JP4931184B2 - 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料 - Google Patents

表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料 Download PDF

Info

Publication number
JP4931184B2
JP4931184B2 JP2006029728A JP2006029728A JP4931184B2 JP 4931184 B2 JP4931184 B2 JP 4931184B2 JP 2006029728 A JP2006029728 A JP 2006029728A JP 2006029728 A JP2006029728 A JP 2006029728A JP 4931184 B2 JP4931184 B2 JP 4931184B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
treated
powder
synthesis example
monomer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006029728A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007210903A (ja
Inventor
敦 曽我部
脩二 西浜
友 大澤
勇 金田
真一 遊佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Priority to JP2006029728A priority Critical patent/JP4931184B2/ja
Publication of JP2007210903A publication Critical patent/JP2007210903A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4931184B2 publication Critical patent/JP4931184B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cosmetics (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

本発明は、表面処理剤、表面処理粉体及びこれを配合した化粧料に関する。特に、粉体に優れた分散性を付与する疎水化表面処理剤、該表面処理剤で表面処理した粉体、及び該粉体を配合し、石鹸により容易に洗い流すことが可能な化粧料に関する。
化粧料、特にメーキャップ化粧料においては、人を美しく見せる美的効果は当然のことながら、その効果の持続性、すなわち化粧持ちも極めて重要な性能の一つとして要求される。このため、化粧料基剤の開発にあたって、化粧持ちの向上は重要な課題の一つとなっている。メーキャップ化粧料の分野においては、汗や涙、あるいは唾液等の水分によって化粧崩れが起こることのないように油性の基剤が用いられることが多いが、このような油性基剤中に親水性の粉体を配合した場合には、基剤との分離が生じやすく、また水分によって親水性粉体が流れ出してしまうため、化粧崩れの大きな原因となる。このような問題点から、従来、化粧料中に粉体を配合する場合には、粉体に予め疎水化処理を施した疎水化粉体を配合することが広く行なわれてきた。
化粧料用粉体の疎水化に関しては、多くの方法が知られており、例えば、高級脂肪酸、高級アルコール、炭化水素、トリグリセライド、エステル、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等のシリコーン類、あるいはフッ素化合物等を用いて、親水性粉体の表面を被覆して、粉体に疎水性を付与する方法が行なわれている。中でも、シリコーン類を表面処理剤として用いた粉体の疎水化処理は、特に優れた疎水性を付与することができることから、現在までに多くの方法が確立されている(例えば、特許文献1、2参照)。また、近年では、アクリル酸やアクリル酸エステルのコポリマーを粉体の表面処理剤として用いる方法も知られている(例えば、特許文献3参照)。
一方、化粧料においてはその洗い流し性も重要な性能の一つとして要求される。しかしながら、前述した従来の疎水化処理粉体を配合した場合には、化粧持ちを向上することはできても、その優れた疎水性のため石鹸等を用いたとしても水では容易に洗い流すことができない。このため、油性の洗い落とし用製剤が広く用いられているが、この油性製剤はさらに石鹸等で洗い流す必要があり、使用者に対する負担が大きい。また、洗い流しを容易にする目的で親水性粉体を配合した場合には、前述したように化粧崩れが生じやすく、化粧持ちに劣る結果となる。このため、化粧をしている間にはその効果を長時間持続することができ、一方で化粧を落とす際には容易に洗い流すことができるという両者の性能を同時に満たすことは非常に困難な課題であった。
特開昭60−163973号公報 特開昭62−177070号公報 特開平8−337514号公報
そこで、本発明者らは、pH応答性の疎水性−親水性変化に着目し、特定構造のアクリル系誘導体またはアクリルアミド誘導体を構成モノマーとして含有するポリマーを粉体の表面処理剤として用いたところ、処理粉体の疎水性−親水性がpH変化に対して劇的に変化することが明らかとなった。すなわち、前記表面処理剤により処理した粉体は、一般的な化粧料が用いられる酸性〜中性領域では優れた疎水性を示す一方で、石鹸水等によって適度な塩基性環境とした場合には粉体の表面が親水性へと変化する。そして、この結果、化粧料中に当該処理粉体を配合した場合、化粧持ちに優れているにもかかわらず、石鹸等を用いて水で容易に洗い流すことが可能となる。このように、本発明者らは、前記表面処理剤によって粉体の表面を処理することにより、粉体に優れた疎水性が付与されるとともに、その洗い流し性が著しく改善されることを見出し、既に特許出願を行っている(本願出願時において未公開である特願2005−270007及び特願2005−270008)。
しかしながら、上記特許出願に用いる高分子は、ラジカル重合によって合成された高分子であるために、分子量分布が広く、低分子量のものから高分子量のものまで幅広い分子量を有している。このような高分子量の高分子は、粉末同士をブリッジ(架橋)することによって、粉末を凝集させ、粉末の分散性を損なうというデメリットを有している。したがって、これらの高分子によって粉末の表面処理を行った場合に、粉末の凝集を起こす原因となり、化粧料に配合した場合には、白浮きしたり、透明感を損なうという問題点が見出された。
本発明者らが上述の課題に鑑み鋭意研究を行なった結果、上記の高分子をリビングラジカル重合の一種であるRAFT重合法を用いて重合を行ったところ、分子量分布の揃ったポリマーを得ることができ、また任意のブロック構造を有するポリマーを得ることができた。そして、このポリマーを粉体の表面処理剤として用いたところ、処理粉体の疎水性−親水性がpH変化に対して劇的に変化する機能を損なうことなく、さらに粉体の分散性を向上させることを見出した。すなわち、本発明の表面処理剤により処理した粉体は、一般的な化粧料が用いられる酸性〜中性領域では優れた疎水性を示す一方で、石鹸水等によって適度な塩基性環境とした場合には粉体の表面が親水性へと変化する。そして、この結果、化粧料中に当該処理粉体を配合した場合、化粧持ちに優れているにもかかわらず、石鹸等を用いて水で容易に洗い流すことが可能となる。さらに、粉末の分散性が向上し、塗布時の外観が透明になり、感触がなめらかになるという優れた効果を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有し、該モノマーがRAFT重合によって重合されたポリマーからなり、前記ポリマーの分子量が10万以上のポリマーを含まず、前記ポリマーの重量平均分子量(Mw)が5000〜50000であり、かつ分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜2.00であり、前記モノマー(A)を構成モノマー全量中70モル%以上含有するポリマーからなることを特徴とする化粧料用粉体用表面処理剤を提供するものである。
Figure 0004931184
(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は−NH−基又は酸素原子、M1は水素又は1価の金属原子を表す。)
また、上記表面処理剤において、さらに下記一般式(2)で表されるモノマー(B)を構成モノマーとして含有するポリマーからなり、前記モノマー(A)と前記モノマー(B)との割合がモル比で(A):(B)=70:30〜99.9:0.1であるポリマーからなることを特徴とする請求項1記載の化粧料用粉体用表面処理剤を提供するものである。
Figure 0004931184
(式中、R3は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R4は炭素数1〜4のアルキレン基、X2は−NH−基又は酸素原子、M2は水素又は1価の金属原子を表す。)
また、本発明は、化粧料用粉体を請求項1又は2記載の化粧料用粉体用表面処理剤で処理し、前記化粧料用粉体に対する前記化粧料用粉体用表面処理剤の被覆量が質量比で、化粧料用粉体用表面処理剤:化粧料用粉体=3:97〜40:60であることを特徴とする化粧料用表面処理粉体を提供するものである。
また、本発明は、請求項3記載の化粧料用表面処理粉体を化粧料全量中に5〜95質量%含有することを特徴とする化粧料を提供するものである。
本発明の表面処理剤によって粉体表面を処理することにより、粉体に優れた疎水性が付与されるとともに、その洗い流し性を著しく改善することができる。さらに、粉体の分散性を著しく向上させ、皮膚に塗布したときに透明性が高く、かつ使用感触がなめらかな化粧料を提供できる。
以下、本発明の好適な実施の形態について詳述する。
本発明の表面処理剤は、前記一般式(1)に示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーからなることを特徴とするものである。
一般式(1)に示されるモノマー(A)は、アクリル酸あるいはアルキル置換アクリル酸、又はアクリルアミドあるいはアルキル置換アクリルアミドにおいて脂肪酸が付加された化合物である。一般式(1)において、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基である。R1がアルキル基である場合には直鎖状、分岐状いずれのものでも良い。R1は、水素又はメチル基であることが好ましい。また、一般式(1)において、R2は炭素数4〜22のアルキレン基である。アルキレン基は直鎖状、分岐状いずれのもので良い。R2としては、例えば、炭素数8のオクチレン基、11のウンデシレン基、12のドデシレン基が挙げられ、特にウンデシレン基、ドデシレン基であることが好ましい。また、一般式(1)において、X1は−NH−基又は酸素原子であり、特に−NH−基であることが好ましい。また、一般式(1)において、M1は水素又は1価の金属原子である。1価の金属原子としては、例えばナトリウム、カリウム等が挙げられる。なお、M1に関しては、ポリマー製造後、希塩酸あるいは希水酸化ナトリウム溶液等を適当量用いて、カルボン酸(M1=水素)あるいはナトリウム塩(M1=ナトリウム)の形に可逆的に変換することも可能である。
本発明に用いるモノマー(A)としては、例えば、11−アクリルアミドウンデカン酸、8−アクリルアミドオクタン酸、12−アクリルアミドドデカン酸等が挙げられる。
なお、本発明に用いるポリマーは、前記モノマー(A)の1種又は2種以上を構成モノマーとすることができる。
本発明に用いるポリマーは、前記モノマー(A)を構成モノマー全量中70モル%以上含有していることが好適である。モノマー(A)が70モル%未満であると、疎水性−親水性の調整効果が小さく、粉体に対して所望の性能を付与することができない場合がある。また、モノマー(A)が90モル%以上であることが特に好適である。なお、本発明にかかるポリマーにおいては、前記モノマー(A)が構成モノマーの全量を占めていても構わない。
また、本発明に用いるポリマーは、前記モノマー(A)以外の構成モノマーとして、さらに前記一般式(2)で表されるモノマー(B)を好適に用いることができる。
一般式(2)に示されるモノマー(B)は、アクリル酸あるいはアルキル置換アクリル酸、又はアクリルアミドあるいはアルキル置換アクリルアミドにおいてアルキルスルホン酸が付加された化合物である。一般式(2)において、R3は水素又は炭素数1〜3のアルキル基である。R3がアルキル基である場合には直鎖状、分岐状いずれのものでも良い。R3は、水素又はメチル基であることが好ましい。また、一般式(2)において、R4は炭素数1〜4のアルキレン基である。アルキレン基は直鎖状、分岐状いずれのもので良い。R4としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基が挙げられ、特にエチレン基、プロピレン基であることが好ましい。また、一般式(2)において、X2は−NH−基又は酸素原子であり、特に−NH−基であることが好ましい。また、一般式(2)において、M2は水素又は1価の金属原子である。1価の金属原子としては、例えばナトリウム、カリウム等が挙げられる。なお、M2に関しては、ポリマー製造後、希塩酸あるいは希水酸化ナトリウム溶液等を適当量用いて、スルホン酸(M2=水素)あるいはナトリウム塩(M2=ナトリウム)の形に可逆的に変換することも可能である。
本発明に用いるモノマー(B)としては、例えば、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−メタクリロキシプロパンスルホン酸カリウム等が挙げられる。
なお、本発明に用いるポリマーにおいては、前記モノマー(B)の1種又は2種以上を構成モノマーとすることができる。
本発明に用いるポリマーは、前記モノマー(B)を構成モノマー全量中1〜30モル%含有していることが好適である。モノマー(B)が1モル%未満であると配合による効果が得られず、30モル%を超えると相対的にモノマー(A)の含有量が減少してしまい、粉体に対して所望の性能を付与することができない場合がある。
また、本発明に用いるポリマーは、本発明の効果を損なわない範囲であれば、上記モノマー(A)、(B)以外のモノマーを構成モノマーとして含有することもできる。含有量は、構成モノマー全量の30モル%以下の範囲であればよく、例えば、1〜20モル%程度含有することができる。このようなモノマーとしては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチルアクリルアミド、メチルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、エチルアクリルアミド、エチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、ε―カプロラクタム、ビニルアルコール、無水マレイン酸、N,N’−ジメチルアミノエチルメタクリル酸、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、N,N’−ジメチルアクリルアミド、スチレン等が挙げられる。
本発明のポリマーは、公知のリビングラジカル重合法によって得ることができる。リビングラジカル重合法は、従来のラジカル重合法に触媒や連鎖移動剤などを加えることによって、末端活性ラジカルの反応性を制御して、擬似リビング的に重合を進行させる方法である。通常のラジカル重合に比べて分子量分布を狭くすることができ、また分子量の制御も可能である。金属錯体の添加によるATRP法(特許文献4)、熱解離基を導入するTEMPO法(特許文献5)、可逆的付加開裂連鎖移動剤を添加するRAFT重合法(特許文献6)、光・熱解離基を有するイニファータ法(非特許文献1)などが知られている。
WO96/30421 米国特許第4,581,429 WO98/01479 Chem. Express 5 (10), 801 (1990)
これらのリビングラジカル重合法のうち、イニファータ法は、分子量の制御能がやや劣るためGPCスタンダード用途としては適していない。またTEMPO法は、主にスチレン系の重合に適しているが、アクリル系、アクリルアミド系の重合制御能に優れていないため、本発明に含まれるモノマーの重合に適していない。一方ATRP法は、既に多くのモノマーへの適用が報告されており、分子量制御能も優れているが、銅、鉄、コバルト、ルテニウムなどの錯体を利用するため、モノマーにカルボキシル基やスルホン基を有するようなイオン性モノマーに適用した場合、不溶性の金属錯体塩を形成してしまい、重合が阻害される。触媒量によって重合可能であるが、制御が難しい。一方、RAFT重合法は、汎用のラジカル重合系に特定の連鎖移動剤を加えることにより実施され、最も多様なモノマーの重合に用いることができる。
本発明に用いるポリマーは、RAFT重合法により重合されることが好ましい。RAFT重合法に用いる連鎖移動剤は式(3)の構造である。
(3)
Figure 0004931184
Zは、ベンジル基、メチル基、ベンジルエステル基、メチルエステル基、エチルエステル基などがあげられる。好ましくはベンジル基である。R5は、有機化合物、無機化合物のいずれでもよく特に限定されないが、イオン性モノマーと不溶性塩を結合するものは望ましくない。有機化合物としては、アルキル基、アルキレンオキサイド基が挙げられ、これらがカルボキシル基やアミノ基、水酸基などの官能基を含んでいてもよく、また無機化合物としては、シリコーンなどでもよく、また有機・無機の複合化合物でも良い。またこれらが、直鎖、分岐、環構造をなしていてもよい。
重合の際に用いられる溶媒としては、各種モノマーを溶解又は懸濁し得るものであって、水を含まない有機溶媒であればいかなる溶媒でも用いることが可能であり、例えば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、流動パラフィンなどの炭化水素系溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩化物系溶媒などの他、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒は2種以上混合して用いてもよい。通常、用いる重合開始剤の開始温度よりも沸点が高い溶媒を選択することが好適である。
重合開始剤としては、ラジカル重合を開始する能力を有するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル等のアゾ系化合物の他、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸系重合開始剤が挙げられる。なお、これらの重合開始剤によらずとも、光化学反応や、放射線照射等によっても重合を行うことができる。重合温度は各重合開始剤の重合開始温度以上とする。例えば、過酸化物系重合開始剤では、通常50〜70℃程度とすればよい。
重合時間は特に制限されないが、通常30分〜24時間程度である。分子量は、モノマーと連鎖移動剤の量によって制御され、望みの分子量のポリマーを得ることができる。一般的に高分子量ポリマーは、粉末の凝集を起こすといわれているため、特には分子量が10万以上のポリマーを含まないことが好ましく、分子量10万未満のポリマーからなる表面処理剤が、粉体の分散性を向上させるために有利となる。オリゴマー以上の重合度を有していれば目的とする効果を発揮し得るが、重量平均分子量(Mw)が3000〜50000が好ましく、5000〜20000程度であることがさらに好ましい。平均分子量が大きいと表面処理粉体の分散性が悪化する傾向があるからである。そして、分子量分布(Mw/Mn)が小さいことがさらに好ましい。好ましい分子量分布(Mw/Mn)は、1.01〜2.00である。本発明の最大の特徴は、RAFT重合により、任意の分子量を有するポリマーを製造でき、また、その分子量分布(Mw/Mn)も小さく、単分散性のポリマーからなる表面処理剤という極めて有利な特徴を有している。一般的なラジカル重合では、幅広い分子量分布を有する高分子が得られ、特に高分子量成分は粉末同士を架橋して凝集剤として働くために、望ましくない。また他のリビングラジカル重合については、イニファータ法は分子量制御の面で劣っており、TEMPO法はスチレン系モノマーにしか適用できず、またATRP法は触媒である金属錯体がカルボキシル基と複合塩を形成してしまうために、実質的に(A)のモノマーについて、分子量を制御して重合することができる方法はRAFT法に限られる。
なお、モノマー(A)重合後に、モノマー(B)を添加し重合することによって、ABブロックポリマーを得ることができる。これらは重合する順番を変えてもその性能に影響はない。
また、本発明に用いるポリマーは、重合末端に式(3)で示される連鎖移動剤のジチオエステル基が導入されることが特徴である。ジチオエステル基は、一般的に赤もしくはオレンジ色を呈し、得られる高分子も着色することがある。これらは目視及びUV・可視光の吸収波長測定やNMRから官能基の有無を判断できる。場合によっては、水酸化ナトリウム水溶液などによりアルカリ加水分解し、官能基を消失させ、着色を消失させることも可能である。
本発明の表面処理剤は、以上のようにして得られるポリマーからなることを特徴とするものである。
本発明に用いるポリマーは、ポリマー側鎖に前記モノマー(A)に由来するカルボキシル基を有しており、このカルボキシル基は、酸性〜中性の条件下では疎水性のカルボン酸(−COOH)、塩基性条件下では親水性のカルボキシレートイオン(−COO-M+)に変化する。このため、このポリマーによって粉体の表面を処理した処理粉体は、例えば、酸性〜中性環境において疎水性、塩基性環境において親水性といったように、pH応答性の疎水性−親水性変化を示すようになると考えられる。
そして、このような処理粉体を化粧料中に配合した場合、化粧料が通常用いられる酸性〜中性領域においては疎水性を示すために化粧持ちに優れているにもかかわらず、石鹸等を用いて適度な塩基性環境とした場合には粉体の表面が親水性へと変化するため、水によって容易に洗い流すことが可能となる。
また、前記モノマー(A)に加えて、さらに前記モノマー(B)を構成モノマーとして有するポリマーは、ポリマー側鎖に前記モノマー(B)に由来するスルホン酸基を有しており、このスルホン酸基は、非常に幅広いpH範囲において親水性のスルホネートイオン(−SO3 -+)として存在する。したがって、構成モノマー中の前記モノマー(A)とモノマー(B)のモノマー比率を適宜調整してポリマーを製造することにより、粉体に付与する疎水性−親水性のバランスを好適に調整することが可能となる。例えば、粉体に付与する親水性を高めようとした場合には前記モノマー(B)の割合を増やせばよく、反対に疎水性を高めようとした場合には前記モノマー(A)の割合を増やせばよい。また、前記モノマー(B)を適当量用いることによって、粉体へのポリマーの吸着性を高めることもできる。
本発明の表面処理剤を化粧料用粉体に対して用いる場合には、モノマー(A)とモノマー(B)との割合がモル比で(A):(B)=70:30〜99.9:0.1となるように調整することが好適である。モノマー(A)の割合が70:30より少ないと、処理粉体が親水性に偏ってしまうため、十分な疎水性を付与することができない場合があり、一方でモノマー(A)の割合が99.9:0.1より多いと、粉体の表面にポリマーが吸着しにくくなり、粉体の安定性に悪影響を与える場合がある。
本発明の表面処理剤はどのようなものに対して用いても構わないが、特に化粧料用粉体に対して好適に用いることができる。このような粉体としては、例えば、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タルク、カオリン、雲母、ベントナイト、チタン被覆雲母、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化鉄、群青、紺青、酸化クロム、水酸化クロム、カーボンブラック及びこれらの複合体等の無機粉体、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、上記化合物の単量体の2種以上からなる共重合体、セルロイド、アセチルセルロース、セルロース、多糖類、タンパク質、CIピグメントイエロー、CIピグメントオレンジ、CIピグメントグリーン等の有機粉体が挙げられる。また、粉体の形状についても、例えば、板状、塊状、鱗片状、球状、多孔性球状等、どのような形状のものでも用いることができ、粒径についても特に制限されない。
本発明の表面処理剤は、通常の処理方法により用いればよく、その方法は特に限定されるものではない。例えば、本発明の表面処理剤によって粉体を処理する場合には、表面処理剤をエチルアルコール等の適当な溶媒中に溶解し、この溶液中に粉体を混合、攪拌した後、溶媒を留去する方法、あるいは表面処理剤を高級アルコール等の不揮発性油分に溶解したものを直接混合攪拌する方法が挙げられる。また、本発明にかかる表面処理剤により処理した粉体を化粧料中に配合する場合には、化粧料の製造過程において、表面処理剤を粉体基剤中に直接混合攪拌してもよい。
なお、本発明の表面処理剤により粉体を処理する場合には、粉体のゼータ電位に注意する必要がある。ここで、粉体のゼータ電位とは、固相と液相とが相対運動をする場合に固相に密着して動く層の最外面(すべり面)における電位と溶液内部の電位との差を示すものである。溶液が中性付近の場合、酸化チタンやシリカ等のゼータ電位はマイナスとなり、反対に酸化亜鉛やアルミナ等のゼータ電位はプラスとなる。酸化亜鉛やアルミナ等のゼータ電位がプラスの粉体を処理する場合には、通常の方法で処理すると、pH応答性に重要なカルボン酸部位が粉体表面のプラス電荷により相殺されてしまい、得られた表面処理粉体がpH応答性を示さなくなる場合がある。このような粉体に対してpH応答性を付与するためには、予めシリカやポリスチレンスルホン酸等のマイナス電荷を帯びた無機物あるいは有機物を粉体表面に処理して、粉体表面のゼータ電位をマイナスに転じさせる必要がある。このような処理方法としては、例えば、粉体を水ガラス溶液中に分散させ、酸を滴下して表面上にシリカを析出させる方法、あるいは粉体をポリスチレンスルホン酸水溶液中に分散させた後、水を揮発させる等の方法が挙げられる。
本発明の表面処理剤を粉体に処理する場合、粉体に対するポリマーの被覆量は、質量比で、ポリマー:粉体=3:97〜40:60、より好ましくは5:95〜30:70である。3:97よりポリマーの被覆量が少ないと、粉体に対して所望の性能を付与することができない場合があり、40:60より被覆量が多いと、化粧料として用いた場合の使用感等について悪影響を与える場合がある。
本発明の化粧料は、以上のようにして得られる表面処理粉体を含有することを特徴とするものである。表面処理粉体の配合量は、化粧料全量中3質量%以上であることが好ましく、特に5〜95質量%であることが好ましい。配合量が3質量%未満では本発明の効果が得られない場合がある。
本発明の化粧料においては、上記表面処理粉体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、通常化粧料に用いられる水、油分、粉体(未処理)、界面活性剤、フッ素化合物、樹脂、粘剤、防腐剤、香料、紫外線吸収剤、保湿剤、生理活性成分、塩類、溶媒、酸化防止剤、キレート剤、中和剤、pH調整剤等の成分を配合することができる。
本発明の化粧料の形態は、特に限定されるものではないが、例えば、ファンデーション、白粉、口紅、アイシャドウ、チーク、マスカラ、アイライナー等のメイクアップ化粧料や、サンスクリーン剤、下地クリーム、ヘアクリーム等が挙げられる。
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。最初に、本発明に用いるポリマーの重合方法について説明する。合成例1〜4はいずれもリビングラジカル重合であるRAFT重合により重合したものである。ポリマーの分子量は、GPC(トーソー製HLC8220、カラム:Shodex製 Asahipak GF-7M HQ、測定温度40℃、溶媒0.1M LiClO4)により測定し、スタンダードはPEG使用した。





