KR100858854B1 - 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료 - Google Patents

감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료 Download PDF

Info

Publication number
KR100858854B1
KR100858854B1 KR1020037001471A KR20037001471A KR100858854B1 KR 100858854 B1 KR100858854 B1 KR 100858854B1 KR 1020037001471 A KR1020037001471 A KR 1020037001471A KR 20037001471 A KR20037001471 A KR 20037001471A KR 100858854 B1 KR100858854 B1 KR 100858854B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
methylenebis
butylphenol
recording material
liquid
condensation composition
Prior art date
Application number
KR1020037001471A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030047999A (ko
Inventor
스가마모루
스즈끼가오리
기무라요시히데
스미까와나오미
Original Assignee
가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션
니뽄 세이시 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션, 니뽄 세이시 가부시끼가이샤 filed Critical 가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션
Publication of KR20030047999A publication Critical patent/KR20030047999A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100858854B1 publication Critical patent/KR100858854B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
    • B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C39/12—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
    • C07C39/15—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings with all hydroxy groups on non-condensed rings, e.g. phenylphenol
    • C07C39/16—Bis-(hydroxyphenyl) alkanes; Tris-(hydroxyphenyl)alkanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은, 최근 요구되는 고감도 조건을 만족시키고, 발색 화상 및 비화상 영역의 보존 안정성 (즉, 내열성 및 내습성)이 우수한 감열 기록 재료를 구현할 수 있는 신규한 현색제, 및 이를 사용하여 제조한 감열 기록 재료를 제공하는 것이다. 상기 현색제는, n 이 0인 하기 화학식 I 로 표시되는 2핵 축합물을 주성분으로서 함유하고, 또한 n 이 1 내지 3인 하기 화학식 I 로 표시되는 축합물 1 종 이상을 함유하는 조성물로 구성되는 것을 특징으로 한다:
[화학식 I]
Figure 112003003608543-pct00004
[식 중, R 은 할로겐 원자, 히드록실, C1-5 알킬, C1-5 알콕시, 시아노, 니트로, 아릴 또는 아르알킬인데, 단, m 개의 R 은 동일하거나 서로 상이할 수 있으며;
m 은 0 내지 3의 정수이고;
n 은 0 내지 3의 정수이다].
상기 현색제를 사용하여 제조한 감열 기록 재료는 고감도이고, 동적 발색 농도가 높으며, 보존 안정성이 우수하다.

