KR100663962B1 - 자외선 경화성 수지 조성물 - Google Patents

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타이요 잉크 메뉴펙츄어링 컴퍼니, 리미티드
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Abstract

자외선 경화성 수지 조성물은 인원자 함유의 광 중합성 화합물과 카르복실기를 갖는 광 중합성 화합물을 포함하고, 25℃에서의 표면 장력이 30∼50 mN/m이다. 바람직하게는, (a) 분자중에 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 동시에 인원자를 갖는 화합물, (b) 분자중에 1개의 카르복실기 및 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, (c) 분자중에 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, (d) 레벨링제 및 (e) 광 개시제를 함유한다. 상기 자외선 경화성 수지 조성물은, 식각 보호재, 특히 섀도우 마스크 제조에 있어서의 백 코트제로서 유용하다.
수지 조성물, 광 중합성 화합물, 섀도우 마스크, 백 코트제

Description

자외선 경화성 수지 조성물{ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN COMPOSITION}
본 발명은 자외선 경화성 수지 조성물에 관하며, 특히 고정세(高精細) 컬러 수상관용 섀도우 마스크의 제조에 쓰이는 2단 식각법에 있어서의 백 코트층 형성에 적합하게 사용할 수 있는 자외선 경화성 수지 조성물에 관한다.
더욱이, 본 발명은 이와 같은 조성물을 백 코트층 형성에 이용하는 섀도우 마스크의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 섀도우 마스크에 관한다.
섀도우 마스크는 컬러 텔레비젼용 브라운관내의 전자총에서 조사된 전자를 정해진 발색체에 충돌시키는 기능을 갖고, 식각에 의해 미소(微小)한 구멍이 다수 설치된 금속판이다. 상기 미소한 구멍의 형성은, 금속판의 표리 양면이 대응하는 위치에 직경이 다른 반구 형상 또는 각 형상의 다수의 미소한 오목부를 각각 설치하며, 대응하는 오목부의 저부끼리를 연통시킴으로써 행해진다.
섀도우 마스크의 제조공정의 개략을 설명하면, 우선 철등으로 이루어지는 얇은 금속판의 표리 양면에 감광성 수지막을 도포하고, 그 후 소정의 노광 패턴을 갖는 네가티브 필름을 금속판에 밀착시키고, 노광하여 감광성 수지막의 노광부를 경화시키고, 현상 처리에 의해 감광성 수지막의 미노광 부분을 제거한 후 인화한다. 이어서, 염화 제2철 등의 부식액에 의해 1차 식각을 하고, 단면 또는 표리 양면에서 서로 관통하지 않는 미소 오목부를 형성한 후, 한면에만 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물을 도포하고, 금속판 한면상의 미소 오목부를 메우는 막을 형성하 고, 가열 및/또는 자외선등의 빛을 조사함으로써 수지 조성물을 경화시킨다. 이렇게 하여 한 면을 보호한 후, 다시 부식액에 의해 다른면상의 오목부를 대상으로 하는 2차 식각을 하고, 1차 식각에 의한 한면상의 오목부와 다른면상의 오목부를 그 저부에서 연통시키고 나서, 패턴 형성용 감광성 수지 및 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물의 각 경화 도포막을 알칼리 처리함으로써 제거하여, 섀도우 마스크를 얻는다.
섀도우 마스크의 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물에 요구되는 성능을 만족하는 조성물로서, 현재는 알칼리성 용액에 가용성의 막을 형성하는 자외선 경화성 수지를 물 또는 유기용제에 용해시킨 조성물이 이용되고 있고, 1차 식각을 행한 기판에 롤 법, 스프레이법 그 밖의 방식에 의해 도포한 후, 열풍 건조로등에 의해 용매를 증발시키고, 그 후, 자외선 조사에 의해 경화시켜 수지 도포막을 형성한다.
그러나, 막을 형성하는 수지를 용매에 의해 용해한 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물은, 수지막 형성을 위해 다량의 용매를 가열 증발시킬 필요가 있고, 그를 위한 가열 장치나 용제의 회수 장치가 필요함과 동시에, 유기 용제의 취급에 따른 그 독성 및 인화 폭발의 위험성이 있다. 건조 공정에 있어서의 인화, 폭발 및 화재등의 위험성을 감소시키기 때문에, 난 연성(難燃性)을 갖는 염소계 용제의 사용도 검토되고 있는데, 최근, 이들은 대기 오염등의 문제 때문에 규제되고 있다. 더욱이, 유기 용제의 증발에 따라 도포막이 부피 수축을 일으키고, 미소 오목부의 견부(肩部)(엣지부)의 도포막이 얇아지기 쉬운 문제가 있다.
