JPH07118123A - 化粧料用の粉体及びそれを含有する化粧料 - Google Patents
化粧料用の粉体及びそれを含有する化粧料Info
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- JPH07118123A JPH07118123A JP26065293A JP26065293A JPH07118123A JP H07118123 A JPH07118123 A JP H07118123A JP 26065293 A JP26065293 A JP 26065293A JP 26065293 A JP26065293 A JP 26065293A JP H07118123 A JPH07118123 A JP H07118123A
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Abstract
且つ、保湿性に優れた表面改質粉体及びそれを含有する
化粧料を提供する。 【構成】 本発明に係る化粧料用の粉体は、MPCを単
量体の1つとして、重合せしめて得られる重合体で粉体
類を被覆してなり、一方本発明の化粧料は、MPCを単
量体の1つとして、重合せしめて得られる重合体で被覆
された化粧料用の粉体を含有してなるもので、保湿性が
著しく向上し優れた化粧効果を有する。
Description
を含有する化粧料に関する。
て、配合する粉体類の表面を改質することは重要な技術
であった。これは、粉体類が他の化粧品原料に比し
て、非常に大きな比重を有すること、粉体類が等電点
を有しているため、わずかな環境の変化が、凝集や沈降
という好ましくない現象をまねいてしまうこと、粉体
類の表面には親水的な部分と親油部分とが存在するた
め、化粧品あるいは皮膚上にあっても化粧品中の成分、
皮脂や汗で濡れていない部分が存在し、これらが塗布後
皮脂や汗で濡れ,塗布色が経時的に変化すること、粉
体それ自体には皮膚との親和性が良くないため、物理的
欠落により化粧崩れをひきおこすこと等の化粧料へ配合
する上で不都合なことがあるためである。
例えば無機リン酸塩等のコーティングによる親水化処
理、オイル分のコーティングによる親油化処理、有機シ
リコーンの焼付による疎水化処理等が広く用いられてい
る。
処理方法では、表面改質剤が脱落しやすく期待する程の
効果が得られなかったり、安定に配合できる剤形が限ら
れていたり、目的とする物理的性質が得られなかったり
して、とても充分とは言い難かった。
収しやすいため、ファンデーションなどを塗布すると肌
がかさつくなどの欠点があり、使用上大きな問題となっ
ていた。
ず、改質効果の持続性に優れ、且つ、保湿性に優れた表
面改質粉体及びそれを含有する化粧料を提供することを
目的とする。
達成するため、鋭意研究を重ねた結果、2−メタクロイ
ルオキシエチルホスホリルコリン(以下「MPC」と云
う)のホモ重合体及び共重合体で粉体をコーティングす
ることにより、持続性に優れた表面改質が可能となり、
粉体の分散性や表面ぬれ特性を改良し、保湿性を著しく
向上させうることを見出し、発明を完成させた。
PCを単量体の1つとして、重合せしめて得られる重合
体で粉体類を被覆してなることを特徴とする。
の1つとして、重合せしめて得られる重合体で被覆され
た化粧料用の粉体を含有してなることを特徴とする。
「化1」に示すMPCを構成単位として持つ重合体で表
面を被覆された粉体である。
(ホスファチジルコリン)の極性基と同じ構造を有して
おり、生体との親和性が良い。又、MPCは親水性単量
体又は疎水性単量体と組合せて共重合させることによ
り、親水性高分子にも親油性高分子にも誘導することが
できる。従って、これらの重合体で粉体を被覆すると、
親水性高分子の場合は親水化処理でき、親油性高分子の
場合は親油化処理できる。このように、共重合体を構成
する単量体の種類と構成比を変えることにより、用途に
応じた様々な処理ができる。
重合体はいずれもラメラ形成能に優れるので、ラメラ構
造に水をとりこみ保水する作用に優れ、粉体類のもつ脱
脂,脱水作用を改善し、かさつき感などを感じさせなく
する作用も併せもっている。
モエチルホスホリルジクロリドと2−ヒドロキシエチル
ホスホリルジクロリドと2−ヒドロキシエチルメタクリ
レートとを反応させ、2−メタクリロイルオキシエチル
−2′−ブロモエチルリン酸を得、更にこれをトリエチ
ルアミンとメタノール溶液中で反応させて得ることがで
きる(高分子論文集,Vol.35,P423〜42
7,1978)。
も既知の物質であり(特願平4−306751号,特願
平4−306752号,特願平3−233259号,特
開平5−703221号公報)、優れた保水性とラメラ
形成作用とを有することが知られている。
もに重合させて重合体をなすには、通常の重合方法に則
って重合させれば良く、例えば、溶媒中で重合開始剤存
在下、反応させれば良い。この時、溶媒として用いるこ
とができるものは、MPC及び他の単量体を溶解できる
ものであり、具体的には水,メタノール,エタノール,
プロパノール,t−ブタノール,ベンゼン,トルエン,
ジメチルホルムアミド,テトラヒドロフラン,クロロホ
ルム又はこれらの混合溶媒等が例示できる。又、重合開
始剤としては、通常のラジカル開始剤であれば何れも用
いても良く、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル
(AIBN),アゾビスマレノニトリル等の脂肪酸アゾ
化合物や過酸化ベンゾイル,過酸化ラウロイル,過硫酸
カリウム等の過酸化物が例示できる。
合、使える単量体としては、MPCとビニル重合により
共重合体を形成するものであれば良く、親水性単量体と
しては、例えばアクリルアミド、ビニルピロリドン、ポ
リエチレングリコールモノメタクリレート、2−メタク
リロイルオキシエチルメチルスルホキシド、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルアミド−2−メチル−プロ
パンスルホン酸、N,N−ジメチルアミノエチルメタク
リレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、ビニルピリジン等が例示できる。又、疎水性の単量