Description

감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료 {DEVELOPERS FOR THERMAL RECORDING MATERIALS AND THERMAL RECORDING MATERIALS}
본 발명은 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료에 관한 것이다.
일반적으로 감열 기록 재료 (감열 기록용 매체)는, 코팅액을 종이, 플라스틱 필름 등과 같은 지지체 상에 도포함으로써, 감열 발색층을 형성하게 하여 수득하는데, 상기 코팅액은 상온에서 무색이거나 담색인 염기성 염료, 및 유기 현색제를 분쇄하고 분산시켜, 각각의 미세입자를 생성시킨 후, 이를 혼합하고, 결합제, 충전제, 증감제, 윤활제, 기타 첨가제 등을 상기 혼합물에 첨가함으로써 수득한다. 감열 헤드, 열 펜, 레이저광 등으로 가열함으로써, 발색된 기록을 수득한다. 상기와 같은 기록 방식의 기본 원리는, 전자 공여성 염료와 유기 현색제의 화학적 접촉시 염료가 변화하여 색을 띄게 되는 것으로 추정된다. 그러한 기록 방식 (감열 기록 방식)은, 현상, 정착 등과 같은 복잡한 처리가 필요 없고, 비교적 경제적이고 간단한 장치를 사용하여 짧은 시간 내에 기록할 수 있으며, 유지 보수할 필요가 없고, 기록 중 소음이 없으며, 통상적으로 실용화된 다른 기록 방식에 비해 수득한 색이 매우 선명하고, 컴퓨터 출력, 전산용 프린터, 의료 계측용 기록기, 팩시밀리, 자동 티켓 발매기, 라벨 분야, 복사기 등의 기록 재료로서 널리 사용되어 왔다는 특징이 있다. 최근, 상기 장치들이 다용도화 및 고성능화 되어가면서, 고급 감열 기록 재료 (감열 기록용 매체)가 요구되어 왔다. 예를 들면, 고속 기록 및 장치의 소형화를 위해, 기록 장치의 감열 헤드의 열 에너지가 매우 적어지는 경향이 있으며, 이에 사용되는 감열 기록 재료 (감열 기록용 매체)는 매우 적은 에너지로도 고농도의 선명한 발색 화상을 제공하기에 충분한 발색 농도를 나타내도록 요구된다.
그러한 요구에 부응하기 위해, 페놀계 히드록실기를 갖는 다양한 화합물이 감열 발색층에 함유되는 현색제로서 제시되었고, 예를 들면 JP-B-40-9309 호, JP-B-43-4160 호, JP-B-45-14039 호, JP-B-51-29830 호, JP-A-56-144193 등의 공보에 개시되었다. 일반적으로, 비스페놀 화합물, 4-히드록시벤조산 에스테르 등이 단독으로 또는 몇 종류의 조합물로서 실용화되었다. 그러나, 상기와 같은 통상적 재료는, 예를 들면 낮은 감열 반응, 고속 기록에서 나타나는 불충분한 발색 농도, 일정하지 않은 발색 농도, 기록 후 발색 화상 농도의 시간 경과에 따른 변화, 보존시 변색, 배경색의 내열성 열화, 블루밍(blooming)이라고 불리는 표면상의 백색 분말 침전, 재인쇄성의 저하 등의 문제를 보인다.
최근, JP-A-9-278695 호, JP-A-2001-96926호 등에, 현색제 또는 퇴색방지제로서 트리스페놀 화합물을 사용하는 방법이 개시되었으나, 그러한 화합물의 사용은 충분한 발색 농도를 제공하지 못한다. JP-A-58-181686 호에 2,2'-메틸렌디페놀 화합물을 현색제로 사용하는 방법이 개시되었으나, 상기 공보에 기재된 방법은 감도, 및 내열성, 내습성, 내후성 등과 같은 화상 안정성이 불충분하다.
또한, 감열 기록 재료의 발색층에 노볼락 수지를 첨가하는 것이 공지되어 있 으나, 충분한 감도를 수득하지 못한다는 문제점이 있다.
상기 언급한 바와 같이, 최근 요구되는 고감도 조건을 만족시키며, 내열성 및 내습성과 같은 상기한 보존 안정성을 갖는 감열 기록 재료는 이제까지 없었다.
상술한 상황의 관점에서, 본 발명은, 최근 요구되는 고감도 조건을 만족시키며, 발색 화상 및 비(非)화상 영역의 보존 안정성 (즉, 내열성, 내습성)이 우수한 감열 기록 재료를 구현할 수 있는 신규한 현색제, 및 이를 사용하는 감열 기록 재료를 제공하는 것이다.
발명의 개시
상기 언급한 문제점을 해결하기 위한 노력으로 예의 연구한 결과, 본 발명자들은, 특정 치환된 페놀 및 포름알데히드의 2 개의 핵을 갖는 축합물을 주성분으로서 함유하고, 3 개 이상의 핵을 갖는 축합물(들) (예를 들면, 3 개의 핵을 갖는 축합물, 또는 3 개의 핵을 갖는 축합물과 4 개의 핵을 갖는 축합물, 또는 3 내지 5 개의 핵을 갖는 축합물)을 함유하는 조성물이 감열 기록 재료의 감도 향상 및 보존 안정성에 탁월한 효과를 나타냄을 발견하여, 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명은, (1) 하기 화학식 I 로 표시되는 축합물 중에서:
Figure 112003003608543-pct00001
[식 중, R 은 할로겐 원자, 히드록실기, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕실기, 시아노기, 니트로기, 아릴기 또는 아르알킬기이고,
m 개의 R 은 동일하거나 상이할 수 있는데, m 은 0 내지 3의 정수이며,
n 은 0 내지 3의 정수이다],
주성분인 n = 0 의 2핵 축합물, 및 상기 식 중 n = 1 - 3 인 축합물 1 종 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 감열 기록 재료용 현색제,
(2) 상기 (1)에 있어서, n = 0 인 2핵 축합물이 40 - 98 % 비율로 함유된 것을 특징으로 하는 감열 기록 재료용 현색제,
(3) 상기 (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 축합물은 페놀기의 히드록실기에 대해 p-위치에 할로겐 원자, 히드록실기, 탄소수 1 내지 5의 저급 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕실기, 시아노기, 니트로기, 아릴기 또는 아르알킬기를 갖는 것을 특징으로 하는 감열 기록 재료용 현색제, 및
(4) 지지체, 및 그 위에 형성된 감열 발색층을 포함하는 감열 기록 재료로서, 상기 층은 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 따른 현색제 및 염기성 염료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열 기록 재료
에 관한 것이다.
본 발명을 하기에 상세히 설명한다.
상기 언급한 화학식 I 에서, n 은 0 - 3의 정수이고, m은 0 - 3의 정수, 바람직하게는 1 - 3의 정수, 더욱 바람직하게는 1이다. m이 2 또는 3일 경우, m 개의 R은 동일하거나 상이할 수 있다. m이 1 - 3인 경우, R은 바람직하게는 페놀기의 히드록실기에 대해 m-위치 또는 p-위치, 더욱 바람직하게는 페놀기의 히드록실기에 대해 p-위치에 결합된다.
m 개의 R은 각기 할로겐 원자, 히드록실기, 탄소수 1 - 5의 알킬기, 탄소수 1 - 5의 알콕실기, 시아노기, 니트로기, 아릴기 또는 아르알킬기, 바람직하게는 탄소수 1 - 5의 알킬기, 또는 아르알킬기를 나타낸다.
할로겐 원자는 예컨대 염소 원자, 브롬 원자 및 불소 원자이고, 바람직하게는 염소 원자이다. 탄소수 1 - 5의 알킬기는 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, t-부틸 및 t-아밀이고, 바람직하게는 메틸, 이소프로필 및 t-부틸이다. 탄소수 1 - 5의 알콕실기는 바람직하게 1 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는다. 탄소수 1 - 4의 알콕실기는 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시 및 t-부톡시이고, 바람직하게는 메톡시이다. 아릴기는 예컨대 페닐, 톨릴 및 나프틸이고, 바람직하게는 페닐이다. 아르알킬기는 예컨대 쿠밀 및 α-메틸벤질이다.
화학식 I 로 표시되는 2핵 축합물 (즉, n = 0 인 화학식의 축합물)은 구체적으로 하기 화합물들로 예를 들 수 있다 :
2,2'-메틸렌비스페놀,
2,2'-메틸렌비스(4-클로로페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-클로로페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-히드록시페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-히드록시페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-메틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-에틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-에틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-프로필페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-이소프로필페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-t-부틸페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-t-아밀페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-메톡시페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-메톡시페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-시아노페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-시아노페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-니트로페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-니트로페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-페닐페놀),
2,2'-메틸렌비스(5-페닐페놀),
2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀) 및
2,2'-메틸렌비스[4-(α-메틸벤질)페놀].
