの、局所的な額縁部とセル中央部の現像液均一化への効果は乏しいと考えられる。

さらに、額縁部にハーフトーンマスクを用い、ＢＭ線部と比較して、額縁部に光が少なく照射されるように露光量を調整し、額縁部の厚みを薄くして、物理的に現像液の流れを変え、滞留を防止する提案がなされている（特許文献２）。

しかしながら、ハーフトーンマスクで額縁部を形成する方法は、ＢＭ線幅の細りやくびれを防止する反面、額縁部の光学濃度が規定の濃度より下がってしまうため、補正として額縁部にＢＭ層を積層することがあるが、工程が増えるとともに積層部が剥がれる可能性がある。

特開２００２−１２２８５６号公報 特開２００９−２４４５２３号公報

本開示は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、現像によるＢＭの額縁部近傍における線幅の細り、くびれ、コーナー形状の劣化が抑えられ、ＢＭ線幅の面内均一性に優れる高精細カラーフィルタ及びその製造方法を提供することにある。

上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、透明性基板上に、ブラックマトリクス、着色画素、スペーサが形成されたカラーフィルタにおいて、
前記ブラックマトリクスは、平面視で第１の方向または第２の方向に延在する第１ブラックマトリクス線と、第２の方向または第１の方向に延在し、前記第１ブラックマトリクス線と交差する第２ブラックマトリクス線からなり、
前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線は、それぞれ線幅が他方よりも細いブラックマトリクス細線と、線幅が他方よりも太いブラックマトリクス太線のいずれかであり、
前記ブラックマトリクス細線は拡幅部を有し、
前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線が交差する部分では、前記第１ブラックマトリクス線上に前記第２ブラックマトリクス線が断面視で乗り上げており、
前記拡幅部は前記交差する部分に含まれ、
前記拡幅部の上に前記スペーサが形成されている、ことを特徴とするカラーフィルタとしたものである。

請求項２に記載の発明は、前記第１ブラックマトリクス線が前記ブラックマトリクス細線であり、
前記第２ブラックマトリクス線が前記ブラックマトリクス太線である、ことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタとしたものである。

請求項３に記載の発明は、前記拡幅部の上に、第１スペーサが形成され、
前記ブラックマトリクス細線と交差しない前記ブラックマトリクス太線の上に、前記第１スペーサよりも高さの小さい第２スペーサが形成されている、ことを特徴とする請求項１、または２に記載のカラーフィルタとしたものである。

請求項４に記載の発明は、前記拡幅部の上に、第１スペーサが形成され、
前記第１ブラックマトリクス線に乗り上げた前記第２ブラックマトリクス線の上に、前記
第１スペーサよりも高さの小さい第２スペーサが形成されている、ことを特徴とする請求項１、または２に記載のカラーフィルタとしたものである。

請求項５に記載の発明は、透明性基板上に、ブラックマトリクスを形成するカラーフィルタの製造方法において、以下の工程を含む、ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法としたものである。
１）平面視で第１の方向または第２の方向に延在する第１ブラックマトリクス線を形成した後、第２の方向または第１の方向に延在し、前記第１ブラックマトリクス線と交差し、交差する部分では前記第１ブラックマトリクス線に断面視で乗り上げるように第２ブラックマトリクス線を形成する工程。
２）前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線は、それぞれ線幅が他方よりも細いブラックマトリクス細線と、線幅が他方よりも太いブラックマトリクス太線のいずれかであり、前記ブラックマトリクス細線は拡幅部を有するように形成する工程。
３）前記拡幅部は前記交差する部分に含まれ、前記拡幅部の上にスペーサを形成する工程。

本開示によれば、現像によるＢＭの額縁部近傍における線幅の細り、くびれ、コーナー形状の劣化が抑えられ、ＢＭ線幅の面内均一性に優れる高精細カラーフィルタ及びその製造方法が提供される。また、ＢＭ線が交差する部分の高さが従来のＢＭパターンよりも高くなるので、スペーサの形成を従来よりも容易にすることができる。

本開示の第１実施形態のカラーフィルタの構成を例示する模式断面図である。 本開示の第２実施形態のカラーフィルタの構成を例示する模式断面図である。 本開示のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＰ−Ｐ’線部またはＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。 図３（ｂ）に続く、本開示の第１実施形態のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。 図３（ｃ）に続く、本開示の第２実施形態のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＰ−Ｐ’線部の模式断面図である。 本開示のカラーフィルタにおいて、（ａ）ＢＭ細線にＢＭ太線が乗り上げた場合、（ｂ）ＢＭ太線にＢＭ細線が乗り上げた場合を比較説明するための斜視図である。 従来のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。 図７に続く、従来のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。 従来のカラーフィルタ製造における、（ａ）カラーフィルタの面付け、（ｂ）セル、（ｃ）現像工程での現像液の未消費領域、消費領域を説明するための模式平面図である。 従来のカラーフィルタ製造の現像工程において、ＢＭの額縁部近傍で発生するＢＭ線の線幅細りを説明するための模式平面図である。 従来のカラーフィルタ製造の現像工程において、ＢＭの額縁部近傍で発生するＢＭ線のくびれを説明するための模式平面図である。

