JP6921793B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

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Description

本開示は、液晶表示装置の製造方法、及び、当該製造方法により製造された液晶表示装置に関する。
液晶を有する表示パネルを用いた液晶表示装置は、低消費電力で画像を表示することができるため、テレビ又はモニタ等のディスプレイ等として利用されている。任意のサイズの表示パネルを製造するために、表示パネルが有するガラス製の基板を切断する等の加工を行う（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１には、基板の切断予定の箇所にレーザ光を照射し、さらに、レーザ光を照射した基板をエッチングすることで、基板の切断を行うことで表示パネルを製造する方法が開示されている。
特開２０１０−１２６３９８号公報
しかしながら、液晶、電子回路等の部品を複数の基板を重ね合わせた状態でエッチングを用いた基板の切断を行う場合、部品がエッチング液にさらされることで、部品の故障を招く問題がある。
本開示は、このような問題を解決するためになされたものであり、エッチングによる部品の故障の発生を抑制できる液晶表示装置の製造方法を提供する。
上記目的を達成するために、本開示に係る液晶表示装置の製造方法の一態様は、第１基板、前記第１基板に対向して配置される第２基板、並びに、前記第１基板及び前記第２基板に挟まれた液晶を有する表示パネルを備える液晶表示装置の製造方法であって、第１ガラス板及び第２ガラス板の第１位置に、第１照射エネルギーでレーザ光を照射する第１照射ステップと、前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板の第２位置に、前記第１照射エネルギーより高い第２照射エネルギーでレーザ光を照射する第２照射ステップと、前記第１照射ステップ及び前記第２照射ステップの後に、前記第１位置を割断せず、且つ、前記第２位置を割断して、前記第１基板及び前記第２基板の外周の少なくとも一部を形成するように、前記表示パネルをエッチング液にさらすエッチングステップと、を含む。
また、本開示に係る液晶表示装置の製造方法の別の一態様は、第１基板、前記第１基板に対向して配置される第２基板、及び、前記第１基板及び前記第２基板に挟まれた液晶を有する表示パネルを備える液晶表示装置の製造方法であって、第１ガラス板及び第２ガラス板をスクライブによって切断する切断ステップと、前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板の第１位置にレーザ光を照射する第１照射ステップと、前記切断ステップ及び前記第１照射ステップの後に、前記第１位置を割断しないように、前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板をエッチング液にさらし、前記第１基板及び前記第２基板の外周の少なくとも一部をエッチングするエッチングステップと、を含む。
また、本開示に係る液晶表示装置の一態様は、第１基板、前記第１基板に対向して配置される第２基板、並びに、前記第１基板及び前記第２基板に挟まれた液晶を有する表示パネルと、前記第１基板及び前記第２基板の間に形成され、前記第１基板及び前記第２基板の両方に接着するシール部材と、を備え、前記シール部材は、前記表示パネルを平面視した場合に、前記液晶を環状に囲む第１シール部と、一方の端部が前記第１シール部と接続し、他方の端部が前記第１基板及び前記第２基板と平面視で重畳する第２シール部と、を含む。
本開示の一態様に係る液晶表示の製造方法等によれば、エッチングによる部品の故障の発生を抑制できる。
図１は、実施の形態に係る液晶表示装置の概略構成を模式的に示す図である。 図２は、実施の形態に係る液晶表示装置の断面構成を模式的に示す図である。 図３Ａは、実施の形態に係る液晶表示装置が備える第１基板を示す平面図である。 図３Ｂは、実施の形態に係る液晶表示装置が備える第２基板を示す平面図である。 図４は、実施の形態に係る液晶表示装置は備える第１基板及び第２基板を形成する前の第１ガラス板及び第２ガラス板を模式的に示す図である。 図５は、実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。 図６は、実施の形態に係る液晶表示装置が備える第１基板の製造工程を示す平面図である。 図７は、実施の形態に係る液晶表示装置が備える第２基板の製造工程を示す平面図である。 図８は、実施の形態に係る液晶表示装置が備える表示パネルの製造工程を示す断面図である。 図９は、実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法におけるレーザ光を第２ガラス板の第２位置に照射する工程の一例を説明するための部分拡大断面図である。 図１０は、実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法におけるレーザ光を第２ガラス板の第１位置に照射する工程の一例を説明するための部分拡大断面図である。 図１１は、実施の形態に係る液晶表示装置が備える第２基板の製造工程の別の一例を示す平面図である。 図１２は、実施の形態に係る液晶表示装置の別の製造方法を示すフローチャートである。 図１３Ａは、その他の実施の形態に係る液晶表示装置が備える表示パネルを模式的に示す図である。 図１３Ｂは、その他の実施の形態に係る液晶表示装置が備える表示パネルを示す側面図である。
以下、本開示の実施の形態について説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、及び、構成要素の配置位置や接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
各図は模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。したがって、各図において縮尺等は必ずしも一致していない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。なお、本明細書において、「略」とは、製造誤差や寸法公差を含むという意味である。