이들 중, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 및 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)이 바람직하고, 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 및 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)이 특히 바람직하다.
화학식 I 로 표시되는, 3핵 내지 5핵 축합물 (즉, n = 1 - 3 인 화학식의 축합물)의 예에는, 상기 언급된 2핵 축합물로서 예시된 화합물들에 해당하는 화합물들이 포함된다.
본 발명의 감열 기록 재료용 현색제 (조성물) 중, 2핵 축합물의 함량은 전체 현색제 (조성물)의 바람직하게 40 - 98 %, 더욱 바람직하게는 40 - 90 %, 특히 바람직하게는 50 - 85 % 이다. 현색제 중의 2핵 축합물의 함량이 40 % 미만 또는 98 % 초과인 경우, 감열 기록 재료의 감도 향상, 및 발색 화상 및 비화상 영역의 보존 안정성을 목적으로 하는 효과가 충분히 발현되기 어려워진다. 본 발명의 감열 기록 재료용 현색제는, 예를 들어 하기 화학식 II 로 표시되는 치환된 페놀을 산 촉매 (예컨대, 염산, p-톨루엔술폰산 등) 등의 존재 하에 포름알데히드와 반응시키는 것을 포함하는 공지된 합성법에 의해 제조할 수 있다:
Figure 112003003608543-pct00002
[식 중, R 및 m 은 상기 정의된 바와 같다].
반응은 출발 물질 및 반응 생성물을 용해시킬 수 있는, 반응에 대해 불활성인 적당한 유기 용매, 예컨대 물, 메탄올, 에탄올, n-프로필 알콜, 이소프로필 알콜, 아세토니트릴, 톨루엔, 클로로포름, 디에틸 에테르, N,N-디메틸아세트아미드, 벤젠, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디에틸 케톤, 에틸 메틸 케톤, 아세톤, 테트라히드로푸란 등의 용매 중에서, 0 - 150℃ 의 온도 하에, 수 시간 내지 수십 시간 동안 수행된다. 그렇게 수득된 목적하는 축합 조성물은 불순물로서, n = 4 이상인 화학식 I 의 축합물을 함유할 수 있다.
화학식 II 로 표시되는 치환된 페놀의 구체적인 예에는, 페놀, p-클로로페놀, m-클로로페놀, o-클로로페놀, 카테콜, 레소르시놀, 히드로퀴논, p-크레졸, m-크레졸, o-크레졸, p-에틸페놀, m-에틸페놀, o-에틸페놀, p-프로필페놀, o-프로필페놀, p-이소프로필페놀, m-이소프로필페놀, o-이소프로필페놀, p-t-부틸페놀, m-t-부틸페놀, o-t-부틸페놀, p-t-아밀페놀, p-메톡시페놀, m-메톡시페놀, o-메톡시페놀, p-시아노페놀, m-시아노페놀, o-시아노페놀, p-니트로페놀, m-니트로페놀, o-니트로페놀, p-페닐페놀, m-페닐페놀, o-페닐페놀, p-쿠밀페놀, p-(α-메틸벤질)페놀, o-(α-메틸벤질)페놀 등이 포함된다.
본 발명의 감열 기록 재료 (감열 기록용 매체)는, 상기한 본 발명의 현색제 및 염기성 염료를 지지체 상에 함유하는 감열 발색층을 형성함으로써 구성된다.
본 발명의 감열 기록 재료에 있어서, 감열 발색층 내에 함유되는 염기성 염료는 감압 또는 감열 기록지의 분야에서 공지된 임의의 무색 내지 담색의 염기성 염료일 수 있으며, 특별히 제한되지는 않는다. 그것은 바람직하게는 류코 염료, 예컨대 트리페닐메탄, 플루오란, 플루오렌, 디비닐 류코 염료 등이고, 특히 바람직하게는 플루오란 류코 염료이며, 가장 바람직하게는 아닐리노플루오란 류코 염료이다. 염기성 염료는 단독으로 또는 2 종 이상의 조합물로서 사용될 수 있다.
염기성 염료의 구체적인 예를 하기에 열거한다.
<트리페닐메탄 류코 염료>
3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드
3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)프탈리드
<플루오란 류코 염료>
3-디에틸아미노-6-메틸플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(o,p-디메틸아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(o-클로로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(p-클로로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-메틸아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-6-클로로-7-메틸플루오란
3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란
3-디에틸아미노-6-클로로-7-p-메틸아닐리노플루오란
3-디에틸아미노-7-메틸플루오란
3-디에틸아미노-7-클로로플루오란
3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-7-(p-클로로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란
3-디에틸아미노-벤조[a]플루오란
3-디에틸아미노-벤조[c]플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-(o,p-디메틸아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-(o-클로로아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-(p-클로로아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란
3-디부틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란
3-디부틸아미노-6-메틸-7-p-메틸아닐리노플루오란
3-디부틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란
3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란
3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-(p-클로로아닐리노)플루오란
3-디-n-펜틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란
3-디-n-펜틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란
3-디-n-펜틸아미노-7-(p-클로로아닐리노)플루오란
3-(N-에틸-N-시클로헥실아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-(N-에틸-p-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-클로로-7-아닐리노플루오란
3-(N-에틸-N-테트라히드로프루푸릴아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란
3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란
<플루오렌 류코 염료>
3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈리드]
3,6,6'-트리스(디에틸아미노)스피로[플루오렌-9,3'-프탈리드]
<디비닐 류코 염료>
3,3-비스[2-(p-디메틸아미노페닐)-2-(p-메톡시페닐)에테닐]-4,5,6,7-테트라브로모프탈리드
3,3-비스[2-(p-디메틸아미노페닐)-2-(p-메톡시페닐)에테닐]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드
3,3-비스[1,1-비스(4-피롤리디노페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라브로모프탈리드
3,3-비스[1-(4-메톡시페닐)-1-(4-피롤리디노페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드
<기타 염기성 염료>
3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4-아자프탈리드
3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-옥틸-2-메틸인돌-3-일)-4-아자프탈리드
3-(4-시클로헥실에틸아미노-2-메톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4-아자프탈리드
3,3-비스(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)프탈리드
3,6-비스(디에틸아미노)플루오란-γ-(3'-니트로)아닐리노락탐
3,6-비스(디에틸아미노)플루오란-γ-(4'-니트로)아닐리노락탐
1,1-비스[2',2',2",2"-테트라키스-(p-디메틸아미노페닐)에테닐]-2,2-디니트릴 에탄
1,1-비스[2',2',2",2"-테트라키스-(p-디메틸아미노페닐)에테닐]-2-β-나프토일에탄
1,1-비스[2',2',2",2"-테트라키스-(p-디메틸아미노페닐)에테닐]-2,2-디아세틸에탄
비스[2,2,2',2'-테트라키스-(p-디메틸아미노페닐)에테닐]-메틸말론산 디메틸 에스테르.
본 발명의 감열 기록 재료의 감열 발색층은, 본 발명의 효과에 저해되지 않는 한도로 종래 공지된 증감제를 하나 이상 함유할 수 있다. 상기 증감제로서, 예를 들면 스테아르산 아미드, 팔미트산 아미드, 메톡시카르보닐-N-스테아르산 벤즈아미드, N-벤조일스테아르산 아미드, N-에이코사노산 아미드, 에틸렌비스스테아르산 아미드, 베헨산 아미드, 메틸렌비스스테아르산 아미드, 메틸올아미드, N-메틸올 스테아르산 아미드, 디벤질 테레프탈레이트, 디옥틸 테레프탈레이트, 디옥틸 테레프탈레이트, 벤질 p-벤질옥시벤조에이트, 페닐 1-히드록시-2-나프토에이트, 디벤질 옥살레이트, 디-p-메틸벤질 옥살레이트, 옥살산-디-p-클로로벤질, 2-나프틸벤질 에테르, p-벤질 비페닐, 4-비페닐-p-톨릴 에테르, 디(p-메톡시페녹시에틸) 에테르, 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-디(4-메틸페녹시)에탄, 1,2-디(4-메톡시페녹시)에탄, 1,2-디(4-클로로페녹시)에탄, 1,2-디페녹시에탄, 1-(4-메톡시페녹시)-2-(2-메틸페녹시)에탄, p-메틸티오페닐벤질 에테르, 1,4-디(페닐티오)부탄, p-아세토톨루이디드, p-아세토페네티디드, N-아세토아세틸-p-톨루이딘, 디(β-비페닐에톡시)벤젠, p-디(비닐옥시에톡시)벤젠, 1-이소프로필페닐-2-페닐에탄, 1,2-비스(페녹시메 틸)벤젠, p-톨루엔술폰아미드, o-톨루엔술폰아미드, 디-p-톨릴 카보네이트, 페닐-α-나프틸 카보네이트, 디페닐술폰 등을 언급할 수 있다. 특히, 벤질 p-벤질옥시벤조에이트, 스테아르산 아미드, 에틸렌비스스테아르산 아미드, 디-p-메틸벤질 옥살레이트, 옥살릭 디-p-클로로벤질 옥살레이트, 2-나프틸벤질 에테르, p-벤질비페닐, 4-비페닐-p-톨릴 에테르, 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠 및 디페닐술폰이 바람직하고, 이들 중, 스테아르산 아미드, 에틸렌비스스테아르산 아미드, 옥살산-디-p-메틸벤질, 디-p-클로로벤질 옥살레이트, 2-나프틸벤질 에테르, p-벤질 비페닐, 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠 등이, 본 발명의 현색제들 중에서 주 성분으로서 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 함유하는 축합 조성물과 함께 사용될 경우, 보다 바람직한 결과를 얻을 수 있다.