以下、本発明の実施形態に係るカラーフィルタ及びその製造方法について図面を用いて説明する。同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付ける。各図面において、見易さのため構成要素の厚さや比率は誇張されていることがあり、構成要素
の数も減らして図示していることがある。また、本発明はその主旨を逸脱しない範囲で、以下の実施形態に限定されるものではない。

図１は、本開示の第１実施形態のカラーフィルタの構成を例示する模式断面図である。第１実施形態のカラーフィルタ１０は、透明性基板１上にＢＭ３及び３／２ａ、着色画素Ｒ、Ｇ、Ｂ、スペーサ５及び６が形成され、ＢＭは、図４（ｂ）左列の平面図に示すように、第１の方向Ｄ１に延在する第１ＢＭ線２と、第２の方向Ｄ２に延在し、第１ＢＭ線２と交差する第２ＢＭ線３からなり、第１ＢＭ線２はＢＭ細線であり拡幅部２ａを有し、第１ＢＭ線２と第２ＢＭ線３が交差する部分では、拡幅部２ａを含め、断面視で第１ＢＭ線２上に第２ＢＭ線３が乗り上げている。

スペーサは、少なくとも拡幅部２ａに第２ＢＭ線３が乗り上げた部分の上に形成されていればよいが、図１では、拡幅部２ａに乗り上げた部分の上に第１スペーサ５が形成され、第２ＢＭ線３の上に第２スペーサ６が形成された例を示している。ここで、第１スペーサ５は高さが大きいメインスペーサであり、第２スペーサ６は高さが小さいサブスペーサである。従って、拡幅部２ａはメインスペーサの台座となるパターンとなっている。

第１ＢＭ線、第２ＢＭ線はＢＭ細線、ＢＭ太線のいずれであってもよいが、図１では第１ＢＭ線２がＢＭ細線、第２ＢＭ線３がＢＭ太線である場合を例示している。逆の場合との違いについては、図６を用いて後述する。第１ＢＭ線がＢＭ太線である場合は、拡幅部２ａの幅は第１ＢＭ線の線幅と同等であってもよい。

図２は、本開示の第２実施形態のカラーフィルタの構成を例示する模式断面図である。第２実施形態のカラーフィルタ２０が、第１実施形態のカラーフィルタ１０と異なる点は、第２スペーサ６ａまたは６ｂ（６ａと６ｂの違いについては図５を用いて後述する）は、第１ＢＭ線２の、拡幅部ではない本来の線幅部の上に第２ＢＭ線３が乗り上げた部分の上に形成されている点である。ここでも第２スペーサ６ａ、または６ｂはメインスペーサである第１スペーサ５ａ、または５ｂよりも高さが小さいサブスペーサである。

図３は、本開示のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＰ−Ｐ’線部またはＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。

まず、透明性基板１上に、拡幅部２ａを有するＢＭ細線である第１ＢＭ線２、及び額縁部７のパターンを通常のフォトリソグラフィ法により形成する（図３（ａ））。尚、本図では、第１ＢＭ線２がすべてＤ１方向に延在する箇所を例示しているが、既述のように、着色画素の配列に応じて、第１ＢＭ線２はＤ２方向に延在する。

次に、前記パターン上に、第１ＢＭ線２と交差する、ＢＭ太線である第２ＢＭ線３のパターンを形成する。このように格子状のＢＭパターンと額縁部の形成を従来のように一工程で一括には形成せず、別々の工程で行うことにより、従来のような額縁部近傍での現像液の滞留が起きにくいため、現像液の消費領域と未消費領域の差が小さくなり、従って、局所的な現像レート差も小さくなり、ＢＭパターンの面内の線幅均一性が向上する。

拡幅部２ａでは、第１ＢＭ線２と第２ＢＭ線３が交差するようにする。第１ＢＭ線２と第２ＢＭ線３は立体的に交差するので、必然的に交差する部分では、拡幅部２ａを含めて、断面視で第１ＢＭ線上に第２ＢＭ線３が乗り上げる形となる（図３（ｂ）（ｃ）。尚、図３（ｂ）、（ｃ）は断面を見る線の違いのみを示している）。