また、各図において、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、三次元直交座標系の三軸を表している。Ｘ軸及びＹ軸は、互いに直交し、且つ、いずれもＺ軸に直交する軸である。また、本明細書において、「厚み方向」とは、第１ガラス板又は第２ガラス板の厚み方向を意味し、第１ガラス板及び第２ガラス板の主面に垂直な方向のことである。また、本明細書において、「平面視」とは、第１基板又は第２基板の主面に対して垂直な方向から見たときのことをいう。以下の実施の形態では、「平面視」とは、Ｘ軸方向からＹＺ平面を見たときのことをいう。また、本明細書において、「側面視」とは、第１基板又は第２基板の主面に対して平行な方向から見たときのことをいう。以下の実施の形態では、「側面視」とは、Ｚ軸方向からＸＹ平面を見たときのことをいう。
（実施の形態）
［液晶表示装置の構成］
まず、実施の形態に係る液晶表示装置１の構成について、図１〜図３Ｂを用いて説明する。図１は、実施の形態に係る液晶表示装置１の概略構成を模式的に示す図である。図２は、液晶表示装置１の断面構成を模式的に示す図である。なお、図２に示される矢印は、バックライト３０から出射される光を模式的に示している。図３Ａは、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える第１基板１１を示す平面図である。図３Ｂは、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える第２基板１２を示す平面図である。なお、シール部材６０は、第１基板１１と第２基板１２との間に形成されるが、説明のために図１〜図３Ｂには模式的に示している。また、図１〜図３Ｂには、シール部材６０の第１シール部６１を一点鎖線で示し、シール部材６０の第２シール部６２を破線で示している。
図１及び図２に示す実施の形態に係る液晶表示装置１は、静止画像又は動画像の画像（映像）を表示するための画像表示装置の一例である。液晶表示装置１は、表示パネル１０と、拡散シート２０と、バックライト３０と、フレキシブル基板４０と、外部基板５０と、シール部材６０と、を備える。液晶表示装置１において、表示パネル１０、拡散シート２０、及び、バックライト３０は、この順で配置されている。なお、図示しないが、表示パネル１０及び拡散シート２０は互いに貼り合わされて、バックライト３０とともに、金属製又は樹脂製の保持部材（筐体、フレーム又はシャーシ）に保持される。
表示パネル１０は、ユーザが視認する画像を表示する。表示パネル１０は、画像が表示される画像表示領域として、マトリクス状に配列された複数の画素を有する。なお、表示パネル１０の駆動方式は、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式であるが、これに限るものではなく、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等であってもよい。表示パネル１０は、平面視で略矩形の平板状である。表示パネル１０は、第１基板１１、第１基板１１に対向して配置される第２基板１２、並びに、第１基板１１及び第２基板１２に挟まれた液晶層（液晶）１３を有する。
第１基板１１は、バックライト３０出射した光を透過する透光性を有する。具体的には、第１基板１１は、ガラス板であり、平面視で略長方形である。第１基板１１は、液晶層１３側の主面にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層１１ａを有する。
ＴＦＴ層１１ａは、ＴＦＴ及び配線等が設けられた層である。また、ＴＦＴ層１１ａには、例えば、液晶層１３に電圧を印加するための画素電極が形成されている。
また、第１基板１１におけるＴＦＴ層１１ａが配置されている面とは反対側の面には、偏光板１１ｂが配置されている。
第２基板１２は、バックライト３０出射した光を透過する透光性を有する。具体的には、第２基板１２は、ガラス板であり、液晶層１３側の主面にＣＦ（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ）層１２ａを有する。
ＣＦ層１２ａは、例えば、赤色用のカラーフィルタ、緑色用のカラーフィルタ、及び、青色用のカラーフィルタによって構成されているカラーフィルタを備える層である。
また、第２基板１２におけるＣＦ層１２ａが配置されている面とは反対側の面には、偏光板１２ｂが配置されている。
また、第２基板１２には、切り欠き部８０が形成されている。具体的には、表示パネル１０を平面視した場合に、第２基板１２は、後述するシール部材６０の第２シール部６２の他方の端部６２ｂが平面視で重畳する１辺が切り欠かれた切り欠き部８０を有する。より具体的には、切り欠き部８０は、平面視で矩形に形成されている第２基板１２の１辺が、平面視で第２基板１２の中央部に向けて凹むように形成されている。本実施の形態では、切り欠き部８０は、Ｙ軸負方向側に位置する１辺に切り欠き部８０が形成されている。また、第１基板１１には、切り欠き部８０は形成されていない。つまり、第１基板１１及び第２基板１２のうち、第２基板１２にのみ切り欠き部８０が形成されている。第２基板１２に切り欠き部８０が形成されていることで、第１基板１１と第２基板１２とを重ね合わせた際に、第１基板１１におけるＴＦＴ層１１ａが形成されている面の一部が露出される。こうすることで、露出された部分である非重畳部分７１を利用することで、第１基板１１の液晶層１３側の表面に形成された配線等と外部基板５０とは、簡便に電気的に接続され得る。なお、切り欠き部８０は、第２基板１２が有する辺のいずれに形成されてもよいし、複数形成されてもよい。
また、第２基板１２の切り欠き部８０の輪郭は、第１基板１１の平面視した場合の４角の角部９０と比較して、曲率半径が大きいアールを有する。具体的には、切り欠き部８０が有する２つの角部８１は、第１基板１１の平面視した場合の４角に対応する４つの角部９０と比較して、いずれも曲率半径が大きい。
偏光板１１ｂ、１２ｂは、樹脂材料からなるシート状の偏光フィルムであり、第１基板１１及び第２基板１２を挟むように配置されている。また、偏光板１１ｂと偏光板１２ｂとは、偏光方向が互いに直交するように配置されている。つまり、偏光板１１ｂと偏光板１２ｂは、クロスニコルで配置されている。
液晶層１３は、第１基板１１と第２基板１２との間に封止されている液晶を有する層である。また、液晶層１３は、平面視において、シール部材６０の第１シール部６１に囲まれている。なお、液晶層１３の材料は、駆動方式に応じて適宜選択されてよい。
拡散シート２０は、表示パネル１０及びバックライト３０の間に配置された光学部材である。拡散シート２０は、入射した光を拡散（散乱）させる光拡散層として機能する。したがって、バックライト３０が発し、拡散シート２０に入射した光は、拡散シート２０で拡散されて拡散シート２０を透過し、表示パネル１０に入射する。拡散シート２０は、例えば、樹脂材料に反射性微粒子が分散された樹脂シートであるが、これに限るものではなく、微小凹凸構造等によって光を拡散させるものであってもよい。