감열 발색층은, 본 발명의 효과가 저해되지 않도록 하는 정도로 통상적으로 공지된 유기 현색제를 함유할 수 있다. 그러한 통상적으로 공지된 현색제의 예에는 4-히드록시벤조산 에스테르, 4-히드록시프탈산 디에스테르, 프탈산 모노에스테르, 비스(히드록시페닐)술피드, 4-히드록시페닐아릴술폰 (예를 들면, 4-(4-프로폭시-벤젠술포닐)페놀, 4-(4-이소프로폭시-벤젠술포닐)페놀 등), 4-히드록시페닐아릴술포네이트, 1,3-디[2-(히드록시페닐)-2-프로필]벤젠, 4-히드록시벤조일옥시벤조산 에스테르, 비스페놀술폰 등을 포함한다.
본 발명의 감열 기록 재료의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 본 발명의 현색제, 염기성 염료, 및 필수적으로 첨가되는 증감제 등과 같은 첨가제가, 결합제 용액 또는 결합제 현탁액 또는 페이스트 형태로 결합제를 함유하 는 분산액에 분산되어 코팅액을 제공하며, 상기 코팅액은 지지체에 도포되고 건조되어, 감열 발색층을 형성한다.
상기 언급된 결합제의 예에는 200 - 1900 의 중합도를 갖는, 완전히 비누화된 폴리비닐 알콜, 부분적으로 비누화된 폴리비닐 알콜, 카르복시 변성 폴리비닐 알콜, 아미드 변성 폴리비닐 알콜, 술폰산 변성 폴리비닐 알콜, 부티랄 변성 폴리비닐 알콜, 기타 변성 폴리비닐 알콜, 히드록시에틸 셀룰로스, 메틸 셀룰로스, 카르복시메틸 셀룰로스, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 스티렌-부타디엔 공중합체, 및 에틸 셀룰로스 및 아세틸 셀룰로스와 같은 셀룰로스 유도체, 폴리비닐 클로리드, 폴리비닐 아세테이트, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리비닐부티랄 폴리스티롤 및 이의 공중합체, 폴리아미드 수지, 실리콘 수지, 페트롤륨 수지, 테르펜 수지, 케톤 수지, 쿠마론 수지 등이 포함된다. 이들 중합체는 요구되는 품질에 따라 단독으로 또는 2 종 이상의 조합물로서 사용될 수 있다. 이들은 물, 알콜, 케톤, 에스테르, 탄화수소 등과 같은 용매에 용해되거나, 물 또는 기타 매질 중에 유화되거나 페이스트로 분산되어 사용될 수 있다.
본 발명에 있어서, 감열 발색층에 첨가되는 충전제는 예컨대 무기 또는 유기 충전제, 예컨대 실리카, 칼슘 카보네이트, 카올린, 소성된 카올린, 규조토, 탈크, 산화티탄, 산화아연, 수산화알루미늄, 폴리스티렌 수지, 우레아-포르말린 수지, 스티렌-메타크릴산 공중합체, 스티렌-부타디엔 공중합체, 중공 플라스틱 안료 등이다.
이들 외에, p-니트로벤조산 금속염 (Ca, Zn), 프탈산 모노벤질 에스테르 금 속염 (Ca, Zn) 등과 같은 안정화제, 지방산 금속염 등과 같은 이형제, 왁스 등과 같은 윤활제, 벤조페논 또는 트리아졸 자외선 흡수제, 글리옥살 등과 같은 방수제, 분산제, 소포제 등이 필요에 따라 첨가될 수 있다.
본 발명에 있어서, 염기성 염료, 현색제, 증감제, 결합제, 부하 물질 등과 같이 감열 발색층에 사용되는 각 물질의 종류 및 양은, 감열 발색층이 나타내도록 요구되는 다양한 성능에 따라 적절하게 결정되며, 특별히 한정되지 않는다. 가장 일반적인 예에서는, 염기성 염료 1 중량부 당 약 1 - 8 중량부의 현색제, 및 첨가되는 경우 1 - 20 중량부의 충전제가 적당하게 첨가된다. 증감제가 첨가되는 경우, 증감제는 현색제 1 중량부 당 0.1 - 2 중량부의 양으로 적합하게 첨가되고, 결합제는 전체 고체 함량의 약 10 - 25 중량%의 양으로 적합하게 첨가된다.
본 방법에 따라 감열 기록 재료를 제조하는 경우, 염기성 염료 및 현색제, 및 필요에 따라 첨가되는 첨가제는 바람직하게는 볼 밀, 분쇄기, 모래분쇄기 (sand grinder) 등과 같은 분쇄기로, 또는 적당한 유화 장치로, 사용전에 수 마이크론 이하의 입자 크기로 원자화시킨 후 사용한다.
감열 발색층이 형성되는 지지체로서는, 종이, 재생 용지, 합성 종이, 플라스틱 필름, 발포 플라스틱 필름, 부직포, 금속 호일 등이 사용될 수 있고, 이들을 합한 복합재가 또한 사용될 수 있다.
더욱이, 본 발명의 감열 기록 재료에서는, 유기 부하 물질을 함유하는 중합체로 만들어진 오버코트 층 등을 감열 발색층 상에 형성시킴으로써, 보존성이 강화될 수 있다. 또한, 감열 발색층 하에 유기 및/또는 무기 부하 물질을 함유하는 언 더코팅 층을 형성시킴으로써, 보존성 및 감도가 강화될 수 있다.
본 발명을 실시예를 참조하여 상세하게 설명하나, 실시예에 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다. 설명 중에서, "부" 는 "중량부"를 의미한다.
하기에서 설명되는 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀) 80 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페놀:2,2'-메틸렌비스[6-[(2-히드록시-5-메틸페닐)메틸]-4-메틸페놀]=81:18:1
2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀) 60 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-이소프로필벤질)-4-이소프로필페놀:2,2'-메틸렌비스[6-[(2-히드록시-5-이소프로필페닐)메틸]-4-이소프로필페놀]=59:37:4
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 40 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-t-부틸벤질)-4-t-부틸페놀:2,2'-메틸렌비스[6-(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-4-t-부틸페놀:2,6-비스[[2-히드록시-3-[(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-5-t-부틸페닐]메틸]-4-t-부틸페놀=40:32:19:9
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 55 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-t-부틸벤질)-4-t-부 틸페놀:2,2'-메틸렌비스[6-[(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-4-t-부틸페놀]:2,6-비스[[2-히드록시-3-[(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-5-t-부틸페닐]메틸]-4-t-부틸페놀=55:32:10:3
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 70 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-t-부틸벤질)-4-t-부틸페놀:2,2'-메틸렌비스[6-[(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-4-t-부틸페놀]=72:27:1
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 80 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-t-부틸벤질)-4-t-부틸페놀:2,2'-메틸렌비스[6-[(2-히드록시-5-t-부틸페닐)메틸]-4-t-부틸페놀]=79:18:3
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 90 % 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-t-부틸벤질)-4-t-부틸페놀=92:8
2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀) 60% 축합 조성물의 조성비는 하기와 같다.
2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀):2,6-비스(2-히드록시-5-쿠밀벤질)-4-쿠밀페놀:2,2'-메틸렌비스[(2-히드록시-5-쿠밀페닐)메틸]-4-쿠필페놀:2,6-비스[[2-히드록시-3-[(2-히드록시-5-쿠밀페닐)메틸]-5-쿠밀페닐]메틸]-4-쿠밀페놀=60:26:10:4
[실시예 1]
액체 A (현색제 분산액)
2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 6.0 부
10% 폴리비닐 알콜 수용액 18.8 부
물 11.2 부
액체 B (증감제 분산액)
디페닐술폰 4.0 부
10% 폴리비닐 알콜 수용액 12.5 부
물 7.5 부
액체 C (염료 분산액)
3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2.0 부
10% 폴리비닐 알콜 수용액 4.6 부
물 2.6 부
상기 언급한 액체 A, 액체 B 및 액체 C를 모래분쇄기로 분쇄하여, 평균 입자 크기 1 마이크론으로 만들었다. 분산액을 하기의 비로 혼합하여, 코팅액을 수득하였다.
액체 A (현색제 분산액) 36.0 부
액체 B (증감제 분산액) 24.0 부
액체 C (염료 분산액) 9.2 부
카올린 점토 (50% 분산액) 12.0 부