従って、交差部の高さ（図３（ｂ）ｈ１、及び図３（ｃ）ｈ４）は、第１ＢＭ線２の高さ（図３（ａ）ｈ２）または第２ＢＭ線３高さ（図３（ｂ）ｈ３）よりも高くなる。また
、交差部同士で比較すれば、拡幅部２ａに乗り上げた部分（ｈ１）の方が、拡幅部ではない本来の線幅部に乗り上げた部分（ｈ４）よりも、乗り上げる塗工液の量が多くなる分、高くなる（ｈ１＞ｈ４）。

前記で高さの差をより大きくするために、第１ＢＭ線２の、拡幅部２ａの高さを、拡幅部２ａ以外の高さよりも予め高く形成しておいてもよい。そのためには、ハーフトーンマスクを用いて、ネガ型レジストを用いるのであれば、拡幅部２ａを含む部分への露光量が拡幅部２ａ以外よりも大きくなるように調整すればよい。

図４は、図３（ｂ）に続く、本開示の第１実施形態のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＱ−Ｑ’線部の模式断面図である。

図４（ａ）では、図３（ｂ）に続いて、着色画素Ｒ、Ｇ、Ｂを形成している。このとき、図示を省略するが、通常、ＢＭ部（３、及び３／２ａ）の、特に肩部に着色画素が乗り上げ、いわゆる「ツノ段差」と呼ばれる段差が発生する（例えば特開２００８−２８１６７８号公報参照）。従って、着色画素の塗布によってもＢＭ部（３、及び３／２ａ）に起因する段差がなくなることはない。

前記のように、ＢＭ部（３、及び３／２ａ）に起因する段差が残ったまま、図４（ｂ）のようにスペーサ形成層４を塗布すると、ＢＭ部（３、及び３／２ａ）に起因する段差の影響が残り、ＢＭ３／２ａ上にメインスペーサ５、ＢＭ３上にサブスペーサ６となる形状が形成される。換言すれば、平坦化層の形成工程を省略し、ＢＭ細線の拡幅部２ａに第２ＢＭ線３が乗り上げた高さと、第２ＢＭ線３のみの高さの差を利用してメインスペーサ５とサブスペーサ６を形成することができる。このようにして、第１実施形態のカラーフィルタを製造することができる。

図５は、図３（ｃ）に続く、本開示の第２実施形態のカラーフィルタの製造工程の一部を例示する、左列は模式平面図、右列はＰ−Ｐ’線部の模式断面図である。

図５（ａ）では、図３（ｃ）に続いて、着色画素Ｒ、Ｇ、Ｂを形成している。このときも、図示を省略するが、図４（ａ）の場合と同様に、ＢＭ部（３／２、及び３／２ａ）の、特に肩部に着色画素が乗り上げ、いわゆる「ツノ段差」と呼ばれる段差が発生する。しかしながら、図４（ａ）と異なり、左方のＢＭ３／２は第１ＢＭ線２の上に第２ＢＭ線３が乗り上げたものであるため、着色画素形成後の、左右のＢＭに起因する段差の高さの差は、図４（ａ）よりも小さい。

従って、図５（ｂ）のようにスペーサ形成層４ａを塗布した後の、ＢＭ部（３／２、及び３／２ａ）に起因する段差の高さの差も図４（ｂ）よりは小さくなる。これでもスペーサとして利用可能であればこのまま使用すればよく、段差が足りないようであれば、フォトリソグラフィ法を施すことにより、図５（ｃ）のように段差の高さの差を大きくすればよい。図５（ｂ）または図５（ｃ）のように、第２実施形態のカラーフィルタを製造することができる。

第１実施形態のカラーフィルタと第２実施形態のカラーフィルタとを、図４（ｂ）、図５（ｂ）または図５（ｃ）の平面図で比較すると、サブスペーサ（６、６ａまたは６ｂ）が、第１実施形態ではＢＭ太線の上にあり、第２実施形態ではＢＭ細線とＢＭ太線の交差上にある、ということに尽きる。従って、第１実施形態のカラーフィルタと第２実施形態のカラーフィルタとは二者択一ではなく、必要に応じ、両方の形態を有することができる。

以上では、第１ＢＭ線２がＢＭ細線で、第１ＢＭ線２に乗り上げる第２ＢＭ線３がＢＭ太線である場合を例として説明したが、逆に第１ＢＭ線２がＢＭ太線で、第２ＢＭ線３がＢＭ細線であってもよい。図６は、本開示のカラーフィルタにおいて、（ａ）ＢＭ細線にＢＭ太線が乗り上げた場合、（ｂ）ＢＭ太線にＢＭ細線が乗り上げた場合を比較説明するための斜視図である。