体としては例えばメチルアクリレート、メチルメタアク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレー
トなどのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステ
ル、スチレン、塩化ビニル、アクリロニトリルなどが例
示できる。
被覆される粉体類としては、化粧料に使われるものであ
れば特に限定されず、例えば、タルク,セリサイト,マ
イカ,チタンマイカ,チタン,ベンガラ,黄色酸化鉄,
黒酸化鉄,酸化チタン,酸化クロム,シリカゲル,ケイ
酸カルシウム,群青,紺青等が挙げられる。
方法としては、通常の被覆方法で被覆させることができ
る。例えば、粉体と重合体をヘンシェルミキサーで良く
混合したのち、パルベライザーでメカノケミカルに被覆
させることもできるし、重合体を可溶性溶媒に溶解し、
これを粉体にふきつけて、溶媒を除去して被覆させるこ
ともできる。
以上であることが望ましい。これは重合度が低いと付着
性が低くなるため、期待した効果が得られなくなるから
である。
体の重量比であるが、1〜50%が好ましい。これは重
量比が1%未満では粉体を被覆できず、充分な改質効果
が得られず又、50%を超えると粉体の特質が損われ
る、共に好ましくないからである。
覆された粉体は、油中への分散性,水への分散性に優れ
ている上、水濡れ,油濡れの変化が少ないため、塗布後
の色の経時変化が少なくなると共に、皮膚への密着性に
優れているため、物理的欠落が少なくなり、化粧料用の
粉体として用いて大変有益である。
いて説明するが、本発明がこれら実施例に限定をうけな
いことは云うまでもない。
に示す成分をヘンシェルミキサーで秤りこみ高速で2分
混合したのち、1mmの丸穴スクリーンを装着したパル
ベライザーで粉砕,混合し、MPCホモ重合体被覆調色
粉体を作成した。
に示すA成分をヘンシェルミキサーに秤り込み、高速で
2分間混合したのち、低速で、クロロホルムに溶解した
B成分を噴霧しながら10分間混合し、40℃で1昼夜
乾燥し、1mmヘリングボーン・スクリーン装置パルベ
ライザーで粉砕し、MPCホモ重合体被覆粉体を作成し
た。
下記「表3」に示すA成分をヘンシェルミキサーに秤り
込み、高速で2分間混合したのち、低速で、クロロホル
ムに溶解したB成分を噴霧しながら混合し、40℃で1
昼夜乾燥させた後、0.7mmヘリングボーン・スクリー
ンを装着したパルベライザーで粉砕してMPC−ビニル
ピロリドン共重合体被覆粉体を作成した。
製造)下記「表4」に示す成分をヘンシェルミキサーに
秤り込み、高速で3分間混合したのち、1mm丸穴スク
リーンを装着したパルベライザーで粉砕被覆し、MPC
−パラスチレンスルホン酸共重合体被覆粉体を作成し
た。
ト共重合体被覆調色粉体の製造)下記「表5」に示す成
分をヘンシェルミキサーに秤り込み、高速で2分混合し
たのち、1mm丸穴スクリーンを装着したパルベライザ
ーで粉砕,混合し、MPC−N,N−ジエチルアミノエ
チルメタクリレート共重合体被覆調色粉体を作成した。
「表6」に示すA成分をヘンシェルミキサーに秤り込
み、高速で2分間混合したのち、低速回転で塩化メチレ
ンに溶解させたB成分を噴霧しながら10分間混合し、
40℃で1昼夜乾燥し、0.7mmヘリングボーン・スク
リーンを装着したパルベライザーで粉砕し、MPC−ス
チレン共重合体被覆粉体を作成した。
製造)下記「表7」に示すA成分をヘンシェルミキサー
に秤り込み、高速で2分間混合し、回転を低速に落し、
塩化メチレンに溶解したB成分を噴霧しながら10分間
混合した。40℃で1昼夜乾燥したのち、1mmヘリン
グボーン・スクリーンを装着したパルベライザーで粉砕
しMPC−メタクリル酸メチル共重合体被覆粉体を製造
した。
明の高分子処理粉体を配合したファンデーションを作成
した。比較例として、実施例2の粉体中のMPCホモ重
合体をタルクに置き換え、ヘンシェルミキサーで混合
し、0.7mmヘリングボーンスクリーン装着パルベライ
ザーで粉砕して作成した比較調色粉体を配合したものも
作成した。
法と同じであり、下記「表8」に示すA成分とC成分と
をあらかじめ80℃で加熱溶解しておき、A成分にB成
分を加えミキサーで混合し、これにC成分を徐々に加え
て乳化したのち、攪拌冷却してファンデーションを得
た。
て、光学顕微鏡にて乳化状態及び分散状態について観察
したところ、下記「表9」の結果が得られた。尚、評点
は◎:大変良好,○:良好,△:やや不良,×:不良を
各々表わす。これらの結果より、本発明の処理粉体は、
いずれも分散性に優れており、このため乳化へも良い影
響を与えることが明白である。
ァンデーションについて化粧効果についての評価を行な
った。評価項目は、化粧直後の評価として、「しっとり
感」,「化粧映え」,「密着性」,化粧5時間後の評価
として「化粧持ち」の合計4項目であった。評価方法は
右半顔に実施例のファンデーションを塗布し、左半顔に
比較例のファンデーションを塗布し比較例を基準に比較
して行なった。
れより本発明の実施例8〜10のファンデーションはい
ずれも優れた化粧効果を有することが明白である。これ
は、処理剤が粉体より乳化過程において離脱しないた
め、その処理効果が発揮されるからである。
施例8〜10ともに比較例に比して著しく改善されるこ
とにも注目すべきであり、これは前述した様にMPCホ
モ重合体、MPC共重合体ともに保湿性に優れるためで
あり、これらによる粉体処理の効果が明らかである。
体を用いて実施例12〜実施例18及び比較例2の固型
おしろいを作成した。各成分は下記「表11」に示す。
作成は、下記「表11」のA成分をヘンシェルミキサー
で2分間混合したのち、これにB成分を徐々に攪拌混合
をつづけながら滴下し、滴下終了後5分間混合したの
ち、1mmヘリングボーン・スクリーンを装着したパル
ベライザーで粉砕し、これを金皿に入れたのちプレスを
して行なった。
実施例11と同様に専門パネラーによる化粧効果の評価
を行なった。結果を下記「表12」に示す。これより本
発明の固型おしろいは優れた化粧効果を有することが明
らかである。
の著しい改善が認められ本発明のMPCホモ重合体、共
重合体のもつ保水作用による乾燥感の改善が明らかであ
る。
明によれば、MPCホモ重合体及び共重合体が粉体表面
を改質し、かつその持続性が良く、このMPCのホモ重