상기 언급된 코팅액을, 50 g/㎡ 의 기본중량을 갖는 베이직 인화지의 한쪽 면에 6.0 g/㎡ 의 코팅양으로 도포하고, 실온에서 24 시간 동안 건조시켰다. 이 시트를 500 - 600 초의 평활도로 수퍼캘린더로 처리하여, 감열 기록 재료를 수득했다. 여기서, 코팅된 양은 건조 후 지지체에 부착된 고체의 양을 의미한다.
[실시예 2]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 3]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 4]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 5]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 6]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 7]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 8]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 9]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 10]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 11]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 12]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 13]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 14]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 15]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 16]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페 닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 17]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 18]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 19]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 20]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 21]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 22]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 4-비페닐-p-톨릴 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 23]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 스테아르산 아미드를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 24]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 에틸렌비스스테아르산 아미드를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 25]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 2-나프틸벤질 에테르를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 26]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 디-p-메틸벤질 옥살레이트를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 27]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 디-p-클로로벤질 옥살레이트를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 28]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 p-벤질 비페닐을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 29]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 30]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-디 페녹시에탄을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 31]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 32]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄을 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 33]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 디-p- 메틸벤질 옥살레이트를 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 34]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠을 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 35]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠을 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 36]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠을 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)과 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 37]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄을 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)과 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[실시예 38]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 55%의 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 함유하는 축합 조성물을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)용으로 사용된 디페닐술폰 대신 디-p-메틸벤질 옥살레이트를 사용하고, 액체 C (염료 분산액)용으로 사용된 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 대신 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)과 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 (50 중량%)의 혼합물을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[비교예 1]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[비교예 2]
실시예 1 에서 액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스-(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[비교예 3]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 사에서 제 조한 페놀 노볼락 수지 (Phenolite TD2090)를 사용하고, 액체 B (증감제 분산액)의 디페닐술폰은 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
[비교예 4]
액체 A (현색제 분산액)용으로 사용된 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 대신 DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 사에서 제조한 페놀 노볼락 수지 (Phenolite TD2090)를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 감열 기록 재료를 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 수득한 감열 기록 재료를 하기의 품질 및 성능에 대하여 시험하였다. 그 결과를 표 1 - 6 에 나타낸다. 표에서, 상단의 숫자는 기록된 영역의 농도를 나타내고, 하단의 숫자는 비화상 영역의 농도를 나타낸다.
(1) 감열 기록성 시험 (동적 발색 농도)
제조된 감열 기록 재료를 Ohkura Electric Co., Ltd.사에서 제조한 TH-PMD (감열 인쇄기, Kyocera Corporation 사에서 제조한 감열 헤드가 장착되어 있음)를 사용하여, 0.38 mj/dot 의 인가(印加) 에너지로 인쇄하였다. 기록된 영역의 화상 농도는 Macbeth 농도계 (RD-914, Amber Filter 사용)로 측정하였다.
(2) 보존 안정성 시험
[내열성 시험]
감열 기록성 시험에서 인쇄된 감열 기록 재료를 60℃의 시험 온도에서 고온 건조한 환경 하에 24시간 동안 방치하고, 기록된 영역과 비화상 영역의 화상 농도 를 Macbeth 농도계로 측정하였다.
[내습성 시험]
감열 기록성 시험에서 인쇄된 감열 기록 재료를 시험 온도 40℃, 90% RH의 환경에서 24시간 동안 방치하고, 기록된 영역과 비화상 영역의 화상 농도를 Macbeth 농도계로 측정하였다.
현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
실시예 1 2,2'-메틸렌비스(4-메틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.35 0.09 1.00 0.10 1.15 0.10
실시예 2 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.18 0.08 0.99 0.10 1.01 0.09