バックライト３０は、表示パネル１０に向けて光を照射する。バックライト３０は、均一な散乱光（拡散光）を照射する面光源である。バックライト３０は、例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）を光源とするＬＥＤバックライトであるが、これに限るものではない。また、本実施の形態において、バックライト３０は、直下型であるが、エッジ型であってもよい。
フレキシブル基板４０は、外部基板５０と第１基板１１とを接続するための基板である。具体的には、フレキシブル基板４０は、第１基板１１に配置されているＴＦＴ層１１ａが有する電子部品と外部基板５０とを電気的に接続する。
外部基板５０は、液晶表示装置１の外部から、外部映像信号を受信する受信ための回路が形成された基板である。具体的には、外部基板５０は、ＴＦＴ層１１ａが有する各電子部品を電気的に制御することで、液晶表示装置１が表示する映像を制御するためのドライブ基板である。
また、表示パネル１０は、平面視で第１基板１１と第２基板１２とが重畳する重畳部分７０と、平面視で第１基板１１と第２基板１２とが重畳しない非重畳部分７１と、を有する。第１基板１１は、第２基板１２と平面視で重畳しない非重畳部分７１において、フレキシブル基板４０と接続する。より具体的には、第１基板１１に形成されたＴＦＴ層１１ａとフレキシブル基板４０とは、非重畳部分７１で電気的に接続されている。
シール部材６０は、第１基板１１及び第２基板１２の間に形成され、第１基板１１及び第２基板１２の両方に接着する接着剤である。シール部材６０は、例えば、樹脂材料である。また、液晶層１３は、第１基板１１と、第２基板１２と、シール部材６０とに囲まれて封止されている。具体的には、液晶層１３は、平面視でシール部材６０によって囲まれている。より具体的には、シール部材６０は、表示パネル１０を平面視した場合に、液晶層１３を環状に囲む第１シール部６１と、一方の端部６２ａが第１シール部６１と接続し、他方の端部６２ｂが第１基板１１及び第２基板１２と平面視で重畳する第２シール部６２と、を含む。
第１シール部６１は、例えば、平面視で矩形環状となるように、第１基板１１と第２基板１２と間であって、平面視で液晶層１３を囲むように形成されている。つまり、第１シール部６１は、第１基板１１及び第２基板１２を接着させるとともに、液晶層１３の封止部材としても機能する。
第２シール部６２は、第１基板１１と第２基板１２と間であって、第１シール部６１の環状の外部で第１基板１１及び第２基板１２を接着させている。第２シール部６２は、平面視で直線状に形成されている。本実施の形態では、第２シール部６２は、一方の端部６２ａが矩形環状の第１シール部６１の角部に接する位置に２つ形成されている。２つの第２シール部６２は、第１シール部６１における平行な２辺のそれぞれから、第１基板１１及び第２基板１２の端縁まで一直線状に延在している。また、切り欠き部８０は、第２シール部６２を構成する２つの一直線状に延在する箇所の間に位置している。
［液晶表示装置の製造方法］
続いて、図４〜図１１を参照して、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法について説明する。
＜第１例＞
図４は、実施の形態に係る液晶表示装置１は備える第１基板１１及び第２基板１２を形成する前の第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０を模式的に示す図である。
表示パネル１０を製造する際には、まず、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０を重ね合わせた板体１００を準備する。
第１ガラス板１１０には、図２に示すＴＦＴ層１１ａが第２ガラス板１２０と対向する面に形成されている。また、第２ガラス板１２０には、図２に示すＣＦ層１２ａが第１ガラス板１１０と対向する面に形成されている。表示パネル１０は、板体１００を切り分けることで形成される。
また、板体１００が切り分けられることで形成される表示パネル１０の数に合わせて、シール部材６０が、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の間に配置されている。図４には、シール部材６０が配置される位置を破線で模式的に示している。
なお、図４には、４つの表示パネル１０が形成される板体１００について例示しているが、板体１００から切り分けられることで形成される表示パネル１０の数は、特に限定されない。
図５は、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法を示すフローチャートである。図６は、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える第１基板１１の製造工程を示す平面図である。図７は、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える第２基板１２の製造工程を示す平面図である。図８は、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える表示パネル１０の製造工程を示す断面図である。
なお、図６においては、説明のために第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０のうち、第１ガラス板１１０のみを示しており、図７においては、説明のために第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０のうち、第２ガラス板１２０のみを示している。なお、図６及び図７に示すシール部材６０は、平面視で重なる位置に形成されている。また、図６及び図７には、シール部材６０が配置される位置を破線で模式的に示している。また、図６及び図７には、図５に示す板体１００における、１つの表示パネル１０が形成される部分を拡大して示している。また、図８は、１つの表示パネル１０が形成される部分の表示パネル１０のＺ軸方向に平行な方向の中央部の断面の一部を模式的に示している。
図８に示す電極層１４は、第１基板１１のＴＦＴ層１１ａの面に配置され、ＴＦＴ層１１ａと電気的に接続している金属配線である。電極層１４は、図１に示すフレキシブル基板４０と電気的に接続されることで、フレキシブル基板４０と電気的に接続された外部基板５０とＴＦＴ層１１ａとを電気的に接続する。