合体及び共重合体で粉体類をコーティングしてなるもの
を含有する化粧料は例えば保湿性も著しく向上し優れた
化粧効果を有するので大変有用である。
達成するため、鋭意研究を重ねた結果、2−メタクリロ
イルオキシエチルホスホリルコリン(以下「MPC」と
云う)のホモ重合体及び共重合体で粉体をコーティング
することにより、持続性に優れた表面改質が可能とな
り、粉体の分散性や表面ぬれ特性を改良し、保湿性を著
しく向上させうることを見出し、発明を完成させた。
合、使える単量体としては、MPCとビニル重合により
共重合体を形成するものであれば良く、親水性単量体と
しては、例えばアクリルアミド、ビニルピロリドン、ポ
リエチレングリコールモノメタクリレート、2−メタク
リロイルオキシエチルメチルスルホキシド、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルアミド−2−メチル−プロ
パンスルホン酸、P−スチレンスルホン酸、3−メタク
リロイルオキシプロピルスルホン酸、N,N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート、N,N−ジエチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン等が例示でき
る。又、疎水性の単量体としては例えばメチルアクリレ
ート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタアクリレートなどのアクリル酸エステル及び
メタクリル酸エステル、スチレン、塩化ビニル、アクリ
ロニトリルなどが例示できる。
Claims (11)
- 【請求項1】 2−メタクロイルオキシエチルホスホリ
ルコリンを単量体の1つとして、重合せしめて得られる
重合体で粉体類を被覆してなることを特徴とする化粧料
用の粉体。 - 【請求項2】 重合体の分子量が5000以上であるこ
とを特徴とする請求項1記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項3】 被覆される粉体に対して、重合体の重量
比が1%〜50%であることを特徴とする請求項1又は
2記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項4】 単量体の構成が、2−メタクロイルオキ
シエチルホスホリルコリンただ1種であることを特徴と
する請求項1〜3記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項5】 単量体の構成が、2−メタクロイルオキ
シエチルホスホリルコリンと疎水性単量体類から選ばれ
る一種又は二種以上であることを特徴とする請求項1〜
3記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項6】 疎水性単量体類が、スチレン,アクリル
酸エステル,メタクリル酸エステルであることを特徴と
する請求項5記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項7】 重合体中、単量体として2−メタクロイ
ルオキシエチルホスホリルコリンと疎水性単量体の構成
比が3:97〜45:55であることを特徴とする請求
項5又は6記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項8】 単量体の構成が、2−メタクロイルオキ
シエチルホスホリルコリンと親水性単量体類とから選ば
れる一種又は二種以上であることを特徴とする請求項1
〜3記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項9】 親水性単量体類が、アクリルアミド、ビ
ニルピロリドン、ポリエチレングリコールモノメタクリ
レート、2−メタクリロイルオキシエチルスルホキシ
ド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド−2−
メチル−プロパンスルホン酸、p−スチレンスルホン
酸、3−メタクロイルオキシプロピルスルホン酸、N,
N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、ビニルピリジンで
あることを特徴とする請求項8記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項10】 重合体中、単量体として、2−メタク
ロイルオキシエチルホスホリルコリンと親水性単量体類
との構成比が3:97〜45:55であることを特徴と
する請求項9又は10記載の化粧料用の粉体。 - 【請求項11】 請求項1〜11記載の化粧料用の粉体
を含有することを特徴とする化粧料。
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JP26065293A JP3178950B2 (ja) | 1993-10-19 | 1993-10-19 | 化粧料用の粉体及びそれを含有する化粧料 |
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JPH07118123A true JPH07118123A (ja) | 1995-05-09 |
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ID=17350898
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JP26065293A Expired - Lifetime JP3178950B2 (ja) | 1993-10-19 | 1993-10-19 | 化粧料用の粉体及びそれを含有する化粧料 |
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Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003017953A1 (fr) * | 2001-08-24 | 2003-03-06 | Catalysts & Chmicals Industries Co., Ltd. | Grains fins inorganiques modifies pour produits cosmetiques et produits cosmetiques |
