KR101342231B1 - 표면 처리제, 표면 처리 분체 및 이를 함유하는 화장료 - Google Patents

표면 처리제, 표면 처리 분체 및 이를 함유하는 화장료 Download PDF

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Abstract

분체에 대해서 우수한 소수성을 부여함과 동시에, 그 클렌징성을 개선할 수 있게 하는 표면 처리제, 상기 표면 처리제에 의해 처리된 표면 처리 분체, 및 이를 함유하는 화장료를 제공하는 것으로, 본 발명의 표면 처리제는 하기 화학식 1로 표시되는 모노머(A)를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 한다.
(화학식 1)
Figure 112007017262649-pct00019
(상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R2은 탄소수 4 내지 탄소수 22의 알킬렌기, X1는 -NH-기 또는 산소 원자, M1은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온을 나타낸다)

Description

표면 처리제, 표면 처리 분체 및 이를 함유하는 화장료{SURFACE-TREATING AGENT, SURFACE-TREATED POWDER, AND COSMETIC PREPARATION CONTAINING SAME}
본 발명은 표면 처리제, 표면 처리 분체 및 화장료, 특히 화장료용 분체의 소수성 및 헹굼성(rinsability)의 개선에 관한 것이다.
화장료, 특히 메이크업 화장료에 있어서는 사람을 아름답게 보이게 하는 미적 효과는 당연하고, 그 효과의 지속성, 즉 화장 지속성도 매우 중요한 성능 중 하나로서 요구된다. 이 때문에, 화장료 기제의 개발에 있어서, 화장 지속성의 향상은 중요한 과제 중 하나가 되고 있다. 메이크업 화장료의 분야에서는 땀이나 눈물, 또는 타액 등의 수분에 의해 화장의 지워짐이 발생하지 않도록 유성의 기제가 사용되는 경우가 많지만, 이와 같은 유성 기제 중에 친수성의 분체를 배합한 경우에는 기제와의 분리가 발생하기 쉽고, 또한 수분에 의해 친수성 분체가 흘러내리므로, 화장이 지워지는 큰 원인이 된다. 이와 같은 문제점으로부터 종래, 화장료 중에 분체를 배합하는 경우에는 분체에 미리 소수화 처리를 실시한 소수화 분체를 배합하는 방법이 널리 사용되어 왔다.
화장료용 분체의 소수화에 관해서는 많은 방법이 알려져 있고, 예를 들어 고급 지방산, 고급 알콜, 탄화 수소, 트리글리세라이드, 에스테르, 실리콘 오일, 실 리콘 수지 등의 실리콘류, 또는 불소화합물 등을 사용하여 친수성 분체의 표면을 피복하고, 분체에 소수성을 부여하는 방법이 행해지고 있다. 그 중에서도 실리콘류를 표면 처리제로서 사용한 분체의 소수화 처리는 특히 우수한 소수성을 부여할 수 있는 점에서, 현재까지 많은 방법이 확립되어 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 소60-163973호, 일본 공개특허공보 소62-177070호 참조). 또한, 최근에는 아크릴산이나 아크릴산 에스테르의 코폴리머를 분체의 표면 처리제로서 사용하는 방법도 알려져 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 평8-337514호 참조).
한편, 화장료에서는 그 헹굼성도 중요한 성능 중 하나로서 요구된다. 그러나, 전술한 종래의 소수화 처리 분체를 배합한 경우에는 화장 지속성을 향상시킬 수 있어도, 그 우수한 소수성을 위해 비누 등을 사용했다고 해도 물로는 용이하게 헹굴 수 없다. 이 때문에, 유성의 클렌징용 제제가 널리 사용되고 있지만, 이 유성 제제는 추가로 비누 등으로 씻을 필요가 있고, 사용자에 대한 부담이 크다. 또한, 헹굼을 용이하게 할 목적으로 친수성 분체를 배합한 경우에는 전술한 바와 같이 화장이 지워지기 쉽고, 화장 지속성이 떨어지는 결과가 된다. 이 때문에, 화장을 하고 있는 동안에는 그 효과를 장시간 지속시킬 수 있고, 한편 화장을 지울 때에는 용이하게 클렌징할 수 있는 양자의 성능을 동시에 만족시키는 것은 매우 곤란한 과제였다.
(발명이 해결하고자 하는 과제)
본 발명은 전술한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 분체에 대해서 우수한 소수성을 부여함과 동시에, 그 헹굼성을 개선할 수 있는 표면 처리제, 상기 표면 처리제에 의해 처리된 표면 처리 분체, 및 이를 함유하는 화장료를 제공하는 데에 있다.
(과제를 해결하기 위한 수단)
본 발명자들이 전술한 과제를 감안하여 예의 검토한 결과, pH 응답성의 소수성-친수성 변화에 착안하여 특정 구조의 아크릴계 유도체를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머에 의해 분체의 표면을 처리한 바, 표면 처리 분체의 소수성-친수성이 pH 변화에 대해서 극적으로 변화하는 것이 밝혀졌다. 즉, 상기 폴리머에 의해 표면 처리한 분체는 일반적인 화장료가 사용되는 산성~중성 영역에서는 우수한 소수성을 나타내는 한편, 비눗물 등에 의해 적절한 염기성 환경으로 한 경우에는 분체의 표면이 친수성으로 변화된다. 그리고, 그 결과, 상기 표면 처리 분체를 화장료 중에 배합한 경우, 화장 지속성이 우수함에도 불구하고, 비누 등을 사용하여 물로 용이하게 씻는 것이 가능해지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명자들이 전술한 과제를 감안하여 예의 연구를 실시한 결과, pH 응답성의 소수성-친수성 변화에 착안하여 특정 구조의 아크릴계 유도체를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머를 분체의 표면 처리제로서 사용한 바, 처리 분체의 소수성-친수성이 pH 변화에 대해서 극적으로 변화시키는 것이 분명해졌다. 즉, 상기 표면 처리제에 의해 처리한 분체는, 일반적인 화장료가 사용되는 산성~중성 영역에서는 우수한 소수성을 나타내는 한편, 비눗물 등에 의해 적절한 염기성 환경으로 한 경우에는 분체의 표면이 친수성으로 변화된다. 그리고, 그 결과, 화장료 중에 상기 처리 분체를 배합한 경우, 화장 지속성이 우수함에도 불구하고, 비누 등을 사용하여 물로 용이하게 씻어낼 수 있게 된다. 이와 같이, 본 발명자들은 상기 표면 처리제에 의해 분체의 표면을 처리함으로써 분체에 우수한 소수성이 부여됨과 동시에, 그 헹굼성이 현저하게 개선되는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 제 1 주제는 하기 화학식 1로 표시되는 모노머(A)를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머로 이루어진 표면 처리제이다.
Figure 112007017262649-pct00001
(상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R2는 탄소수 4 내지 탄소수 22의 알킬렌기, X1는 -NH-기 또는 산소 원자, M1은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온을 나타낸다)
또한, 상기 표면 처리제에서 상기 모노머(A)를 구성 모노머 전량(全量) 중 70 몰% 이상 함유하는 폴리머로 이루어진 것이 바람직하다.
또한, 상기 표면 처리제에서 또한 하기 화학식 2 내지 화학식 7 중 어느 것으로 표시되는 모노머(B)를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머로 이루어진 것이 바 람직하다.
Figure 112007017262649-pct00002
(상기 화학식 2에서, R3는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R4는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, X2는 -NH-기 또는 산소 원자, M2은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온을 나타낸다)
Figure 112007017262649-pct00003
(상기 화학식 3에서, R5는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R6는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알킬기, 불화알킬기, 아미노알킬기, 또는 히드록시알킬기, X3는 -NH-기 또는 산소 원자를 나타낸다)
Figure 112007017262649-pct00004
(상기 화학식 4에서, R7은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R8은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, R9은 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X4는 -NH-기 또는 산소 원자, Y-는 1가의 유기 또는 무기 음이온을 나타낸다)
Figure 112007017262649-pct00005
(상기 화학식 5에서, R10은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R11은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, R12는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X5는 -NH-기 또는 산소 원자, l은 1 내지 100의 정수를 나타낸다)
Figure 112007017262649-pct00006
(상기 화학식 6에서, R13은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R14는 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, R15는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X6는 -NH-기 또는 산소 원자, m은 1 내지 100의 정수를 나타낸다)
Figure 112007017262649-pct00007
(상기 화학식 7에서, R16는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R17은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, X7은 -NH-기 또는 산소 원자, M3는 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온, n은 1 내지 100의 정수를 나타낸다.)
또한, 상기 표면 처리제에서 상기 모노머(A)와 상기 모노머(B)의 비율이 몰 비로 (A) : (B) = 70 : 30 내지 99.9 : 0.1 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 제 2 주제는 상기 표면 처리제가 분체 표면 상에 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 표면 처리 분체이다.
또한, 상기 표면 처리 분체에서 분체에 대한 표면 처리제의 피복량이 질량비로, 폴리머 : 분체 = 3 : 97 내지 40 : 60 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 제 3 주제는 상기 표면 처리 분체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료이다.
(발명의 효과)
본 발명에 관한 표면 처리제에 의해 분체의 표면을 처리함으로써, 분체에 대하여 우수한 소수성이 부여됨과 동시에, 그 헹굼성을 현저하게 개선할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 표면 처리제에 의해 처리한 표면 처리 분체를 화장료에 배합한 경우, 화장 지속성이 우수함에도 불구하고, 비누 등을 사용하여 물로 용이하게 씻어내는 것이 가능해진다.
도 1은 본 발명에 관한 각종 표면 처리제(MAU 호모폴리머 및 MAU/AMPS 코폴리머)에 의해 처리한 표면 처리 분체의 pH 5 완충 용액의 사진도,
도 2는 본 발명에 관한 각종 표면 처리제(MAU 호모폴리머 및 MAU/AMPS 코폴리머)에 의해 처리한 표면 처리 분체의 pH 10 완충 용액의 사진도,
도 3은 본 발명에 관한 표면 처리제(MMPA 호모폴리머)에 대한 NMR 측정 결과도,
도 4는 본 발명에 관한 표면 처리제(MMPA 호모폴리머)에 의해 처리한 표면 처리 분체의 pH 5 완충 용액, 및 pH 10 완충 용액의 사진도, 및
도 5는 본 발명에 관한 표면 처리제(MMPA 호모폴리머)에 대한 미처리 및 1M NaOH 용액 처리의 각 조건에서의 적외 분광 측정 결과이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서 상술한다.
또한, 본 발명에 관한 표면 처리제는 상기 화학식 1로 표시되는 모노머(A)를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.
화학식 1로 표시되는 모노머(A)는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산 또는 아크릴아미드 또는 알킬치환 아크릴아미드에서 지방산이 부가된 화합물이다. 화학식 1에서, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이다. R1이 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R1은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 1에서 R2는 탄소수 4 내지 탄소수 22의 알킬렌기이다. 알킬렌기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R2로서는 예를 들어, 탄소수 8의 옥틸렌기, 탄소수 11의 운데실렌기, 탄소수 12의 도데실렌기를 들 수 있다. 또한, R2로서는 구조 중에 방향족 고리나 탄소-탄소 이중 결합을 포함하고 있어도 좋고, 예를 들어 비닐렌기, 메틸페닐렌기, 비닐페닐렌기 등이어도 상관없다. 또 한, 화학식 1에서 X1은 -NH-기 또는 산소 원자이고, 특히 -NH-기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 1에서 M1은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온이다. 1가의 무기 또는 유기 양이온은 카본산의 염을 형성할 수 있는 것이면 좋고, 1가의 무기 양이온으로서는 예를 들어 나트륨 이온, 칼륨 이온, 리튬 이온 등을 들 수 있고, 또한 1가의 유기 양이온으로서는 예를 들어 암모늄 이온, 모노에탄올암모늄 이온, 트리에탄올암모늄 이온 등을 들 수 있다. 또한, M1에 관해서는 폴리머 제조 후, 희(希)염산 또는 희(希)수산화나트륨 용액 등을 적당량 사용하여, 카본산(M1=수소) 또는 나트륨염(M1=나트륨)의 형태로 가역적으로 변환하는 것도 가능하다.
본 발명에 사용되는 모노머(A)로서는 예를 들어 11-메타크릴아미드운데칸산, 8-아크릴아미드옥탄산, 12-아크릴아미드도데칸산, 12-메타크릴아미드도데칸산, 3-{4-[(메타크릴옥시)메틸]페닐}아크릴산 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리머에서는 상기 모노머(A)의 1종 또는 2종 이상을 구성 모노머로 할 수 있다.
본 발명에 관한 폴리머에서는 상기 모노머(A)를 구성 모노머 전량 중 70 몰% 이상 함유하고 있는 것이 바람직하다. 모노머(A)가 70 몰% 미만이면, 소수성-친수성의 조정 효과가 작고, 분체에 대해서 원하는 성능을 부여할 수 없는 경우가 있다. 또한, 모노머(A)가 90 몰% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또한, 본 발명에 관한 폴리머에서는 상기 모노머(A)가 구성 모노머의 전량을 차지하고 있어도 상관없다.
