KR101539804B1 - 폴리실록산, 아크릴계 화합물 및 비닐계 화합물 - Google Patents
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Abstract
폴리실록산은, 일반식
[식 35]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 규소 원자가 순차 결합되어 있는 구성단위를 갖는다.
[식 35]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 규소 원자가 순차 결합되어 있는 구성단위를 갖는다.
Description
본 발명은 폴리실록산, 폴리실록산의 제조방법, 아크릴계 화합물, 아크릴계 화합물의 제조방법, 아크릴계 중합체, 비닐계 화합물, 비닐계 화합물의 제조방법, 표면 개질제 및 표면 개질방법에 관한 것이다.
종래, 포스포릴콜린기(phosphorylcholine group)를 갖는 고분자는 생체적합성 고분자로서 알려져 있고, 이러한 고분자로 각종 수지재료를 피복한 생체적합성 재료가 알려져 있다.
특허문헌 1에는, 2-메타크릴로일옥시에틸포스포릴콜린(2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine)을 단량체의 하나로서 중합시킴으로써 얻어지는 중합체로 분체(powder body)를 피복하여 이루어지는 화장료용 분체가 개시되어 있다.
또한, 특허문헌 2에는, 기재의 표면에 포스포릴콜린 유사기를 측쇄에 갖는 단량체와, 헤파린 또는 헤파린 유도체와 결합가능한 기를 갖는 단량체에 근거한 공중합체와, 헤파린 또는 헤파린 유도체로 구성되는 피복층이 형성되어 있는 의료용 재료가 개시되어 있다.
나아가, 특허문헌 3에는, 포스포릴콜린 유사기를 적어도 표면에 갖고, 표면의 X선 광전자분광분석(X-ray photoelectron spectroscopic analysis)에 의해 측정한 스펙트럼에 있어서의, 포스포릴콜린 유사기에서 유래하는 인 원소의 양(P)과 탄소 원소의 양(C)의 비(P/C)가 0.002~0.3이 되는 분리재가 개시되어 있다.
한편, 특허문헌 4에는, 포스포릴콜린기를 갖는 폴리실록산이 개시되어 있다. 그러나, 이러한 폴리실록산은 포스포릴콜린기와 규소 원자가 pH의존성을 갖는 이미노기를 개재하여 결합되어 있기 때문에, 표면 개질제로서 이용하는 경우에, 포스포릴콜린기의 효과가 얻어지는 pH에 제한이 있다는 문제가 있다.
또한, 특허문헌 5에는, 2-메타크릴로일옥시에틸포스포릴콜린(MPC)과 메타크릴산 에스테르의 공중합체가 개시되어 있다. 나아가, 특허문헌 6에는, 포스포릴콜린기 함유 중합체의 제조방법이 개시되어 있다.
또한, MPC는 예를 들어, 2-클로로-1,3,2-디옥사포스포란-2-옥사이드와 메타크릴산2-히드록시에틸을 반응시킨 후, 트리메틸아민과 반응시킴으로써 얻어진다. 그러나, 이렇게 얻어지는 포스포릴콜린 유사기를 갖는 아크릴계 화합물은 합성방법이 번잡하고, 내가수분해성도 불충분하다.
[특허문헌 1]:일본공개특허공보 평7-118123호
[특허문헌 2]:일본공개특허공보 2000-279512호
[특허문헌 3]:일본공개특허공보 2002-98676호
[특허문헌 4]:일본공개특허공보 2004-175830호
[특허문헌 5]:일본공개특허공보 평9-3132호
[특허문헌 6]:일본공개특허공보 평10-298240호
본 발명은 상기의 종래기술이 갖는 문제를 감안하여, 표면 개질제로서 이용하는 경우에, pH의 제한을 억제하는 것이 가능한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 폴리실록산 및 그 폴리실록산의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 그 폴리실록산을 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기의 종래기술이 갖는 문제를 감안하여, 합성방법이 간편하고, 내가수분해성이 우수한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 아크릴계 화합물, 그 아크릴계 화합물의 제조방법 및 그 아크릴계 화합물을 중합함으로써 얻어지는 아크릴계 중합체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 그 아크릴계 화합물 또는 그 아크릴계 중합체를 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기의 종래기술이 갖는 문제를 감안하여, 합성방법이 간편하고, 내가수분해성이 우수한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 비닐계 화합물 및 그 비닐계 화합물의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 그 비닐계 화합물을 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
청구항 1에 기재된 발명은, 폴리실록산에 있어서, 일반식
[식 1]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 규소 원자가 순차 결합되어 있는 구성단위를 갖는 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 폴리실록산에 있어서, 상기 구성단위는, 일반식
[식 2]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이고, X는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 한다.
