JP2005173016A - 液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ガラス基板10上にポジ型レジストを塗布してレジスト層を形成し、レジスト層を露光、現像して線状パターン51、52を有するレジストパターン50を形成し、レジストパターン50のうち線状パターン52に紫外線を照射し、レジストパターン50に所定温度での熱処理を施して、紫外線を照射した線状パターン52をメルトフローさせた平坦部56aと、紫外線を照射していない線状パターン51をリフローさせた突起部56bとを有する構造物56を形成する。
【選択図】図1
Description
本発明の第1の実施の形態による液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について図1乃至図5を用いて説明する。図1(a)〜(c)は、本実施の形態による対向基板の製造方法を示す工程断面図である。図2は、図1(a)に示す状態の対向基板を基板面に垂直に見た図であり、図3は図1(c)に示す状態の対向基板を基板面に垂直に見た図である。まず、図1(a)及び図2に示すように、ガラス基板11上に、クロム(Cr)等の金属又は樹脂を用いてBM48を形成する。BM48は、画素領域を画定するとともに画素領域のほぼ中央部に形成される蓄積容量部を遮光するようになっている。次に、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーレジストを用いてCF層40R、40G、40Bを順次形成する。続いて、CF層40R、40G、40B上の基板全面にITOからなる共通電極(図示せず)を形成する。次に、共通電極上の全面にポジ型のノボラック系レジストを1.5μmの膜厚で塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてレジストパターン50を形成する。レジストパターン50は、画素領域の端部に対して斜めに延びる第1の線状パターン51と、線状パターン51の両側にそれぞれ所定の間隙を介して配置され、線状パターン51に平行に延びる2本の第2の線状パターン52とを有している。
液晶6に電圧が印加されると、図4に示すように、構造物56の形成されていない領域Aでは、液晶6にかかる実効電圧が最も高くなっているため、基板面に垂直な方向からの液晶分子8の傾斜角は比較的大きくなる。領域Bでは、液晶6にかかる実効電圧が領域Aよりも低くなるため、基板面に垂直な方向からの液晶分子8の傾斜角は領域Aよりも小さくなる。
本発明の第2の実施の形態による液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について図6及び図7を用いて説明する。図6(a)〜(c)は、本実施の形態による対向基板の製造方法を示す工程断面図である。図7は、図6(c)に示す状態の対向基板を基板面に垂直に見た図である。まず、図6(a)に示すように、ガラス基板11上にBM48及びCF層40R、40G、40Bを形成する。後の工程で柱状スペーサが形成される領域は、隣り合うCF層40R、40G、40B間に間隙部が形成されないように隣接して形成される。続いて、CF層40R、40G、40B上の基板全面にITOからなる共通電極(図示せず)を形成する。次に、共通電極上の全面にポジ型のノボラック系レジスト(例えば平均分子量10000以上)を3.0μmの膜厚で塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてレジストパターン60を形成する。レジストパターン60は、柱状スペーサ形成領域に形成された点状パターン61と、図2に示す線状パターン51と同様に画素領域の端部に対して斜めに延びる線幅9μmの線状パターン62とを有している。
本発明の第3の実施の形態による液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について図8乃至図14を用いて説明する。図8は、本実施の形態を用いて作製された半透過型液晶表示装置の対向基板4の3画素の構成を示している。図9は、図8のA−A線で切断した液晶表示装置の断面構成を示している。図8及び図9に示すように、この半透過型液晶表示装置の各画素領域は、画素中央部に配置され、外部からの光を反射する反射電極17がTFT基板2側に形成された反射領域Rと、反射領域Rを挟んで図8中の上下に配置され、バックライトからの光を透過させる2つの透過領域Tとを有している。CF層40R、40G、40Bは、透過領域Tの全域と反射領域Rの一部に形成されている。反射領域RのうちCF層40R、40G、40Bの形成されていない開口部44の共通電極42上には、透明な誘電体層70が形成されている。また、反射領域Rのほぼ中心部の誘電体層70上及び2つの透過領域Tのほぼ中心部の共通電極42上には、液晶6の配向を規制する点状突起72が形成されている。BM48で遮光される領域には、セル厚を維持する柱状スペーサ68が数画素乃至数十画素に1つ形成されている。柱状スペーサ68は、CF層40R、40G、40B、共通電極42、誘電体層70と同一の形成材料からなる誘電体層、及び点状突起72と同一の形成材料からなる誘電体層が積層して形成されている。
まず、図10(a)、(b)に示すように、ガラス基板11上にBM48及びCF層40R、40G、40Bを順に形成する。ここで、柱状スペーサ68の形成領域では、CF層40R、40G、40Bの3層が積層される。また、画素領域のうち反射領域Rの一部には、CF層40R、40G、40Bが部分的に開口された開口部(穴部)44が形成される。次いで、CF層40R、40G、40B上の基板全面に共通電極42を形成する。
本発明の第4の実施の形態による液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について図15乃至図19を用いて説明する。図15は、本実施の形態を用いて作製されたCF−on−TFT構造の半透過型液晶表示装置のTFT基板2の3画素の構成を示している。図16(a)は図15のD−D線で切断した液晶表示装置の断面構成を示し、図16(b)は図15のE−E線で切断した液晶表示装置の断面構成を示している。図15及び図16(a)、(b)に示すように、ガラス基板10上には、図15の左右方向に延びる複数のゲートバスライン12が形成されている。絶縁膜30を介してゲートバスライン12に交差して、図15の上下方向に延びる複数のドレインバスライン14が形成されている。ゲートバスライン12及びドレインバスライン14で囲まれた画素領域を横切って、ゲートバスライン12に平行に延びる蓄積容量バスライン18が形成されている。ゲートバスライン12及びドレインバスライン14の交差位置近傍には、TFT20が形成されている。TFT20のゲート電極21はゲートバスライン12に電気的に接続され、ドレイン電極22はドレインバスライン14に電気的に接続されている。TFT20のソース電極23は、画素領域の中央部に形成された反射電極17に電気的に接続されている。
まず、図17(a)、(b)に示すように、ガラス基板10上にゲートバスライン12、蓄積容量バスライン18(及びTFT20のゲート電極21)を形成する。次に、ゲートバスライン12及び蓄積容量バスライン18上の基板全面に絶縁膜30を形成する。次いで、絶縁膜30上にTFT20の動作半導体層やチャネル保護膜等(共に図示せず)を形成し、さらにドレインバスライン14、反射電極17(及びTFT20のドレイン電極22、ソース電極23)を形成する。次に、ドレインバスライン14及び反射電極17上の基板全面に保護膜32を形成する。次いで、保護膜32をパターニングして反射領域Rの少なくとも一部を開口し、開口部44を形成する。次に、保護膜32上の全面にCF層40R、40G、40Bを順に形成する。ここで、反射領域Rの少なくとも一部には、CF層40R、40G、40Bが開口された開口部(穴部)44が形成される。開口部44では保護膜32も除去されているため、反射電極17表面が露出する。開口部44は、反射表示の際の色味や透過率を調整した所定の大きさに形成される。また柱状スペーサ68形成領域では、CF層40R、40G、40Bの3層が積層される。次に、CF層40R、40G、40B上の全面にITOからなる画素電極16を画素毎に形成する。画素電極16は、開口部44を介して反射電極17に電気的に接続される。