또한, 본 발명의 폴리머로서는 상기 모노머(A) 이외의 구성 모노머로 하고, 또한 상기 화학식 2 내지 화학식 7 중 어느 것으로 표시되는 모노머(B)를 바람직하게 사용할 수 있다.
화학식 2로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산, 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드에서 알킬설폰산이 부가된 화합물이다. 화학식 2에서 R3는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이다. R3가 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R3는 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 2에서 R4는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기이다. 알킬렌기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R4로서는 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있고, 특히 에틸렌기, 프로필렌기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 2에서 X2는 -NH-기 또는 산소 원자이고, 특히 -NH-기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 2에서 M2는 수소 또는 1 가의 무기 또는 유기 양이온이다. 1 가의 무기 또는 유기 양이온은 설폰산의 염을 형성할 수 있는 것이면 좋고, 1 가의 무기 양이온으로서는 예를 들어, 나트륨 이온, 칼륨 이온, 리튬 이온 등을 들 수 있고, 또한 1 가의 유기 양이온으로서는 예를 들어 암모늄 이온, 모노에탄올암모늄 이온, 트리에탄올암모늄 이온 등을 들 수 있다. 또한, M2에 관해서는 폴리머 제조 후, 희(希)염산 또는 희(希)수산화나트륨 용액 등을 적당량 사용하고, 설폰산(M2=수소) 또는 나트륨염(M2=나트륨)의 형태로 가역적으로 변환하는 것도 가능하다.
화학식 2로 표시되는 모노머로서는, 예를 들어 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산, 3-메타크릴옥시프로판설폰산 칼륨 등을 들 수 있다.
또한, 화학식 3으로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드의 알킬 부가물이다. 화학식 3에서 R5는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이고, R5가 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R5는 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 3에서 R6는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알킬기, 1 이상의 불소 원자를 포함하는 불화알킬기, 1 이상의 아미노기를 포함하는 아미노알킬기, 또는 1 이상의 수산기를 포함하는 히드록시알킬기이다. 이들의 알킬기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R6가 알킬기인 경우, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 펜틸기, 옥틸기, 데실기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있고, 특히 2-에틸헥실기인 것이 바람직하다. R6가 불화알킬기인 경우, 예를 들어 트리플루오로메틸기, 트리플루오로에틸기, 테트라플루오로프로필기 등을 들 수 있고, 특히 트리플루오로에틸기, 테트라플루오로프로필기인 것이 바람직하다. R6가 아미노알킬기인 경우, 예를 들어 아미노에틸기, 아미노프로필기, N,N-디메틸아미노에틸기 등을 들 수 있고, 특히 N,N-디메틸아미노에틸기인 것이 바람직하다. R6가 히드록시알킬기인 경우, 예를 들어 히드록시에틸기, 히드록시프로필기, 디히드록시프로필기 등을 들 수 있고, 특히 히드록시에틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 3에서 X3는 -NH-기 또는 산소 원자이다.
화학식 3으로 표시되는 모노머로서는 예를 들어, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 2,2,2-트리플루오로프로필, 메타크릴산2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 아크릴산2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 메타크릴산2-디메틸아미노에틸, N-히드록시에틸아크릴레이트, 글리세린모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 화학식 4로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산, 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드의 알킬암모늄염 부가물이다. 화학식 4에서 R7은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이고, R7이 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R7은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 4에서 R8은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기이다. 알킬렌기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R8으로서는 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있고, 특히 에틸렌기, 프로필렌기인 것이 바람직하다. 또한, R9은 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기이다. R9가 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋 다. R9가 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 4에서 X4는 -NH-기 또는 산소 원자이다. 또한, Y-는 1가의 유기 또는 무기 음이온이고, 4급 암모늄의 염을 형성할 수 있는 것이면 어떤 것이어도 상관없다. Y-로서는 예를 들어 염화물 이온, 불화물 이온, 요오드화물 이온 등의 1가의 무기 음이온, 또는 황산 이온, 아세트산 이온, 벤젠설폰산 이온, 인산 이온 등의 1가의 유기 음이온을 들 수 있다.
화학식 4로 표시되는 모노머로서는 예를 들어, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트메틸클로라이드, N,N-디메틸아미노아크릴아미드메틸클로라이드 등을 들 수 있다.
또한, 화학식 5로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산, 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드의 (폴리)알킬렌옥시드 부가물이다. 화학식 5에서 R10은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이고 R10이 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R10은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 5에서 R11은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기이고, 알킬렌기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R11로서는 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있고 특히 에틸렌기, 프로필렌기인 것이 바람직하다. 또한, R12는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기이고, 예를 들어 수소, 메틸기, 에틸기 등을 들 수 있다. R12는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 5에서 X5는 -NH-기 또는 산소 원자이다. 또는, l은 알킬렌옥시드의 부가 몰수이고 1 내지 100의 정수이다.
화학식 5로 표시되는 모노머로서는 예를 들어 메톡시폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 화학식 6으로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산, 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드의 (폴리)실록산 부가물이다. 화학식 6에서 R13는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이고, R13이 알킬렌기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R13은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 6에서 R14는 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기이다. R14가 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R14은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, R15은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기이고, 예를 들어 수소, 메틸기, 에틸기 등을 들 수 있다. R15은 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 6에서 X6는 -NH-기 또는 산소 원자이다. 또한, m은 실록산의 부가 몰수이고 1 내지 100의 정수이다.
화학식 6으로 표시되는 모노머로서는 예를 들어 메타크릴옥시기 변성 실리콘 등을 들 수 있다.
또한, 화학식 7로 표시되는 모노머는 아크릴산 또는 알킬 치환 아크릴산 또는 아크릴아미드 또는 알킬 치환 아크릴아미드의 알킬인산(염) 부가물이다. 화학식 7에서 R16는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기이고, R16이 알킬기인 경우에는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R16는 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 7에서 R17은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기이고, 알킬렌기는 직쇄상, 분지쇄상 중 어느 것이어도 좋다. R17로서는 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기를 들 수 있고, 특히 에틸렌기, 프로필렌기인 것이 바람직하다. 또한, 화학식 7에서 X7은 -NH-기 또는 산소 원자이다. 또한, n은 알킬렌옥시드의 부가 몰수이고, 1 내지 100의 정수이다. 또한, 화학식 7에서 M3는 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온이다. 1가의 무기 또는 유기 양이온은 인산의 염을 형성할 수 있는 것이면 좋고, 1가의 무기 양이온으로서는 예를 들어 나트륨 이온, 칼륨 이온, 리튬 이온 등을 들 수 있고, 또한 1가의 유기 양이온으로서는 예를 들어 암모늄 이온, 모노에탄올암모늄 이온, 트리에탄올암모늄 이온 등을 들 수 있다. 또한, M3에 관해서는 폴리머 제조 후, 희(希)염산 또는 희(希)수산화나트륨 용액 등을 적당량 사용하여, 인산(M3=수소) 또는 나트륨염(M3=나트륨)의 형태로 가 역적으로 변환하는 것도 가능하다.
화학식 7로 표시되는 모노머로서는 예를 들어 2-메타크릴옥시에틸인산 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 폴리머에서는 상기 화학식 2 내지 화학식 7 중 어느 하나로 표시되는 모노머(B)의 1 종 또는 2 종 이상을 구성 모노머로 할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 폴리머에서는 상기 모노머(B)를 구성 모노머 전량 중 1 몰% 내지 30 몰% 함유하고 있는 것이 바람직하다. 모노머(B)가 1 몰% 미만이면 배합에 의한 효과가 얻어지지 않고, 30 몰%를 초과하면 상대적으로 모노머(A)의 함유량이 감소하여, 분체에 대해서 원하는 성능을 부여할 수 없는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 폴리머는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위이면 상기 모노머(A), (B) 이외의 모노머를 구성 모노머로서 함유할 수도 있다. 함유량은 구성 모노머 전량의 30 몰% 이하의 범위이면 좋고, 예를 들어 1 몰% 내지 20 몰% 정도 함유할 수 있다. 이와 같은 모노머로서는 예를 들어 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-비닐피롤리돈, ε-카프로락탐, 비닐알콜, 무수말레인산, 디알릴디메틸암모늄클로라이드, 스티렌 등을 들 수 있다.
본 발명의 폴리머는 상기 모노머를 함유하는 각종 모노머를 공지의 중합 방법을 사용하여 중합함으로써 수득할 수 있다. 예를 들어, 균일 용액 중합법, 불균일 용액 중합법, 유화 중합법, 역상 유화 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법, 침전 중합법 등을 사용할 수 있다. 예를 들어, 균일 용액 중합법의 경우에는 각종 모노머를 용매 중에 용해하고, 질소 분위기하, 라디칼 중합 개시제를 첨가하여 가열 교 반함으로써 본 발명의 폴리머를 수득할 수 있다. 또한, 폴리아크릴산 또는 폴리아크릴아미드에 관능기를 부가시키는 후 변형(postmodification)에 의해, 본 발명의 폴리머를 수득하는 것도 가능하다.
중합시에 사용되는 용매로서는 각종 모노머를 용해 또는 현탁할 수 있는 것으로, 물을 포함하지 않는 유기 용매이면 어떠한 용매이어도 사용하는 것이 가능하고, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 프로필알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜 등의 알콜계 용매, 헥산, 헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 데칸, 유동 파라핀 등의 탄화수소계 용매, 디메틸에테르, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 에테르계 용매, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용매, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르계 용매, 염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소 등의 염화물계 용매 등 외에, 디메틸포름아미드, 디에틸포름아미드, 디메틸설폭시드, 디옥산 등을 들 수 있다. 이들의 용매는 2 종 이상 혼합하여 사용해도 좋다. 통상, 사용하는 중합개시제의 개시 온도 보다도 비점이 높은 용매를 선택하는 것이 바람직하다.
중합 개시제로서는 라디칼 중합을 개시하는 능력을 갖는 것이면 특별히 제한은 없고 예를 들어 과산화벤조일 등의 과산화물, 아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스(이소락산) 디메틸 등의 아조계 화합물 외에, 과황산칼륨, 과황산 암모늄 등의 과황산계 중합 개시제를 들 수 있다. 또한, 이들의 중합 개시제에 따르지 않아도, 광화학 반응이나 방사선 조사 등에 의해서도 중합을 실시할 수 있다. 중합 온도는 각 중합 개시제의 중합 개시 온도 이상으로 한다. 예를 들어, 과산화물계 중합 개시제에서는 통상 50 ℃ 내지 70 ℃ 정도로 하면 좋다.
중합 시간은 특별히 제한되지 않지만, 통상 30 분 내지 24 시간 정도이다. 비교적 고분자량의 폴리머를 수득하고 싶은 경우에는 24시간 정도 반응시키는 것이 바람직하다. 반응시간이 너무 짧으면 미반응의 모노머가 잔존하고, 분자량도 비교적 작아지는 경우가 있다. 본 발명의 폴리머의 평균분자량은 특별히 제한되지 않고 올리고머 이상의 중합도를 갖고 있으면 목적으로 하는 효과를 발휘할 수 있지만, 특히 평균 분자량 3000 내지 10만 정도인 것이 바람직하다. 또한, 2 종 이상의 모노머를 혼합하여 중합을 실시함으로써 통상은 각종 모노머가 랜덤 형상으로 부가된 코폴리머가 수득된다.
본 발명에 관한 표면 처리 분체는 이상과 같이 하여 수득되는 폴리머가 분체 표면 상에 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 사용되는 폴리머는 폴리머 측쇄에 상기 모노머(A)에서 유래하는 카르복실기를 갖고 있고, 상기 카르복실기는 산성~중성의 조건 하에서는 소수성의 카본산(-COOH), 염기성 조건하에서는 친수성의 카르복실레이트 이온(-COO-M+)로 변화한다. 이 때문에, 상기 폴리머에 의해 분체의 표면을 처리한 처리 분체는 예를 들어 산성~중성 환경에서 소수성, 염기성 환경에서 친수성이라는 것처럼, pH 응답성의 소수성-친수성 변화를 나타내게 되는 것으로 생각된다.
그리고, 이와 같이 하여 수득된 표면 처리 분체를 화장료 중에 배합한 경우, 화장료가 통상 사용되는 산성~중성 영역에서는 소수성을 나타내므로 화장 지속성이 우수함에도 불구하고, 비누 등을 사용하여 적절한 염기성 환경으로 한 경우에는 처 리 분체의 표면이 친수성으로 변화되므로, 물에 의해 용이하게 씻는 것이 가능해진다.
또한, 상기 모노머(B)는 pH에 대한 영향을 받기 어렵고, 폭넓은 pH 범위에서 안정된 친수성 또는 소수성의 성질을 나타낸다. 이 때문에, 구성 모노머 중의 상기 모노머(A)와 모노머(B)의 모노머 비율을 적절하게 조정하여 폴리머를 제조함으로써, 분체에 부여하는 소수성-친수성의 균형을 바람직하게 조정하는 것이 가능해진다. 예를 들어, 상기 모노머(A)에 대해서 모노머(B)로서 화학식 2의 모노머를 조합시킴으로써 친수성을 높일 수 있고, 반대로 모노머(B)로서 화학식 6의 모노머를 조합시킴으로써 소수성을 높일 수 있다. 또한, 상기 모노머(B)를 적당량 사용함으로써, 분체로의 폴리머의 흡착성을 높일 수도 있다.