청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 폴리실록산의 제조방법으로서, 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 기재된 발명은, 표면 개질제에 있어서, 청구항 1에 기재된 폴리실록산을 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 기재된 발명은, 표면 개질방법에 있어서, 청구항 4에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 한다.
청구항 6에 기재된 발명은, 아크릴계 화합물에 있어서, 일반식
[식 3]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서, 에스테르 결합 또는 아미드 결합 및 일반식
[식 4]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이다)
로 나타내어지는 기가 순차 결합되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 7에 기재된 발명은, 청구항 6에 기재된 아크릴계 화합물에 있어서, 일반식
[식 5]
(식중, X는 옥시기 또는 이미노기이고, Y는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Z는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 한다.
청구항 8에 기재된 발명은, 청구항 6에 기재된 아크릴계 화합물의 제조방법으로서, 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
청구항 9에 기재된 발명은, 표면 개질제에 있어서, 청구항 6에 기재된 아크릴계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 10에 기재된 발명은, 표면 개질방법에 있어서, 청구항 9에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 한다.
청구항 11에 기재된 발명은, 아크릴계 중합체에 있어서, 청구항 6에 기재된 아크릴계 화합물의 단독 중합체 또는 공중합체인 것을 특징으로 한다.
청구항 12에 기재된 발명은, 표면 개질제에 있어서, 청구항 11에 기재된 아크릴계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 13에 기재된 발명은, 표면 개질방법에 있어서, 청구항 12에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 한다.
청구항 14에 기재된 발명은, 비닐계 화합물에 있어서, 일반식
[식 6]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 일반식
[식 7]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이다)
로 나타내어지는 기가 순차 결합되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 15에 기재된 발명은, 청구항 14에 기재된 비닐계 화합물에 있어서, 일반식
[식 8]
(식중, X는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 한다.
청구항 16에 기재된 발명은, 청구항 14에 기재된 비닐계 화합물의 제조방법으로서, 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
청구항 17에 기재된 발명은, 표면 개질제에 있어서, 청구항 14에 기재된 비닐계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 18에 기재된 발명은, 표면 개질방법에 있어서, 청구항 17에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 표면 개질제로서 이용하는 경우에, pH의 제한을 억제하는 것이 가능한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 폴리실록산 및 그 폴리실록산의 제조방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 그 폴리실록산을 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공할 수 있다.
본 발명에 의하면, 합성방법이 간편하고, 내가수분해성이 우수한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 아크릴계 화합물, 그 아크릴계 화합물의 제조방법 및 그 아크릴계 화합물을 중합함으로써 얻어지는 아크릴계 중합체를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 그 아크릴계 화합물 또는 그 아크릴계 중합체를 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공할 수 있다.
본 발명에 의하면, 합성방법이 간편하고, 내가수분해성이 우수한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 비닐계 화합물 및 그 비닐계 화합물의 제조방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 그 비닐계 화합물을 함유하는 표면 개질제 및 그 표면 개질제를 이용하는 표면 개질방법을 제공할 수 있다.
도 1은 실시예 1의 화합물 B의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예 1의 화합물 B의 MS 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예의 단백질 흡착시험 1의 평가결과를 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예 2의 화합물 C의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 3의 아미노 변성 폴리실록산의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 3의 화합물 D의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예의 단백질 흡착시험 2의 평가결과를 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예 4의 화합물 E의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예 4의 화합물 E의 MS 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 10은 실시예의 단백질 흡착시험 3의 평가결과를 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예 1의 화합물 B의 MS 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예의 단백질 흡착시험 1의 평가결과를 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예 2의 화합물 C의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 3의 아미노 변성 폴리실록산의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 3의 화합물 D의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예의 단백질 흡착시험 2의 평가결과를 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예 4의 화합물 E의 1H NMR 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예 4의 화합물 E의 MS 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 10은 실시예의 단백질 흡착시험 3의 평가결과를 나타내는 도면이다.
실시예
다음으로, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태를 도면과 함께 설명한다.
［폴리실록산］
본 발명의 폴리실록산은, 일반식
[식 9]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬기이고, m는 2~6의 정수이다)
로 나타내어지는 기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 Si원자가 순차 결합되어 있는 구성단위를 갖는다. 이로써, pH의 제한을 억제하는 것이 가능한 포스포릴콜린 유사기를 갖는 폴리실록산이 얻어진다. 또한, 이들의 폴리실록산은, 정제, 비정제를 불문하고, 재료의 표면을 개질할 수 있고, 단백질의 흡착을 억제하는 등의 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 폴리실록산은, 일반식
[식 10]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1~18의 알킬기이고, X는 탄소수가 1~18의 알킬렌기, 유닛수가 1~18의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 구성단위를 갖는 것이 바람직하다. 이 때, 폴리옥시알킬렌기로는 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기 등을 들 수 있다. 아릴렌기로는 페닐렌기, 옥시페닐렌기, 메틸렌페닐렌기 등을 들 수 있다. 또한, 알킬렌기, 폴리옥시알킬렌기 및 아릴렌기는 다른 탄화수소계의 관능기로 치환되어 있어도 된다.