이들 문제를 해결하기 위해서, 본질적으로 무용제인 자외선 경화성 수지를 이용하는 방법을 생각할 수 있다. 그러나, 현재 알려져 있는, 경화 도포막이 내산성으로 알칼리 용해성을 갖는 자외선 경화성 수지를, 섀도우 마스크의 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물로서 사용한 경우, 미소한 오목부에 기포 생성 없이 균일하게 충전하기 어렵고, 또한 오목한 저부에서의 경화 불량 및 알칼리 용해·박리성의 부족에 기인한 도포막 잔존등의 결점, 섀도우 마스크 재료에의 밀착성이 곤란하고, 요구 특성을 모두 만족한다고는 아직 알려져 있지 않다.
종래, 상기한 바와 같은 문제는 사용하는 자외선 경화성 수지 조성물의 점도가 높은데 기인한다고 생각되며, 예를 들어 특개평 1-261410호에는 수지 조성물의 25℃ 에서의 점도를 100 cps 이하로 하는 것이 제안되고 있다. 그러나, 종래 이용되고 있는 자외선 경화성 수지 조성물을 미세한 요철을 갖는 재료 표면에, 예를 들어 롤을 이용하여 도포한 경우, 수지 조성물의 점도가 낮아 흐르기 쉽기 때문에, 미소한 오목부에 롤 표층부의 일부가 빨려 들어가 압력이 가해졌을 때에, 수지 조성물이 미소 오목부에서 흘러 나와, 미소 오목부내에 충분히 충전되지 않게 되고, 또한 미소 오목부의 견부(엣지부)의 도포막이 얇아지기 쉽다고 하는 문제가 있다. 더욱이, 금속 재료 표면에서의 튕김 (표면 장력에 의해 도포막이 피착되지 않은 반점모양부분이 생기는 현상, 클리에이터라고도 함)이 발생하기도 한다. 또한 일반적으로 점도가 너무 낮은 경우, 경화 도포막이 불균일해지기 때문에 내식각성이 저하하거나 알칼리 박리성이 나빠지기 쉬운 문제가 있다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 본 발명자들은, 특개평 10-306124호 공보에 있어서, 표면 장력을 30∼50 mN/m의 범위로 하는 조성물을 제안하고 있다. 이로 인해 도포시의 문제점은 해결되었지만, 식각 공정에 있어서의 내성(내식성)이나 반송 공정에서의 박리의 문제에 관해서는 반드시 충분히 해결되었다고는 할 수 없고, 충분한 내성을 얻지 못한다고 하는 문제가 남아 있었다.
따라서, 본 발명의 기본적인 목적은, 상기한 바와 같은 문제가 없고, 미세한 요철을 갖는 재료 표면에, 미소 오목부 내부에까지 충분히 충전되도록, 또한 기포를 생기게 하지 않고 균일히 도포할 수 있고, 자외선의 조사에 의해 용이하게 단시간에 경화시킬 수 있는 자외선 경화성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.
더욱이 본 발명의 목적은, 도공성이 뛰어남과 동시에, 경화후의 도포막이 섀도우 마스크등의 금속에 대한 밀착성이 뛰어나고, 높은 내식각성을 나타내며, 반송시에 박리되는 일이 없고, 또한 식각후의 알칼리 처리에 의한 용해·박리성을 나타낸다는 특성을 갖고, 식각 보호재, 특히 섀도우 마스크 제조에 있어서의 백 코트제용으로서 유리하게 사용할 수 있는 무용제형 자외선 경화성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은, 상기와 같은 자외선 경화성 수지 조성물의 특성을 최대한으로 발휘하고, 내식각성 및 식각후의 알칼리 처리에 의한 용해·박리성이 뛰어난 백 코트층을 비교적 간단하고 효율적으로 형성할 수 있음과 동시에, 다수의 구멍을 고정밀도로 형성할 수 있는 섀도우 마스크의 제조 방법을 제공하고, 그에 따라 고정세, 고품질의 섀도우 마스크를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 기본적인 형태에 의하면, (a) 1분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖고, 또한 인원자를 갖는 화합물, (b) 1분자중에 적어도 1개의 카르복실기와 1개의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물, 및 (c) 1분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물을 함유하고, 상기 화합물 (a)의 배합량이, 상기 화합물 (b) 및 (c)의 합계량 100 중량부 당 0.5∼10 중량부이며, 25℃에 있어서의 표면 장력이 30∼50 mN/m인 것을 특징으로 하는 자외선 경화성 수지 조성물이 제공된다.