（ａ）の場合は、ＢＭ細線とＢＭ太線が交差するコーナー部分（領域Ｂ）の形状が、より設計形状に近くなり忠実性が向上するという利点、及び平面視で領域Ａの表面部が広くなりメインスペーサが形成しやすくなる、という利点がある。一方、（ｂ）の場合は、ＢＭ細線の形成が後工程となるので、ＢＭ細線が異常に細くなり剥離するリスクが低減する、という利点がある。これらは、用途、設計条件、作製条件に応じて、適宜選択すればよい。

いずれの形態であっても、本発明のカラーフィルタでは、交差するＢＭパターンの形成を別々の工程で行うので、ＢＭパターンの面内の線幅均一性が向上するとともに、交差した部分の高さが従来の一括形成のＢＭパターンよりも高くなるので、スペーサの形成を従来よりも容易にすることができる。

本発明のカラーフィルタ及びその製造方法は、高い表示品質が求められる高精細液晶表示装置、及びそれを構成するカラーフィルタ基板、液晶表示パネルに好適に用いることができる。

１０・・・・・・本開示の第１実施形態のカラーフィルタ
２０・・・・・・本開示の第２実施形態のカラーフィルタ
５０・・・・・・従来のカラーフィルタ
１、１１・・・・透明性基板
２・・・・・・・第１ＢＭ線
１２・・・・・・ＢＭ細線
２ａ・・・・・ＢＭ細線の拡幅部
３・・・・・・・第２ＢＭ線
１３・・・・・・ＢＭ太線
４、４ａ、１４・・・・スペーサ形成層
４ｂ・・・・・薄膜化したスペーサ形成層
５、５ａ、５ｂ、１５・・・・第１スペーサ（メインスペーサ）
６、６ａ、６ｂ、１６・・・・第２スペーサ（サブスペーサ）
７、１７、４７・・・・・・・額縁部
１８・・・・・・平坦化層
３０・・・・・・マザーガラス
４０・・・・・・セル（カラーフィルタ）
４１・・・・・・未消費領域
４２・・・・・・消費領域
４３・・・・・・画素
４４・・・・・・ＢＭ線
４５・・・・・・細り
４６・・・・・・くびれ
Ｒ・・・・・・・赤色画素
Ｇ・・・・・・・緑色画素
Ｂ・・・・・・・青色画素
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ・・・・領域

Claims (5)

1. 透明性基板上に、ブラックマトリクス、着色画素、スペーサが形成されたカラーフィルタにおいて、
   前記ブラックマトリクスは、平面視で第１の方向または第２の方向に延在する第１ブラックマトリクス線と、第２の方向または第１の方向に延在し、前記第１ブラックマトリクス線と交差する第２ブラックマトリクス線からなり、
   前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線は、それぞれ線幅が他方よりも細いブラックマトリクス細線と、線幅が他方よりも太いブラックマトリクス太線のいずれかであり、
   前記ブラックマトリクス細線は拡幅部を有し、
   前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線が交差する部分では、前記第１ブラックマトリクス線上に前記第２ブラックマトリクス線が断面視で乗り上げており、
   前記拡幅部は前記交差する部分に含まれ、
   前記拡幅部の上に前記スペーサが形成されている、
   ことを特徴とするカラーフィルタ。
2. 前記第１ブラックマトリクス線が前記ブラックマトリクス細線であり、
   前記第２ブラックマトリクス線が前記ブラックマトリクス太線である、
   ことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ。
3. 前記拡幅部の上に、第１スペーサが形成され、
   前記ブラックマトリクス細線と交差しない前記ブラックマトリクス太線の上に、前記第１スペーサよりも高さの小さい第２スペーサが形成されている、
   ことを特徴とする請求項１、または２に記載のカラーフィルタ。
4. 前記拡幅部の上に、第１スペーサが形成され、
   前記第１ブラックマトリクス線に乗り上げた前記第２ブラックマトリクス線の上に、前記第１スペーサよりも高さの小さい第２スペーサが形成されている、
   ことを特徴とする請求項１、または２に記載のカラーフィルタ。
5. 透明性基板上に、ブラックマトリクスを形成するカラーフィルタの製造方法において、以下の工程を含む、
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
   １）平面視で第１の方向または第２の方向に延在する第１ブラックマトリクス線を形成した後、第２の方向または第１の方向に延在し、前記第１ブラックマトリクス線と交差し、交差する部分では前記第１ブラックマトリクス線に断面視で乗り上げるように第２ブラックマトリクス線を形成する工程。
   ２）前記第１ブラックマトリクス線と前記第２ブラックマトリクス線は、それぞれ線幅が他方よりも細いブラックマトリクス細線と、線幅が他方よりも太いブラックマトリクス太線のいずれかであり、前記ブラックマトリクス細線は拡幅部を有するように形成する工程。
   ３）前記拡幅部は前記交差する部分に含まれ、前記拡幅部の上にスペーサを形成する工程。