본 발명의 폴리실록산의 전체 구성단위에 대한 일반식 (2)로 나타내어지는 구성단위의 비는 5몰% 이상인 것이 바람직하고, 20몰% 이상이 더욱 바람직하다. 이로써, 생체적합성이나 보습성 등의 포스포릴콜린 유사기의 특성을 충분히 발현 시킬 수 있다.
본 발명의 폴리실록산은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 카르복실기를 갖는 화합물과 히드록실기 또는 아미노기 및 Si원자가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 구성단위를 갖는 폴리실록산을 축합시킴으로써 얻어진다.
또한, 본 발명의 폴리실록산은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물과 카르복실기 및 Si원자가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 구성단위를 갖는 폴리실록산을 축합시킴으로써 얻어진다.
이 때, 예를 들어, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물은 과요오드산(periodic acid) 및 삼염화루테늄을 이용하여 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 얻어진다. 또한, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물을 디올 또는 디아민과 축합시킴으로써, 포스포릴콜린기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물이 얻어진다.
또한, 본 발명의 폴리실록산은, 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 일반식
[식 11]
(식중, R5는 수소 원자 또는 탄소수가 1~18의 알킬기이다)
로 나타내어지는 기가 순차 결합되어 있는 비닐계 화합물과, 일반식
[식 12]
로 나타내어지는 구성단위를 갖는 폴리실록산을 부가(히드로실릴화)시킴으로써 얻어진다.
비닐계 화합물로서는, 일반식
[식 13]
(식중, Z는 일반식
-CH2CHR5-Z-
로 나타내어지는 기 또는 일반식
-C(CH3)R5-Z-
로 나타내어지는 기가 X가 되는 기이다)
로 나타내어지는 화합물이 바람직하다.
비닐계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 카르복실기를 갖는 화합물과, 일반식(3)으로 나타내어지는 관능기 및 히드록실기 또는 아미노기가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
또한, 비닐계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물과, 일반식(3)으로 나타내어지는 관능기 및 카르복실기가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
이 때, 예를 들어, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물은 과요오드산 및 삼염화루테늄을 이용하여 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 얻어진다. 또한, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물을 디올 또는 디아민과 축합시킴으로써, 포스포릴콜린기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물이 얻어진다.
본 발명의 폴리실록산은 표면 개질제로서 이용할 수 있고, 재료의 표면에 원하는 양의 포스포릴콜린 유사기를 도입하여 개질한다. 이 때, 표면을 개질하는 것이 가능한 재료로서는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 나일론, 폴리우레탄, 폴리우레아, 폴리(메타)아크릴산, 폴리(메타)아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴아미드, 폴리아세트산비닐, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트, 실리콘수지, 유리, 세라믹, 금속, 스테인리스스틸 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 폴리실록산을 이용하여 재료의 표면을 개질할 때에는, 폴리실록산의 용액 또는 분산액을 재료의 표면에 도포, 건조하는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라, 감압건조, 가열처리 등을 실시해도 된다. 폴리실록산의 용액 또는 분산액에 사용되는 용매는 특별히 한정되지 않는다. 용액 또는 분산액중의 폴리실록산의 농도는 0.01~30중량%인 것이 바람직하고, 0.1~20중량%가 더욱 바람직하다. 이 농도가 0.01중량% 미만이면, 재료의 표면에 형성되는 폴리실록산의 양이 불충분해지고, 성능이 발현되지 않는 경우가 있다. 또한, 농도가 30중량%를 초과하면, 폴리실록산의 용액 또는 분산액을 도포할 때의 작업성이 나빠지고, 도막의 균일성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 도포방법으로는 예를 들어, 딥핑법, 스프레이법, 롤러코팅법, 스핀코팅법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
［아크릴계 화합물］
본 발명의 아크릴계 화합물은, 일반식
[식 14]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬기이고, m는 2~6의 정수이다)
로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서, 에스테르 결합 또는 아미드 결합 및 일반식
[식 15]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1~18의 알킬기이다)
로 나타내어지는 관능기가 순차 결합되어 있다. 이로써, 내가수분해성이 우수한 아크릴계 화합물이 얻어진다. 또한, 이들의 아크릴계 화합물은 정제, 비정제를 불문하고, 재료의 표면을 개질할 수 있고, 단백질의 흡착을 억제하는 등의 효과가 얻어진다.