본 발명의 보다 특정적인 형태에 의하면, 상기 (a)∼(c)성분에 더하여 더욱이 (d) 레벨링제 및 (e) 광 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 자외선 경화성 수지 조성물이 제공된다.
상기와 같은 자외선 경화성 수지 조성물은, 도공성이 뛰어남과 동시에, 경화후의 도포막이 높은 내식각성을 나타내고, 또한 식각후의 알칼리 처리에 의한 뛰어난 용해·박리성을 나타내는 특성을 갖기 때문에, 섀도우 마스크 제조에 있어서의 백 코트제용 자외선 경화성 수지 조성물로서 특히 적합하게 사용할 수 있다.
즉, 본 발명의 다른 측면에 의하면, 상기 자외선 경화성 수지 조성물로 이루어진 섀도우 마스크 제조에 사용하는 백 코트제도 제공되고, 바람직하게는 섀도우 마스크 기재에 대하여 25도 이하의 접촉각을 나타내는 백 코트제가 이용된다.
더욱이 본 발명에 의하면, 섀도우 마스크의 제조시의 백 코트층의 형성에 상기 자외선 경화성 수지 조성물을 이용한 섀도우 마스크의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 섀도우 마스크도 제공된다. 본 발명의 방법은, 띠 형상의 금속 박판으로 이루어진 섀도우 마스크 기재의 양면에 감광막을 형성하는 공정과, 감광막이 형성된 양면을 소정의 패턴을 따라 노광·현상하고, 소정의 패턴대로 일부 금속 표면을 노출시켜 식각 레지스트를 형성하는 공정과, 상기 식각 레지스트를 형성하여 금속 표면이 일부 노출된 금속 박판의 적어도 한쪽 면을 식각하여, 적어도 상기 한쪽면의 금속 표면 노출부에 오목 구멍을 형성하는 제 1 식각 공정과, 제 1 식각 공정에 있어서 형성된 오목 구멍을 갖는 한쪽면에 백 코트제를 도포하고, 상기 오목 구멍 내부에 백 코트제를 충전하고, 백 코트층을 형성하는 공정과, 백 코트층을 형성한 면과 반대의 면을 식각하여, 제 1 식각 공정으로 형성된 오목 구멍을 통하는 오목 구멍을 형성하는 제 2 식각 공정과, 백 코트층과 식각 레지스트를 제거하는 박리 공정을 적어도 포함하는 섀도우 마스크의 제조 방법으로서, 백 코트층을 형성하는 공정에 있어서, 상기 백 코트제를 이용하여, 자외선 조사에 의해 경화시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 인원자 함유의 광중합성 화합물, 카르복실기를 갖는 광중합성 화합물을 포함하고, 25℃ 에서의 표면 장력이 30∼50mN/m의 범위내에 있기 때문에, 금속 재료 표면에 대해 젖음성과 밀착성이 양호하다. 따라서, 미세한 요철을 갖는 재료 표면에, 기포를 생기게 하지 않고 미소 오목부내에도 양호하게 충전되도록 균일하게 도포할 수 있음과 동시에, 경화후의 도포막은, 금속 재료 표면에 대한 뛰어난 밀착성을 나타내기 때문에, 식각 공정에 있어서의 내성이 뛰어나고, 또한 반송 공정등에 있어서 박리되지도 않는다. 더구나, 카르복실기를 갖는 광중합성 화합물을 함유하기 때문에, 알칼리 처리에 의한 용해·박리성도 양호하다.
또한, 상기(a)∼(e)의 각 성분을 함유하는 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖고, 또한 인원자를 갖는 화합물(상기 (a)성분)을 포함하고, 더욱이 2종 이상의 광중합성 화합물(상기 (b)성분 및 (c)성분)을 포함한다. 따라서, 자외선 경화성이 보다 한층 뛰어나고, 오목 저부에서의 경화 불량을 생기게 하지 않고, 자외선의 조사에 의해 쉽게 단시간에 경화시킬 수 있음과 동시에, 경화후의 도막은, 금속재에의 밀착성이 뛰어나고, 산처리에 대해 내식성을 나타내며, 알칼리 처리에 대해서는 용해·박리성을 나타낸다고 하는 특성을 갖는다.