「合成例1:11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU)ホモポリマー」
Figure 0004931184
11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU、32.0g)、4−シアノペンタン酸ジチオベンゾエート(CTA、240mg)、メタノール20.0gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、少量のメタノールに溶解させたV65(32.0mg)を、加え、セプタムで容器に蓋をして50℃で22時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MAUホモポリマー26.5gを得た(収率:82.8%)。
「合成例2:11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU)/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)ブロックコポリマー(MAU/AMPS=95/5)」
Figure 0004931184
合成例1で合成したMAUホモポリマー(pMAU3.0g)、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS、122mg)水酸化ナトリウム(23.5mg)をメタノール10.0gに溶解させた。30分間アルゴンをバブルして脱気を行なった後、少量のメタノールに溶解させたV65(8.0mg)を加えて、セプタムで容器に蓋をして50℃で22時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MAU/NaAMPSブロックコポリマー(95/5)2.66gを得た(収率:84.6%)。

「合成例3:12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD)ホモポリマー」
Figure 0004931184
12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD、32.0g)、4−シアノペンタン酸ジチオベンゾエート(CTA、240mg)、メタノール20.0gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、少量のメタノールに溶解させたV65(32.0mg)を、加え、セプタムで容器に蓋をして50℃で22時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MADホモポリマー27.3gを得た(収率:85.3%)。
「合成例4:12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD)/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)ブロックコポリマー(MAU/AMPS=95/5)」
Figure 0004931184
合成例3で合成したMADホモポリマー(pMAU6.0g)、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS、232mg)水酸化ナトリウム(44.7mg)をメタノール20.0gに溶解させた。30分間アルゴンをバブルして脱気を行なった後、少量のメタノールに溶解させたV65(16.0mg)を加えて、セプタムで容器に蓋をして50℃で22時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MAD/NaAMPSブロックコポリマー(95/5)4.70gを得た(収率:77.2%)。
以下に本発明の比較例として、一般的なラジカル重合によるポリマーの合成方法について説明する。
「比較合成例1:11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU)ホモポリマー」
Figure 0004931184
11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU、5.244g、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN、7.4mg)を、メタノール30gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、セプタムで容器に蓋をして60℃で12時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収し、MAUホモポリマー2.64gを得た(収率:50.40%)。
「比較合成例2:11−メタクリルアミドウンデカン酸(MAU)/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)コポリマー(MAU/AMPS=95/5)」
Figure 0004931184
11−メタクリルアミドウンデカン酸ナトリウム(MAU、4.98g)、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS、186.5mg)、水酸化ナトリウム(39.6mg)、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN、7.4mg)を、メタノール30gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、セプタムで容器に蓋をして60℃で12時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収し、ランダム状のMAU/NaAMPSコポリマー(95/5)2.78gを得た(収率:53.71%)。