まず、図６の（ａ）及び図８の（ａ）に示す第１ガラス板１１０の第２位置１１２、並びに、図７の（ａ）及び図８の（ａ）に示す第２ガラス板１２０の第２位置１２２に、第２照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する第２照射ステップを実行する（ステップＳ１０１）。なお、図６及び図７には、第２位置１１２、１２２を二点鎖線で示している。こうすることで、第１ガラス板１１０の第２位置１１２、及び、第２ガラス板１２０の第２位置１２２には、第１ガラス板１１０又は第２ガラス板１２０が改質された改質層が形成される。当該改質層は、後述するエッチングによって、エッチングスピードが速くなる。第２照射エネルギーでレーザ光２１０を第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０に照射することで、例えば、第１ガラス板１１０の第２位置１１２、及び、第２ガラス板１２０の第２位置１２２には、それぞれ厚み方向に一様に改質層が形成される。
次に、図６の（ｂ）及び図８の（ｂ）に示す第１ガラス板１１０の第１位置１１１、並びに、図７の（ｂ）及び図８の（ｂ）に示す第２ガラス板１２０の第１位置１２１に、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する第１照射ステップを実行する（ステップＳ１０２）。なお、図６及び図７には、第１位置１１１、１２１を一点鎖線で示している。こうすることで、第１ガラス板１１０の第１位置１１１、及び、第２ガラス板１２０の第１位置１２１の一部分には、第１ガラス板１１０又は第２ガラス板１２０が改質された改質層が形成される。具体的例えば、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０に照射することで、第１ガラス板１１０の第１位置１１１、及び、第２ガラス板１１０の第１位置１２１には、それぞれ厚み方向の一部に改質層が形成され、当該一部を除く他部には改質層が形成されない。
なお、第１ガラス板１１０の第１位置１１１の一部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳している。また、第１ガラス板１１０の第１位置１２１の他の部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳していない。また、第１ガラス板１１０の第２位置１１２はすべて、第２ガラス板１２０の第２位置１２２と平面視で重畳している。
また、第１位置１１１、１２１は、第２位置１１２、１２２で囲まれる領域の範囲内である。具体的には、第１ガラス板１１０の第１位置１１１は、第１ガラス板１１０の第２位置１１２に平面視で囲まれる領域の範囲内である。また、第２ガラス板１２０の第１位置１２１は、第２ガラス板１２０の第２位置１２２に平面視で囲まれる領域の範囲内である。
なお、照射エネルギー（具体的には、第１照射エネルギー及び第２照射エネルギー）は、レーザ光の照射される対象物（具体的には、第１ガラス板１１０又は第２ガラス板１２０）の単位面積当たりのレーザ光の照射時間、レーザ光の照射パワー、対象物におけるレーザ光の照射面積で定まる値である。第２位置１１２、１２２の単位面積当たりに照射されるレーザ光の総光量である第２照射エネルギーは、第１位置１１１、１２１の単位面積当たりに照射されるレーザ光の総光量である第１照射エネルギーより高い値に設定される。レーザ光は、例えば、フェムト秒レーザ光（波長１０５２ｎｍ、パルス幅５００ｆｓ、平均出力１５Ｗ、パルスエネルギー１００μＪ）を、レンズを使って焦点を絞り、第２位置１１２、１２２には１ｃｍ２当たり合計で３秒照射され、第１位置１１１、１２１には１ｃｍ２当たり合計で２秒照射される。
第２照射エネルギーは、第１照射エネルギーより高い値に設定されればよく、レーザ光の照射時間及び照射パワーは、任意に設定されてよい。例えば、ステップＳ１０１における第２位置１１２、１２２の単位長さ当たりのレーザ光の照射時間は、ステップＳ１０２における第１位置１１１、１２１の単位長さ当たりのレーザ光の照射時間と比較して長い。こうすることで、第２照射エネルギーは、第１照射エネルギーより高い値に設定されてもよい。或いは、ステップＳ１０１における第２位置１１２、１２２のレーザ光の照射回数は、ステップＳ１０２における第１位置１１１、１２１のレーザ光の照射回数と比較して多い。こうすることで、第２照射エネルギーは、第１照射エネルギーより高い値に設定されてもよい。具体的には、レーザ光を１回照射する際の照射時間、単位時間及び照射対象物の単位面積当たりの照射パワーが一定である場合には、ステップＳ１０１における第２位置１１２、１２２のレーザ光の照射回数を、ステップＳ１０２における第１位置１１１、１２１のレーザ光の照射回数と比較して多くしてもよい。こうすることで、ステップＳ１０１における第２位置１１２、１２２の単位長さ当たりのレーザ光のトータルの照射時間は、ステップＳ１０２における第１位置１１１、１２１の単位長さ当たりのレーザ光のトータルの照射時間と比較して長くできる、つまり、第２照射エネルギーを、第１照射エネルギーより高い値に設定できる。
図９は、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法におけるレーザ光２１０を第２ガラス板１２０の第２位置１２２に照射する工程の一例を説明するための部分拡大断面図である。図１０は、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法におけるレーザ光２１０を第２ガラス板１２０の第１位置１２１に照射する工程の一例を説明するための部分拡大断面図である。つまり、図９は、図５に示すステップＳ１０１の一例を示す図であり、図１０は、図５に示すステップＳ１０２の一例を示す図である。
なお、図９及び図１０においては、説明のために第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０のみを図示し、液晶層１３、ＴＦＴ層１１ａ、ＣＦ層１２ａ等の表示パネル１０が備える構成要素の図示を一部省略している。また、図９及び図１０においては、第２ガラス板１２０にレーザ光２１０を照射する場合を例示しているが、第１ガラス板１１０にレーザ光２１０を照射する場合についても同様である。また、図９の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）と、図１０の（ａ）及び（ｂ）にそれぞれ示されている、レーザ光２１０を１回照射する際の照射時間、単位時間及び照射対象物の単位面積当たりの照射パワーは、一定、つまり同じであるとして説明する。