또한, 본 발명의 아크릴계 화합물로서는, 일반식
[식 16]
(식중, X는 옥시기 또는 이미노기이고, Y는 탄소수가 1~18의 알킬렌기, 유닛수가 1~18의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Z는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 화합물이 바람직하다. 이 때, 폴리옥시알킬렌기로는 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기 등을 들 수 있다. 아릴렌기로는 페닐렌기, 히드록시페닐렌기, 페닐렌메틸렌기 등을 들 수 있다. 또한, 알킬렌기, 폴리옥시알킬렌기 및 아릴렌기는 다른 탄화수소계의 관능기로 치환되어 있어도 된다.
본 발명의 아크릴계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 카르복실기를 갖는 화합물과 일반식 (6)으로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 히드록실기 또는 아미노기가 순차 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
또한, 본 발명의 아크릴계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물과 일반식 (6)으로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 카르복실기가 순차 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
이 때, 예를 들어, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물은 과요오드산 및 삼염화루테늄을 이용하여 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 얻어진다. 또한, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물을 디올 또는 디아민과 축합시킴으로써, 포스포릴콜린기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물이 얻어진다.
본 발명의 아크릴계 화합물은 표면 개질제로서 사용할 수 있고, 재료의 표면에 원하는 양의 포스포릴콜린 유사기를 도입하여 개질한다. 이 때, 표면을 개질하는 것이 가능한 재료로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 나일론, 폴리우레탄, 폴리우레아, 폴리(메타)아크릴산, 폴리(메타)아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴아미드, 폴리아세트산비닐, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트, 실리콘수지, 유리, 세라믹, 금속, 스테인리스스틸 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 아크릴계 화합물을 이용하여 재료의 표면을 개질할 때에는, 재료의 표면을 플라즈마처리, 오존처리 등에 의해 처리한 후, 아크릴계 화합물의 용액 또는 분산액을 재료의 표면에 도포하여 아크릴계 화합물을 중합하고, 그래프트하는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라, 감압건조, 가열처리 등을 실시해도 된다. 아크릴계 화합물의 용액 또는 분산액에 사용되는 용매는 특별히 한정되지 않는다. 용액 또는 분산액중의 아크릴계 화합물의 농도는 0.01~30중량%인 것이 바람직하고, 0.1~20중량%가 더욱 바람직하다. 이 농도가 0.01중량% 미만인 경우, 재료의 표면에 형성되는 아크릴계 화합물의 양이 불충분해지고, 성능이 발현되지 않는 경우가 있다. 또한, 농도가 30중량%를 초과하면, 아크릴계 화합물의 용액 또는 분산액을 도포할 때의 작업성이 나빠지고, 도막의 균일성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 도포방법으로는 예를 들어, 딥핑법, 스프레이법, 롤러코팅법, 스핀코팅법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
［아크릴계 중합체］
본 발명의 아크릴계 중합체는 본 발명의 아크릴계 화합물을 중합 개시제의 존재하에 용매중에서 라디칼 중합시킴으로써 얻어진다. 용매로서는, 모노머가 가용인 경우, 특별히 한정되지 않지만, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, t-부탄올, 벤젠, 톨루엔, 디메틸포름아미드, 테트라히드로푸란, 클로로포름 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
또한, 중합 개시제는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 숙시닐퍼옥사이드, 글루타르퍼옥사이드, 숙시닐퍼옥시글루타레이트, t-부틸퍼옥시말레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디-2-에톡시에틸퍼옥시카보네이트, 3-히드록시-1,1-디메틸부틸퍼옥시발레이트 등의 유기과산화물, 아조비스이소부틸로니트릴, 디메틸-2,2-아조비스이소부틸레이트, 1-((1-시아노-1-메틸에틸)아조)포름아미드, 2,2-아조비스(2-메틸-N-페닐프로피온아미드)디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스(2-메틸-N-(2-히드록시에틸)프로피온아미딘), 2,2-아조비스(2-메틸프로피온아미드)디하이드레이트, 4,4-아조비스(4-시아노펜탄산), 2,2-아조비스(2-(히드록시메틸)프로피오니트릴) 등의 아조화합물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 중합 개시제는 모노머 용액중에 0.001~10중량% 첨가하는 것이 바람직하고, 0.01~5중량%가 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명의 아크릴계 화합물을 다른 모노머와 공중합해도 된다. 다른 모노머는 특별히 한정되지 않지만, 단관능 모노머가 바람직하고, 예를 들어, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산프로필, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산라우릴, (메타)아크릴산 스테아릴 등의 (메타)아크릴산에스테르； (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬； (메타)아크릴산아미드； 스티렌, 메틸스티렌, 치환스티렌 등의 스티렌계 모노머； 에틸비닐에테르, 부틸비닐에테르 등의 비닐에테르； N-비닐피롤리돈； 염화비닐, 염화비닐리덴, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌 등의 불포화 탄화수소계 모노머 또는 치환 불포화 탄화수소계 모노머； 아크릴로니트릴； 글리코-2-히드록시에틸 모노메타크릴레이트(GEMA)； 올리고에틸렌글리콜모노메타크릴레이트； 폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
이 때, 모노머의 총량에 대한 본 발명의 아크릴계 화합물의 비는 5몰% 이상인 것이 바람직하고, 20몰% 이상이 더욱 바람직하다. 이로써, 생체적합성이나 보습성 등의 포스포릴콜린 유사기의 특성을 충분히 발현시킬 수 있다.