「比較合成例3:12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD)ホモポリマー」
Figure 0004931184
12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD、4.98g)をメタノール30.0gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、少量のメタノールに溶解させたAIBN(7.4mg)を、加え、セプタムで容器に蓋をして60℃で12時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MADホモポリマー4.25gを得た(収率:85.3%)。
「比較合成例4:12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD)/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)ブロックコポリマー(MAU/AMPS=95/5)」
Figure 0004931184
12−メタクリルアミドドデカン酸(MAD、4.73g)、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS、166mg)、水酸化ナトリウム(31.9mg)をメタノール20.0gに溶解した。30分間アルゴンをバブルして脱気を行ない、少量のメタノールに溶解させたAIBN(7.4mg)を、加え、セプタムで容器に蓋をして60℃で12時間加熱して重合した。重合反応終了後に大過剰のエーテル中に反応溶液を滴下して沈殿物を吸引ろ過で回収した。この沈殿物を再びメタノールに溶解、エーテルにて再沈させて精製し、沈殿物を減圧乾燥により回収し、MAD/NaAMPSコポリマー4.05gを得た(収率:82.2%)。
つづいて、本発明の表面処理剤による粉体の表面処理方法について説明する。
「粉体処理例」
メタノール100ml中に、上記合成例および比較合成例により製造したポリマー1.75g、ステアリン酸1.75gを溶解した。この溶液中に酸化チタン21.5gを混合、分散し、エバポレータによりエタノールを揮発させた。得られた塊状物質を粉砕し、表面処理粉体を得た。
得られた処理粉体をpH5及びpH10緩衝液中に、粉体:溶液=1:100の割合で混合分散した。この溶液を遠心分離により粉体を分離し、さらに残存溶液を乾燥により除去した。得られた粉体について、元素分析により表面処理剤の被覆割合を測定したところ、粉体全量中、ポリマーが7質量%、ステアリン酸が7質量%であった。
「実施例1〜4、比較例1〜8」
本発明者らは、上記のポリマーからなる表面処理剤で表面処理を行なった表面処理粉体の特性について検討を行なうため、上記合成例及び上記粉体処理例に準じて各種ポリマーにより表面処理した酸化チタン粉体を製造し、酸性(pH5)及び塩基性(pH10)の各条件における当該処理粉体の水溶性の評価を行った。また、比較例としては、比較合成例のポリマーに加え、従来の疎水化表面処理剤であるシリコーン類、アクリル酸/アクリル酸エステルコポリマーを用いて同様の試験を行なった。評価結果を表1及び図1、2に示す。なお、評価方法は以下の通りである。
「処理粉体の水溶性」
各種表面処理剤により表面処理した酸化チタン粉体0.1gを、pH5及びpH10の各種pH緩衝水溶液30mlとともにバイアル中に入れ、マグネチックスターラーにより1分間混合攪拌した後静値し、溶液の状態を確認した。
○:粉体が水中に均一に分散し、白濁溶液となった。
×:粉体が水と分散せず、水面上に分離した。
Figure 0004931184
※1:Darmacryl-79 (Kanebo-NSC社製)
表1及び図1、2(溶液の写真である)に示すように、合成例1〜4のポリマーにより表面処理された実施例1〜4の表面処理粉体及び比較合成例1〜4のポリマーにより表面処理された比較例1〜4の処理粉体は、pH5の酸性条件下においては水中に全く分散しておらず、粉体が優れた疎水性を示すことがわかった。一方で、pH10の塩基性条件とした場合には、処理粉体が水中に均一に分散しており、粉体が親水性に変化することが明らかとなった。すなわち、本発明のポリマーにより処理した処理粉体を化粧料に配合した場合、一般的な化粧料が用いられる酸性〜中性領域では優れた疎水性を示すため、化粧持ちに優れているにもかかわらず、石鹸等を用いて適度な塩基性環境とした場合には粉体の表面が親水性へと変化するため、水で容易に洗い流すことが可能になると考えられる。
これに対して、従来、化粧料用粉体の疎水化処理剤として用いられているシリコーン類、及びアクリル酸/アクリル酸エステルコポリマーにより表面処理された比較例5〜8の処理粉体は、pH5の酸性条件下、pH10の塩基性条件下ともに、水中に全く分散することができなかった。このことから、従来の表面処理剤により処理した粉体を化粧料に配合した場合には、化粧持ちを向上することはできたとしても、塩基性条件下においても優れた疎水性が保持されているため、石鹸水等で洗い流すことは困難であることがわかる。
次に、実施例1〜4および比較例1〜4で得られた表面処理粉体を用いて、日焼け止め化粧料のサンスクリーン製剤を得た。
O/W型サンスクリーン 配合量(質量%)
(1)実施例1〜4または比較例1〜4の表面処理粉体 17.0
(2)ジメチルポリシロキサン 5.0
(3)デカメチルシクロペンタシロキサン 25.0
(4)トリメチルシロキシケイ酸 5.0
(5)ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 2.0
(6)パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
(7)殺菌剤 0.2
(8)エデト酸三ナトリウム 0.1
(9)ジプロピレングリコール 5.0
(10)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
(11)球状ポリアクリル酸アルキル粉末 5.0
(12)精製水 残余
(13)香料 適量
<製法>(1)、(10)、(11)を加熱溶解した(2)〜(6)に加えて、ホモミキサーにより攪拌混合し、そこへ(12)ヘ溶解させた(7)〜(9)、(13)を添加し、さらにホモミキサーにより攪拌して、O/W型サンスクリーンを得た。
以上のようにして得られたO/W型サンスクリーンは、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能であった。
上記で得られたサンスクリーン製剤において、粉末の分散性を調べる実験を行った。ナイロン膜状に2.5mg/cm2となるように製剤を塗布し、可視光(500nm)の透過率測定により、分散性の評価を行った。分散状態が良好で、凝集などが起こっていない場合は、可視光の透過率は高くなる。また同時に、パネル10人による目視により、サンスクリーン製剤の塗布時の白さについても判定した。