図９の（ａ）に示すように、レーザ光２１０の焦点が焦点位置２１１に位置するように、レンズ２００の位置を調整する。図９の（ａ）の状態で、平面視で第２ガラス板１２０の第２位置１２２に沿って、第２ガラス板１２０に、レーザ光２１０を所定の照射時間及び所定の照射パワーで照射する。
次に、図９の（ｂ）に示すように、レーザ光２１０の焦点を厚み方向に移動させて焦点位置２１２に位置するように、レンズ２００の位置を調整する。図９の（ｂ）の状態で、平面視で第２ガラス板１２０の第２位置１２２に沿って、第２ガラス板１２０に、レーザ光２１０を所定の照射時間及び所定の照射パワーで照射する。
次に、図９の（ｃ）に示すように、レーザ光２１０の焦点を厚み方向に移動させて焦点位置２１３に位置するように、レンズ２００の位置を調整する。図９の（ｃ）の状態で、平面視で第２ガラス板１２０の第２位置１２２に沿って、第２ガラス板１２０に、レーザ光２１０を所定の照射時間及び所定の照射パワーで照射する。
また、図１０の（ａ）に示すように、レーザ光２１０の焦点が焦点位置２１４に位置するように、レンズ２００の位置を調整する。図１０の（ａ）の状態で、平面視で第２ガラス板１２０の第１位置１２１に沿って、第２ガラス板１２０に、レーザ光２１０を所定の照射時間及び所定の照射パワーで照射する。
次に、図１０の（ｂ）に示すように、レーザ光２１０の焦点を厚み方向に移動させて焦点位置２１５に位置するように、レンズ２００の位置を調整する。図１０の（ｂ）の状態で、平面視で第２ガラス板１２０の第１位置１２１に沿って、第２ガラス板１２０に、レーザ光２１０を所定の照射時間及び所定の照射パワーで照射する。
このように、例えば、図５に示すステップＳ１０１及びステップＳ１０２における照射するレーザ光２１０はレンズ２００を用いて焦点が絞られており、ステップＳ１０１及びステップＳ１０２におけるレンズ２００に絞られたレーザ光２１０の焦点の位置は、レーザ光２１０の照射回数ごとに第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の厚み方向に異なっている。
なお、レーザ光２１０を第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０に照射する際のレーザ光２１０の照射時間及び照射パワーは、焦点位置ごとに同じでもよいし、異なってもよい。
再び図５を参照し、ステップＳ１０２の次に、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０をエッチングするエッチングステップを実行する（ステップＳ１０３）。具体的には、ステップＳ１０３では、図６の（ｃ）、図７の（ｃ）、及び、図８の（ｃ）に示すように、ステップＳ１０１及びステップＳ１０２の後に、エッチングすることで、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の全体の板厚が薄くなる。改質層は、改質層以外の部分よりエッチングスピードが速い。また、第１ガラス板１１０の第２位置１１２及び第２ガラス板１２０の第２位置１２２が割断されるが、第１ガラス板１１０の第１位置１１１及び第２ガラス板１２０の第１位置１２１が割断される前にエッチングを止める。このようにして、図３Ａ及び図３Ｂに示す第１基板１１及び第２基板１２の外周の少なくとも一部を形成するように、表示パネル１０（具体的には、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０）をエッチング液にさらす。なお、エッチング液は、任意に選択されてよい。
次に、ステップＳ１０３の後に、機械的外力によって第１位置１１１、１２１を割断する割断ステップを実行する（ステップＳ１０４）。具体的には、ステップＳ１０４では、図６の（ｄ）、図７の（ｄ）、及び、図８の（ｄ）に示すように、第１ガラス板１１０の第１位置１１１及び第２ガラス板１２０の第１位置１２１を割断することで、第１基板１１及び第２基板１２、つまり、例えば図１に示す切り欠き部８０を有する表示パネル１０を形成する。
上記のように、ステップＳ１０２において、第１ガラス板１１０の第１位置１１１、及び、第２ガラス板１１０の第１位置１２１を、それぞれ厚み方向の一部に改質層が形成され、当該一部を除く他部には改質層が形成されないような状態にする。これにより、第１ガラス板１１０の第１位置１１１、及び、第２ガラス板１１０の第１位置１２１を、ステップＳ１０２では割断されておらず、且つ、ステップＳ１０４では機械的外力で容易に割断されるようにすることができる。
なお、図５に示すフローチャートでは、第１位置１１１、１２１と、第２位置１１２、１２２とへのレーザ光２１０の照射は、それぞれ異なるステップで実行されているが、ステップＳ１０３の前に、第１位置１１１、１２１に第１照射エネルギーでレーザ光２１０が照射され、且つ、第２位置１１２、１２２に第２照射エネルギーでレーザ光２１０が照射されればよい。
例えば、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２の両方に第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射し、さらに、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２のうちの第２位置１１２、１２２にのみ、第２照射エネルギーと第１照射エネルギーの差分となる照射エネルギーのレーザ光２１０を照射してもよい。こうすることで、第１位置１１１、１２１に第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射し、且つ、第２位置１１２、１２２に第２照射エネルギーでレーザ光２１０を照射してもよい。
また、例えば、図５に示すステップＳ１０１とステップＳ１０２とは、順序が逆となってもよい。
また、上述で説明したのは、レーザ光２１０の照射パワーを一定として、第２位置１１２、１２２に対する単位長さ当たりのレーザ光２１０の照射時間を、第１位置１１１、１２１に対する単位長さ当たりの照射時間より長くする場合であるが、それに限られない。例えば、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２へのレーザ光２１０の照射時間を一定にして、第２位置１１２、１２２に対するレーザ光２１０の照射パワーを、第１位置１１１、１２１に対するレーザ光２１０の照射パワーよりも高くしても良い。