또한, 용매중의 모노머 농도는 0.01~2mol/l인 것이 바람직하다. 모노머 농도를 0.01mol/l이상으로 함으로써 개시제 효율을 높일 수 있고, 농도를 2mol/l 이하로 함으로써 중합이상이나 겔화를 억제할 수 있다.
중합온도는 통상 5~100℃이다. 중합온도를 5℃이상으로 함으로써 중합반응을 신속하게 진행시킬 수가 있고, 100℃이하로 함으로써 고온에 의한 포스포릴콜린 유사기의 분해를 억제할 수 있다. 중합시간은 통상 10분~24시간이고, 30분~12시간이 바람직하다.
본 발명의 아크릴계 중합체는 표면 개질제로서 사용할 수 있고, 재료의 표면에 원하는 양의 포스포릴콜린 유사기를 도입하여 개질한다. 이 때, 표면을 개질하는 것이 가능한 재료로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 나일론, 폴리우레탄, 폴리우레아, 폴리(메타)아크릴산, 폴리(메타)아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴아미드, 폴리아세트산비닐, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트, 실리콘수지, 유리, 세라믹, 금속, 스테인리스스틸 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 아크릴계 중합체를 이용하여 재료의 표면을 개질할 때에는, 아크릴계 중합체의 용액 또는 분산액을 재료의 표면에 도포, 건조하는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라, 감압건조, 가열처리 등을 실시해도 된다. 아크릴계 중합체의 용액 또는 분산액에 사용되는 용매는 특별히 한정되지 않는다. 용액 또는 분산액중의 아크릴계 중합체의 농도는 0.01~30중량%인 것이 바람직하고, 0.1~20중량%가 더욱 바람직하다. 이 농도가 0.01중량% 미만인 경우, 재료의 표면에 형성되는 아크릴계 중합체의 양이 불충분해지고, 성능이 발현되지 않는 경우가 있다. 또, 농도가 30중량%를 초과하면, 아크릴계 중합체의 용액 또는 분산액을 도포할 때의 작업성이 나빠지고, 도막의 균일성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 도포방법으로서는, 예를 들어, 딥핑법, 스프레이법, 롤러코팅법, 스핀코팅법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
［비닐계 화합물］
본 발명의 비닐계 화합물은, 일반식
[식 17]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬기이고, m은 2~6의 정수이다)
로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 일반식
[식 18]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1~18의 알킬기이다)
로 나타내어지는 관능기가 순차 결합되어 있다. 이로써, 내가수분해성이 우수한 비닐계 화합물이 얻어진다. 또한, 이들의 비닐계 화합물은 정제, 비정제를 불문하고, 재료의 표면을 개질할 수 있고, 단백질의 흡착을 억제하는 등의 효과가 얻어진다.
또한, 본 발명의 비닐계 화합물로서는, 일반식
[식 19]
(식중, X는 탄소수가 1~18의 알킬렌기, 유닛수가 1~18의 폴리옥시알킬렌기 또는 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 화합물이 바람직하다. 이 때, 폴리옥시알킬렌기로는 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기 등을 들 수 있다. 아릴렌기로는 페닐렌기, 옥시페닐렌기, 메틸렌페닐렌기 등을 들 수 있다. 또한, 알킬렌기, 폴리옥시알킬렌기 및 아릴렌기는 다른 탄화수소계의 관능기로 치환되어 있어도 된다.
본 발명의 비닐계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 카르복실기를 갖는 화합물과, 일반식 (6)으로 나타내어지는 관능기 및 히드록실기 또는 아미노기가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
또한, 본 발명의 비닐계 화합물은 일반식 (1)로 나타내어지는 포스포릴콜린 유사기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물과, 일반식 (6)으로 나타내어지는 관능기 및 카르복실기가 스페이서를 개재하여 결합되어 있는 화합물을 축합시킴으로써 얻어진다.
이 때, 예를 들어, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물은 과요오드산 및 삼염화루테늄을 이용하여 글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 얻어진다. 또한, 포스포릴콜린기 및 카르복실기를 갖는 화합물을 디올 또는 디아민과 축합시킴으로써, 포스포릴콜린기 및 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물이 얻어진다.