Figure 0004931184
視感判定は、上記サンスクリーンを塗布したときに、10人中何名が透明であると感じたかの人数を示す。
表2に示すように、本発明の表面処理剤により表面処理された粉末を配合したサンスクリーンの実施例5〜8および比較例9〜12の可視光の透過率は、いずれも実施例が優れており、また視感判定からも透明性が高いことがわかる。このことから、比較例に比べて、粉末の分散性に優れた効果が発揮されていることが認められた。
以下に本発明の化粧料の実施例を示す。
実施例9 表面処理粉体
エタノール1000mL中に、上記合成例2に準じて製造したMAU/AMPSコポリマー(MAU/AMPS=95/5)34.5g、ステアリン酸34.5gを溶解した。この溶液中にタルク85g、セリサイト50.8g、酸化チタン10g、ナイロン粉末6g、黒酸化鉄0.4g、黄酸化鉄5.8g、ベンガラ2gを混合、分散し、エバポレータによりエタノールを揮発させる。得られた塊状物質を粉砕し、実施例9の表面処理粉体を得る。
実施例10 パウダー型ファンデーション 配合量(質量%)
(1)実施例9の表面処理粉体 86.6
(2)流動パラフィン 4.0
(3)ミリスチン酸オクチルドデシル 3.0
(4)イソステアリン酸ソルビタン 3.0
(5)オクチルドデカノール 3.0
(6)防腐剤 0.1
(7)殺菌剤 0.1
(8)酸化防止剤 0.1
(9)香料 0.1
(製法) (1)、(7)〜(9)を加熱溶解した(2)〜(6)に加えて、ヘンシェルミキサーにて混合し、パウダー型ファンデーションを得る。
以上のようにして得られるパウダー型ファンデーションは、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
実施例11 2層タイプW/Oサンスクリーン 配合量(質量%)
(1)タルク 10.0
(2)実施例1の表面処理酸化チタン 10.0
(3)オクタン酸イソセチル 5.0
(4)デカメチルシクロペンタシロキサン 26.8
(5)ジメチルポリシロキサン 10.0
(6)POE変性ジメチルポリシロキサン 2.0
(7)イオン交換水 28.0
(8)1,3−ブチレングリコール 8.0
(9)防腐剤 0.1
(10)香料 0.1
(製法) (3)〜(6)を70℃で加熱混合し、油相とした。別に(7)中に(8)、(9)を溶解させ、これを水相とする。油相中に(1)、(2)の粉末を加え、ホモミキサーで分散する。この中に先の水相を添加し、ホモミキサーで乳化する。さらに(10)を混合して容器に充填する。
以上のようにして得られる2層タイプW/Oサンスクリーンは、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
実施例12 W/O型ファンデーション 配合量(質量%)
(1)実施例2の表面処理酸化チタン 20.32
(2)流動パラフィン 5.0
(3)デカメチルシクロペンタシロキサン 29.0
(4)POE変性ジメチルポリシロキサン 4.5
(5)イオン交換水 36.0
(6)1,3−ブチレングリコール 5.0
(7)防腐剤 0.1
(8)香料 0.08
(製法) (2)〜(4)を70〜80℃で加熱溶解した(これを油相とした)。また、(5)に(6)および(7)を溶解する(これを水相とする)。(1)に先の油相を加え、ホモミキサーで混合した。(8)を加え混合した後、水相を加え乳化し、容器に充填する。
以上のようにして得られるW/O型ファンデーションは、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
実施例13 口紅 配合量(質量%)
(1)実施例3の表面処理酸化チタン 10.0
(2)赤色201号 0.6
(3)赤色202号 1.0
(4)赤色223号 0.2
(5)キャンデリラロウ 9.0
(6)固形パラフィン 8.0
(7)ミツロウ 5.0
(8)カルナバロウ 5.0
(9)ラノリン 11.0
(10)ヒマシ油 23.2
(11)2−エチルヘキサン酸セチル 17.0
(12)イソプロピルミリスチン酸エステル 10.0
(13)酸化防止剤 適 量
(14)香料 適 量
(製法) (1)〜(3)を(10)の一部と混合し、ローラー処理する(これを顔料部とする)。(4)を(10)の一部に溶解する(これを染料部とする)。(5)〜(13)を混合し、加熱溶解した後、顔料部、染料部を加えホモミキサーで均一に分散する。これを型に流し込み急冷し、スティック状とする。
以上のようにして得られる口紅は、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
実施例14 油性スチックファンデーション 配合量(質量%)
(粉末部)
(1)実施例4の表面処理酸化チタン 50.0
(油相部)
(2)固形パラフィン 3.0
(3)マイクロクリスタリンワックス 7.0
(4)ワセリン 15.0
(5)ジメチルポリシロキサン 3.0
(6)スクワラン 5.0
(7)パルミチン酸イソプロピル 17.0
(8)酸化防止剤 適 量
(9)香料 適 量
(製法) (2)〜(8)を85℃で溶解し、これに十分混合された粉末部を攪拌しながら添加する。次にコロイドミルで磨砕分散する。(9)を加え、脱気後70℃で容器に流し込み冷却して化粧料を得る。
以上のようにして得られるスチックファンデーションは、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
以下に本発明の化粧料の処方例を挙げる。いずれも、化粧持ちに優れており、さらに石鹸を用いて容易に水で洗い流すことが可能である。
実施例15 粉末固形ファンデーション 質量%
ジメチルポリシロキサン 5
イソステアリン酸 0.5
リンゴ酸ジイソステアリル 1
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 3
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
球状PMMA被覆雲母 4
微粒子酸化亜鉛 1
微粒子酸化チタン 3
合成金雲母 1
金属石鹸処理タルク 残 余
球状シリカ 3
ベンガラ被覆雲母チタン 1
無水ケイ酸被覆雲母 6
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
D−σ−トコフェロール 0.1
エチルパラベン 適 量
トリメトキシ桂皮酸メチルビス 0.1
(トリメチルシロキシ)シリルイソペンチル
パラメトキシ桂皮酸2−エチルへキシル 3
球状ポリアクリル酸アルキル粉末 2
流動パラフィン含有ポリアクリル酸アルキル粉末 4
合成例1のポリマー処理タルク*1 20
合成例1のポリマー処理セリサイト*2 15
合成例1のポリマー処理酸化チタン*1 10
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄(色剤)*1 4.2
合成例1のポリマー処理ベンガラ(色剤)*1 0.7
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄(色剤)*1 0.1
*1 粉末:ポリマー=80:20(質量%)
*2 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例16 粉末固形ファンデーション 質量%
α−オレフィンオリゴマー 3
ワセリン 2
合成炭化水素ワックス粉末 2
ジメチルポリシロキサン 3
イソステアリン酸 1
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 3
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
グリセロール変性シリコン樹脂被覆タルク 5
合成例1のポリマー処理合成金雲母*3 27
合成例1のポリマー処理酸化チタン*4 5
窒化ホウ素 1
合成例1のポリマー処理セリサイト*3 20
合成例1のポリマー処理タルク*3 残 余
合成例1のポリマー処理マイカ*4 5
合成例1のポリマー処理硫酸バリウム*4 1
ベンガラ被覆雲母チタン 0.1
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
D−δ−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
ベンガラ被覆雲母チタン 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄*3 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄*3 適 量
ナイロン末 2
無水ケイ酸 2
球状ポリアクリル酸アルキル粉末 6
*3 粉末:ポリマー=80:20(質量%)
*4 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例17 粉末固形ファンデーション 質量%
合成炭化水素ワックス粒子 2
ジメチルポリシロキサン 6
精製ラノリン 5
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 2
セスキイソステアリン酸ソルビタン 0.5
合成例1のポリマー処理針状微粒子酸化チタン*5 5
合成例1のポリマー処理微粒子酸化亜鉛*5 1
合成例1のポリマー処理酸化鉄・酸化チタン焼結物*6 7
合成例1のポリマー処理硫酸バリウム*5 8
合成例1のポリマー処理焼成セリサイト*6 残 余
チタン還元処理雲母チタンパール顔料 2
合成例1のポリマー処理合成金雲母*6 5
合成例1のポリマー処理タルク*6 2
球状シリカ 3
合成例1のポリマー処理マイカ*6 15
グリチルレチン酸ステアリル 0.1
ジパルミチン酸アスコルビル 0.1
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
D−δ−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
パラメトキシ桂皮酸2−エチルへキシル 3
合成例1のポリマー処理ベンガラ*6 1
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄*6 1
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄*6 1
球状ポリアクリル酸アルキル 3
香料 適 量
*5 粉末:ポリマー=85:15(質量%)
*6 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例18 粉末固形ファンデーション 質量%
α−オレフィンオリゴマー 10
マイクロクリスタリンワックス 0.5
セレシン 5
ジメチルポリシロキサン 15
メチルフェニルポリシロキサン 10
マカデミアナッツ油 0.1
カルナウバロウ 0.1
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 7
2−エチルヘキサン酸セチル 10
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1.5
合成例1のポリマー処理マイカ 0.5
ステアリン酸アルミニウム 1
架橋型シリコーン末(トレフィルE−506) 8
N−ラウロイル−L−リジン 0.1
D−δ−トコフェロール 適 量
合成例1のポリマー+ベヘニルアルコール処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー+ベヘニルアルコール処理黄酸化鉄 適 量
アルギン酸カルシウム粉末 1
ナイロン末 残 余
合成例1のポリマー+ベヘニルアルコール処理球状無水ケイ酸 1
合成例1のポリマー+ベヘニルアルコール処理酸化チタン 1
* 粉末:ポリマー:ベヘニルアルコール=75:20:5(質量%)
実施例19 粉末固形ファンデーション 質量%
マイクロクリスタリンワックス 5
ジメチルポリシロキサン 10
デカメチルシクロペンタシロキサン 30
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 2
ジプロピレングリコール 3
パルミチン酸 0.5
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理黄酸化鉄*7 3
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理ベンガラ*7 1
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理黒酸化鉄*7 適 量
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理無水ケイ酸*8 2
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理酸化チタン*7 15
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理セリサイト*8 10
合成例1のポリマー+イソステアリン酸処理 3
酸化チタン・ベンガラ被覆雲母*8
架橋型シリコーン末(トレフィルE−506) 3
N−ラウロイル−L−リジン 0.1
酢酸トコフェロール 0.1
δ−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
メリロートエキス 2
精製水 残 余
*7 粉末:ポリマー:イソステアリン酸=75:20:5(質量%)
*8 粉末:ポリマー:イソステアリン酸=75:15:10(質量%)
実施例20 粉末固形ファンデーション 質量%
マイクロクリスタリンワックス 1
ジメチルポリシロキサン 15
デカメチルシクロペンタシロキサン 2
1,3−ブチレングリコール 6
キャンデリラロウ 3
イソステアリン酸 1
エチレングリコール脂肪酸エステル 0.1
ラノリン脂肪酸オクチルドデシル 0.5
2−アルキル−N−カルボキシメチル−N− 4
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
合成例1のポリマー処理顔料級酸化チタン 7.5
合成例1のポリマー処理硫酸バリウム 5
合成例1のポリマー処理微粒子酸化チタン 7
合成例1のポリマー処理タルク 3
合成例1のポリマー処理無水ケイ酸 4
架橋型シリコーン末(トレフィルE−506) 0.1
メタリン酸ナトリウム 0.1
ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン 0.1
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
ハマメリス抽出液 0.1
シャクヤクエキス 0.1
コンドロイチン硫酸ナトリウム 0.1
ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
合成例1のポリマー処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 適 量
キサンタンガム 0.2
カルボキシメチルセルロースナトリウム 0.2
メリロートエキス 2
精製水 残 余
* 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例21 粉末固形ファンデーション 質量%
セレシン 5
ジメチルポリシロキサン 10
デカメチルシクロペンタシロキサン 10
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 20
カルナウバロウ 0.5
キャンデリラロウ 0.5
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 残 余
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1.5
合成例1のポリマー処理酸化チタン 8
合成例1のポリマー処理カオリン 10
合成例1のポリマー処理マイカ 12
雲母チタン・ポリアクリル酸アルキル複合粉末 1
ポリアクリル酸アルキル被覆雲母チタン 1
合成例1のポリマー処理酸化チタンMT−014TV 5
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄被覆雲母チタン 0.5
酢酸トコフェロール 0.1
δ−トコフェロール 0.1
合成例1のポリマー処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 適 量
酸化亜鉛処理群青 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 適 量