따라서, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 각종 식각 보호재, 특히 섀도우 마스크의 백 코트제로서 유리하게 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 조성물에 있어서는, 고점도에서의 도공이 가능하기 때문에, 미소 오목부의 엣지부의 막두께도 충분히 확보된 균일한 도막을 형성할 수 있다. 그 결과, 경화 도포막의 식각 내성이 향상되고, 대형 브라운관에 사용되는 두꺼운판의 섀도우 마스크의 장시간 식각에도 충분히 대응할 수 있다. 더욱이, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 실질적으로 무용제형의 조성물이며, 안전성이 높은 동시에, 취급시에 피부에 대한 자극성이 낮다고 하는 이점을 갖고, 또한 종래의 알칼리성 용액에 가용성막을 형성하는 수지를 물 또는 유기용제에 용해시킨 조성물을 이용하지 않아도 되고, 종래법에서 필요했던 물 또는 유기용제를 증발시키기 위한 건조로 및 용제의 회수장치는 불필요하며, 단시간 경화에 의한 생산성 향상, 건조 공정등의 에너지 가격의 저감, 대폭적인 공정 생략을 꾀할 수 있고, 또한 설비의 간략화를 기대할 수 있는 등, 그 공업적 가치가 매우 높다.
이하, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물을 구성하는 각 성분에 관해 설명한다. 우선, 상기 (a)성분은, 1분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기(이하(메타)아크릴로일기라 총칭한다)를 갖고, 또한 인원자를 갖는 화합물로서, 경화 도포막의 섀도우 마스크재료에의 밀착 강도, 식각 내성의 향상에 기여하는 것이다. 이러한 화합물 (a)의 구체예로서는, 이하에 예시하는 것과 같은 알킬포스페이트의 에스테르화물을 들 수 있다.
상기 에스테르 화합물의 구체적인 예로서는, 메타크릴로일옥시에틸포스페이트, 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트나, 모노크롤 초산 포스핀(메타)아크릴레이트, 모노플루오로초산포스핀(메타)아크릴레이트, 프로피온산포스핀(메타)아크릴레이트, 옥틸산포스핀(메타)아크릴레이트, 바서틱산포스핀(메타)아크릴레이트, 팔티민산포스핀(메타)아크릴레이트, 클레소틴산포스핀(메타)아크릴레이트, 나프트에산포스핀(메타)아크릴레이트, 안식향산포스핀(메타)아크릴레이트, 트리클로로페녹시초산포스핀(메타)아크릴레이트. 디클로로페녹시초산(메타)아크릴레이트, 키노인카르본산포스핀(메타)아크릴레이트, 니트로안식향산포스핀(메타)아크릴레이트, 니트로나프탈렌카르본산 포스핀(메타)아크릴레이트, 프루빈산포스핀(메타)아크릴레이트등, 및 상기 화합물의 에틸렌 옥시드 부가물, 프로필렌 옥시드 부가물등을 들 수 있다.
이들 화합물은, 단독으로, 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서중에 있어서 (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 총칭하는 용어로서 사용되고 있다.
상기 (a)성분의 바람직한 배합량은, 상기 (b)성분 및 (c)성분의 합계량 100 중량부(이하, 부란 중량부를 의미한다)당, 0.5∼10부, 보다 바람직하게는 1∼5부이다. (a)성분의 배합량이 0.5부보다 적은 경우, 경화 도포막의 밀착성이 저하하고, 더욱이 식각 내성도 저하하기 쉽다. 한편, 배합량이 10부보다 많은 경우, 경화 도포막의 알칼리 용해·박리성이 불충분하다.
상기 (b)성분은, 1분자중에 1개의 카르복실기 및 1개의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물이며, 예를 들어 2염기산 무수물과 1분자중에 적어도 1개의 히드록시기 및 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 단량체와의 모노에스테르 화합물이 있다.
2염기산 무수물로서는, 프탈산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물, 에틸테트라히드로프탈산 무수물, 프로필테트라히드로프탈산 무수물, 부틸테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물, 메틸헥사히드로프탈산 무수물, 에틸헥사히드로프탈산 무수물, 프로필헥사히드로프탈산 무수물, 이소프로필헥사히드로프탈산 무수물, 부틸헥사히드로프탈산 무수물, 말레인산 무수물, 호박산 무수물등을 들 수 있다. 또한, 1분자중에 적어도 1개의 히드록실기 및 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 예를 들어, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아 크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리카프로랙텀모노(메타)아크릴레이트등을 들 수 있다.