실시예 3 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.04 0.83 0.09 0.94 0.07
실시예 4 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.40 0.05 0.80 0.10 1.02 0.05
실시예 5 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.00 0.05 0.95 0.08 0.98 0.07
실시예 6 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.11 0.05 1.02 0.11 1.16 0.06
실시예 7 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 40% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.23 0.04 1.01 0.08 1.01 0.04
실시예 8 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.01 0.06 0.93 0.08 0.98 0.09
실시예 9 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.21 0.06 1.10 0.08 1.21 0.07
실시예 10 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.06 1.12 0.08 1.24 0.06
실시예 11 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.20 0.09 1.00 0.11 1.10 0.11
현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
실시예 12 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.31 0.04 1.07 0.06 1.11 0.04
실시예 13 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 70% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.33 0.05 1.02 0.05 1.03 0.04
실시예 14 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.15 0.08 0.99 0.09 1.00 0.08
실시예 15 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.10 1.04 0.11 1.27 0.10
실시예 16 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 80% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.10 0.95 0.10 1.25 0.10
실시예 17 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.10 0.09 0.97 0.11 1.01 0.11
실시예 18 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.08 0.81 0.09 1.10 0.09
실시예 19 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.39 0.08 0.80 0.10 1.10 0.09
실시예 20 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 없음 기록 영역 비화상 영역 1.00 0.06 0.98 0.07 0.95 0.06
실시예 21 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 1.13 0.08 1.07 0.09 1.13 0.10
실시예 22 2,2'-메틸렌비스(4-쿠밀페놀)을 60% 함유하는 축합 조성물 4-비페닐-p-톨릴 에테르 기록 영역 비화상 영역 1.28 0.07 1.13 0.10 1.27 0.11
현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
실시예 23 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 스테아르산 아미드 기록 영역 비화상 영역 1.36 0.08 0.98 0.08 1.17 0.10
실시예 24 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 에틸렌 비스스테아르산 아미드 기록 영역 비화상 영역 1.32 0.08 1.02 0.09 1.13 0.09
실시예 25 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 2-나프틸 벤질에테르 기록 영역 비화상 영역 1.37 0.07 1.07 0.09 1.15 0.10
실시예 26 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 디-p-메틸벤질 옥살레이트 기록 영역 비화상 영역 1.43 0.08 1.10 0.09 1.09 0.10
실시예 27 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 디-p-클로로벤질 옥살레이트 기록 영역 비화상 영역 1.40 0.08 1.18 0.09 1.15 0.10
실시예 28 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 p-벤질비페닐 기록 영역 비화상 영역 1.43 0.08 1.09 0.09 1.02 0.09
실시예 29 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 1,2-디(3-메틸페녹시)에탄 기록 영역 비화상 영역 1.45 0.08 1.16 0.09 1.13 0.09
실시예 30 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 1,2-디페녹시에탄 기록 영역 비화상 영역 1.42 0.08 1.18 0.09 1.10 0.09
실시예 31 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 90% 함유하는 축합 조성물 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠 기록 영역 비화상 영역 1.45 0.08 1.07 0.09 1.02 0.10
염료 현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
실시예 32 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 1,2-디-(3-메틸페녹시)에탄 기록 영역 비화상 영역 1.45 0.08 1.07 0.09 1.02 0.10
실시예 33 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 디-p-메틸벤질 옥살레이트 기록 영역 비화상 영역 1.42 0.08 1.09 0.09 1.06 0.10
실시예 34 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 1,2-비스-(페녹시메틸)벤젠 기록 영역 비화상 영역 1.40 0.08 0.98 0.09 1.00 0.10
실시예 35 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 1,2-비스-(페녹시메틸)벤젠 기록 영역 비화상 영역 1.42 0.08 1.07 0.09 1.02 0.10
실시예 36 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 + 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 1,2-비스-(페녹시메틸)벤젠 기록 영역 비화상 영역 1.45 0.08 1.13 0.11 1.10 0.10
염료 현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
실시예 37 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 + 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 1,2-디-(3-메틸페녹시)에탄 기록 영역 비화상 영역 1.46 0.08 1.10 0.10 1.05 0.10
실시예 38 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 + 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀)을 55% 함유하는 축합 조성물 디-p-메틸벤질 옥살레이트 기록 영역 비화상 영역 1.45 0.08 1.07 0.10 1.10 0.10
현색제 증감제 동적 발색 농도 내열성 내습성
비교예 1 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀) 없음 기록 영역 비화상 영역 0.86 0.10 0.58 0.10 0.52 0.09
비교예 2 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 없음 기록 영역 비화상 영역 0.77 0.09 0.52 0.10 0.58 0.10
비교예 3 페놀 노볼락 수지 없음 기록 영역 비화상 영역 0.37 0.08 0.20 0.08 0.15 0.11
비교예 4 페놀 노볼락 수지 디페닐술폰 기록 영역 비화상 영역 0.58 0.08 0.41 0.08 0.77 0.12
표 1 - 6 에 나타난 바와 같이, 본 발명의 조성물로 구성되는 현색제 (실시예 1-38) 를 사용하여 수득한 감열 기록 재료는 높은 동적 발색 농도를 유지하면서 우수한 보존 안정성을 나타내었다. 대조적으로, 비교예 1 및 2 에서와 같이 2,2'-메틸렌비스(4-이소프로필페놀) 또는 2,2'-메틸렌비스(4-t-부틸페놀) 을 단독으로 사용한 경우, 동적 발색 농도는 낮았고, 보존 안정성은 불량하였다. 또한, 비교예 3 및 4 에서와 같이 중합비가 높은 페놀 노볼락 수지는 매우 낮은 동적 발색 농도를 나타내어, 만족스러운 성능을 제공하지 못했다.
본 발명에 따르면, 고감도이고, 동적 발색 농도가 높으며, 보존 안정성이 우수한 감열 기록 재료를 수득할 수 있다.
본 출원은, 그 내용이 본원에 참고로 반영되어 있는, 일본에서 출원된 특허 출원 제 2001-167233 호 및 제 2001-301577 호를 근거로 한다.