JP2004137199A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Nof Corp | 粉体被覆剤、表面被覆処理法、粉体及びこれを含有する化粧料 |
JP2005126329A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Pola Chem Ind Inc | 敏感肌用のメークアップ |
JP2005325057A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Doctor Program Kk | メークアップ化粧料 |
WO2005112871A1 (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-01 | Shiseido Company, Ltd. | 水中分散性化粧料用粉体 |
JP2006169123A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Pola Chem Ind Inc | メークアップ化粧料 |
JP2007022886A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Univ Of Tokyo | ポリマー被覆粒子 |
JP2008137944A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Pola Chem Ind Inc | 化粧料用の粉体及びそれを含有してなる化粧料 |
JP2008162942A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Kao Corp | 化粧料 |
JP2008162941A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Kao Corp | ポリマー粉体及びこれを含有する化粧料 |
WO2008088051A1 (ja) | 2007-01-18 | 2008-07-24 | Shiseido Company, Ltd. | ホスホリルコリン基含有化合物、ホスホリルコリン基含有化合物の製造方法、表面改質剤、及び表面改質剤を用いた表面改質方法 |
JP2009107950A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Pola Chem Ind Inc | 粉体化粧料 |
WO2010032349A1 (ja) | 2008-09-17 | 2010-03-25 | 株式会社資生堂 | 親水性相互作用クロマトグラフィー用充填剤 |
US7713520B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-05-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Cosmetic comprising a silicone polymer |
CN101835543A (zh) * | 2007-10-25 | 2010-09-15 | 株式会社资生堂 | 表面改质方法和表面改质材料 |
US8242222B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-08-14 | Shiseido Company, Ltd. | Polysiloxane, acrylic compound and vinylic compound |
JP2012193128A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Pola Chemical Industries Inc | 化粧直し用の粉末化粧料 |
JP2013001674A (ja) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Pola Chemical Industries Inc | 粉体組成物 |
JP2013053088A (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Pola Chemical Industries Inc | 粉体含有皮膚外用剤 |
KR20130047555A (ko) * | 2011-10-31 | 2013-05-08 | (주)아모레퍼시픽 | 자외선 차단용 유무기 복합분체 및 이를 함유하는 화장료 조성물 |
JP2015500230A (ja) * | 2011-12-01 | 2015-01-05 | ケーシーアイ カンパニーリミテッドKci Co.,Ltd. | 表面改質された紫外線カットパウダー及びこれを含む紫外線カット組成物 |
JP2021031396A (ja) * | 2019-08-16 | 2021-03-01 | 信越化学工業株式会社 | 分散性粉体及び化粧料 |
WO2023121292A1 (ko) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | 주식회사 삼양사 | 고분자 화합물과 그의 응용 |
-
1993
- 1993-10-19 JP JP26065293A patent/JP3178950B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003017953A1 (fr) * | 2001-08-24 | 2003-03-06 | Catalysts & Chmicals Industries Co., Ltd. | Grains fins inorganiques modifies pour produits cosmetiques et produits cosmetiques |
JP2004137199A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Nof Corp | 粉体被覆剤、表面被覆処理法、粉体及びこれを含有する化粧料 |