본 발명에 사용되는 폴리머는 모노머(A)와 모노머(B)의 비율이 몰비로 (A) : (B)= 70 : 30 내지 99.9 : 0.1이 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 모노머(A)의 비율이 70 : 30 보다 적으면, 처리 분체가 친수성에 치우치므로, 충분한 소수성을 부여할 수 없는 경우가 있고, 한편 모노머(A)의 비율이 99.9 : 0.1 보다 많으면, 분체의 표면에 폴리머가 흡착되기 어려워지고, 분체의 안정성에 악영향을 주는 경우가 있다.
본 발명에 사용되는 분체는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 규산, 무수규산, 규산 마그네슘, 탈크, 카올린, 운모, 벤토나이트, 티탄 피복 운모, 옥시염화비스무트, 산화지르코늄, 산화마그네슘, 산화아연, 산화티탄, 산화알루미늄, 황산 칼슘, 황산 바륨, 황산 마그네슘, 탄산 칼슘, 탄산 마그네슘, 산화철, 군 청, 감청, 산화크롬, 수산화크롬, 카본 블랙 및 이들의 복합체 등의 무기 분체, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 비닐 수지, 에폭시 수지, 폴리카보네이트 수지, 디비닐벤젠·스티렌 공중합체, 상기 화합물의 단량체의 2종 이상으로 이루어진 공중합체, 셀룰로이드, 아세틸셀룰로스, 셀룰로스, 다당류, 단백질, CI 피그먼트(pigment) 옐로우, CI 피그먼트 오렌지, CI 피그먼트 그린 등의 유기 분체를 들 수 있다. 또한, 분체의 형상에 대해서도 예를 들어, 판 형상, 괴상, 비늘 조각 형상, 구 형상, 다공성 구 형상 등, 어떠한 형상의 것이어도 사용할 수 있고, 입자 직경에 대해서도 특별히 제한되지 않는다.
본 발명에 관한 표면 처리 분체에서, 분체의 표면 처리는 통상의 처리 방법에 의해 사용하면 좋고, 그 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 폴리머에 의해 분체를 처리하는 경우에는 폴리머를 에틸알콜 등의 적당한 용매 중에 용해하고, 상기 용액 중에 분체를 혼합, 교반한 후, 용매를 유거(留去)하는 방법, 또는 폴리머를 고급 알콜 등의 불(不)휘발성 유분에 용해한 것을 직접 혼합 교반하는 방법을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 표면 처리 분체를 화장료 중에 배합하는 경우에는 화장료의 제조 과정에서 폴리머를 분체 기제 중에 직접 혼합 교반해도 좋다.
또한, 본 발명에서 상기 폴리머에 의해 분체를 처리하는 경우에는 분체의 제타 전위에 주의할 필요가 있다. 여기에서, 분체의 제타 전위라는 것은 고상(固相)과 액상(液相)이 상대 운동을 하는 경우에 고상에 밀착하여 작용하는 층의 최외면 (미끄러짐면)에서의 전위와 용액 내부의 전위의 차를 나타내는 것이다. 용액이 중 성 부근인 경우, 산화티탄이나 실리카 등의 제타 전위는 마이너스가 되고, 반대로 산화아연이나 알루미나 등의 제타 전위는 플러스가 된다. 산화아연이나 알루미나 등의 제타 전위가 플러스인 분체를 처리하는 경우에는, 통상의 방법으로 처리하면, pH 응답성이 중요한 카본산 부위가 분체 표면의 플러스 전하에 의해 상쇄되고, 수득된 표면 처리 분체가 pH 응답성을 나타내지 않게 되는 경우가 있다. 이와 같은 분체에 대해서 pH 응답성을 부여하기 위해서는 미리 실리카나 폴리스티렌설폰산 등의 마이너스 전하를 띤 무기물 또는 유기물을 분체 표면에 처리하여, 분체 표면의 제타 전위를 마이너스로 바꿀 필요가 있다. 이와 같은 처리 방법으로서는 예를 들어 분체를 물 유리 용액 중에 분산시키고, 산을 적하하여 표면상에 실리카를 석출시키는 방법, 또는 분체를 폴리스티렌설폰산 수용액 중에 분산시킨 후, 물을 휘발시키는 등의 방법을 들 수 있다.
본 발명에 관한 표면 처리 분체에서, 분체에 대한 폴리머의 피복량은 질량비로 폴리머 : 분체 = 3 : 97 ~ 40 : 60, 보다 바람직하게는 5 : 95 ~ 30 : 70이다. 3 : 97 보다 폴리머의 피복량이 적으면, 분체에 대해서 원하는 성능을 부여할 수 없게 되는 경우가 있고, 40 : 60 보다 피복량이 많으면 화장료로서 사용한 경우의 사용감 등에 대해서 악영향을 주는 경우가 있다.
또한, 본 발명에 관한 화장료는 이상과 같이 하여 수득되는 표면 처리 분체를 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다. 표면 처리 분체의 배합량은 화장료 전량 중 3 질량% 이상인 것이 바람직하고, 특히 5 질량% 내지 95 질량%인 것이 바람직하다. 배합량이 3 질량% 미만에서는 본 발명의 효과가 수득되지 않는 경우가 있다.
본 발명에 관한 화장료에서는 상기 표면 처리 분체 외에, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 통상 화장료에 사용되는 물, 유분, 분체(미처리), 계면 활성제, 불소 화합물, 수지, 점제(粘劑), 방부제, 향료, 자외선 흡수제, 보습제, 생리 활성 성분, 염류(鹽類), 용매, 산화 방지제, 킬레이트제, 중화제, pH 조정제 등의 성분을 배합할 수 있다.
본 발명에 관한 화장료의 형태는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 파운데이션, 파우더, 립스틱, 아이섀도우, 볼터치, 마스카라, 아이라이너 등의 메이크업 화장료나, 자외선 차단제, 메이크업 베이스, 헤어 크림 등을 들 수 있다.
<실시예 1>
이하에 본 발명의 실시예를 들지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
우선 최초로, 본 발명의 폴리머의 합성 방법에 대해서 설명한다.
합성예 1 : 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)호모폴리머
Figure 112007017262649-pct00008
11-메타크릴아미드운데칸산 나트륨(NaMAU) 5.244 g(18 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴 7.4 ㎎(0.045 m㏖)을, 메탄올 32.4 ㎖와 물 3.6 ㎖의 혼합용매(메탄올/ 물 = 9/1)에 용해했다. 30 분간 아르곤을 버블하여 탈기(脫氣)를 실시하고, 셉텀(septum)으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 12 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 상기 침전물을 물에 용해하여 1 주간 순수에 대해서 투석을 실시하고, 동결 건조를 실시함으로써 NaMAU 호모폴리머 2.64 g을 수득했다(수율 : 50.40%).
회수한 NaMAU 호모폴리머 1.10 g을 물에 용해하고 염산을 사용하여 pH를 4로 조정했다. 상기 용액에 대해서 1 주간 pH5의 물에 대해서 투석을 실시하고, 동결 건조를 실시함으로써, 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)호모폴리머 0.97 g을 수득했다.
합성예 2: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(MAU/AMPS=95/5)
Figure 112007017262649-pct00009
11-메타크릴아미드운데칸산 나트륨(NaMAU) 4.9823 g(17.1 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 186.5 ㎎(0.9 m㏖)을, 수산화나트륨 39.6 ㎎(0.99 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴 7.4 ㎎(0.045 m㏖)을, 메탄올 32.4 ㎖와 물 3.6 ㎖ 의 혼합용매(메탄올/물 = 9/1)에 용해했다. 30 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 12시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 상기 침전물을 물에 용해하여 1 주간 순수에 대해서 투석을 실시하고, 동결 건조를 실시함으로써 랜덤 형상의 NaMAU/AMPS 코폴리머(95/5) 2.78 g을 수득했다(수율: 53.71 %).
회수한 MaMAU/AMPS 코폴리머 1.54 g을 물에 용해하고, 염산을 사용하여 pH를 4로 조정했다. 상기 용액에 대해서 1 주간 pH 5의 물에 대해서 투석을 실시하고, 동결 건조를 실시함으로써, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(95/5) 0.97 g을 수득했다.
계속해서, 본 발명의 표면 처리제에 의한 분체의 표면 처리 방법에 대해서 설명한다.
분체 처리예 1
에탄올 500 ㎖ 중에, 상기 합성예 1, 합성예 2에 의해 제조한 폴리머 45 g, 스테아린산 15 g을 용해했다. 상기 용액 중에 산화 티탄 240 g을 혼합, 분산하여 증발기에 의해 에탄올을 휘발시켰다. 수득된 괴상 물질을 분쇄하여 표면 처리 분체를 수득했다.
수득된 처리 분체를 pH 5 및 pH 10 완충액 중에, 분체 : 용액 = 1 : 100의 비율로 혼합 용해했다. 상기 용액을 원심 분리에 의해 분체를 분리하고, 또한 잔 존 용액을 건조에 의해 제거했다. 수득된 분체에 대해서, 원소 분석에 의해 폴리머의 피복 비율을 측정한 바, 분체 전량 중, 폴리머가 15 질량%, 스테아린산이 5 질량%였다.
실시예 1-1~1-4, 비교예 1-1~1-4
본 발명자들은 본 발명의 폴리머에 의한 표면 처리를 실시한 표면 처리 분체의 특성에 대해서 검토를 실시하기 위해, 상기 합성예 1, 합성예 2 및 상기 분체 처리예 1에 준하여 각종 폴리머에 의해 표면 처리한 산화티탄 분체를 제조하고, 산성(pH 5) 및 염기성(pH 10)의 각 조건에서의 상기 처리 분체의 수용성의 평가를 실시했다. 또한, 비교예로서 종래의 소수화 표면 처리제인 실리콘류, 아크릴산/아크릴산 에스테르 코폴리머를 사용하여 동일한 시험을 실시했다. 평가 결과를 표 1 및 도 1, 도 2에 도시한다. 또한, 평가 방법은 이하와 같다.
처리분체의 수용성
각종 표면 처리제에 의해 표면 처리한 산화티탄 분체 0.1 g을 pH 5 및 pH 10의 각종 pH 완충 수용액 30 ㎖과 함께 바이알 중에 넣고 자기 교반기에 의해 1 분간 혼합 교반한 후 정치하여 용액의 상태를 확인했다.
○: 분체가 수중에 균일하게 용해되어, 백탁 용액이 되었다.
×: 분체가 물과 용해되지 않고 수면 상에 분리되었다.
Figure 112007017262649-pct00010
표 1 및 도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 MAU 호모폴리머, 및 MAU/AMPS 코폴리머에 의해 표면 처리된 실시예 1-1~1-4의 처리 분체는 pH 5의 산성 조건 하에서는 수중에 전혀 용해되어 있지 않고, 분체가 우수한 소수성을 나타내는 것을 알 수 있었다. 한편, pH 10의 염기성 조건으로 한 경우에는 처리 분체가 수중에 균일하게 용해되어 있고, 분체가 친수성으로 변화되는 것이 밝혀졌다. 즉, 본 발명의 폴리머에 의해 처리한 처리 분체를 화장료에 배합한 경우, 일반적인 화장료가 사용되는 산성~중성 영역에서는 우수한 소수성을 나타내므로, 화장 지속성이 우수함에도 불구하고, 비누 등을 사용하여 적절한 염기성 환경으로 한 경우에는 분체의 표면이 친수성으로 변화되므로, 물로 용이하게 씻는 것이 가능해지는 것으로 생각된다.
이에 대해서, 종래 화장료용 분체의 소수화 처리제로서 사용되고 있는 실리콘류 및 아크릴산/아크릴산 에스테르 코폴리머에 의해 표면 처리된 비교예 1-1~1-4의 처리 분체는 pH 5의 산성 조건하, pH 10의 염기성 조건하 모두, 수중에 완전히 용해할 수 없었다. 이러한 측면에서, 종래의 표면 처리제에 의해 처리된 분체를 화장료에 배합한 경우에는 화장 지속성을 향상시킬 수 있다고 해도, 염기성 조건하에서도 우수한 소수성이 유지되고 있으므로, 비눗물 등으로 씻는 것은 곤란한 것을 알 수 있다.
합성예 3: 3-{4-[(메타크릴옥시)메틸]페닐}아크릴산(MMPA)호모폴리머
Figure 112007017262649-pct00011
1) MMPA 모노머의 합성
4-히드록시 계피산 2.46 g(15 m㏖), 부틸히드록시톨루엔 0.005 g을 아세톤 25 g 중에 용해하고, 염화메타크릴로일 1.57 g(15 m㏖)을 적하하고, 실온에서 3 시간 교반했다. 반응 종료 후, 용액 중에 트리에틸아민 1.67 g을 적하하고, 또한 0.015 N 희(希)염산 용액을 100 g 첨가하고, 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 상기 침전물을 수세하고, 30 ℃에서 감압 건조를 실시함으로써, MMPA 모노머 2.09 g을 수득했다(수율: 60 %). 또한, 생성물에 대한 NMR 분석에 의해, MMPA 모노머의 생성이 확인되었다. NMR 분석 결과를 도 3에 도시한다.