Claims (5)

  1. 하기 화학식 I 로 표시되는 축합물 중에서:
    [화학식 I]
    Figure 112008022302157-pct00005
    [식 중, R 은 탄소수 1 내지 5 의 알킬기 또는 쿠밀기이고,
    n 은 0 내지 3 의 정수이다],
    상기 식 중 n = 0 의 2 핵 축합물을 주성분으로 하고, 또한 상기 식 중 n = 1 ∼ 3 의 축합물 1 종 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 감열 기록 재료용 현색제.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 식 중 n = 0 의 2 핵 축합물은 40 ∼ 98 % 의 비율로 함유되는 감열 기록 재료용 현색제.
  3. 삭제
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 현색제 및 염기성 염료를 함유하는 감열 발색층이 지지체 위에 형성된 감열 기록 재료.
  5. 삭제
KR1020037001471A 2001-06-01 2002-05-31 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료 KR100858854B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2001-00167233 2001-06-01
JP2001167233 2001-06-01
JP2001301577 2001-09-28
JPJP-P-2001-00301577 2001-09-28
PCT/JP2002/005351 WO2002098674A1 (fr) 2001-06-01 2002-05-31 Revelateurs destines a des materiaux de thermogravure et materiaux de thermogravure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030047999A KR20030047999A (ko) 2003-06-18
KR100858854B1 true KR100858854B1 (ko) 2008-09-17