香料 適 量
* 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例22 粉末固形ファンデーション 質量%
ジメチルポリシロキサン 15
デカメチルシクロペンタシロキサン 20
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 5
高分子量アミノ変性シリコーン 0.1
グリセリン 5
1,3−ブチレングリコール 10
パルミチン酸 0.5
マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル 0.1
塩化ジステアリルジメチルアンモニウム 0.2
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 2
合成例1のポリマー処理ベンガラ 1
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 0.3
合成例1のポリマー処理酸化チタン 10
合成例1のポリマー処理酸化タルク 1.5
合成例1のポリマー処理紡錘状酸化チタン 3
L−グルタミン酸ナトリウム 0.5
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
トリメトキシケイヒ酸メチルビス 0.1
(トリメチルシロキシ)シリルイソペンチル
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 1.5
球状ナイロン末 1
精製水 残 余
香料 適 量
* 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例23 粉末固形ファンデーション 質量%
ジメチルポリシロキサン 3
デカメチルシクロペンタシロキサン 15
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 3
グリセリン 3
1,3−ブチレングリコール 5
パルミチン酸 0.5
塩化ジステアリルジメチルアンモニウム 0.2
グリセロール変性シリコーン樹脂被覆セリサイト 0.5
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄被覆雲母チタン*9 0.5
合成例1のポリマー処理酸化チタン*9 2
合成例1のポリマー処理酸化鉄・酸化チタン焼結物(PK)*10 12
合成例1のポリマー処理タルク*9 10
合成例1のポリマー処理酸化チタン被覆セリサイト*10 0.5
窒化ホウ素 0.5
微粒子酸化チタン 0.5
合成例1のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン*10 0.5
フィトステロール 0.1
L−グルタミン酸ナトリウム 1.5
ジパルミチン酸アスコルビル 0.1
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
アセチル化ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
フェノキシエタノール 適 量
ベンガラ被覆雲母チタン 0.5
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄*9 2
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄*9 0.2
球状ナイロン末 1
精製水 残 余
香料 適 量
*9 粉末:ポリマー=80:20(質量%)
*10 粉末:ポリマー=75:25(質量%)
実施例24 粉末固形ファンデーション 質量%
ベヘニルアルコール 0.5
ジプロピレングリコール 6
ステアリン酸 1
モノステアリン酸グリセリン 1
水酸化カリウム 0.2
トリエタノールアミン 0.8
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 1
α−オレフィンオリゴマー 3
ジメチルポリシロキサン(6mPa・s) 2
ジメチルポリシロキサン(100mPa.s) 5
バチルアルコール 0.5
イソステアリン酸 1
ベヘニン酸 0.5
2−エチルヘキサン酸セチル 10
モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン 1
合成例1のポリマー処理酸化チタン 3
雲母チタン・ポリアクリル酸アルキル複合粉末 0.5
合成例1のポリマー処理微粒子酸化チタン 10
ポリアクリ酸アルキル被覆雲母チタン 0.5
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄被覆雲母チタン 0.5
合成例1のポリマー処理無水ケイ酸 6
パラメトキシケイ皮酸2−エチルへキシル 2
合成例1のポリマー処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー処理群青 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 適 量
法定色素 適 量
キサンタンガム 0.1
ベントナイト 1
カルボキシメチルセルロースナトリウム 0.1
精製水 残 余
香料 適 量
* 粉末:ポリマー=85:15(質量%)
実施例25 粉末固形ファンデーション 質量%
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 15
デカメチルシクロペンタシロキサン 残 余
3−トリス(トリメチルシロキシ) 3
シリルプロピルカルバミド酸プルラン
エタノール 10
イソステアリン酸 0.5
合成例1のポリマー処理酸化亜鉛 0.5
合成例1のポリマー処理酸化チタン 10
合成例1のポリマー処理タルク 7
合成例1のポリマー処理微粒子酸化チタン 5
架橋型シリコーン末 1
球状無水ケイ酸 2
リン酸L−アスコルビルマグネシウム 0.2
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
D−δ−トコフェロール 0.1
グルタチオン 0.1
クララエキス 0.1
パラメトキシ桂皮酸2−エチルへキシル 5
合成例1のポリマー処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 適 量
香料 適 量
* 粉末:合成例1のポリマー=85:15(質量%)
粉末:合成例1のポリマー=90:10(質量%)
実施例26 粉末固形ファンデーション 質量%
デカメチルシクロペンタシロキサン 10
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 20
トリメチルシロキシケイ酸 1
ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン) 3
メチルポリシロキサン共重合体
エタノール 10
イソステアリン酸 0.5
合成例1のポリマー処理酸化チタン 10
合成例1のポリマー処理微粒子酸化亜鉛 5
パルミチン酸デキストリン被覆タルク 5
合成例1のポリマー処理針状微粒子酸化チタン 1
合成例1のポリマー処理球状無水ケイ酸 5
無水ケイ酸被覆マイカ 適 量
クエン酸ナトリウム 適 量
N−ラウロイル−L−リジン 0.5
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
D−δ−トコフェロール 0.1
クララエキス 1
合成例1のポリマー処理ベンガラ 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 適 量
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 適 量
メリロートエキス 2
精製水 残 余
* 粉末:ポリマー=80:20(質量%)
実施例27 粉末固形ファンデーション 質量%
エチルアルコール 2
グリセリン 2
1,3−ブチレングリコール 6
合成例1のポリマー処理酸化チタン(30μm) 4
合成例1のポリマー処理酸化チタン(超微粒子:20nm) 2
合成例1のポリマー処理酸化亜鉛 2
合成例1のポリマー処理板状硫酸バリウム 5
合成例1のポリマー処理タルク 1
合成例1のポリマー処理カオリン 2
合成例1のポリマー処理マイカ 0.5
合成例1のポリマー処理球状シリカ 0.5
食塩 0.3
L−アルギニン塩酸塩 0.1
イブキジャコウエキス 0.1
ハマメリス 0.1
オウバク抽出液 0.1
ペパーミント抽出液BG 0.1
フェノキシエタノール 0.5
ベンガラ 0.5
オークル 1
合成例1のポリマー処理酸化鉄ブラック 0.7
メタケイ酸アルミン酸マグネシウム 0.1
イオン交換水 残 余
* 粉末:ポリマー=95:5(質量%)
実施例28 粉末固形ファンデーション 質量%
エタノール 2.0
グリセリン 10.0
1,3−ブチレングリコール 15.0
シリカ被覆酸化チタン 8.0
合成例1のポリマー処理合成金雲母 3.0
球状無水ケイ酸 5.0
合成例1のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン(演色性パールG) 2.0
塩化ナトリウム 0.3
ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン 0.1
ムクロジエキス 0.1
甜茶エキス 0.1
ユリエキス 0.1
ベンガラ 0.1
ジェランガム 0.1
多孔性球状セルロース 0.1
ラベンダーエキス 0.1
精製水 残 余
* 粉末:ポリマー=95:5(質量%)
実施例29 POW乳化水中油型乳液ファンデーション 質量%
(1) 合成例3のポリマー処理酸化チタン 9.0
(2) 合成例3のポリマー処理超微粒子酸化チタン(40nm) 5.0
(3) 合成例3のポリマー処理酸化鉄(赤) 0.5
(4) 合成例3のポリマー処理酸化鉄(黄) 1.5
(5) 合成例3のポリマー処理酸化鉄(黒) 0.2
(6) ポリオキシアルキレン変性オルガノポリシロキサン 0.5
(7) デカメチルペンタシクロシロキサン 5.0
(8) パラメトキシ桂皮酸オクチル 5.0
(9) アクリルシリコーン 4.0
(10)PEG−100水添ヒマシ油 2.0
(11)ダイナマイトグリセリン 6.0
(12)キサンタンガム 0.1
(13)カルボキシメチルセルロース 0.3
(14)アクリロイルジメチルタウリンナトリウム/ 1.5
アクリル酸ヒドロキシエチル共重合体(含有量:35〜40質量%)
(SIMULGEL NSTM:Seppic社製)
(15)エタノール 3.0
(16)イオン交換水 残 余
* 粉末:ポリマー=80:20(質量%)
(製法) (1)〜(9)をホモミキサーで混合分散した後、(10)〜(16)を溶解した水相に対して、ホモミキサーをかけながら添加する。
実施例30 O/W型マスカラ 質量%
マイクロクリスタリンワックス 6
メチルポリシロキサンエマルション 適 量
イソプロパノール 3
バチルアルコール 1
ジプロピレングリコール 5
イソステアリン酸 3
ステアリン酸 1
N−ラウロイルーL−グルタミン酸 0.1
ジ(フィトステアリル・2−オクチルドデシル)
モノステアリン酸ソルビタン 1
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20EO) 1
ショ糖脂肪酸エステル 15
イソブチレン・マレイン酸ナトリウム共重合体液 0.1
雲母チタン 1
水酸化カリウム 0.5
炭酸水素ナトリウム 0.1
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
デヒドロ酢酸ナトリウム 適 量
フェノキシエタノール 適 量
合成例3のポリマー処理黒酸化鉄(色剤) 10
海藻エキス 0.1
ケイ酸アルミニウムマグネシウム 0.1
ポリアクリル酸アルキルエマルション 5
ポリビニルアルコール 0.5
ポリ酢酸ビニルエマルション 7
精製水 残 量
無水ケイ酸 0.5
合成例3のポリマー処理酸化チタン 0.1
実施例31 O/W型マスカラ 質量%
軽質イソパラフィン 6
ジメチルポリシロキサン 1
デカメチルシクロペンタシロキサン 5
トリメチルシロキシケイ酸 5
メチルポリシロキサンエマルション 適 量
イソプロパノール 3
1,3−ブチレングリコール 6
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 1
ショ糖脂肪酸エステル 0.6
ジイソステアリン酸ジグリセリル 1
炭酸水素ナトリウム 0.01
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
アセチル化ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
フェノキシエタノール 0.3
合成例3のポリマー処理黒酸化鉄 8
ベントナイト 1
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 4
ポリビニルアルコール 4
アクリル酸アルキル共重合体エマルション 12
ポリ酢酸ビニルエマルション 12
ナイロンファイバー(1−2mm) 6
精製水 残 量
無水ケイ酸 0.5
合成例3のポリマー処理酸化チタン 1
香料 適 量
実施例32 O/W型アイライナー 質量%
流動パラフィン 5
メチルポリシロキサンエマルション 適 量
グリセリン 3
1,3−ブチレングリコール 6
モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20EO) 2
イソブチレン・マレイン酸ナトリウム共重合体液 1
合成例3のポリマー処理酸化チタン 適 量
板状硫酸バリウム 適 量
合成例3のポリマー処理カオリン 8
黒酸化鉄被覆雲母チタン(パール剤) 3
合成例3のポリマー処理黒酸化鉄 9
酢酸DL−α−トコフェロール 0.1
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
ベントナイト 1
カルボキシメチルセルロースナトリウム 2
アクリル酸アルキル共重合体エマルション 7
精製水 残 量
実施例33 ペンシル型アイライナー 質量%
流動パラフィン 残 余
マイクロクリスタリンワックス 20
マカデミアナッツ油 0.1
キャンデリラロウ 2
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
合成例2のポリマー処理酸化チタン 1
合成例2のポリマー処理マイカ 5
合成例2のポリマー処理雲母チタン 15
合成例2のポリマー処理合成金雲母 0.1
合成例2のポリマー処理紺青被覆雲母チタン 2
合成例2のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン 2
合成例2のポリマー処理マイカ 10
酢酸DL−α−トコフェロール 0.02
D−δ−トコフェロール 0.02
ジパラメトキシ桂皮酸モノ−2−エチルヘキサン酸グリセリル 0.1
酸化亜鉛処理群青 2
紺青 5
重質流動イソパラフィン 1
ポリアクリル酸アルキル粉末 2
架橋型シリコーン末 5
実施例34 固型アイライナー 質量%
ワセリン 3
硬化油 30
モクロウ 10
ステアリン酸 12
トリオクタン酸トリメチロールプロパン 5
合成例2のポリマー処理酸化チタン 2
合成例2のポリマー処理雲母チタン 10
合成例2のポリマー処理ベンガラ 2
合成例2のポリマー処理黄酸化鉄 0.5
合成例2のポリマー処理紺青 5
合成例2のポリマー処理黒酸化鉄 1
合成例2のポリマー処理マイカ 残 余
実施例35 ペンシル型アイブロー 質量%
硬化油 10
マカデミアナッツ油 0.1
大豆油 0.1
モクロウ 10
ベヘニン酸 残 余
リンゴ酸ジイソステアリル 1
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 2
ショ糖脂肪酸エステル 5
合成例2のポリマー処理酸化チタン 4
合成例2のポリマー処理マイカ 2
δ−トコフェロール 0.05
合成例2のポリマー処理ベンガラ 8
合成例2のポリマー処理黄酸化鉄 13
合成例2のポリマー処理黒酸化鉄 14
吸着精製ラノリン 5
球状ナイロン末 3
実施例36 ペンシル型アイブロー 質量%
デカメチルシクロペンタシロキサン 10
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 0.5
メチルフェニルポリシロキサン 適 量
ベヘニルアルコール 14
マカデミアナッツ油 0.1