2) MMPA 모노머의 중합
이상에서 수득된 MMPA 모노머 2.01 g(9 m㏖)을 테트라히드로푸란 100 g 중에용해하고 40 분간 질소에 의해 버블링했다. 이어서, 아조비스이소부티로니트릴 0.038 g(0.23 m㏖)을 테트라히드로푸란 10 g 중에 용해한 것을 적하하고, 또한 10 분간 질소에 의한 버블링을 실시한 후, 60 ℃에서 24 시간 교반하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 반응 용액을 증발기에서 농축하고, 아세트산 에틸을 첨가하여 침전물을 제거했다. 다시 증발기에서 농축하여, 30 ℃에서 감압 건조를 실시함으로써 MMPA 호모폴리머 1.64 g을 수득했다(수율 82 %).
분체 처리예 2
테트라히드로푸란 50 ㎖ 중에, 상기 합성예 3에 의해 제조한 MMPA 호모폴리머 1 g을 용해했다. 상기 용액 중에 산화티탄 9 g을 혼합, 분산하여 증발기에 의해 테트라히드로푸란을 휘발시켰다. 수득된 괴상 물질을 분쇄하여 표면 처리 분체를 수득했다.
실시예 1-5
본 발명자들은 상기 분체 처리예 2에 준하여 MMPA 호모폴리머에 의해 표면 처리한 산화티탄 분체를 제조하고, 수득된 처리 분체를 pH 5 및 pH 10 완충액 중에, 분체 : 용액 = 1 : 100의 비율로 혼합 분산하고, 산성(pH 5) 및 염기성(pH 10)의 각 조건에서의 상기 처리 분체의 수용성의 평가를 실시했다. 결과를 도 4에 도시한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 MMPA 호모폴리머에 의해 표면 처리된 실시예 1-5의 처리 분체는 pH 5의 산성 조건 하에서는 수중에 완전히 용해되어 있지 않은 데에 비해, pH 10의 염기성 조건으로 한 경우에는 처리 분체가 수중에 균일하게 용해되어 있고, pH 변화에 의해 분체가 소수성으로부터 친수성으로 변화되고 있는 것이 확인되었다.
계속해서, 본 발명자들은 상기 합성예 3의 MMPA 폴리머에 대해서, 미처리 및 1M NaOH 용액 처리의 각각의 조건에서 적외 분광 측정을 실시했다. 결과를 도 5에 도시한다.
도 5에서, 본 발명의 MMPA 호모폴리머는 미처리의 조건에서는 카본산(-COOH)의 피크가 인정되는 데에 비해, 1M NaOH 용액 처리 조건 하에서는 상기 카본산의 피크는 소실되고, 새롭게 카르복실레이트 이온(-COO-)의 피크가 나타나는 것이 확인되었다. 그리고, 이 결과로부터 본 발명의 폴리머는 산성~중성의 조건하에서는 소수성의 카본산, 염기성 조건하에서는 친수성의 카르복실레이트 이온으로 변화함으로써, pH 응답성의 소수성-친수성 변화를 나타내는 것으로 생각된다.
<실시예 2>
계속해서 본 발명자들은 본 발명의 폴리머를 사용하여 표면 처리한 분체를 배합한 화장료의 조제를 시도하고 평가했다.
실시예 2-1
에탄올 1000 ㎖ 중에, 상기 합성예 2에 준하여 제조한 MAU/AMPS 코폴리 머(MAU/AMPS = 95/5) 34.5 g, 스테아린산 34.5 g을 용해했다. 상기 용액 중에 탈크 85 g, 세리사이트 50.8 g, 산화티탄 10 g, 나일론 분말 6 g, 흑산화철 0.4 g, 황산화철 5.8 g, 벵갈라 2 g을 혼합, 분산하고 증발기에 의해 에탄올을 휘발시켰다. 수득된 괴상 물질을 분쇄하여 실시예 2-1의 표면 처리 분체를 수득했다.
실시예 2-2
파우더형 파운데이션 배합량(질량%)
(1) 실시예 2-1의 표면 처리 분체 86.6
(2) 유동 파라핀 4.0
(3) 미리스틴산 옥틸도데실 3.0
(4) 이소스테아린산 소르비탄 3.0
(5) 옥틸도데카놀 3.0
(6) 방부제 0.1
(7) 살균제 0.1
(8) 산화방지제 0.1
(9) 향료 0.1
(제법) (1), (7) 내지 (9)를 가열 용해한 (2) 내지 (6)에 가하여 헨쉘 믹서에서 혼합하여 파우더형 파운데이션을 수득했다.
이상과 같이 하여 수득된 파우더형 파운데이션은 화장 지속성이 우수하고, 또한 비누를 사용하여 용이하게 물로 씻는 것이 가능해졌다.
실시예 2-3
2층 타입 W/O 자외선 차단제 배합량(질량%)
(1) 탈크 10.0
(2) 실시예 1-1의 표면 처리 산화 티탄 10.0
(3) 옥탄산 이소세틸 5.0
(4) 데카메틸시클로펜타실록산 26.8
(5) 디메틸폴리실록산 10.0
(6) POE 변성 디메틸폴리실록산 2.0
(7) 이온 교환수 28.0
(8) 1,3-부틸렌글리콜 8.0
(9) 방부제 0.1
(10) 향료 0.1
(제법) (3) 내지 (6)을 70 ℃에서 가열 혼합하여 유상으로 했다. 별도로 (7) 중에, (8), (9)를 용해시키고 이를 수상으로 했다. 유상 중에 (1), (2)의 분말을 가하고 호모믹서에서 분산했다. 이 중에 앞의 수상을 첨가하고, 호모믹서에서 유화했다. 또한, (10)을 혼합하여 용기에 충전했다.
이상과 같이 하여 수득된 2층 타입 W/O 자외선 차단제는 화장 지속성이 우수하고 또한 비누를 사용하여 용이하게 물로 씻는 것이 가능했다.
실시예 2-4
W/O형 파운데이션 배합량(질량%)
(1) 실시예 2-1의 표면 처리 분체 20.32
(2) 유동 파라핀 5.0
(3) 데카메틸시클로펜타실록산 29.0
(4) POE 변성 디메틸폴리실록산 4.5
(5) 이온 교환수 36.0
(6) 1,3-부틸렌글리콜 5.0
(7) 방부제 0.1
(8) 향료 0.08
(제법) (2) 내지 (4)를 70 ℃ 내지 80 ℃에서 가열 용해했다(이를 유상으로 했다). 또한, (5)에 (6) 및 (7)을 용해했다(이를 수상으로 했다). (1)에 앞의 유상을 가하여 호모믹서에서 혼합했다. (8)을 가하여 혼합한 후, 수상을 가하여 유화하고, 용기에 충전했다.
이상과 같이 하여 수득된 W/O형 파운데이션은 화장 지속성이 우수하고, 또한 비누를 사용하여 용이하게 물로 씻는 것이 가능했다.
실시예 2-5
립스틱 배합량(질량%)
(1) 실시예 1-3의 표면 처리 산화 티탄 10.0
(2) 적색 201호 0.6
(3) 적색 202호 1.0
(4) 적색 223호 0.2
(5) 칸데릴라 왁스 9.0
(6) 고형 파라핀 8.0
(7) 밀랍 5.0
(8) 카르나바 왁스 5.0
(9) 라놀린 11.0
(10) 피마자유 23.2
(11) 2-에틸헥산산 세틸 17.0
(12) 이소프로필미리스틴산 에스테르 10.0
(13) 산화방지제 적량
(14) 향료 적량
(제법) (1) 내지 (3)을 (10)의 일부와 혼합하고, 롤러 처리했다(이를 안료부로 했다). (4)를 (10)의 일부에 용해했다(이를 염료부로 했다). (5) 내지 (13)을 혼합하고, 가열 용해한 후 안료부, 염료부를 가하여 호모믹서에서 균일하게 분산했다. 이를 틀에 흘려넣어 급냉하여 스틱 형상으로 했다.
이상과 같이 하여 수득된 립스틱은 화장 지속성이 우수하고, 또한, 비누를 사용하여 용이하게 물로 씻는 것이 가능했다.
실시예 2-6
유성 스틱 파운데이션 배합량(질량%)
(분말부)
(1) 실시예 2-1의 표면 처리 분체 50.0
(유상부)
(2) 고형 파라핀 3.0
(3) 미세결정질왁스 7.0
(4) 바세린 15.0
(5) 디메틸폴리실록산 3.0
(6) 스쿠알란 5.0
(7) 팔미틴산 이소프로필 17.0
(8) 산화방지제 적량
(9) 향료 적량
(제법) (2) 내지 (8)을 85 ℃에서 용해하고 이에 충분히 혼합된 분말부를 교반하면서 첨가한다. 다음에 콜로이드밀에서 마쇄 분산한다. (9)를 가하여, 탈기후 70 ℃에서 용기에 흘려넣고 냉각시켜 화장료를 수득했다.
이상과 같이 하여 수득된 스틱 파운데이션은 화장 지속성이 우수하고 또한 비누를 사용하여 용이하게 물로 씻는 것이 가능했다.
<실시예 3>
이하, 다른 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 분자량은 크기 배제 크로마토그래피 HLC-8220 GPC(도소샤 제조)를 사용하여 산출했다. 또한, 컬럼으로서는 Shodex Asahipak GF-7M HQ(쇼와 덴코샤 제조)를 사용하여, 이동상(移動相)에는 과염소산 리튬을 100 mM 첨가한 메탄올을 사용했다. 표준물질에는 폴리에틸렌옥시드를 사용하여, 수득된 중량 평균 분자량은 폴리에틸렌옥시드 환산으로 되어 있다.
실시예 3-1: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 호모폴리머
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 75.0 g(278.49 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을, 메탄올 224.69 g에 용해했다. 60분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, MAU 호모폴리머 45.6 g을 수득했다(수율: 60.8 %). 중량 평균 분자량은 66000이었다.
실시예 3-2: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 호모폴리머
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 75.0 g(278.49 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.93 g(5.66 m㏖)을 메탄올 224.07 g에 용해했다. 60분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, MAU 호모폴리머 64.9 g을 수득했다(수율: 86.5 %). 중량 평균 분자량은 61000이었다.
실시예 3-3: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 호모폴리머
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 40.0 g(141.34 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.58 g(3.53 m㏖)을, 메탄올 120.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법(定法)에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸 에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, MAD 호모폴리머 124.15 g을 수득했다(수율: 60.4 %). 중량 평균 분자량은 33000이었다.
실시예 3-4: 12-아크릴아미드도데칸산(AAD) 호모폴리머
12-아크릴아미드도데칸산(AAD) 40.0 g(148.70 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.61 g(3.71 m㏖)을 메탄올 360.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라, 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, AAD 호모폴리머 27.51 g을 수득했다(수율: 68.8 %). 중량 평균 분자량은 44000이었다.
실시예 3-5: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 코폴리머(99/1)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 74.23 g(275.63 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마 아르도리치·재팬샤 제조) 0.77 g(3.72 m㏖), 수산화나트륨 0.15 g(3.72 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.93 g(5.66 m㏖)을 메탄올 223.92 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(99/1) 52.0 g을 수득했다(수율: 69.2 %). 중량 평균 분자량은 56000이었다.
실시예 3-6: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(99/1)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 74.23 g(275.63 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마 아르도리치·재팬샤 제조) 0.77 g(3.72 m㏖), 수산화나트륨 0.15 g(3.72 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 1.55 g(9.44 m㏖)을, 메탄올 223.30 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(99/1) 52.3 g을 수득했다(수율: 69.6 %). 중량 평균 분자량은 36000이었다.
실시예 3-7: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 코폴리머(99/1)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 74.23 g(275.63 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 0.77 g(3.72 m㏖), 수산화나트륨 0.15 g(3.72 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 3.10 g(18.88 m㏖)을 메탄올 236.75 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(99/1) 60.1 g을 수득했다(수율: 80.0 %). 중량 평균 분자량은 21000이었다.
실시예 3-8: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.42 g(68.41 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 1.58 g(7.60 m㏖), 수산화나트륨 0.31 g(7.60 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을 메탄올 59.4 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(90/10) 17.8 g을 수득했다(수율: 87.9 %). 중량 평균 분자량은 92000이었다.
실시예 3-9: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(99/1)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)을 클로로포름에 용해시키고, Inhibitor Remover, Disposable Column(ALDRICH샤 제조)를 통과시킴으로써, MAU에 포함되는 중합 금지제를 제거했다. 중합 금지제를 제거한 MAU 19.85 g(73.69 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아리도리치·재팬샤 제조) 0.15 g(0.74 m㏖), 수산화나트륨 0.03 g(0.74 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.06 g(0.37 m㏖)을, 메탄올 59.91 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/AMPS 코폴리머(99/1) 17.33 g을 수득했다(수율: 86.6 %). 중량 평균 분자량은 740000이었다.