본 발명의 비닐계 화합물은 표면 개질제로서 사용할 수 있고, 재료의 표면에 원하는 양의 포스포릴콜린 유사기를 도입하여 개질한다. 이 때, 표면을 개질하는 것이 가능한 재료로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 나일론, 폴리우레탄, 폴리우레아, 폴리(메타)아크릴산, 폴리(메타)아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴아미드, 폴리아세트산비닐, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트, 실리콘수지, 유리, 세라믹, 금속, 스테인리스스틸 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 비닐계 화합물을 이용하여 재료의 표면을 개질할 때에는, 재료의 표면을 플라즈마처리, 오존처리 등에 의해 처리한 후, 비닐계 화합물의 용액 또는 분산액을 재료의 표면에 도포하여, 비닐계 화합물을 중합하고, 그래프트하는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라, 감압건조, 가열처리 등을 실시해도 된다. 비닐계 화합물의 용액 또는 분산액에 사용되는 용매는 특별히 한정되지 않는다. 용액 또는 분산액중의 비닐계 화합물의 농도는 0.01~30중량%인 것이 바람직하고, 0.1~20중량%가 더욱 바람직하다. 이 농도가 0.01중량% 미만인 경우, 재료의 표면에 형성되는 비닐계 화합물의 양이 불충분해지고, 성능이 발현되지 않는 경우가 있다. 또한, 농도가 30중량%를 초과하면, 비닐계 화합물의 용액 또는 분산액을 도포할 때의 작업성이 나빠지고, 도막의 균일성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 도포방법으로서는, 예를 들어, 딥핑법, 스프레이법, 롤러코팅법, 스핀코팅법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
실시예
［실시예 1］
L-α-글리세로포스포릴콜린의 수용액을 얼음물내에서 냉각했다. 다음, L-α글리세로포스포릴콜린의 4배 당량의 과요오드산나트륨을 첨가한 후, 삼염화루테늄을 촉매량 첨가하여, 3시간동안 교반하고, 반응시켰다. 다음, 메탄올을 첨가하여, 30분간 더 교반한 후, 여과함으로써 침전을 제거했다. 나아가, 감압농축한 후, 감압건조하고, 화학식
[식 20]
로 나타내어지는 화합물 A를 얻었다.
다음으로, 디메틸술폭시드(DMSO)안에, 화합물 A와 화합물 A의 2배 당량의 카르보닐디이미다졸(CDI)를 첨가하여 실온에서 교반하고, 반응시켰다. 나아가, 알릴아민을 적하하여 반응시켜, 화학식
[식 21]
로 나타내어지는 화합물 B(분자량이 281인 포스포릴콜린기를 갖는 비닐계 화합물)를 얻었다(도 1 및 도 2 참조).
폴리스티렌제 96웰플레이트(일본BD사 제품)를 아르곤 분위기하에서 플라즈마처리한 후, 산소 가스와 반응시켰다. 다음, 화합물 B의 5중량% 메탄올 용액에 침지하고, 메탄올로 세정한 후, 건조하고, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［단백질 흡착실험 1］
실시예 1의 표면처리 웰플레이트 및 미처리의 웰플레이트에 단백질을 흡착시켜, 직접BCA법을 이용하여 단백질의 흡착량을 정량했다. 평가에 사용한 단백질은 알부민(Mw=69000, pI=4.9),γ-글로불린(Mw=150000, 5.0＜pI＜9.5), 리소자임(Mw=14000, pI=11.0)(이상, Sigma사 제품)의 3종류이다.
이하, 실험방법을 구체적으로 설명한다. 먼저, 각 단백질을 농도가 0.1㎎/㎖가 되도록, 인산 버퍼(염화나트륨 8㎎/㎖, 염화칼륨 0.2㎎/㎖, 인산-수소나트륨 1.15㎎/㎖, 인산이수소칼륨 0.2㎎/㎖, pH=7.4)에 용해시켜, 단백질용액으로 했다. 다음, 웰플레이트의 웰에 단백질 용액 100㎕를 넣어 25℃에서 1시간동안 가만히 두었다. 또한, 인산 버퍼 200㎕로 웰을 5회 세정한 후, PBS 50㎕, BCA용액 50㎕를 첨가하여 60℃에서 1시간동안 가만히 두어 발색시켰다. 다음, 플레이트 리더의 파워스캔 HT(대일본스미토모제약사 제품)을 이용하여, 파장이 562nm인 광의 흡광도를 측정했다. 또한, 검량선을 작성할 때에는, 웰플레이트의 웰에 각 단백질 용액 0, 2, 5, 10, 20, 40㎕를 넣은 후, PBS를 첨가하여 50㎕로 하고, BCA용액 50㎕를 첨가한 것 이외에는 상기와 마찬가지로 하여, 파장이 562nm인 광의 흡광도를 측정했다. 평가결과를 도 3에 나타낸다. 도 3으로부터, 알부민, γ-글로불린 및 리소자임의 어느 것에 있어서도, 표면처리함으로써 웰플레이트에의 단백질의 흡착을 억제할 수 있다는 것을 알 수 있다.