상기 모노 에스테르 화합물의 합성은, 산무수물과 단량체의 개환(開環) 부가 반응에 의해 이루어지는 것이 바람직하지만, 통상의 에스테르화 반응에 의해 합성할 수도 있다. 이들 모노 에스테르 화합물을 합성하는 경우, 산무수물 1몰에 대해 단량체 1몰을 사용하는 것이 바람직하지만, 한쪽을 과잉되게 사용해도 상관없다. 상기 개환 부가 반응에 있어서의 반응 온도는, 통상 50∼150℃, 바람직하게는 80∼110℃의 범위이다. 상기 개환 부가 반응을 행하는 경우, 촉진제로서 트리에틸아민, 몰포린, 트리에탄올 아민등의 제 3급 아민류, 또는 그 제 4급 암모늄염등을 사용할 수 있다. 또한, 반응중에 중합이 생기는 것을 막기 위해서, 히드로키논, 부틸히드로키논, 부틸카테콜, 페노치아딘등의 중합 금지제를 사용할 수도 있다. 상기 개환 부가 반응의 진행은 산무수물의 적외 흡수 스펙트럼에 의해 쉽게 알 수 있고, 산무수물의 적외 흡수 스펙트럼 피크의 소실에 의해 반응이 완료됐다고 간주할 수 있다.
상기 모노 에스테르 화합물의 구체예로서는, 예를 들어 (메타)아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시프로필모노프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시부틸모노프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시에틸모노테트라히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시프로필모노테트라히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시부틸모노테트라히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시에틸모노헥사히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시프로필모노헥사히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일 옥시부틸모노헥사히드로프탈레이트, (메타)아크릴로일옥시에틸모노삭시네이트, (메타)아크릴로일옥시프로필모노삭시네이트, (메타)아크릴로일옥시부틸삭시네이트, (메타)아크릴로일옥시에틸말레이트등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 (b)성분의 바람직한 배합량은, 상기 (a)성분 및 (c)성분의 합계량 100부 당, 50∼90부, 보다 바람직하게는 60∼85부이다.
(b)성분의 배합량이 50부보다 적은 경우, 경화 도포막의 알칼리 용해·박리성이 충분하지 않고, 한편, 배합량이 90부보다 많은 경우, 수지 조성물의 고점도화에 기인하여 미소 오목부에의 충전성, 표면 평활성이 저하하기 쉽고, 또한, 경화 도포막이 물러지기 쉽다고 하는 문제가 있다.
상기 (c)성분은, 1분자중에 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로서, 경화 도포막의 경화 특성의 향상에 기여하는 것이다. 이와 같은 화합물(c)로서는, 예를 들어 다가(多價) 알콜과 (메타)아크릴산과의 반응 생성물(여기서, (메타)아크릴산이란, 아크릴산, 메타크릴산 또는 그것들의 혼합물을 의미한다.), 다염기산 또는 그 무수물과 (메타)아크릴산과의 반응생성물, 분자중에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물과 (메타) 아크릴산과의 반응 생성물, 분자중에 1개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메타)아크릴레이트와의 반응 생성물등을 들 수 있다. 이러한 (c)성분에는, 이하에 예시한 바와 같은 분자중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과, 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 포함되고, 이들 중 어느것인가를 사용할 수 있 는데, 바람직하게는 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물, 특히 바람직하게는, 상기 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물 중, 1종 또는 2종 이상의 화합물을 병용하는 것이 수지 조성물의 자외선 경화성이나 점도 조정을 하기 쉽고, 경화 도포막의 특성등의 점에서 바람직하다.