실시예 3-10: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/3-메타크릴옥시프로판설폰산 칼륨코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.15 g(67.41 m㏖), 3-메타크릴옥시프로판설폰산 칼륨(도쿄가세이 고교샤 제조) 1.85 g(7.49 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을, 메탄올 59.69 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/3-메타크릴옥시프로판설폰산 칼륨 코폴리머(90/10) 18.47 g을 수득했다(수율: 92.4 %). 중량 평균 분자량은 240000이었다.
실시예 3-11: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 코폴리머(99/1)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 19.85 g(70.14 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 0.15 g(0.72 m㏖), 수산화나트륨 0.028 g(0.70 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.29 g(1.77 m㏖)을, 메탄올 60.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정 법에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(99/1) 13.5 g을 수득했다(수율: 67.5 %). 중량 평균 분자량은 49000이었다.
실시예 3-12: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(90/10)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 18.50 g(65.37 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 1.50 g(7.24 m㏖), 수산화나트륨 0.29 g(7.25 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.30 g(1.83 m㏖)을 메탄올 60.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 덮어 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 램덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(90/10) 15.2 g을 수득했다(수율: 75.1 %). 중량 평균 분자량은 50000이었다.
실시예 3-13: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 코폴리머(80/20)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 16.90 g(59.72 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 3.10 g(14.96 m㏖), 수산 화나트륨 0.60 g(1.50 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을 메탄올 60.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(80/20) 16.1 g을 수득했다(수율: 78.6 %). 중량 평균 분자량은 95000이었다.
실시예 3-14: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(70/30)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 15.22 g(53.78 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 4.78 g(23.06 m㏖), 수산화나트륨 0.92 g(23.0 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.32 g(1.95 m㏖)을 메탄올 60.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(70/30) 19.0 g을 수득했다(수율: 91.6 %). 중량 평균 분자량은 108000이었다.
실시예 3-15: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS)코폴리머(60/40)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 13.44 g(47.49 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 6.56 g(31.65 m㏖), 수산화나트륨 1.27 g(31.75 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.32 g(1.95 m㏖)를 메탄올 60.0 g에 용해했다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라, 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(60/40) 20.05 g을 수득했다(수율: 95.4 %). 중량 평균 분자량은 129000이었다.
실시예 3-16: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS) 코폴리머(50/50)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 11.55 g(40.81 m㏖), 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산(AMPS: 시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 8.45 g(40.77 m㏖), 수산화나트륨 1.63 g(40.75 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.33 g(1.97 m㏖)을 메탄올 60.0 g에 용해시켰다. 아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAD/AMPS 코폴리머(50/20) 20.95 g을 수득했다(수율: 98.4 %). 중량 평균 분자량은 176000이었다.
실시예 3-17: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/아크릴산2-에틸헥실코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.59 g(69.02 m㏖), 아크릴산 2-에틸헥실(시그마-아르도리치·재팬샤 제조) 1.41 g(7.67 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을 메탄올 59.69 g에 용해했다. 60분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 황색 엿 타입 물질을 수득했다. 이에 메탄올을 80 g 가하여 용해시켰다. 수득된 용액을 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/아크릴산 2-에틸헥실코폴리머(90/10) 13.01 g을 수득했다(수율: 65.0 %). 중량 평균 분자량은 560000이었다.
실시예 3-18: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/아크릴산 2,2,2-트리플루오로에틸코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.80 g(69.82 m㏖), 아크릴산 2,2,2-트리플루오로에틸(도쿄가세이 고교샤 제조) 1.20 g(7.76 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.32 g(1.95 m㏖)을, 메탄올 59.68 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/아크릴산 2,2,2-트리플루오로에틸코폴리머(90/10) 9.02 g을 수득했다 (수율: 45.1 %). 중량 평균 분자량은 35000이었다.
실시예 3-19: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/메타크릴산 2,2,3,3-테트라플루오로프로필코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.47 g(68.60 m㏖), 메타크릴산 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(도쿄가세이 고교샤 제조) 1.53 g(7.62 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을 메탄올 59.69 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/메타크릴산 2,2,3,3-테트라플루오로프로필코폴리머(90/10) 16.15 g을 수득했다(수율: 80.8 %). 중량 평균 분자량은 220000이었다.
실시예 3-20: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/아크릴산2-(N,N-디메틸아미노)에틸코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.88 g(70.12 m㏖), 아크릴산 2-(N,N-디메틸아미노)에틸(도쿄가세이고교샤 제조) 1.12 g(7.79 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.32 g(1.95 m㏖)을, 메탄올 59.68 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 용액을 감압 건조하여 60 g의 디메틸포름아미드에 용해시켰다. 수득된 용액을 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 램덤 형상의 MAU/아크릴 산 2-(N,N-디메틸아미노)에틸코폴리머(90/10) 5.22 g을 수득했다(수율: 26.1 %). 중량 평균 분자량은 130000이었다.
실시예 3-21: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/메타크릴산 2-디메틸아미노에틸에스테르코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.78 g(69.74 m㏖), 메타크릴산 2-디메틸아미노에틸에스테르(도쿄가세이고교샤 제조) 1.22 g(7.75 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.32 g(1.95 m㏖)을 메탄올 59.68 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 용액을 감압 건조하여 60 g의 디메틸포름아미드에 용해시켰다. 수득된 용액을 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/메타크릴산 2-디메틸아미노에틸에스테르코폴리머(90/10) 7.78 g을 수득했다(수율: 38.9 %). 중량 평균 분자량은 250000이었다.
실시예 3-22: 12-메타크릴아미드도데칸산(MAD)/N-히드록시에틸아크릴아미드(HEAA)코폴리머(90/10)
12-메타크릴아미드도데칸산(MAD) 19.14 g(67.63 m㏖), N-히드록시에틸아크릴아미드(HEAA: 고진샤 제조) 0.86 g(7.51 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.33 g(1.97 m㏖)을, 메탄올 60.0 g에 용해했다.
아조비스이소부티로니트릴은 정법에 따라, 메탄올로부터 재결정하여 사용했다. 60 분간 아르곤을 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후에 매우 과잉의 디에틸에테르 중에 반응 용액을 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조의 후, MAD/HEAA 코폴리머(90/10) 16.90 g을 수득했다(수율: 84.5 %).
실시예 3-23: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트메틸클로라이드코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.52 g(68.77 m㏖), N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트메틸클로라이드(고진샤 제조) 1.48 g(7.64 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을, 메탄올 59.69 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 수득된 용액을 매우 과잉의 아세톤 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 램덤 형상의 MAU/N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트메틸클로라이드코폴리머(90/10) 9.43 g을 수득했다(수율: 47.2 %). 중량 평균 분자량은 68000이었다.
실시예 3-24: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드메틸클로라이드코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.43 g(68.43 m㏖), N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드메틸클로라이드(고진샤 제조) 1.57 g(7.60 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을, 메탄올 59.69 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 수득된 용액을 매우 과잉 의 아세톤 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드메틸클로라이드코폴리머(90/10) 9.60 g를 수득했다(수율 48.0 %). 중량 평균 분자량은 42000이었다.
실시예 3-25: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 17.96 g(66.67 m㏖), 메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트(부렌마-PME-200: 니폰유시샤 제조) 2.04 g(7.41 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.30 g(1.83 m㏖)을, 메탄올 59.70 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 수득된 용액을 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트코폴리머(90/10) 9.69 g을 수득했다(수율: 48.5 %). 중량 평균 분자량은 110000이었다.
실시예 3-26: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트코폴리머(99/1)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 19.80 g(73.50 m㏖), 메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트(부렌마 PME-200: 니폰유시샤 제조) 0.20 g(0.74 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.30 g(1.83 m㏖)을 메탄올 59.70 g에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 덮어 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 수득된 용액을 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트코폴리머(99/1) 10.28 g을 수득했다(수율: 51.4 %). 중량 평균 분자량은 34000이었다.
실시예 3-27: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/메타크릴옥시기 변성 실리콘 코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 14.16 g(52.57 m㏖), 메타크릴옥시기 변성 실리콘(FM-0711: 칫소샤 제조) 5.84 g(5.84 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.24 g(1.46 m㏖)을 메탄올 30 g, 클로로포름 30 g의 혼합 용액에 용해했다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 하여 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후, 감압 건조하여 테트라히드로푸란 100 g에 용해시켰다. 수득된 용액을 매우 과잉의 n-헥산 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/메타크릴옥시기 변성 실리콘 코폴리머(90/10) 12.15 g을 수득했다(수율: 60.8 %). 중량 평균 분자량은 53000이었다.
실시예 3-28: 11-메타크릴아미드운데칸산(MAU)/2-메타크릴옥시에틸인산 코폴리머(90/10)
11-메타크릴아미드운데칸산(MAU) 18.40 g(68.32 m㏖), 2-메타크릴옥시에틸인산(호스마 M: 유니케미컬샤 제조) 1.60 g (7.59 m㏖), 수산화나트륨 0.30 g(7.59 m㏖), 아조비스이소부티로니트릴(나카라이테스크샤 제조) 0.31 g(1.89 m㏖)을, 메탄올 75 g, 이온 교환수 25 g의 혼합 용매에 용해시켰다. 60 분간 질소를 버블하여 탈기를 실시하고, 셉텀으로 용기에 덮개를 덮어 60 ℃에서 20 시간 가열하여 중합했다. 중합 반응 종료 후 겔상의 생성물을 수득했다. 이를 감압 건조한 후, 건조물 6.0 g을 메탄올 200 g에 가하여 충분히 교반하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 수득된 용액을 매우 과잉의 아세트산 에틸 중에 적하하여 침전물을 흡인 여과하여 회수했다. 감압 건조 후, 랜덤 형상의 MAU/2-메타크릴옥시에틸인산 코폴리머(90/10) 2.01 g을 수득했다. 중량 평균 분자량은 190000이었다.
<실시예 4>
계속해서, 상기 실시예의 각종 표면 처리제에 의해 처리한 분체를 배합한 화장료의 처방예를 나타낸다.