［실시예 2］
탈수에탄올/탈수클로로포름 혼합액중, 백금 촉매(H2PtCl6·6H2O)의 존재하에, 화합물 B와, 화학식
[식 22]
로 나타내어지는 트리메틸실록시 말단 메틸H실록산-디메틸실록산코폴리머의 HM151(Gelest사 제품)를 반응시켜, 화학식
[식 23]
로 나타내어지는 화합물 C(포스포릴콜린기를 갖는 폴리실록산)를 얻었다(도 4 참조).
화합물 C의 10중량% 메탄올 용액을 폴리스티렌제 96웰플레이트(일본BD사 제품)에 도포했다. 다음, 메탄올로 세정한 후, 건조하고, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［실시예 3］
아민 당량이 144g/mol인 디아민타입의 아미노변성 폴리실록산(도 5 참조)의 메탄올 용액중에 아미노변성 폴리실록산의 2배 당량의 화합물 A를 첨가한 후, 화합물 A의 1.2배 당량의 트리아진형 탈수축합제DMT-MM(국산화학사 제품)를 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 반응시켜, 화합물 D(포스포릴콜린기를 갖는 폴리실록산)를 얻었다(도 6 참조).
화합물 D의 10중량% 메탄올 용액을 폴리스티렌제 96웰플레이트(일본BD사 제품)에 도포했다. 다음, 메탄올로 세정한 후, 건조하고, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［비교예 1］
특허문헌 4의 실시예 2의 폴리실록산의 10중량% 메탄올 용액을 사용한 것 이외에는 실시예 1와 마찬가지로 하여, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［단백질 흡착실험 2］
실시예 1의 표면처리 웰플레이트 대신에, 실시예 2, 3, 비교예 1의 표면처리 웰플레이트를 사용한 것 이외에는 단백질 흡착실험 1와 마찬가지로 하여, 단백질의 흡착량을 정량했다. 평가결과를 도 7에 나타낸다. 도 7로부터, 알부민, γ-글로불린 및 리소자임의 어느 것에 있어서도, 표면처리함으로써 웰플레이트에의 단백질의 흡착을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 2, 3의 표면처리 웰플레이트는 비교예 1의 표면처리 웰플레이트보다 비특이적으로 단백질의 흡착을 억제할 수 있다는 것을 알 수 있다.
［실시예 4］
DMSO중에 화합물 A와 메타크릴산2-히드록시에틸(HEMA)을 첨가하여 실온에서 교반하고, 반응시켜, 화학식
[식 24]
로 나타내어지는 화합물 E(분자량이 354의 포스포릴콜린기를 갖는 아크릴계 화합물)를 얻었다(도 8및 도 9 참조). 또한, 화합물 E는 화합물 B와 마찬가지로 표면 개질제로서 사용할 수 있다.
［실시예 5］
화합물 A의 메탄올 용액중에, 화합물 A의 20배 당량의 에틸렌디아민을 첨가한 후, 화합물 A의 1.2배 당량의 트리아진형 탈수축합제DMT-MM(국산화학사 제품)를 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 반응시켰다. 다음, 여과함으로써 침전을 제거하고, 감압농축한 후, 감압건조하여, 화학식
[식 25]
로 나타내어지는 화합물 F를 얻었다.
다음, DMSO중에, 화합물 F와 메타크릴산 염화물을 첨가하여 실온에서 교반하고, 반응시켜, 화학식
[식 26]
로 나타내어지는 화합물 G(포스포릴콜린기를 갖는 아크릴계 화합물)를 얻었다. 또한, 화합물 G는 화합물 B 와 마찬가지로 표면 개질제로서 사용할 수 있다.
메탄올안에 화합물 G와 메타크릴산 부틸을 몰비 7：3의 비율로 첨가한 후, 모노머의 전체량에 대해 0.05 몰%의 펠옥소이황산암모늄(NH3)2S2O8를 첨가하여, 50℃에서 1시간동안 중합하고, 화합물 H(포스포릴콜린기를 갖는 아크릴계 중합체)를 얻었다.