상기 (c)성분 중, 분자중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물은 조성물의 점도나 경화 도포막의 특성의 조정에 유효하고, 그 구체예로서는, 프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트등의 알킬(메타)아크릴레이트류, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 벤조일옥시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 히드록시페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜틸옥시에틸(메타)아크릴레이트등의 환상(메타)아크릴레이트류, 디알킬아미노에틸(메타)아크릴레이트, 시아노에틸(메타)아크릴레이트등의 아미노 알킬(메타)아크릴레이트류, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴록시에틸포스페이트, 플로로알킬(메타) 아크릴레이트, 술포프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트류, 우레탄(메타)아크릴레이트류, 디에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨모노 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨모 노(메타)아크릴레이트, 디메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 트리글리시딜이소시아누레이트모노(메타)아크릴레이트, 테트라페닐메탄형 에폭시-모노(메타)아크릴레이트, 트리스페닐메탄형에폭시-모노(메타)아크릴레이트, 글리세린디글리시딜에테르모노(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 모노(메타)아크릴레이트, 멜라민모노(메타)아크릴레이트, 및 상기 화합물의 에틸렌옥시드 부가물, 프로필렌옥시드 부가물등의 단관능 화합물을 들 수 있다. 이들 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물은 경화 도포막의 경화 특성의 조정에 유효하고, 그 구체예로서는 1,6 -헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트등의 알킬디올의 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨-디, -트리 또는 -테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨-디, -트리, -테트라, -펜타 또는 -헥사(메타)아크릴레이트, 디메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판-디 또는 -트리(메타)아크릴레이트, 쇼와 고분자(주) 제조: 리폭시 SP-4010등의 페놀 노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트, 크레졸노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트, 쿄에이샤 화학(주)제조: 에폭시 에스테르 3000A 등의 비스페놀 A형 에폭시-디(메타)아크릴레이트, 트리글리시딜이소시아누레이트-디 또는 -트리(메타)아크릴레이트, 테트라페닐메탄형 에폭시-디, -트리 또는 -테트라(메타)아크릴레이트, 트리스페닐메탄형 에폭시-디 또는 -트리(메타)아크릴 레이트, 글리세린디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산-디 또는 -트리(메타)아크릴레이트, 멜라민-디 또는 -트리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트류, 아미노알킬(메타) 아크릴레이트류, 및 상기 화합물의 에틸렌 옥시드 부가물, 프로필렌 옥시드 부가물등의 다관능 화합물을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 (c)성분의 바람직한 배합량은, 상기 (a)성분 및 (b)성분의 합계량 100부 당, 10∼50부, 보다 바람직하게는 15∼40부이다. (c)성분의 배합량이 10부보다 적은 경우, 수지 조성물의 고점도화에 기인하여 미소 오목부에의 충전성, 표면 평활성이 나빠지고, 또한 경화 도포막이 물러지기 쉽고, 더욱이 식각 내성도 저하되기 쉬워진다. 한편, 배합량이 50부보다 많은 경우, 경화 도포막의 알칼리 용해·박리성이 불충분하다. 한편, 상기 분자중에 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 성분과, 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 성분을 병용하는 경우, 분자중에 1개의(메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 성분의 배합량은, 상기 (a)성분 및 (b)성분의 합계량 100부 당, 0∼20부, 보다 바람직하게는 0∼15부이며, 한편, 분자중에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 성분의 배합량은 5∼45부, 보다 바람직하게는 15∼35부이다. 이들 (c)성분의 배합량이 상기 범위보다도 낮은 경우, 혹은 높은 경우의 불이익도 상기와 마찬가지다.
상기 (d)성분의 레벨링제는, 조성물의 미소 오목부에의 충전성, 경화 도포막의 표면 평활성, 조성물의 소포성 및 표면 장력을 조정하는 성분이다. 일반적인 소포제, 표면 평활제, 습윤 분산제등을 사용함으로써 충분히 목적을 달성할 수 있지 만, 표면 장력을 너무 내리지 않는 화합물이 바람직하고, 그와 같은 화합물로서는, 저급 알콜류, 유기 극성 화합물류, 광물유류, 실리콘 수지류등을 들 수 있다. 구체적인 화합물로서는, 폴리옥시알킬렌 유도체, 아크릴 공중합체, 지방산 유도체, 실리콘 오일등이 있고, 이들 화합물을 단독으로 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다.
(d)성분의 바람직한 배합량은, 상기 (a)성분, (b)성분 및 (c)성분의 합계량 100부 당, 0.05∼5부, 보다 바람직하게는 0.1∼2부이다. (d)성분의 배합량이 0.05보다 적은 경우, 미소 오목부에의 충전성, 표면 평활성, 또한 조성물의 소포성에 문제가 생기기 쉽고, 한편, 배합량이 5부보다 많은 경우, 표면 장력 저하에 기인하여 조성물 도포시의 클리에이터, 플로우팅, 오렌지필, 피시 아이가 생기기 쉽고, 또한, 조성물의 소포성등의 문제도 생기기 쉬워진다.