실시예 4-1 분말 고형 파운데이션 질량%
디메틸폴리실록산 5
이소스테아린산 0.5
말산 디이소스테아릴 1
트리2-에틸헥산산 글리세릴 3
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
구형 PMMA 피복 운모 4
미립자 산화아연 1
미립자 산화티탄 3
합성 금운모 1
금속 비누 처리 탈크 잔여
구형 실리카 3
벵갈라 피복 운모 티탄 1
무수 규산 피복 운모 6
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
D-σ-토코페롤 0.1
에틸파라벤 적량
트리메톡시계피산 메틸비스
(트리메틸실록시)실릴이소펜틸 0.1
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 3
구형상 폴리아크릴산 알킬 분말 2
유동 파라핀 함유 폴리아크릴산 알킬 분말 4
실시예 3-13 처리 탈크*1 20
실시예 3-13 처리 세리사이트*2 15
실시예 3-13 처리 산화티탄*1 10
실시예 3-13 처리 황산화철(색제)*1 4.2
실시예 3-13 처리 벵갈라(색제)*1 0.7
실시예 3-13 처리 흑산화철(색제) *1 0.1
*1 분말: 폴리머= 80 : 20 (질량%)
*2 분말: 폴리머= 75 : 25 (질량%)
실시예 4-2 분말 고형 파운데이션 질량%
α-올레핀 올리고머 3
바세린 2
합성 탄화수소 왁스 분말 2
디메틸폴리실록산 3
이소스테아린산 1
트리2-에틸헥산산 글리세릴 3
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
글리세롤 변성 실리콘 수지 피복 탈크 5
실시예 3-18 처리 합성 금운모*3 27
실시예 3-18 처리 산화티탄*4 5
질화붕소 1
실시예 3-18 처리 세리사이트*3 20
실시예 3-18 처리 탈크*3 잔여
실시예 3-18 처리 마이카*4 5
실시예 3-18 처리 황산 바륨*4 1
벵갈라 피복 운모 티탄 0.1
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
D-δ-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
벵갈라 피복 운모 티탄 적량
실시예 3-18 처리 황산화철*3 적량
실시예 3-18 처리 흑산화철*3 적량
나일론말(末) 2
무수규산 2
구형상 폴리아크릴산알킬 분말 6
*3 분말: 폴리머 = 80 : 20 (질량%)
*4 분말: 폴리머 = 75 : 25 (질량%)
실시예 4-3 분말 고형 파운데이션 질량%
합성 탄화 수소 왁스 입자 2
디메틸폴리실록산 6
정제 라놀린 5
트리2-에틸헥산산 글리세릴 2
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 0.5
실시예 3-12 처리 침상(針狀) 미립자 산화티탄*5 5
실시예 3-12 처리 미립자 산화아연*5 1
실시예 3-12 처리 산화철·산화티탄 소결물*6 7
실시예 3-12 처리 황산 바륨*5 8
실시예 3-12 처리 소성 세리사이트*6 잔여
티탄 환원 처리 운모 티탄 펄 안료 2
실시예 3-12 처리 합성 금운모*6 5
실시예 3-12 처리 탈크*6 2
구상 실리카 3
실시예 3-12 처리 마이카*6 15
글리틸레틴산 스테아릴 0.1
디팔미틴산 아스코르빌 0.1
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
D-δ-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
파라옥시 계피산2-에틸헥실 3
실시예 3-12 처리 벵갈라*6 1
실시예 3-12 처리 황산화철*6 1
실시예 3-12 처리 흑산화철*6 1
구상 폴리아크릴산 알킬 3
향료 적량
*5 분말: 폴리머 = 85 : 15(질량%)
*6 분말: 폴리머 = 75 : 25(질량%)
실시예 4-4 분말 고형 파운데이션 질량%
α-올레핀올리고머 10
미세결정질왁스 0.5
세레신 5
디메틸폴리실록산 15
메틸페닐폴리실록산 10
마카데미아너트유 0.1
카르나바 왁스 0.1
트리2-에틸헥산산 글리세릴 7
2-에틸헥산산 세틸 10
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1.5
실시예 3-1 처리 마이카 0.5
스테아린산 알루미늄 1
가교형 실리콘말(末)(트레필 E-506) 8
N-라우로일-L-리신 0.1
D-δ-토코페롤 적량
실시예 3-2 + 베헤닐알콜 처리 벵갈라 적량
실시예 3-2 + 베헤닐알콜 처리 황산화철 적량
아르긴산 칼슘 분말 1
나일론말(末) 잔여
실시예 3-2 + 베헤닐알콜 처리 구형상 무수규산 1
실시예 3-2 + 베헤닐알콜 처리 산화티탄 1
* 분말: 폴리머: 베헤닐알콜 = 75 : 20 : 5(질량%)
실시예 4-5 분말 고형 파운데이션 질량%
미세결정질왁스 5
디메틸폴리실록산 10
데카메틸시클로펜타실록산 30
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 2
디프로필렌글리콜 3
팔미틴산 0.5
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 황산화철*7 3
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 벵갈라*7 1
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 흑산화철*7 적량
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 무수규산*8 2
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 산화티탄*7 15
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리 세리사이트*8 10
실시예 3-9 + 이소스테아린산 처리
산화티탄·벵갈라 피복운모*8 3
가교형 실리콘말(末)(트레필 E-506) 3
N-라우로일-L-리신 0.1
아세트산 토코페롤 0.1
δ-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
메리로트 엑기스 2
정제수 잔여
*7 분말: 폴리머: 이소스테아린산 = 75: 20 : 5(질량%)
*8 분말: 폴리머: 이소스테아린산 = 75: 15 : 10(질량%)
실시예 4-6 분말 고형 파운데이션 질량%
미세결정질 왁스 1
디메틸폴리실록산 15
데카메틸시클로펜타실록산 2
1,3-부틸렌글리콜 6
칸데릴라 왁스 3
이소스테아린산 1
에틸렌글리콜 지방산 에스테르 0.1
라놀린 지방산 옥틸도데실 0.5
2-알킬-N-카르복시메틸-N-
히드록시에틸이미다졸리늄베타인 4
실시예 3-21 처리 안료급 산화티탄 7.5
실시예 3-21 처리 황산 바륨 5
실시예 3-21 처리 미립자 산화티탄 7
실시예 3-21 처리 탈크 3
실시예 3-21 처리 무수 규산 4
가교형 실리콘말(末)(트레필 E-506) 0.1
메타인산 나트륨 0.1
히드록시프로필-β-시클로덱스트린 0.1
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
하마메리스 추출액 0.1
작약 엑기스 0.1
콘드로이친 황산 나트륨 0.1
히알루론산 나트륨 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
실시예 3-21 처리 벵갈라 적량
실시예 3-21 처리 황산화철 적량
실시예 3-21 처리 흑산화철 적량
크산탄검 0.2
카르복시메틸셀룰로스나트륨 0.2
메리로트 엑기스 2
정제수 잔여
*분말: 폴리머 = 75 : 25 (질량%)
실시예 4-7 분말 고형 파운데이션 질량%
세레신 5
디메틸폴리실록산 10
데카메틸시클로펜타실록산 10
도데카메틸시클로헥사실록산 20
카르나바 왁스 0.5
칸데릴라 왁스 0.5
트리 2-에틸헥산산 글리세릴 잔여
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1.5
실시예 3-3 처리 산화티탄 8
실시예 3-3 처리 카올린 10
실시예 3-3 처리 마이카 12
운모 티탄·폴리아크릴산 알킬 복합 분말 1
폴리아크릴산 알킬 피복 운모 티탄 1
실시예 3-3 처리 산화티탄 MT-014TV 5
실시예 3-3 처리 흑산화철 피복운모티탄 0.5
아세트산 토코페롤 0.1
δ-토코페롤 0.1
실시예 3-3 처리 벵갈라 적량
실시예 3-3 처리 황산화철 적량
산화아연 처리 군청 적량
실시예 3-3 처리 흑산화철 적량
향료 적량
* 분말: 폴리머 = 75 : 25 (질량%)
실시예 4-8 분말 고형 파운데이션 질량%
디메틸폴리실록산 15
데카메틸시클로펜타실록산 20
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 5
고분자량 아미노 변성 실리콘 0.1
글리세린 5
1,3-부틸렌글리콜 10
팔미틴산 0.5
마카데미아너트유 지방산 콜레스테릴 0.1
염화디스테아릴디메틸암모늄 0.2
실시예 3-19 처리 황산화철 2
실시예 3-19 처리 벵갈라 1
실시예 3-19 처리 흑산화철 0.3
실시예 3-19 처리 산화티탄 10
실시예 3-19 처리 산화탈크 1.5
실시예 3-19 처리 방추상 산화티탄 3
L-글루타민산 나트륨 0.5
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
트리메톡시계피산 메틸비스
(트리메틸실록시)실릴이소펜틸 0.1
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 1.5
구형상 나일론말(末) 1
정제수 잔여
향료 적량
* 분말: 폴리머 = 75 : 25 (질량%)
실시예 4-9 분말 고형 파운데이션 질량%
디메틸폴리실록산 3
데카메틸시클로펜타실록산 15
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 3
글리세린 3
1,3-부틸렌글리콜 5
팔미틴산 0.5
염화디스테아릴디메틸암모늄 0.2
글리세롤 변성 실리콘 수지 피복 세리사이트 0.5
실시예 3-11 처리 황산화철 피복 운모 티탄*9 0.5
실시예 3-11 처리 산화티탄*9 2
실시예 3-11 처리 산화철·산화티탄 소결물(PK)*10 12
실시예 3-11 처리 탈크*9 10
실시예 3-11 처리 산화티탄 피복 세리사이트*10 0.5
질화붕소 0.5
미립자 산화티탄 0.5
실시예 3-11 처리 벵갈라 피복 운모 티탄*10 0.5
피토스테롤 0.1
L-글루타민산 나트륨 1.5
디팔미틴산 아스코르빌 0.1
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
아세틸화 히알루론산 나트륨 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
페녹시에탄올 적량
벵갈라 피복 운모 티탄 0.5
실시예 3-11 처리 황산화철*9 2
실시예 3-11 처리 흑산화철*9 0.2
구형상 나일론말(末) 1
정제수 잔여
향료 적량
*9 분말: 폴리머 = 80 : 20 (질량%)
*10 분말: 폴리머 = 75 : 25 (질량%)
실시예 4-10 분말 고형 파운데이션 질량%
베헤닐알콜 0.5
디프로필렌글리콜 6
스테아린산 1
모노스테아린산 글리세린 1
수산화칼륨 0.2
트리에탄올아민 0.8
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
실시예 3-4 처리 황산화철 1
α-올레핀 올리고머 3
디메틸폴리실록산(6 mPa·s) 2
디메틸폴리실록산(100 mPa·s) 5
바틸알콜 0.5
이소스테아린산 1
베헤닌산 0.5
2-에틸헥산산 세틸 10
모노스테아린산 폴리옥시에틸렌글리세린 1
실시예 3-4 처리 산화티탄 3
운모 티탄·폴리아크릴산 알킬 복합 분말 0.5
실시예 3-4 처리 미립자 산화티탄 10
폴리아크릴산 알킬 피복 운모티탄 0.5
실시예 3-4 처리 흑산화철 피복 운모티탄 0.5
실시예 3-4 처리 무수 규산 6
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 2
실시예 3-4 처리 벵갈라 적량
실시예 3-4 처리 군청 적량
실시예 3-4 처리 흑산화철 적량
법정 색소 적량
크산탄검 0.1
벤토나이트 1
카르복시메틸셀룰로스나트륨 0.1
정제수 잔여
향료 적량
* 분말: 폴리머 = 85 : 15 (질량%)
실시예 4-11 분말 고형 파운데이션 질량%
도데카메틸시클로헥사실록산 15
데카메틸시클로펜타실록산 잔여
3-트리스(트리메틸실록시)
실릴프로필카르바미드산 풀루란 3
에탄올 10
이소스테아린산 0.5
실시예 3-11 처리 산화아연 0.5
실시예 3-12 처리 산화티탄 10
실시예 3-12 처리 탈크 7
실시예 3-12 처리 미립자 산화티탄 5
가교형 실리콘말(末) 1
구상 무수 규산 2
인산L-아스코르빌 마그네슘 0.2
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
D-δ-토코페롤 0.1
글루타티온 0.1
클라라 엑기스 0.1
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 5
실시예 3-11 처리 벵갈라 적량
실시예 3-11 처리 황산화철 적량
실시예 3-11 처리 흑산화철 적량
향료 적량
* 분말: 폴리머(실시예 3-11) = 85 : 15 (질량%)
분말: 폴리머(실시예 3-12) = 90 : 10 (질량%)
실시예 4-12 분말 고형 파운데이션 질량%
데카메틸시클로펜타실록산 10
도데카메틸시클로헥사실록산 20
트리메틸실록시규산 1
폴리(옥시에틸렌·옥시프로필렌)
메틸폴리실록산 공중합체 3
에탄올 10
이소스테아린산 0.5
실시예 3-16 처리 산화티탄 10
실시예 3-16 처리 미립자 산화아연 5
팔미틴산 덱스트린 피복 탈크 5
실시예 3-16 처리 침상 미립자 산화티탄 1
실시예 3-16 처리 구상 무수 규산 5
무수 규산 피복 마이카 적량
시트르산 나트륨 적량
N-라우로일-L-리신 0.5
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
D-δ-토코페롤 0.1
클라라엑기스 1
실시예 3-16 처리 벵갈라 적량
실시예 3-16 처리 황산화철 적량
실시예 3-16 처리 흑산화철 적량
메리로트 엑기스 2
정제수 잔여
* 분말: 폴리머 = 80 : 20 (질량%)
실시예 4-13 분말 고형 파운데이션 질량%
에틸알콜 2
글리세린 2
1,3-부틸렌글리콜 6
실시예 3-20 처리 산화티탄(30 ㎛) 4
실시예 3-20 처리 산화티탄(초미립자: 20 ㎚) 2
실시예 3-20 처리 산화아연 2
실시예 3-20 처리 판형상 황산 바륨 5
실시예 3-20 처리 탈크 1
실시예 3-20 처리 카올린 2
실시예 3-20 처리 마이카 0.5
실시예 3-20 처리 구상 실리카 0.5
식염 0.3
L-아르기닌 염산염 0.1
백리향 엑기스 0.1
하마메리스 0.1
황벽나무 추출액 0.1
페퍼민트 추출액 BG 0.1
페녹시에탄올 0.5
벵갈라 0.5
황토 1
실시예 3-20 처리 산화철 블랙 0.7
메타규산 알루민산 마그네슘 0.1
이온 교환수 잔여
*분말 : 폴리머= 95 : 5 (질량%)
실시예 4-14 분말 고형 파운데이션 질량%
에탄올 2.0
글리세린 10.0
1,3-부틸렌글리콜 15.0
실리카 피복 산화티탄 8.0
실시예 3-10 처리 합성 금운모 3.0
구형상 무수 규산 5.0
실시예 3-10 처리 벵갈라 피복 운모 티탄(황색성 펄 G) 2.0
염화나트륨 0.3
히드록시프로필-β-시클로덱스트린 0.1
무환자나무 엑기스 0.1
첨차 엑기스 0.1
백합 엑기스 0.1
벵갈라 0.1
겔란검 0.1
다공성 구형상 셀룰로스 0.1
라벤더 엑기스 0.1
정제수 잔여
* 분말 : 폴리머 = 95 : 5 (질량%)
실시예 4-15 POW 유화 수중유형 유액 파운데이션 질량%
(1) 실시예 3-13 처리 산화티탄 9.0
(2) 실시예 3-13 처리 초미립자 산화티탄(40 ㎚) 5.0
(3) 실시예 3-13 처리 산화철(적색) 0.5
(4) 실시예 3-13 처리 산화철(황색) 1.5
(5) 실시예 3-13 처리 산화철(흑색) 0.2
(6) 폴리옥시알킬렌 변성 오르가노폴리실록산 0.5
(7) 데카메틸펜타시클로실록산 5.0
(8) 파라메톡시 계피산 옥틸 5.0
(9) 아크릴 실리콘 4.0
(10) PEG-100 수첨 피마자유 2.0
(11) 다이나마이트 글리세린 6.0
(12) 크산탄검 0.1
(13) 카르복시메틸셀룰로스 0.3
(14) 아크릴로일디메틸타우린나트륨/
아크릴산 히드록시에틸 공중합체(함유량: 35~40 질량%) 1.5
(SIMULGEL NSTM: Seppic사 제조)
(15) 에탄올 3.0
(16) 이온 교환수 잔여
* 분말: 폴리머 = 80 : 20 (질량%)
(제법) (1) 내지 (9)를 호모믹서에서 혼합 분산한 후, (10) 내지 (16)을 용해한 수상에 대해서 호모믹서로 처리하면서 첨가했다.