また、図７の（ｂ）においては、第２ガラス板１２０の第１位置１２１を、第１ガラス板１１０の第１位置１１１と重畳する部分と重畳しない部分を一度にレーザ光２１０を照射する例を示したが、これに限定されない。
図１１は、実施の形態に係る液晶表示装置１が備える第２基板１２の製造工程の別の一例を示す平面図である。具体的には、図１０は、図７の（ｂ）に示すステップの別の一例である。
図１１の（ａ）に示すように、第２ガラス板１２０の第１位置１２１ａに、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する。第２ガラス板１２０の第１位置１２１ａは、第１ガラス１１０の第１位置１１１と平面視で重畳する部分である。なお、図１１には、第１位置１２１ａ、１２１ｂを一点鎖線で示している。
さらに、図１１の（ｂ）に示すように、第２ガラス板１２０の第１位置１２１ｂに、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する。第２ガラス板１２０の第１位置１２１ｂは、第１ガラス１１０の第１位置１１１と平面視で重畳しない部分である。
このように、第２ガラス板１２０の第１位置１２１に、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射するステップでは、第１ガラス１１０の第１位置１１１と平面視で重畳する部分と、第１ガラス１１０の第１位置１１１と平面視で重畳しない部分とで、レーザ光２１０の照射を２回実行してもよい。
なお、図１１の（ａ）に示すステップと、図１１の（ｂ）に示すステップとは、実行される順序が逆になってもよい。
＜第２例＞
続いて、図６、図７、及び、図１２を参照して、実施の形態に係る液晶表示装置１の別の製造方法について説明する。
図１１は、実施の形態に係る液晶表示装置１の別の製造方法を示すフローチャートである。
まず、図６の（ａ）及び図８の（ａ）に示す第１ガラス板１１０の第２位置１１２、並びに、図７の（ａ）及び図８の（ａ）に示す第２ガラス板１２０の第２位置１２２を、スクライブによって切断する切断ステップを実行する（ステップＳ２０１）。スクライブによって切断するとは、例えば、ダイヤモンドカッター等を備えるスクライブ装置によって第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０を切断することを意味する。つまり、第２例では、第１例とは異なり、第２位置１１２、１２２をレーザ光２１０の照射とエッチングにより切断せず、スクライブによって切断する。
次に、図６の（ｂ）及び図８の（ｂ）に示す第１ガラス板１１０の第１位置１１１、並びに、図７の（ｂ）及び図８の（ｂ）に示す第２ガラス板１２０の第１位置１２１に、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する第１照射ステップを実行する（ステップＳ２０２）。つまり、ステップＳ２０２では、図５に示すステップＳ１０２と同様の処理を実行する。
次に、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０をエッチングするエッチングステップを実行する（ステップＳ２０３）。具体的には、ステップＳ２０３では、第１ガラス板１１０の第１位置１１１及び第２ガラス板１２０の第１位置１２１を割断しないように、表示パネル１０（具体的には、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０）をエッチング液にさらす。ステップＳ２０３では、図５に示すステップＳ１０３と同様の処理を実行するが、エッチングにおいては、第２位置１１２、１２２はステップＳ２０１で切断されているために、第１位置１１１、１２１を割断しないように、エッチング液、エッチング時間等の選択がなされればよい。
次に、機械的外力によって第１位置１１１、１２１を割断する割断ステップを実行する（ステップＳ２０４）。つまり、ステップＳ２０４では、図５に示すステップＳ１０４と同様の処理を実行する。
［まとめ］
以上説明したように、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法は、第１基板１１、第１基板１１に対向して配置される第２基板１２、並びに、第１基板１１及び第２基板１２に挟まれた液晶を有する表示パネル１０を備える液晶表示装置１の製造方法である。実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法は、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の第１位置１１１、１２１に、第１照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する第１照射ステップと、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の第２位置１１２、１２２に、第１照射エネルギーより高い第２照射エネルギーでレーザ光２１０を照射する第２照射ステップと、第１照射ステップ及び第２照射ステップの後に、第１位置１１１、１２１を割断せず、且つ、第２位置１１２、１２２を割断して、第１基板１１及び第２基板１２の外周の少なくとも一部を形成するように、表示パネル１０をエッチング液にさらすエッチングステップと、を含む。
或いは、実施の形態に係る液晶表示装置１の別の製造方法は、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０をスクライブによって切断する切断ステップと、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の第１位置１１１、１２１にレーザ光２１０を照射する第１照射ステップと、切断ステップ及び第１照射ステップの後に、第１位置１１１、１２１を割断しないように、第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０をエッチング液にさらし、第１基板１１及び第２基板１２の外周の少なくとも一部をエッチングするエッチングステップと、を含む。