カルナウバロウ 2
キャンデリラロウ 13
セスキイソステアリン酸ソルビタン 0.5
合成例1のポリマー処理酸化チタン 1
合成例1のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン 0.1
合成例1のポリマー処理セリサイト 残 余
無水ケイ酸 0.5
マイカ 6
δ−トコフェロール 0.05
合成例1のポリマー処理ベンガラ 2
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 3
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 8
トリメチルシロキシケイ酸 8
ポリエチレンワックス 2
実施例37 ペンシル型リップライナー 質量%
硬化油 20
マカデミアナッツ油 2
モクロウ 6
ベヘニン酸 10
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 残 余
ショ糖脂肪酸エステル 5
合成例1のポリマー処理酸化チタン 10
合成例1のポリマー処理マイカ 10
D−δ−トコフェロール 0.04
合成例1のポリマー処理ベンガラ 13
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 5
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 2
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
実施例38 ペンシル型リップライナー 質量%
ポリエチレンワックス 8
セレシン 4
マカデミアナッツ油 0.1
液状ラノリン 0.1
カルナウバロウ 1
キャンデリラロウ 10
ヒドロキシステアリン酸フィトステリル 0.1
トリイソステアリン酸グリセリル 15
リンゴ酸ジイソステアリル 0.1
ジイソステアリン酸グリセリル 残 余
トリオクタン酸トリメチロールプロパン 5
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 13
合成例3のポリマー処理黄酸化鉄 5
合成例3のポリマー処理ベンガラ 7
合成例3のポリマー処理黒酸化鉄 0.5
合成例3のポリマー処理酸化チタン 0.1
硫酸バリウム 1.5
無水ケイ酸 0.5
酢酸トコフェロール 0.02
δ−トコフェロール 0.02
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 0.1
ジパラメトキシケイヒ酸モノ−2−エチルヘキサン酸グリセリル 0.1
色素 1
重質流動イソパラフィン 15
実施例39 スティック型口紅 質量%
セレシン 6
デカメチルシクロペンタシロキサン 残 余
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 5
(MW=6000)
非水ディスパージョン 30
(アクリル酸アルキル・メタクリル酸トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルを
デカメチルシクロペンタシロキサン中に分散させたもの)
ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチル 20
(パーフルオロアルキル)シロキサン
メチルフェニルポリシロキサン 5
ステアロキシメチルポリシロキサン 2
キャンデリラロウ 4
シリル化処理無水ケイ酸 1
合成例4のポリマー処理シリコ−ン被覆顔料 7
(ベンガラ、酸化チタン等)
合成例4のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン 5
合成例4のポリマー処理マイカ 1
染料 適 量
無水ケイ酸 2
合成例4のポリマー処理酸化チタン 3
ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン) 2
・メチルポリシロキサン共重合体(MW=50000)
香料 適 量
実施例40 乳化型口紅 質量%
マイクロクリスタリンワックス 3
セレシン 2
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 0.5
メチルフェニルポリシロキサン 残 余
グリセリン 0.5
キシリット 0.1
液状ラノリン 2
スクワラン 1
トリイソステアリン酸グリセリル 1
マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル 2
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 15
トリ(水素添加ロジン・イソステアリン酸)グリセリル 10
合成例2のポリマー処理シリコン樹脂被覆酸化チタン 1
合成例2のポリマー処理カルミン被覆雲母チタン 2
合成例2のポリマー処理雲母チタン 5
染料 適 量
クエン酸 0.1
水酸化カリウム 0.05
ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン 0.3
パントテニルエチルエーテル 0.05
塩酸アルギニン 0.01
酢酸DL−α−トコフェロール 0.05
ヒアルロン酸ナトリウム 0.05
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 5
球状セルロース末 2
重質流動イソパラフィン 20
精製水 0.5
香料 適 量
実施例41 中皿型口紅 質量%
固形パラフィン 11
カルナバロウ 2
トリ−2−エチルヘキサン酸グリセリル 残 量
セスキオレイン酸ソルビタン 1
合成例3のポリマー処理酸化チタン 5
合成例3のポリマー処理雲母チタン 12
合成例3のポリマー処理マイカ 17
合成例3のポリマー処理群青 5
合成例3のポリマー処理黒酸化鉄 1
実施例42 液状チップ型口紅 質量%
流動パラフィン 残 量
セレシン 5
重質流動イソパラフィン 30
メチルフェニルポリシロキサン 5
液状ラノリン 3
リンゴ酸ジイソステアリル 15
ポリエチレンテレフタレート 3
・ポリメチルメタクリレート積層フィルム末
合成例4のポリマー処理シリコーン被覆顔料 3
(ベンガラ、酸化鉄、酸化チタン等)
合成例4のポリマー処理ベンガラ被覆雲母チタン 2
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 0.5
1,3−ブチレングリコール 3
水素添加レシチン 0.1
塩化カルシウム 0.1
ヒアルロン酸ナトリウム 0.02
パラベン 適 量
ラポナイト 1.5
精製水 1
実施例43 粉末固型アイシャドー 質量%
流動パラフィン 0.5
ワセリン 1
メチルフェニルポリシロキサン 2
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
合成例1のポリマー処理酸化チタン 0.1
合成例1のポリマー処理マイカ 10
合成例1のポリマー処理合成金雲母 2
合成例1のポリマー処理セリサイト 30
合成例1のポリマー処理タルク 残 余
ミリスチン酸亜鉛 2
D−δ−トコフェロール 0.02
パラオキシ安息香酸エステル 適 量
合成例1のポリマー処理黄酸化鉄 2
合成例1のポリマー処理黒酸化鉄 20
色素 適 量
リンゴ酸ジイソステアリル 3
実施例44 油性スティック型アイシャドー 質量%
パラフィン 11
カルナウバロウ 1.5
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 残 余
セスキオレイン酸ソルビタン 2
合成例2のポリマー処理酸化チタン 3
合成例2のポリマー処理雲母チタン 15
合成例2のポリマー処理マイカ 20
合成例2のポリマー処理群青 2
合成例2のポリマー処理黒酸化鉄 5
香料 適 量
実施例45 油性中皿型アイシャドー 質量%
α−オレフィンオリゴマー 2
マイクロクリスタリンワックス 1.5
セレシン 6
ジメチルポリシロキサン 5
メチルフェニルポリシロキサン 5
カルナウバロウ 2
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 20
2−エチルヘキサン酸セチル 残 余
セスキイソステアリン酸ソルビタン 1
合成例3のポリマー処理酸化チタン 3
合成例3のポリマー処理窒化ホウ素 5
合成例3のポリマー処理雲母チタン 10
合成例3のポリマー処理セリサイト 8
架橋型シリコーン末 5
酢酸DL−α−トコフェロール 0.02
D−δ−トコフェロール 0.02
合成例3のポリマー処理ベンガラ 0.1
合成例3のポリマー処理黄酸化鉄 0.2
ポリアクリル酸アルキル粉末 15
香料 適 量
12−ヒドロキシステアリン酸 3
実施例46 W/O型サンスクリーン 質量%
デカメチルシクロペンタシロキサン 20
トリメチルシロキシケイ酸 1
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 2
ジプロピレングリコール 4
スクワラン 5
合成例1のポリマー処理シリコーン 10
被覆微粒子酸化チタン(20nm)
合成例1のポリマー処理タルク(疎水化処理品) 6
パラベン 適 量
フェノキシエタノール 適 量
エデト酸三ナトリウム 0.02
4−t−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 0.1
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7
ジパラメトキシ桂皮酸モノ−2−エチルヘキサン酸グリセリル 0.5
球状ポリエチレン粉末 5
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 1
精製水 残 余
香料 適 量
実施例47 W/O型サンスクリーン 質量%
ジメチルポリシロキサン 5
デカメチルシクロペンタシロキサン 20
トリメチルシロキシケイ酸 3
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 3
ジプロピレングリコール 3
2−エチルヘキサン酸セチル 1
合成例4のポリマー処理シリコーン被覆微粒子酸化亜鉛(60nm) 10
合成例4のポリマー処理タルク 1
合成例4のポリマー処理シリコーン被覆微粒子酸化チタン(40nm) 7
パラベン 適 量
フェノキシエタノール 適 量
エデト酸3ナトリウム 0.2
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 1
ポリメチルメタクリル酸共重合体球状粉末 3
精製水 残 余
香料 適 量
実施例48 W/O型サンスクリーン 質量%
デカメチルシクロペンタシロキサン 20
エタノール 5
イソステアリルアルコール 2
ジプロピレングリコール 3
イソステアリン酸 2
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 5
2−エチルヘキサン酸セチル 2
合成例4のポリマー処理デキストリン脂肪酸エステル 2
被覆微粒子酸化チタン(40nm)
塩化ナトリウム 2
エデト酸3ナトリウム 適 量
ユビナールT−150(BASF社製) 1
4−t−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 1
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
カルボキシメチルセルロースNa 0.5
エチルセルロ−ス 1
球状アクリル樹脂粉末 5
精製水 残 余
香料 適 量
実施例49 O/W型サンスクリーン 質量%
ジメチルポリシロキサン 5
デカメチルシクロペンタシロキサン 25
トリメチルシロキシケイ酸 5
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 2
ジプロピレングリコール 5
合成例1のポリマー処理微粒子酸化亜鉛(疎水化処理品60nm) 15
パラベン 適 量
フェノキシエタノール 適 量
エデト酸三ナトリウム 適 量
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
球状ポリアクリル酸アルキル粉末 5
精製水 残 余
香料 適 量
実施例50 O/W型サンスクリーン 質量%
ジプロピレングリコール 5
ステアリン酸 1
パルミチン酸 1
トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 3
2−エチルヘキサン酸セチル 2
イソステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル 1
モノステアリン酸グリセリン 1
モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン 1
合成例2のポリマー処理微粒子酸化チタン(30nm) 2
ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.1
フェノキシエタノール 適 量
エデト酸三ナトリウム 適 量
4−t−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 1
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7
ベントナイト 1
エイコセン・ビニルピロリドン共重合体 2
精製水 残 余
香料 適 量
実施例51 W/O型サンスクリーン 質量%
ジメチルポリシロキサン 5
デカメチルシクロペンタシロキサン 25
トリメチルシロキシケイ酸 5
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 2
ジプロピレングリコール 5
合成例2のポリマー処理パルミチン酸デキストリン 15
被覆微粒子酸化亜鉛(60nm)
グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
グルタチオン 1
チオタウリン 0.05
クララエキス 1
パラベン 適 量
フェノキシエタノール 適 量
エデト酸三ナトリウム 適 量
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
球状ポリアクリル酸アルキル粉末 5
ブチルエチルプロパンジオール 0.5
精製水 残 余
香料 適 量
実施例52 W/O型プロテクター 質量%
ジメチルポリシロキサン 2
デカメチルシクロペンタシロキサン 25
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 10
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1.5
トリメチルシロキシケイ酸 1
1,3−ブチレングリコール 5
スクワラン 0.5
タルク 5
グリチルリチン酸ジカリウム 0.1
酢酸トコフェロール 0.1
エデト酸三ナトリウム 0.05
4−t−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン 1
パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 5
ジパラメトキシ桂皮酸モノ−2−エチルヘキサン酸グリセリル 1
合成例3のポリマー処理シリコーン被覆微粒子酸化チタン(40nm) 4
ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
球状ポリエチレン末 3
フェノキシエタノール 適 量
精製水 残 余
香料 適 量
本発明の表面処理剤は、処理粉体の疎水性−親水性がpH変化に対して劇的に変化する機能を損なうことなく、粉体の分散性を向上させることが可能である。すなわち、本発明の表面処理剤により処理した粉体は、一般的な化粧料が用いられる酸性〜中性領域では優れた疎水性を示す一方で、石鹸水等によって適度な塩基性環境とした場合には粉体の表面が親水性へと変化する。そして、この結果、化粧料中に当該処理粉体を配合した場合、化粧持ちに優れているにもかかわらず、石鹸等を用いて水で容易に洗い流すことが可能となる。さらに、粉末の分散性が著しく向上し、塗布時の外観が透明になり、感触がなめらかになるという優れた効果を有している。
各種表面処理剤により処理した表面処理粉体のpH5緩衝溶液の写真図である。 各種表面処理剤により処理した表面処理粉体のpH10緩衝溶液の写真図である。 本発明にかかる各種表面処理剤により処理した表面処理粉体を配合したサンスクリーンの透過率曲線の図である。