실시예 4-16 O/W형 마스카라 질량%
미세결정질 왁스 6
메틸폴리실록산에멀전 적량
이소프로판올 3
바틸알콜 1
디프로필렌글리콜 5
이소스테아린산 3
스테아린산 1
N-라우로일-L-글루타민산
디(피토스테아릴·2-옥틸도데실 0.1
모노스테아린산 소르비탄 1
모노스테아린산 폴리옥시에틸렌소르비탄(20EO) 1
자당 지방산 에스테르 15
이소부틸렌·말레인산 나트륨 공중합체액 0.1
운모티탄 1
수산화칼륨 0.5
탄산수소나트륨 0.1
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
디히드로 아세트산 나트륨 적량
페녹시에탄올 적량
실시예 3-13 처리 흑산화철(색제) 10
해조 엑기스 0.1
규산 알루미늄 마그네슘 0.1
폴리아크릴산 알킬 에멀전 5
폴리비닐알콜 0.5
폴리아세트산 비닐 에멀전 7
정제수 잔량
무수 규산 0.5
실시예 3-13 처리산화티탄 0.1
실시예 4-17 O/W형 마스카라 질량%
경질 이소파라핀 6
디메틸폴리실록산 1
데카메틸시클로펜타실록산 5
트리메틸실록시규산 5
메틸폴리실록산에멀전 적량
이소프로판올 3
1,3-부틸렌글리콜 6
폴리옥시에틸렌경화피마자유 1
자당 지방산 에스테르 0.6
디이소스테아린산 디글리세릴 1
탄산수소나트륨 0.01
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
아세틸화히알루론산 나트륨 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
페녹시에탄올 0.3
실시예 3-13 처리 흑산화철 8
벤토나이트 1
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 4
폴리비닐알콜 4
아크릴산 알킬 공중합체 에멀전 12
폴리아세트산 비닐 에멀전 12
나일론 파이버(1-2㎜) 6
정제수 잔량
무수규산 0.5
실시예 3-13 처리 산화티탄 1
향료 적량
실시예 4-18 O/W형 아이라이너 질량%
유동 파라핀 5
메틸폴리실록산에멀전 적량
글리세린 3
1,3-부틸렌글리콜 6
모노라우린산 폴리옥시에틸렌소르비탄(20EO) 2
이소부틸렌·말레인산 나트륨 공중합체액 1
실시예 3-13 처리 산화티탄 적량
판형상 황산 바륨 적량
실시예 3-13 처리 카올린 8
흑산화철 피복운모티탄(펄제) 3
실시예3-13 처리 흑산화철 9
아세트산 DL-α-토코페롤 0.1
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
벤토나이트 1
카르복시메틸셀룰로스나트륨 2
아크릴산 알킬 공중합체 에멀전 7
정제수 잔량
실시예 4-19 펜슬형 아이라이너 질량%
유동 파라핀 잔여
미세결정질 왁스 20
마카데미아너트유 0.1
칸데릴라 왁스 2
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
실시예 3-13 처리 산화티탄 1
실시예 3-13 처리 마이카 5
실시예 3-13 처리 운모 티탄 15
실시예 3-13 처리 합성 금운모 0.1
실시예 3-13 처리 감청 피복 운모티탄 2
실시예 3-13 처리 벵갈라 피복 운모티탄 2
실시예 3-13 처리 마이카 10
아세트산 DL-α-토코페롤 0.02
D-δ-토코페롤 0.02
디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴 0.1
산화아연 처리 군청 2
감청 5
중질 유동 이소파라핀 1
폴리아크릴산 알킬 분말 2
가교형 실리콘말(末) 5
실시예 4-20 고형 아이라이너 질량%
바세린 3
경화유 30
목랍 10
스테아린산 12
트리옥탄산 트리메틸올프로판 5
실시예 3-13 처리 산화티탄 2
실시예 3-13 처리 운모티탄 10
실시예 3-13 처리 벵갈라 2
실시예 3-13 처리 황산화철 0.5
실시예 3-13 처리 감청 5
실시예 3-13 처리 흑산화철 1
실시예 3-13 처리 마이카 잔여
실시예 4-21 펜슬형 아이 브로우 질량%
경화유 10
마카데미아너트유 0.1
대두유 0.1
목랍 10
베헤닌산 잔여
말산 디이소스테아릴 1
트리2-에틸헥산산 글리세릴 2
자당 지방산 에스테르 5
실시예 3-13 처리 산화티탄 4
실시예 3-13 처리 마이카 2
δ-토코페롤 0.05
실시예 3-13 처리 벵갈라 8
실시예 3-13 처리 황산화철 13
실시예 3-13 처리 흑산화철 14
흡착정제 라놀린 5
구상 나일론말(末) 3
실시예 4-22 펜슬형 아이브로우 질량%
데카메틸시클로펜타실록산 10
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 0.5
메틸페닐폴리실록산 적량
베헤닐알콜 14
마카데미아너트유 0.1
카르나바 왁스 2
칸데릴라 왁스 13
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 0.5
실시예 3-13 처리 산화티탄 1
실시예 3-13 처리 벵갈라 피복운모티탄 0.1
실시예 3-13 처리 세리사이트 잔여
무수규산 0.5
마이카 6
δ-토코페롤 0.05
실시예 3-13 처리 벵갈라 2
실시예 3-13 처리 황산화철 3
실시예 3-13 처리 흑산화철 8
트리메틸실록시 규산 8
폴리에틸렌 왁스 2
실시예 4-23 펜슬형 립라이너 질량%
경화유 20
마카데미아너트유 2
목랍 6
베헤닌산 10
트리2-에틸헥산산 글리세릴 잔여
자당 지방산 에스테르 5
실시예 3-13 처리 산화티탄 10
실시예 3-13 처리 마이카 10
D-δ-토코페롤 0.04
실시예 3-13 처리 벵갈라 13
실시예 3-13 처리 황산화철 5
실시예 3-13 처리 흑산화철 2
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
실시예 4-24 펜슬형 립라이너 질량%
폴리에틸렌 왁스 8
세레신 4
마카데미아너트유 0.1
액상 라놀린 0.1
카르나바 왁스 1
칸데릴라 왁스 10
히드록시스테아린산 피토스테릴 0.1
트리이소스테아린산 글리세릴 15
말산 디이소스테아릴 0.1
디이소스테아린산 글리세릴 잔여
트리옥탄산 트리메틸올프로판 5
트리2-에틸헥산산 글리세릴 13
실시예 3-13 처리 황산화철 5
실시예 3-13 처리 벵갈라 7
실시예 3-13 처리 흑산화철 0.5
실시예 3-13 처리 산화티탄 0.1
황산 바륨 1.5
무수규산 0.5
아세트산 토코페롤 0.02
δ-토코페롤 0.02
4-tert-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄 0.1
디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴 0.1
색소 1
중질 유동 이소파라핀 15
실시예 4-25 스틱형 립스틱 질량%
세레신 6
데카메틸시클로펜타실록산 잔여
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체(MW=6000) 5
비수 분산액 30
(아크릴산 알킬·메타크릴산 트리스(트리메틸실록시)실릴프로필을 데카메
틸시클로펜타실록산 중에 분산시킨 것)
디메틸실록산·디페닐실록산·메틸
(퍼플루오로알킬)실록산 20
메틸페닐폴리실록산 5
스테아록시메틸폴리실록산 2
칸데릴라 왁스 4
실릴화 처리 무수규산 1
실시예 3-13 처리 실리콘 피복안료(벵갈라, 산화티탄 등) 7
실시예 3-13 처리 벵갈라 피복 운모 티탄 5
실시예 3-13 처리 마이카 1
염료 적량
무수 규산 2
실시예 3-13 처리 산화 티탄 3
폴리(옥시에틸렌·옥시프로필렌)
·메틸폴리실록산 공중합체(MW=50000) 2
향료 적량
실시예 4-26 유화형 립스틱 질량%
미세결정질 왁스 3
세레신 2
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 0.5
메틸페닐폴리실록산 잔여
글리세린 0.5
크실리톨 0.1
액상 라놀린 2
스쿠알란 1
트리이소스테아린산 글리세릴 1
마카데미아너트유 지방산 콜레스테릴 2
트리2-에틸헥산산 글리세릴 15
트리(수소 첨가 로진·이소스테아린산)글리세릴 10
실시예 3-13 처리 실리콘 수지 피복 산화티탄 1
실시예 3-13 처리 카르민 피복 운모 티탄 2
실시예 3-13 처리 운모 티탄 5
염료 적량
시트르산 0.1
수산화칼륨 0.05
히드록시프로필-β-시클로덱스트린 0.3
판토테닐에틸에테르 0.05
염산 아르기닌 0.01
아세트산 DL-α-토코페롤 0.05
히알루론산 나트륨 0.05
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 5
구형상 셀룰로스말(末) 2
중질 유동 이소파라핀 20
정제수 0.5
향료 적량
실시예 4-27 중간 접시형 립스틱 질량%
고형 파라핀 11
카르나바 왁스 2
트리-2-에틸헥산산 글리세릴 잔량
세스퀴올레인산 소르비탄 1
실시예 3-13 처리 산화티탄 5
실시예 3-13 처리 운모티탄 12
실시예 3-13 처리 마이카 17
실시예 3-13 처리 군청 5
실시예 3-13 처리 흑산화철 1
실시예 4-28 액상 칩형 립스틱 질량%
유동 파라핀 잔량
세레신 5
중질 유동 이소파라핀 30
메틸페닐폴리실록산 5
액상 라놀린 3
말산 디이소스테아릴 15
폴리에틸렌테레프탈레이트·폴리메틸메타크릴레이트 적층 필름말(末) 3
실시예 3-13 처리 실리콘 피복 안료 3
(벵갈라, 산화철, 산화티탄 등)
실시예 3-13 처리 벵갈라 피복 운모 티탄 2
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 0.5
1,3-부틸렌글리콜 3
수소첨가 레시틴 0.1
염화칼슘 0.1
히알루론산 나트륨 0.02
파라벤 적량
라포나이트 1.5
정제수 1
실시예 4-29 분말 고형 아이섀도우 질량%
유동 파라핀 0.5
바세린 1
메틸페닐폴리실록산 2
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
실시예 3-13 처리 산화티탄 0.1
실시예 3-13 처리 마이카 10
실시예 3-13 처리 합성 금운모 2
실시예 3-13 처리 세리사이트 30
실시예 3-13 처리 탈크 잔여
미리스틴산 아연 2
D-δ-토코페롤 0.02
파라옥시 안식향산 에스테르 적량
실시예 3-13 처리 황산화철 2
실시예 3-13 처리 흑산화철 20
색소 적량
말산 디이소스테아릴 3
실시예 4-30 유성 스틱형 아이섀도우 질량%
파라핀 11
카르나바 왁스 1.5
트리2-에틸헥산산 글리세릴 잔여
세스퀴올레인산 소르비탄 2
실시예 3-13 처리 산화티탄 3
실시예 3-13 처리 운모티탄 15
실시예 3-13 처리 마이카 20
실시예 3-13 처리 군청 2
실시예 3-13 처리 흑산화철 5
향료 적량
실시예 4-31 유성 중간 접시형(中皿型) 아이섀도우 질량%
α-올레핀올리고머 2
미세결정질 왁스 1.5
세레신 6
디메틸폴리실록산 5
메틸페닐폴리실록산 5
카르나바 왁스 2
트리2-에틸헥산산 글리세릴 20
2-에틸헥산산 세틸 잔여
세스퀴이소스테아린산 소르비탄 1
실시예 3-13 처리 산화티탄 3
실시예 3-13 처리 질화붕소 5
실시예 3-13 처리 운모티탄 10
실시예 3-13 처리 세리사이트 8
가교형 실리콘말(末) 5
아세트산 DL-α-토코페롤 0.02
D-δ-토코페롤 0.02
실시예 3-13 처리 벵갈라 0.1
실시예 3-13 처리 황산화철 0.2
폴리아크릴산 알킬 분말 15
향료 적량
12-히드록시스테아린산 3
실시예 4-32 W/O형 자외선 차단제 질량%
데카메틸시클로펜타실록산 20
트리메틸실록시규산 1
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 2
디프로필렌글리콜 4
스쿠알란 5
실시예 3-13 처리 실리콘 피복 미립자 산화티탄(20 ㎚) 10
실시예 3-13 처리 탈크(소수화 처리품) 6
파라벤 적량
페녹시에탄올 적량
에데트산 삼나트륨 0.02
4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄 0.1
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 7
디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴 0.5
구상 폴리에틸렌 분말 5
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 1
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-33 W/O형 자외선 차단제 질량%
디메틸폴리실록산 5
데카메틸시클로펜타실록산 20
트리메틸실록시규산 3
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 3
디프로필렌글리콜 3
2-에틸헥산산 세틸 1
실시예 3-13 처리 실리콘 피복 미립자 산화아연(60 ㎚) 10
실시예 3-13 처리 탈크 1
실시예 3-13 처리 실리콘 피복 미립자 산화티탄(40 ㎚) 7
파라벤 적량
페녹시에탄올 적량
에데트산 삼나트륨 0.2
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 1
폴리메틸메타크릴산 공중합체 구상 분말 3
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-34 W/O형 자외선 차단제 질량%
데카메틸시클로펜타실록산 20
에탄올 5
이소스테아릴알콜 2
디프로필렌글리콜 3
이소스테아린산 2
트리2-에틸헥산산 글리세릴 5
2-에틸헥산산 세틸 2
실시예 3-13 처리 덱스트린 지방산 에스테르
피복미립자산화티탄(40 ㎚) 2
염화나트륨 2
에데트산 삼나트륨 적량
유비날 T-150(BASF샤 제조) 1
4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄 1
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 7.5
카르복시메틸셀룰로스 Na 0.5
에틸셀룰로스 1
구형상 아크릴 수지 분말 5
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-35 O/W형 자외선 차단제 질량%
디메틸폴리실록산 5
데카메틸시클로펜타실록산 25
트리메틸실록시규산 5
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 2
디프로필렌글리콜 5
실시예 3-13 처리 미립자 산화아연(소수화 처리품 60 ㎚) 15
파라벤 적량
페녹시에탄올 적량
에데트산 삼나트륨 적량
파라메톡시계피산2-에틸헥실 7.5
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 0.5
구형상 폴리아크릴산 알킬 분말 5
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-36 O/W형 자외선 차단제 질량%
디프로필렌글리콜 5
스테아린산 1
팔미틴산 1
트리2-에틸헥산산 글리세릴 3
2-에틸헥산산 세틸 2
이소스테아린산 폴리옥시에틸렌글리세릴 1
모노스테아린산 글리세린 1
모노스테아린산 폴리옥시에틸렌글리세린 1
실시예 3-13 처리 미립자 산화티탄(30 ㎚) 2
헥사메타린산 나트륨 0.1
페녹시에탄올 적량
에데트산 삼나트륨 적량
4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄 1
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 7
벤토나이트 1
에이코센·비닐피롤리돈 공중합체 2
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-37 W/O형 자외선 차단제 질량%
디메틸폴리실록산 5
데카메틸시클로펜타실록산 25
트리메틸실록시규산 5
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 2
디프로필렌글리콜 5
실시예 3-13 처리 팔미틴산 덱스트린
피복 미립자 산화아연(60 ㎚) 15
글리틸리틴산 디칼륨 0.02