本発明の第5の実施の形態による液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について図20乃至図24を用いて説明する。図20は、本実施の形態を用いて作製された液晶表示装置のCF基板4の3画素及び額縁領域の構成を示している。図21は図20のF−F線で切断した液晶表示装置の断面構成を示している。なお、図21や後に示す図23(c)では、理解を容易にするために、柱状スペーサ68をF−F線上に配置した断面構成を示している。
例えば、上記実施の形態では、MVA方式の液晶表示装置及び半透過型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、他の液晶表示装置にも適用できる。
(付記1)
基板上にポジ型レジストを塗布してレジスト層を形成し、
前記レジスト層を露光、現像して所定形状のレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンの一部に紫外線を照射し、
前記レジストパターンに所定温度での熱処理を施して、前記紫外線を照射した前記レジストパターンをメルトフローさせて構造物を形成すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記2)
付記1記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線は、300nm以上450nm以下の波長を有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記3)
付記1又は2に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記所定温度は、150℃以上であること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記4)
付記1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記所定温度は、250℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記5)
付記1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線を照射する工程は、背面露光を用いること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記6)
付記1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線を照射する工程は、前記レジストパターンの他部を遮光するフォトマスクを用いること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記7)
付記1乃至6のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記レジストパターンの一部は前記基板上の穴部又は溝部に形成され、
前記構造物は当該穴部又は溝部を埋めるように形成されること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記8)
付記7記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記溝部は、隣り合うカラーフィルタ層の間に形成された間隙部を含むこと
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記9)
付記7又は8に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記穴部は、カラーフィルタ層に形成された開口部を含むこと
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記10)
付記1乃至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線の照射された前記レジストパターンをメルトフローさせるとともに、前記紫外線の照射されていない前記レジストパターンをリフローさせて、互いに高さの異なる構造物を一括形成すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
(付記11)
一対の基板を作製し、前記基板を互いに貼り合わせて前記基板間に液晶を封止する液晶表示装置の製造方法において、
前記基板の少なくとも一方は、付記1乃至10のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法を用いて作製されること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
4 対向基板
6 液晶
8 液晶分子
10、11 ガラス基板
12 ゲートバスライン
14 ドレインバスライン
16 画素電極
17 反射電極
20 TFT
21 ゲート電極
22 ドレイン電極
23 ソース電極
30 絶縁膜
32 保護膜
40、40R、40G、40B CF層
42 共通電極
44 開口部
48 BM
50、60 レジストパターン
51 第1の線状パターン
52、52’ 第2の線状パターン
54、64、84、85 フォトマスク
56 構造物
56a 平坦部
56b 突起部
58、66 線状突起
61 点状パターン
62、62’ 線状パターン
68 柱状スペーサ
70、74、75、76、77、78、79 誘電体層
72 点状突起
80 間隙部
82 額縁領域
Claims (10)
- 基板上にポジ型レジストを塗布してレジスト層を形成し、
前記レジスト層を露光、現像して所定形状のレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンの一部に紫外線を照射し、
前記レジストパターンに所定温度での熱処理を施して、前記紫外線を照射した前記レジストパターンをメルトフローさせて構造物を形成すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線は、300nm以上450nm以下の波長を有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記所定温度は、150℃以上であること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記所定温度は、250℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線を照射する工程は、前記レジストパターンの他部を遮光するフォトマスクを用いること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記レジストパターンの一部は前記基板上の穴部又は溝部に形成され、
前記構造物は当該穴部又は溝部を埋めるように形成されること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項6記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記溝部は、隣り合うカラーフィルタ層の間に形成された間隙部を含むこと
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項6又は7に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記穴部は、カラーフィルタ層に形成された開口部を含むこと
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法において、
前記紫外線の照射された前記レジストパターンをメルトフローさせるとともに、前記紫外線の照射されていない前記レジストパターンをリフローさせて、互いに高さの異なる構造物を一括形成すること
を特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。 - 一対の基板を作製し、前記基板を互いに貼り合わせて前記基板間に液晶を封止する液晶表示装置の製造方法において、
前記基板の少なくとも一方は、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法を用いて作製されること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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