화합물 H의 5중량% 메탄올 용액을 폴리스티렌제 96웰플레이트(일본BD사 제품)에 도포했다. 다음, 메탄올로 세정한 후, 건조하고, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［비교예 2］
메탄올안에 메타크릴산 2-히드록시에틸(HEMA)과 메타크릴산부틸을 7：3의 비율로 첨가한 후, 모노머의 전체량에 대해 0.05몰%의 펠옥소이황산암모늄 (NH3)2S2O8를 첨가하여 50℃에서 1시간동안 중합하고, 화합물 I(아크릴계 중합체)를 얻었다.
화합물 I의 5중량% 메탄올 용액을 폴리스티렌제 96웰플레이트(일본BD사 제품)에 도포했다. 다음, 메탄올로 세정한 후, 건조하고, 표면처리 웰플레이트를 얻었다.
［단백질 흡착실험 3］
실시예 1의 표면처리 웰플레이트 대신에, 실시예 5, 비교예 2의 표면처리 웰플레이트를 사용한 것 이외에는, 단백질 흡착실험 1과 마찬가지로 하여 단백질의 흡착량을 정량했다. 평가결과를 도 10에 나타낸다. 도 10으로부터, 알부민, γ-글로불린 및 리소자임의 어느 것에 있어서도, 표면처리함으로써 웰플레이트에의 단백질의 흡착을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다. 또, 실시예 5의 표면처리 웰플레이트는 비교예 2의 표면처리 웰플레이트보다 알부민, γ-글로불린 및 리소자임의 흡착을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다.
산업상의 이용 가능성
본 발명의 표면 개질제에 의해 개질되어 있는 재료는 생체적합성 및 친수성이 우수한 재료가 된다. 이와 같은 재료는 화장료, 인공장기, 수술용 도구 등의 의료용 재료, 크로마토그래피용 충전제, 어피니티 입자, 도료 등의 폭넓은 용도로 응용할 수 있다.
본국제출원은 2008년 3월 31일에 출원된 일본특허출원 제2008-92762호, 일본특허출원 제2008-92763호 및 일본특허출원 제2008-92764호에 근거하여 우선권을 주장하는 것이고, 상기 일본특허출원 제2008-92762호, 일본특허출원 제2008-92763호 및 일본특허출원 제2008-92764호의 전체 내용을 본국제출원에 원용한다.
Claims (18)
- 일반식
[식 27]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 규소 원자가 순차 결합되어 있는 구성단위를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리실록산. - 제 1 항에 있어서,
상기 구성단위는, 일반식
[식 28]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이고, X는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 폴리실록산. - 제 1 항에 기재된 폴리실록산의 제조방법으로서,
글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 폴리실록산의 제조방법. - 제 1 항에 기재된 폴리실록산을 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 개질제.
- 제 4 항에 기재된 표면개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 하는 표면 개질방법.
- 일반식
[식 29]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서, 에스테르 결합 또는 아미드 결합 및 일반식
[식 30]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이다)
로 나타내어지는 관능기가 순차 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 아크릴계 화합물. - 제 6 항에 있어서,
일반식
[식 31]
(식중, X는 옥시기 또는 이미노기이고, Y는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 아릴렌기이고, Z는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 아크릴계 화합물. - 제 6 항에 기재된 아크릴계 화합물의 제조방법으로서,
글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 아크릴계 화합물의 제조방법. - 제 6 항에 기재된 아크릴계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 개질제.
- 제 9 항에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 하는 표면 개질방법.
- 제 6 항에 기재된 아크릴계 화합물의 단독 중합체 또는 공중합체인 것을 특징으로 하는 아크릴계 중합체.
- 제 11 항에 기재된 아크릴계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 개질제.
- 제 12 항에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 하는 표면 개질방법.
- 일반식
[식 32]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립하여, 탄소수가 1 이상 6 이하의 알킬기이고, m은 2 이상 6 이하의 정수이다)
로 나타내어지는 관능기, 에스테르 결합 또는 아미드 결합, 스페이서 및 일반식
[식 33]
(식중, R4는 수소 원자 또는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬기이다)
로 나타내어지는 관능기가 순차 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 비닐계 화합물. - 제 14 항에 있어서,
일반식
[식 34]
(식중, X는 탄소수가 1 이상 18 이하의 알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 폴리옥시알킬렌기, 또는 유닛수가 1 이상 18 이하의 아릴렌기이고, Y는 에스테르 결합 또는 아미드 결합이다)
로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 비닐계 화합물. - 제 14 항에 기재된 비닐계 화합물의 제조방법으로서,
글리세로포스포릴콜린을 산화시킴으로써 카르복실기 및 포스포릴콜린기를 갖는 화합물을 합성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 비닐계 화합물의 제조방법. - 제 14 항에 기재된 비닐계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 개질제.
- 제 17 항에 기재된 표면 개질제를 이용하여 재료의 표면을 개질하는 것을 특징으로 하는 표면 개질방법.
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