상기 (e)성분의 광 개시제로서는, 자외선 경화성 수지 조성물의 광경화성을 충분히 발휘시키기 때문에, 일반적인 광 중합 개시제를 사용할 수가 있다. 본 발명에 사용되는 광 중합 개시제로서는, 공지의 어떠한 광중합 개시제라도 사용할 수 있으나, 배합후의 조성물의 열안정성, 저장 안정성이 뛰어난 화합물이 바람직하다. 이러한 광 중합 개시제로서는, 벤조인이소프로필에테르등의 벤조인알킬에테르류, 디에틸아세트페논등의 아세트페논류, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온등의 프로피오페논류, 2-에틸안트라키논등의 안트라키논류, 이소프로필티옥산톤등의 티옥산톤류, 및 벤질디메틸케탈등의 케탈류등을 들 수 있다. 이들 광 개시제는, 단독으로, 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수가 있다. 그 바람직한 배합량은, 상기 (a)성분, (b)성분 및 (c)성분의 합계량 100부 당, 1∼10부, 보다 바람직하게는 2∼8부이다. 광 개시제의 배합량이 1부보다 적은 경우, 조성물의 경화 불량을 초래하거나 내산성이 저하하기 쉽고, 한편, 배합량이 10부보다 많은 경우, 자외선 조사시에 중합도가 오르지 않고, 역시 내산성이 저하하기 쉽다. (e)성분으로서는, 광중합 개시제와 함께 광증감제를 병용해도 좋다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 상기한 바와 같이 25℃ 에서의 표면 장력이 30 mN/m 이상, 50 mN/m 이하의 범위내에 있다. 보다 바람직한 표면 장력은 35 mN/m 이상, 45 mN/m 이하이다. 자외선 경화성 수지 조성물의 표면 장력은, 상기 (a)∼(e)의 각 성분을 선택하여 사용함으로써 용이하게 조정할 수 있다. 또한, 조성물의 점도는, 종래, 미소한 오목부에의 충전성의 관점에서 낮을수록 좋고, 보다 바람직한 것은 100 cps 이하로 생각되어 왔다. 그러나, 이러한 종래의 생각과 달리, 선 발명(특개평 10-306124호 공보)에 의해 조성물의 표면 장력을 조정함으로써, 종래 도공이 곤란했던 점도 100cps 보다 높은 점도의 자외선 경화성 수지 조성물로도 용이하게 도공할 수가 있고, 또한, 1,000 cps 이상의 조성물이어도 도공이 가능한 것을 알 수 있고, 본 발명의 조성물에도 적응 가능한 것이 연구 결과 확인되었다. 25℃ 에서의 표면 장력이 30 mN/m 미만인 경우, 표면 장력 저하에 기인하는 도포막의 클리에이터, 플로우팅, 오렌지필, 피시아이등이 생기고, 또한, 조성물의 발포를 생기게 하여 소포성등의 점에서 문제가 있고, 지름이 다른 반구 형상 또는 각모양의 다수의 미소 오목부에 기포의 생성 없이 균일하게 충전하여 도포막 표면의 평활성을 유지하는 것은 곤란하다. 또한, 25℃ 에서의 표면 장력이 50 mN/m를 넘는 경우, 표면 장력이 높기 때문에, 도포하는 재료에 대한 젖음성이 떨어지고, 역시 균일하게 미소 오목부에 충전하고, 도포막 표면의 평활성을 유지하기 어렵다.
마찬가지 이유에서, 고점도의 자외선 경화성 수지 조성물을 도공하기 쉽게 할 목적으로 온도를 올린 경우(예를 들어, 50℃)라도, 표면 장력이 30 mN/m 이상, 50 mN/m 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.
특히, 섀도우 마스크의 제조공정에 있어서는, 백 코트제를 미소 오목한 구멍내에 충전할 때의 충전성을 규제하는 요소는, 상기 표면 장력과 관계하는 접촉각이다. 백 코트제로서 적절히 접촉각을 규정한 자외선 경화성 수지 조성물을 이용하고, 상기 자외선 경화성 수지 조성물을 미소 구멍의 측벽에 접촉시킬 수 있는 도공 방법을 이용하면, 쉽게 미소 구멍에의 충전이 가능하다. 즉, 본 발명의 섀도우 마스크의 제조방법에 있어서는, 바람직하게는, 사용하는 섀도우 마스크 기재에 대한 접촉각이 25도 이하가 되도록 규정된 자외선 경화성 수지 조성물을 백 코트제로서 이용한다.