글루타티온 1
티오타우린 0.05
클라라 엑기스 1
파라벤 적량
페녹시에탄올 적량
에데트산삼나트륨 적량
파라메톡시계피산2-에틸헥실 7.5
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 0.5
구상 폴리아크릴산 알킬 분말 5
부틸에틸프로판디올 0.5
정제수 잔여
향료 적량
실시예 4-38 W/O형 프로텍터(protector) 질량%
디메틸폴리실록산 2
데카메틸시클로펜타실록산 25
도데카메틸시클로헥사실록산 10
폴리옥시에틸렌·메틸폴리실록산 공중합체 1.5
트리메틸실록시규산 1
1,3-부틸렌글리콜 5
스쿠알란 0.5
탈크 5
글리틸리틴산 디칼륨 0.1
아세트산 토코페롤 0.1
에데트산 삼나트륨 0.05
4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄 1
파라메톡시 계피산 2-에틸헥실 5
디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴 1
실시예 3-13 처리 실리콘 피복 미립자 산화티탄(40 ㎚) 4
디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 0.5
구상 폴리에틸렌말(末) 3
페녹시에탄올 적량
정제수 잔여
향료 적량

Claims (7)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 모노머(A)를 구성 모노머 전량 중 70 몰% 이상 함유하는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 화장료 분체용 표면 처리제:
    (화학식 1)
    Figure 112012108331777-pct00012
    (상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R2는 탄소수 4 내지 탄소수 22의 알킬렌기, X1는 -NH-기 또는 산소 원자, M1은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온을 나타낸다).
  2. 제 1 항에 있어서,
    또한, 하기 화학식 2 내지 화학식 7 중 어느 하나로 표시되는 모노머(B)를 구성 모노머로서 함유하는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 화장료 분체용 표면 처리제:
    (화학식 2)
    (상기 화학식 2에서, R3은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R4는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, X2는 -NH-기 또는 산소 원자, M2은 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온을 나타낸다)
    (화학식 3)
    Figure 112012108331777-pct00014
    (상기 화학식 3에서, R5는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R6는 탄소수 1 내지 탄소수 10의 알킬기, 불화알킬기, 아미노알킬기, 또는 히드록시알킬기, X3는 -NH-기 또는 산소 원자를 나타낸다)
    (화학식 4)
    Figure 112012108331777-pct00015
    (상기 화학식 4에서, R7은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R8은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, R9은 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X4는 -NH-기 또는 산소 원자, Y-는 1가의 유기 또는 무기 음이온을 나타낸다)
    (화학식 5)
    Figure 112012108331777-pct00016
    (상기 화학식 5에서, R10은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R11은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, R12는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X5는 -NH-기 또는 산소 원자, l은 1 내지 100의 정수를 나타낸다)
    (화학식 6)
    Figure 112012108331777-pct00017
    (상기 화학식 6에서, R13은 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R14는 동일하거나 상이할 수 있는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, R15는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬기, X6는 -NH-기 또는 산소 원자, m은 1 내지 100의 정수를 나타낸다)
    (화학식 7)
    Figure 112012108331777-pct00018
    (상기 화학식 7에서, R16는 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 3의 알킬기, R17은 탄소수 1 내지 탄소수 4의 알킬렌기, X7은 -NH-기 또는 산소 원자, M3는 수소 또는 1가의 무기 또는 유기 양이온, n은 1 내지 100의 정수를 나타낸다).
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 모노머(A)와 상기 모노머(B)의 비율이 몰비로 (A) : (B) = 70 : 30 내지 99.9 : 0.1 인 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 화장료 분체용 표면 처리제.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 화장료 분체용 표면 처리제가 분체 표면 상에 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 화장료용 표면 처리 분체.
  5. 제 4 항에 있어서,
    분체에 대한 표면 처리제의 피복량이 질량비로 폴리머 : 분체 = 3 : 97 내지 40 : 60 인 것을 특징으로 하는 화장료용 표면 처리 분체.
  6. 제 4 항에 기재된 화장료용 표면 처리 분체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
  7. 삭제
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220109226A (ko) 2021-01-28 2022-08-04 주식회사 엘지생활건강 내수성 및 세안성을 갖는 유중수형 메이크업 화장료 조성물

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2933865B1 (fr) * 2008-07-21 2013-02-22 Oreal Composition cosmetique coloree de longue tenue
FI20086189A0 (fi) 2008-12-12 2008-12-12 Joensuun Yliopisto Menetelmä ja laitteisto kohteen kuvaamiseksi
DE102009014877A1 (de) * 2009-03-25 2009-09-24 Clariant International Ltd. Polymere auf Basis von Acryl-, Methacryl- oder Ethacrylamidoalkylsulfonsäure oder -salzen und Carboxyalkylacrylat, -methacrylat oder -ethacrylat oder Oligomeren dieser Carboxy-Verbindungen
WO2012042570A1 (en) * 2010-09-29 2012-04-05 L'oreal A cosmetic method for hiding skin imperfections
RU2568842C2 (ru) * 2010-10-06 2015-11-20 Шисейдо Компани, Лтд. Твердая порошкообразная косметическая композиция
JP5038538B1 (ja) * 2011-03-08 2012-10-03 株式会社 資生堂 油性固形化粧料
TWI530509B (zh) * 2011-03-31 2016-04-21 Shinetsu Chemical Co Cationic (meth) acrylic acid polysiloxane graft copolymer and cosmetics containing the same
WO2013039483A1 (en) * 2011-09-13 2013-03-21 Us Cosmetics Corporation Spf enhanced extended color bulk powders and methods of making thereof
CN102504608A (zh) * 2011-10-20 2012-06-20 张家界恒亮新材料科技有限公司 一种微纳级表面改性重质碳酸钙的制备方法及其产品
WO2014058048A1 (ja) * 2012-10-12 2014-04-17 株式会社 資生堂 温水で落ちる肌用下地化粧料
US20180153792A1 (en) * 2015-05-27 2018-06-07 Conopco, Inc., D/B/A Unilever A Photo-Protective Personal Care Composition
US20180311117A1 (en) * 2015-11-13 2018-11-01 Rohm And Haas Company Formulation comprising encapsulated metal oxide particles
JP6848180B2 (ja) * 2016-02-10 2021-03-24 株式会社リコー 立体造形用材料、立体造形用材料セット、立体造形物の製造方法、及び立体造形物の製造装置
WO2019098134A1 (ja) * 2017-11-17 2019-05-23 株式会社コーセー 固形粉末化粧料
WO2019155584A1 (ja) * 2018-02-08 2019-08-15 株式会社 資生堂 粉末含有組成物、水系溶媒用粉末、及び水系溶媒用粉末の製造方法
JP6809547B2 (ja) * 2019-02-04 2021-01-06 日清紡ホールディングス株式会社 疎水性アルギン酸粒子群及びその製造方法
CN110372961A (zh) * 2019-08-02 2019-10-25 浙江晟棋实业有限公司 一种聚丙烯复合材料及其制备方法
CN114381142A (zh) * 2021-12-21 2022-04-22 上海创元化妆品有限公司 一种烷基硅氧烷和二硬脂基二甲基氯化铵双重处理粉体及其生产工艺

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2874151A (en) * 1955-06-28 1959-02-17 Avrom I Medalia Polymeric emulsifying agents and their derivatives
US4137392A (en) * 1978-01-10 1979-01-30 The Goodyear Tire & Rubber Company Carboxylated vinyl pyrrolidone copolymers
JPS60163973A (ja) 1984-02-07 1985-08-26 Shiseido Co Ltd 疎水性粉体の製造方法
JPH064802B2 (ja) 1986-01-30 1994-01-19 パイロツトインキ株式会社 着色液
GB8917978D0 (en) * 1989-08-05 1989-09-20 Tioxide Group Plc Treated powders
US5376386A (en) * 1990-01-24 1994-12-27 British Technology Group Limited Aerosol carriers
DE4023577A1 (de) * 1990-07-25 1992-01-30 Chemie Linz Deutschland Copolymere von hydroxyehtyl(meth)acrylat und acrylamidocarbonsaeuren
ATE168128T1 (de) * 1992-05-29 1998-07-15 Tioxide Group Services Ltd Verfahren zur herstellung beschichteter anorganischer partikel
US5350801A (en) * 1993-07-07 1994-09-27 Air Products And Chemicals, Inc. Solid state process for modification of polyvinyl alcohol using Michael-type addition
JPH09503532A (ja) * 1993-08-09 1997-04-08 エイベリ デニソン コーポレイション 極性感圧接着剤
US5733644A (en) * 1994-04-15 1998-03-31 Mitsubishi Chemical Corporation Curable composition and method for preparing the same
JP3281490B2 (ja) * 1994-09-30 2002-05-13 日東電工株式会社 粘着剤組成物および該組成物を用いてなる粘着シートもしくはシート
JPH08337514A (ja) 1995-06-13 1996-12-24 Shiseido Co Ltd 処理粉体およびそれを配合した化粧料
JP2907144B2 (ja) * 1995-12-11 1999-06-21 日本電気株式会社 酸誘導体化合物、高分子化合物、それを用いた感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
JP3202592B2 (ja) * 1995-12-28 2001-08-27 株式会社資生堂 メーキャップ化粧料
US5955509A (en) * 1996-05-01 1999-09-21 Board Of Regents, The University Of Texas System pH dependent polymer micelles
JP4136036B2 (ja) * 1997-09-19 2008-08-20 花王株式会社 歯のコーティング剤組成物
JP3912961B2 (ja) * 1999-06-30 2007-05-09 信越化学工業株式会社 新規なシリコーン粉体処理剤及びそれを用いて表面処理された粉体、並びにこの粉体を含有する化粧料
CA2389917A1 (en) * 1999-11-04 2001-05-10 Kazunori Kataoka A polymer micelle as monolayer or layer-laminated surface
US7122288B2 (en) * 2000-03-28 2006-10-17 Fujitsu Limited Negative resist composition, a method for forming a resist pattern thereof, and a method for fabricating a semiconductor device
JP2005326439A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板材料、重合体、位相差板および画像表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220109226A (ko) 2021-01-28 2022-08-04 주식회사 엘지생활건강 내수성 및 세안성을 갖는 유중수형 메이크업 화장료 조성물
KR20230127970A (ko) 2021-01-28 2023-09-01 주식회사 엘지생활건강 내수성 및 세안성을 갖는 유중수형 메이크업 화장료 조성물

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