Family

ID=26616233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020037001471A KR100858854B1 (ko) 2001-06-01 2002-05-31 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7141359B2 (ko)
EP (1) EP1393923B1 (ko)
JP (1) JP3830939B2 (ko)
KR (1) KR100858854B1 (ko)
CN (1) CN1225366C (ko)
AT (1) ATE439245T1 (ko)
DE (1) DE60233318D1 (ko)
ES (1) ES2329983T3 (ko)
WO (1) WO2002098674A1 (ko)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070099130A1 (en) * 2003-06-25 2007-05-03 Hideaki Takahashi Developer for recording materials
JP4615513B2 (ja) * 2004-03-11 2011-01-19 株式会社エーピーアイ コーポレーション 感熱記録材料用顕色剤混合物及び感熱記録材料
JP2006181856A (ja) * 2004-12-27 2006-07-13 Asahi Kasei Chemicals Corp 感熱記録材
JPWO2006075604A1 (ja) * 2005-01-11 2008-06-12 王子製紙株式会社 感熱記録体
EP2072274B1 (en) * 2006-09-29 2011-12-28 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Heat-sensitive recording material
JP4308290B2 (ja) 2007-02-13 2009-08-05 日本製紙株式会社 感熱記録体
EP2130681B1 (en) 2007-03-29 2011-08-03 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Thermosensitive recording medium
ATE522364T1 (de) * 2007-05-10 2011-09-15 Jujo Paper Co Ltd Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
US8492308B2 (en) 2007-08-21 2013-07-23 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Thermosensitive recording medium
US8466085B2 (en) * 2007-08-29 2013-06-18 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Thermosensitive recording medium
WO2010059194A2 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Appleton Papers Inc. Thermally-responsive record material
US8609582B2 (en) 2009-03-24 2013-12-17 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Thermosensitive recording medium
WO2010140662A1 (ja) 2009-06-05 2010-12-09 日本製紙株式会社 感熱記録体
JPWO2011114780A1 (ja) 2010-03-15 2013-06-27 日本製紙株式会社 感熱記録体
KR101548182B1 (ko) * 2010-09-16 2015-08-31 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 신규 페놀술폰산 아릴 에스테르 유도체 및 그것을 사용한 감열 기록 재료
KR101668231B1 (ko) 2011-10-31 2016-10-21 닛뽄세이시가부시끼가이샤 페놀술폰산 아릴 에스테르, 현색제 및 감열 기록 재료
WO2014025406A1 (en) 2012-08-09 2014-02-13 Valspar Sourcing, Inc. Dental materials and method of manufacture
US9944749B2 (en) 2012-08-09 2018-04-17 Swimc, Llc Polycarbonates
ES2800027T3 (es) 2012-08-09 2020-12-23 Swimc Llc Estabilizador y composiciones de recubrimiento del mismo
WO2014025400A1 (en) * 2012-08-09 2014-02-13 Valspar Sourcing, Inc. Developer for thermally responsive record materials
EP2765007B1 (de) 2013-02-08 2015-09-16 Mitsubishi HiTec Paper Europe GmbH Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
CN104972780B (zh) * 2015-05-27 2018-09-28 南通沃兰化工有限公司 一种热敏记录材料
KR102618091B1 (ko) 2017-08-09 2023-12-27 미쯔비시 케미컬 주식회사 감열 기록 재료 및 적층체
JPWO2019031526A1 (ja) 2017-08-09 2020-08-20 三菱ケミカル株式会社 感熱記録材料及び積層体
CN114761379A (zh) 2019-11-28 2022-07-15 三菱化学株式会社 显色剂及热敏记录材料
EP4296055A1 (en) 2021-02-18 2023-12-27 Mitsubishi Chemical Corporation Multilayer body, card, passport, method for producing multilayer body, method for producing card, method for producing passport, and laser marking method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62167082A (ja) * 1986-01-21 1987-07-23 Hodogaya Chem Co Ltd 感熱記録材料
JPS62279982A (ja) 1986-05-29 1987-12-04 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2730551A (en) * 1952-03-24 1956-01-10 Monsanto Chemicals Halogenated tris-phenols
US2849325A (en) * 1952-06-28 1958-08-26 Hercules Powder Co Ltd Stabilized cellulose ether composition
US2773907A (en) * 1954-02-05 1956-12-11 American Cyanamid Co Tris-phenols
US2905737A (en) * 1955-07-05 1959-09-22 Firestone Tire & Rubber Co Sulfur vulcanized rubber composition containing phenol reaction product as an oxidation inhibitor, and method of making same
US2783279A (en) * 1955-11-29 1957-02-26 Gen Aniline & Film Corp Halogenated tris phenol germicidal compounds
US3560229A (en) * 1961-08-31 1971-02-02 Burroughs Corp Colorforming compositions and methods for preparing and controlling same
US3244549A (en) * 1961-08-31 1966-04-05 Burroughs Corp Manifold sheets coated with lactone and related chromogenous compounds and reactive phenolics and method of marking
JPS5113661B2 (ko) * 1971-11-19 1976-05-01
JPS5129830B2 (ko) 1972-04-08 1976-08-27
JPS4945747A (en) * 1972-09-04 1974-05-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd Anteisei o kairyoshita kannetsukirokuyoshiito
JPS5113661A (ja) 1974-07-18 1976-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Denkiengeihasami
US4282390A (en) * 1976-07-07 1981-08-04 Ici Australia Limited 2,6-Benzyl substituted phenols
JPS56144193A (en) 1980-04-10 1981-11-10 Jujo Paper Co Ltd Heat-sensitive recording sheet
JPS58181686A (ja) 1982-04-20 1983-10-24 Mitsui Toatsu Chem Inc 感熱記録シ−ト
JPS58187394A (ja) * 1982-04-26 1983-11-01 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料
JPS61175078A (ja) * 1985-01-31 1986-08-06 Tomoegawa Paper Co Ltd 感熱記録材料
JPS62290579A (ja) * 1986-06-10 1987-12-17 Tomoegawa Paper Co Ltd 感熱記録材料
US4992596A (en) * 1988-12-27 1991-02-12 Olin Hunt Specialty Products Inc. Selected trinuclear novolak oligomers and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures
US5242884A (en) * 1991-03-15 1993-09-07 Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. Heat-sensitive recording material
DE4321607A1 (de) * 1992-06-30 1994-01-05 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Aufzeichnungsmaterial
JPH06115255A (ja) * 1992-10-06 1994-04-26 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料
US5474968A (en) * 1993-09-20 1995-12-12 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Printing tape and printing-tape cartridge
JP3605227B2 (ja) 1996-04-16 2004-12-22 本州化学工業株式会社 新規なトリスフェノール化合物
US5972554A (en) * 1997-04-30 1999-10-26 Canon Kabushiki Kaisha Toner for developing electrostatic images
JP3893417B2 (ja) * 1998-04-08 2007-03-14 富士フイルム株式会社 熱現像画像記録材料
JP2001096926A (ja) 1999-10-04 2001-04-10 Showa Highpolymer Co Ltd フェノール系三核体組成物及びそれからなる感熱記録材料用顕色剤
EP1437231B1 (en) * 2001-09-27 2008-01-09 API Corporation Developer for thermal recording material and thermal recording materials

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62167082A (ja) * 1986-01-21 1987-07-23 Hodogaya Chem Co Ltd 感熱記録材料
JPS62279982A (ja) 1986-05-29 1987-12-04 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2002098674A1 (ja) 2004-09-16
DE60233318D1 (de) 2009-09-24
CN1464843A (zh) 2003-12-31
CN1225366C (zh) 2005-11-02
EP1393923A1 (en) 2004-03-03
JP3830939B2 (ja) 2006-10-11
EP1393923A4 (en) 2005-09-14
US7141359B2 (en) 2006-11-28
ATE439245T1 (de) 2009-08-15
KR20030047999A (ko) 2003-06-18
EP1393923B1 (en) 2009-08-12
ES2329983T3 (es) 2009-12-03
WO2002098674A1 (fr) 2002-12-12
US20050118526A1 (en) 2005-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100858854B1 (ko) 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료
JP3806338B2 (ja) 感熱記録体
KR100865648B1 (ko) 감열 기록 재료용 현색제 혼합물 및 감열 기록 재료
JP4464301B2 (ja) 感熱記録体
KR100692935B1 (ko) 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료
KR101548182B1 (ko) 신규 페놀술폰산 아릴 에스테르 유도체 및 그것을 사용한 감열 기록 재료
WO2009119813A1 (ja) 感熱記録体
KR20100043250A (ko) 감열 기록체
KR100652321B1 (ko) 감열기록체
JP2967708B2 (ja) 感熱記録体
JP3752891B2 (ja) 感熱記録シート
JP3806339B2 (ja) 感熱記録体
JP2010115833A (ja) 感熱記録体
JP2967707B2 (ja) 感熱記録体
JP3763499B2 (ja) 感熱記録材料
JP2005125779A (ja) 感熱記録体
JP3635401B2 (ja) 感熱記録体
JP3446663B2 (ja) 感熱記録体
JP3635402B2 (ja) 感熱記録体
JP2967709B2 (ja) 感熱記録体
JP3446662B2 (ja) 感熱記録体
JP2009255569A (ja) 感熱記録体
JPH09142034A (ja) 感熱記録シート
JP2008012878A (ja) 感熱記録体
JPH09207456A (ja) 感熱記録体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120904

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130906

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140820

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150811

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160819

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170817

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180903

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190821

Year of fee payment: 12