Claims (4)

  1. 下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有し、該モノマーがRAFT重合によって重合されたポリマーからなり、前記ポリマーの分子量が10万以上のポリマーを含まず、前記ポリマーの重量平均分子量(Mw)が5000〜50000であり、かつ分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜2.00であり、前記モノマー(A)を構成モノマー全量中70モル%以上含有するポリマーからなることを特徴とする化粧料用粉体用表面処理剤。
    Figure 0004931184
    (式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は−NH−基又は酸素原子、M1は水素又は1価の金属原子を表す。)
  2. さらに下記一般式(2)で表されるモノマー(B)を構成モノマーとして含有するポリマーからなり、前記モノマー(A)と前記モノマー(B)との割合がモル比で(A):(B)=70:30〜99.9:0.1であるポリマーからなることを特徴とする請求項1記載の化粧料用粉体用表面処理剤。
    Figure 0004931184
    (式中、R 3 は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R 4 は炭素数1〜4のアルキレン基、X 2 は−NH−基又は酸素原子、M 2 は水素又は1価の金属原子を表す。)
  3. 化粧料用粉体を請求項1又は2記載の化粧料用粉体用表面処理剤で処理し、前記化粧料用粉体に対する前記化粧料用粉体用表面処理剤の被覆量が質量比で、化粧料用粉体用表面処理剤:化粧料用粉体=3:97〜40:60であることを特徴とする化粧料用表面処理粉体。
  4. 請求項3記載の化粧料用表面処理粉体を化粧料全量中に5〜95質量%含有することを特徴とする化粧料。
JP2006029728A 2006-02-07 2006-02-07 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料 Active JP4931184B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006029728A JP4931184B2 (ja) 2006-02-07 2006-02-07 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006029728A JP4931184B2 (ja) 2006-02-07 2006-02-07 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007210903A JP2007210903A (ja) 2007-08-23
JP4931184B2 true JP4931184B2 (ja) 2012-05-16