JP2005126329A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Pola Chem Ind Inc | 敏感肌用のメークアップ |
US7713520B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-05-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Cosmetic comprising a silicone polymer |
JP2005325057A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Doctor Program Kk | メークアップ化粧料 |
JP4656858B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2011-03-23 | ドクタープログラム株式会社 | メークアップ化粧料 |
WO2005112871A1 (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-01 | Shiseido Company, Ltd. | 水中分散性化粧料用粉体 |
JP2006169123A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Pola Chem Ind Inc | メークアップ化粧料 |
JP2007022886A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Univ Of Tokyo | ポリマー被覆粒子 |
JP2008137944A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Pola Chem Ind Inc | 化粧料用の粉体及びそれを含有してなる化粧料 |
JP2008162942A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Kao Corp | 化粧料 |
JP2008162941A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Kao Corp | ポリマー粉体及びこれを含有する化粧料 |
US8269031B2 (en) | 2007-01-18 | 2012-09-18 | Shiseido Company, Ltd. | Phosphorylcholine group-containing compound, method of manufacturing a phosphorylcholine group-containing compound, surface-modifying agent, and a method of modifying a surface using a surface-modifying agent |
WO2008088051A1 (ja) | 2007-01-18 | 2008-07-24 | Shiseido Company, Ltd. | ホスホリルコリン基含有化合物、ホスホリルコリン基含有化合物の製造方法、表面改質剤、及び表面改質剤を用いた表面改質方法 |
US8222443B2 (en) | 2007-01-18 | 2012-07-17 | Shiseido Company, Ltd. | Phosphorylcholine group-containing compound, method of manufacturing a phosphorylcholine group-containing compound, surface-modifying agent, and a method of modifying a surface using a surface-modifying agent |
US8222442B2 (en) | 2007-01-18 | 2012-07-17 | Shiseido Company, Ltd. | Phosphorylcholine group-containing compound, method of manufacturing a phosphorylcholine group-containing compound, surface-modifying agent, and a method of modifying a surface using a surface-modifying agent |
CN101835543A (zh) * | 2007-10-25 | 2010-09-15 | 株式会社资生堂 | 表面改质方法和表面改质材料 |
US8257776B2 (en) | 2007-10-25 | 2012-09-04 | Shiseido Company, Ltd | Surface modification method and surface modified material |
JP2009107950A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Pola Chem Ind Inc | 粉体化粧料 |
KR101539804B1 (ko) * | 2008-03-31 | 2015-07-27 | 가부시키가이샤 시세이도 | 폴리실록산, 아크릴계 화합물 및 비닐계 화합물 |
US8242222B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-08-14 | Shiseido Company, Ltd. | Polysiloxane, acrylic compound and vinylic compound |
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JP2012193128A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Pola Chemical Industries Inc | 化粧直し用の粉末化粧料 |
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