このような方法によれば、第２照射ステップ及び切断ステップで切断された第１基板１１及び第２基板１２の外周に対応する第２位置１１２、１２２を、エッチングステップでエッチングすることで、滑らかにすることができる。また、エッチングステップにおいて、第１位置１１１、１２１を割断しないように調整することで、例えば、エッチング液が非重畳部分７１の第１基板１１のＴＦＴ層１１ａが形成される側の面の配線（例えば、電極層１４）等にさらされることを抑制することができる。そのため、このような方法によれば、エッチングによる部品の故障の発生を抑制できる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、さらに、エッチングステップの後に、機械的外力によって第１位置１１１、１２１を割断する割断ステップを含む。
このような方法によれば、エッチングステップの後に、切り欠き部８０が形成されることとなる。そのため、このような方法によれば、エッチングによる非重畳部分７１の第１基板１１に配置された配線等の部品の故障の発生をより抑制できる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、第１ガラス板１１０の第１位置１１１の一部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳し、第１ガラス板１１０の第１位置１１１の他の部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳せず、第１ガラス板１１０の第２位置１１２はすべて、第２ガラス板１２０の第２位置１２２と平面視で重畳するように、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２が設定されている。
このような方法によれば、第１ガラス板１１０の第２位置１１２及び第２ガラス板１２０の第２位置１２２が平面視ですべて重畳するために、切り欠き部８０が形成される辺を除く第２基板１２の各辺と第１基板１１の各辺とを合わせて切断することができるため、切り欠き部８０を除く第１基板１１と第２基板１２との外形を揃えやすい。また、第１ガラス板１１０の第１位置１１１の一部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳し、第１ガラス板１１０の第１位置１１１の他の部分は、第２ガラス板１２０の第１位置１２１と平面視で重畳しないことで、非重畳部分７１を設けるための切り欠き部８０を形成することができる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、第１位置１１１、１２１は、第２位置１１２、１２２で囲まれる領域の範囲内である。
このように、第１位置１１１、１２１を第２位置１１２、１２２で囲まれる領域の範囲内に設けることで、切り欠き部８０を形成して非重畳部分７１が設けられ得る。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、第２照射ステップにおける第２位置１１２、１２２の単位長さ当たりのレーザ光２１０の照射時間は、第１照射ステップにおける第１位置１１１、１２１の単位長さ当たりのレーザ光２１０の照射時間と比較して長い。
このような方法によれば、例えば、レーザ光２１０の照射パワーが一定である場合においても、第２照射エネルギーの方が、第１照射エネルギーよりも大きくすることができる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、第２照射ステップにおける第２位置１１２、１２２のレーザ光２１０の照射回数は、第１照射ステップにおける第１位置１１１、１２１のレーザ光２１０の照射回数と比較して多い。
このような方法によってもまた、例えば、レーザ光２１０の照射パワーが一定である場合においても、第２照射エネルギーの方が、第１照射エネルギーよりも大きくすることができる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１の製造方法では、図８及び図９に示すように、第１照射ステップ及び第２照射ステップにおける照射するレーザ光２１０はレンズ２００を用いて焦点が絞られており、第１照射ステップ及び第２照射ステップにおけるレンズ２００絞られたレーザ光２１０の焦点の位置は、レーザ光２１０の照射回数ごとに第１ガラス板１１０及び第２ガラス板１２０の厚み方向に異なっている。
このような方法によれば、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２における、レーザ光２１０が照射された厚み方向に対する照射エネルギーのむらを抑制することができる。これにより、第１位置１１１、１２１及び第２位置１１２、１２２において、例えば、エッチングによって割断される、又は、割断されないといった製造のばらつきを抑制することができる。
また、実施の形態に係る液晶表示装置１は、第１基板１１、第１基板１１に対向して配置される第２基板１２、並びに、第１基板１１及び第２基板１２に挟まれた液晶層１３を有する表示パネル１０と、第１基板１１及び第２基板１２の間に形成され、第１基板１１及び第２基板１２の両方に接着するシール部材６０と、を備える。シール部材６０は、表示パネル１０を平面視した場合に、液晶層１３を環状に囲む第１シール部６１と、一方の端部６２ａが第１シール部６１と接続し、他方の端部６２ｂが第１基板１１及び第２基板１２と平面視で重畳する第２シール部６２と、を含む。
このような構成によれば、第１シール部６１だけでなく第２シール部６２によってもまた第１基板１１及び第２基板１２を接着することができるため、第１基板１１及び第２基板１２が剥がれるといった故障の発生を抑制することができる。
また、例えば、表示パネル１０を平面視した場合に、第２基板１２は、第２シール部６２の他方の端部６２ｂが平面視で重畳する１辺が切り欠かれた切り欠き部８０を有する。
このような構成によれば、切り欠き部８０が形成されることで外力等が加わりやすく第１基板１１と第２基板１２とが剥がれやすくなる非重畳部分７１の近傍に第２シール部６２が位置することになる。そのため、切り欠き部８０が形成されても第１基板１１及び第２基板１２が剥がれるといった故障の発生を抑制することができる。
また、例えば、第１基板１１は、平面視で略長方形であり、第２基板１２の切り欠き部８０の輪郭は、第１基板１１の平面視した場合の４角の角部９０と比較して、曲率半径が大きいアールを有する。
これにより、切り欠き部８０においてクラックが発生しにくくなる。
また、例えば、実施の形態に係る液晶表示装置１は、さらに、外部映像信号を受信する外部基板５０と、外部基板５０と第１基板１１とを接続するフレキシブル基板４０と、を有し、第１基板１１は、第２基板１２と平面視で重畳しない非重畳部分７１において、フレキシブル基板４０と接続する。