Family

ID=38489663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006029728A Active JP4931184B2 (ja) 2006-02-07 2006-02-07 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4931184B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4978946B2 (ja) * 2006-02-08 2012-07-18 株式会社 資生堂 Gpcスタンダード用イオン性ポリマー
JP5016891B2 (ja) * 2006-10-12 2012-09-05 ポーラ化成工業株式会社 粉体化粧料
JP5432656B2 (ja) * 2009-09-30 2014-03-05 紀伊産業株式会社 固形粉末化粧料及びその製造方法
JP6199040B2 (ja) 2012-04-26 2017-09-20 株式会社リコー Aba型トリブロックコポリマー、増粘剤及び水性組成物
JP6873617B2 (ja) * 2015-07-01 2021-05-19 三菱鉛筆株式会社 固形棒状化粧料
CN111093602A (zh) * 2017-11-17 2020-05-01 株式会社高丝 固态粉末化妆品

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2794513B2 (ja) * 1992-05-26 1998-09-10 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH08337514A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Shiseido Co Ltd 処理粉体およびそれを配合した化粧料
JP4136036B2 (ja) * 1997-09-19 2008-08-20 花王株式会社 歯のコーティング剤組成物
JP4067906B2 (ja) * 2001-07-31 2008-03-26 株式会社カネカ ビニルスルフィド基含有重合体、および硬化性組成物
JP2003082192A (ja) * 2001-09-17 2003-03-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 硬化性組成物
JP3920127B2 (ja) * 2002-03-29 2007-05-30 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP4681406B2 (ja) * 2004-10-07 2011-05-11 株式会社資生堂 粉体用表面処理剤

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007210903A (ja) 2007-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5192640B2 (ja) 表面処理粉体及びこれを含有する化粧料
AU2005290511B2 (en) Surface-treating agent, surface-treated powder, and cosmetic preparation containing same
JP4865388B2 (ja) 表面処理酸化亜鉛粉体及びこれを含有する化粧料
JP5095799B2 (ja) 水中油型皮膚外用剤
JP4805713B2 (ja) 化粧料用表面処理粉体及びこれを含有する化粧料
KR102649137B1 (ko) 실록산 골격을 갖는 흡수성 수지 및 이를 포함하는 화장료
JP4931184B2 (ja) 表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料
KR20070121033A (ko) 표면 피복 분체 및 그것을 함유하는 화장료
WO2006051746A1 (ja) 有機溶媒膨潤性ミクロゲル及びその製造方法
JP3669898B2 (ja) 球状樹脂粒子およびその製造方法ならびに外用剤
US20070212312A1 (en) Metal Oxide Composite Oxide and Cosmetic Including the Same
JP2004124045A (ja) 複合ポリマー粒子及びその製法
JP4021365B2 (ja) 化粧料
JP7313860B2 (ja) 水中油型乳化化粧料
WO2004089316A1 (ja) 化粧料用顔料及びそれを含有する化粧料
JP4786395B2 (ja) 化粧料用表面処理粉体及びこれを含有する化粧料
JP2007070287A (ja) 化粧料
JP4786396B2 (ja) 化粧料及びその製造方法
ES2363946T3 (es) Polvos tratados en superficie y cosméticos que comprenden los mismos.
US20240058229A1 (en) Preparation of a tinted cosmetic composition
JP2022170717A (ja) 水系二層型化粧料
KR20240119099A (ko) 오일겔화제 및 화장료
JP2007145735A (ja) メーキャップ化粧料
JP2003055148A (ja) 化粧料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110223

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110404

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120213

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120213

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4931184

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250