このように、表示パネル１０が備える第２基板１２に切り欠き部８０を設けることで非重畳部分７１が形成される。また、表示パネル１０は、非重畳部分７１を有することで、フレキシブル基板４０等を介して第１基板１１と外部基板５０とを電気的に接続されやすくなる。つまり、このような構成によれば、第１基板１１及び第２基板１２が剥がれるといった故障の発生を抑制しつつ、且つ、フレキシブル基板４０等を介して第１基板１１と外部基板５０とを電気的に接続させることができる。
（その他の実施の形態）
以上、本開示に係る液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置について、実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、上記実施の形態に限定されるものではない。
例えば、上記実施の形態では、表示パネル１０は、第１基板１１及び第２基板１２が重ね合わされた平板状として説明した。しかしながら、表示パネルは、湾曲していてもよい。
図１３Ａは、その他の実施の形態に係る液晶表示装置が備える表示パネル１０ａを模式的に示す図である。図１３Ｂは、その他の実施の形態に係る液晶表示装置が備える表示パネル１０ａを示す側面図である。
表示パネル１０ａは、表示パネル１０と同様に、表示パネル１０ａは、表示パネル１０とは異なり、形状が平板状ではなく、平面視した場合に、略長方形であり、側面視した場合に、短辺が湾曲しておらず、且つ、長辺が湾曲している。
このような構成によれば、表示パネル１０ａを備える本実施の形態に係る液晶表示装置は、画像表示面が湾曲した曲面モニタに採用され得る。例えば、本実施の形態に係る液晶表示装置がパーソナルコンピュータ等のユーザが近接して視認するようなモニタに採用される場合、平坦な画像表示面と比較して、画像表示面の端がユーザの目に近くなる。そのため、例えば、本実施の形態に係る液晶表示装置のサイズを大きくして、画像表示領域を広くした場合においても、ユーザにとって画像表示領域全体を見やすくすることができる。
その他、上記実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。
１ 液晶表示装置
１０、１０ａ 表示パネル
１１ 第１基板
１１ａ ＴＦＴ層
１１ｂ、１２ｂ 偏光板
１２ 第２基板
１２ａ ＣＦ層
１３ 液晶層（液晶）
１４ 電極層
２０ 拡散シート
３０ バックライト
４０ フレキシブル基板
５０ 外部基板
６０ シール部材
６１ 第１シール部
６２ 第２シール部
６２ａ、６２ｂ 端部
７０ 重畳部分
７１ 非重畳部分
８０ 切り欠き部
８１、９０ 角部
１００ 板体
１１０ 第１ガラス板
１２０ 第２ガラス板
１１１、１２１、１２１ａ、１２１ｂ 第１位置
１１２、１２２ 第２位置
２００ レンズ
２１０ レーザ光
２１１、２１２、２１３、２１４、２１５ 焦点位置

Claims (7)

  1. 第１基板、前記第１基板に対向して配置される第２基板、並びに、前記第１基板及び前記第２基板に挟まれた液晶を有する表示パネルを備える液晶表示装置の製造方法であって、
    第１ガラス板の第１位置及び第２ガラス板の第３位置に、第１照射エネルギーでレーザ光を照射する第１照射ステップと、
    前記第１ガラス板の第２位置及び前記第２ガラス板の第４位置に、前記第１照射エネルギーより高い第２照射エネルギーでレーザ光を照射する第２照射ステップと、
    前記第１照射ステップ及び前記第２照射ステップの後に、前記第１位置及び前記第３位置を割断せず、且つ、前記第２位置及び前記第４位置を割断して、前記第１基板及び前記第２基板の外周の少なくとも一部を形成するように、前記表示パネルをエッチング液にさらすエッチングステップと、を含み、
    前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とは対向して配置されており、
    前記第１位置と前記第３位置とは平面視で少なくとも一部が重畳し、
    前記第２位置と前記第４位置とは平面視で少なくとも一部が重畳し、
    前記第２位置は、前記第１位置より前記第１ガラス板の外周側に位置し、
    前記第４位置は、前記第３位置より前記第２ガラス板の外周側に位置する、
    液晶表示装置の製造方法。
  2. さらに、前記エッチングステップの後に、機械的外力によって前記第１位置及び前記第３位置を割断する割断ステップを含む、
    請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 前記第１ガラス板の前記第１位置の一部分は、前記第２ガラス板の前記第３位置と平面視で重畳し、
    前記第１ガラス板の前記第１位置の他の部分は、前記第２ガラス板の前記第３位置と平面視で重畳せず、
    前記第１ガラス板の前記第２位置はすべて、前記第２ガラス板の前記第４位置と平面視で重畳する、
    請求項１又は２に記載の液晶表示装置の製造方法。
  4. 前記第１位置は、平面視において前記第２位置で囲まれる領域の範囲内であり、
    前記第３位置は、平面視において前記第４位置で囲まれる領域の範囲内である、
    請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  5. 前記第２照射ステップにおける前記第２位置及び前記第４位置の単位長さ当たりのレーザ光の照射時間は、前記第１照射ステップにおける前記第１位置及び前記第３位置の前記単位長さ当たりのレーザ光の照射時間と比較して長い、
    請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  6. 前記第２照射ステップにおける前記第２位置及び前記第４位置のレーザ光の照射回数は、前記第１照射ステップにおける前記第１位置及び前記第３位置のレーザ光の照射回数と比較して多い、
    請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  7. 前記第１照射ステップ及び前記第２照射ステップにおける照射するレーザ光はレンズを用いて焦点が絞られており、
    前記第１照射ステップ及び前記第２照射ステップにおける前記レンズに絞られたレーザ光の焦点の位置は、前記レーザ光の照射回数ごとに前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板の厚み方向に異なっている、
    請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
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