여기서 말하는 접촉각이란, 도 1에 나타낸 바와 같이, 섀도우 마스크 기재(11)상에 자외선 경화성 수지 조성물의 액적(液滴)을 살며시 적하했을 때에 생기는 적호(滴弧)모양의 액적(12)의, 섀도우 마스크 기재(11) 표면과 이루는 접선(13) 방향의 각도 θ라 정의한다. 이러한 접촉각 θ는, 예를 들어, 쿄와 카이멘 화학(주)제조의 접촉각계를 이용하여 간단히 측정할 수 있다. 실제의 섀도우 마스크 제조 공정에서는, 백 코트제를 도포, 충전하는 면은, 미소 구멍내의 식각 처 리된 면과, 제1 식각 공정에 있어서는 식각 레지스트로 덮이고, 백 코트제를 도포, 충전하기 전에 알칼리계 용액으로 식각 레지스트가 박리된 면의 2개의 면을 포함하며, 이 양자의 기재 표면에 대해 접촉각이 25도 이하가 되도록 조정한다. 또한, 제1 식각공정 종료후에 소구멍측의 식각 레지스트를 박리 제거하지 않고 백 코트제를 도포, 충전하는 경우에 있어서도, 식각 레지스트에 대한 접촉각이 25도 이하인 것이 필요하다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 미소 구멍내의 식각 처리된 면, 제1 식각 공정에 있어서는 식각 레지스트로 덮이고, 백 코트제를 도포, 충전하기 전에 알칼리계 용액으로 식각 레지스트가 박리된 면, 및 소구멍측에 남을지도 모르는 식각 레지스트면의 어떠한 섀도우 마스크 기재면에 대해서도 접촉각이 25도 이하가 되도록 조정할 수 있기 때문에, 백 코트층 형성 공정에서 미소 구멍을 형성하는 오목부 측벽에 상기 자외선 경화성 수지 조성물로 이루어지는 백 코트제를 접촉시킬 수 있는 도공 방법이 적절히 선택되면, 튕김이나 기포의 발생도 없고 미소 구멍내에의 완전한 충전이 용이해진다. 접촉각이 25도 이하이면, 종래 도공이 곤란했던 점도 100 cps 이상의 자외선 경화성 수지 조성물이라도 액의 수송이 가능하다면 미소 구멍내에의 충전은 쉽게 행할 수 있다. 따라서, 종래 도공시에 가온하여 점도를 내리는 시도도 행해졌는데, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물에서는 상온에서의 도공도 가능해지고, 도공 장치를 간략화할 수 있다.
또한, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 섀도우 마스크 기재에 대해서도 접촉각이 25도 이하가 되도록 용이하게 조정할 수 있기 때문에, 도공후의 ( 열)레벨링이 불필요하며, 이러한 면에서도 도공 장치를 간략화할 수 있음과 동시에, 도공 표면이 일정한 백 코트층을 쉽게 얻을 수 있다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물을 도포하는 방법으로서는, 롤 코트법, 스프레이 코트법, 플로우 코트법, 딥 코트법 등의 통상의 도포 방법을 이용할 수 있다. 한편, 수지 조성물을 실온 이상의 온도로 가온하는 것은 조성물의 점도 저하에 의해 미소 오목부내에의 충전성이 향상되므로, 장치등의 제한이 없는 경우 바람직한 조작이다. 특히 섀도우 마스크의 제조에 있어서의 백 코트층의 형성에 있어서는, 다이렉트 코트법, 그라비아 코트법, 마이크로 그라비아 코트법, 밀어넣기 코트법, 닥터노즐 코트법등을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 통상법에 의해, 고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프등으로 자외선을 조사함으로써 경화시킬 수 있다.
이어서, 섀도우 마스크의 제조방법의 바람직한 형태에 관해 도 2 및 도 3A 내지 도 3G를 참조하여 설명한다. 도 2 및 도 3A 내지 도 3G는, 섀도우마스크의 제조공정의 흐름과 금속 박판 단면 형상의 변화를 나타낸다.
우선, 금속 박판(21)을 기재로 하고, 압연유나 녹 방지유등의 탈지의 목적으로 알칼리계 용액을 이용하여 탈지, 세정, 세탁을 하고, 도 3A에 나타낸 바와 같이, 금속 박판(21)의 양면에 감광제, 예를 들어 카제인과 중크롬산 암모늄으로 이루어진 감광제를 소정의 두께가 되도록 딥핑법에 의해 도포하고 건조하여 두께 수 ㎛의 감광막(22)을 형성한다 (감광막 형성 공정).
이어서 도 3B에 나타낸 바와 같이, 상기 양면의 감광막(22)에, 섀도우 마스 크의 열린 구멍의 전자총측의 소구멍에 대응하는 패턴이 형성된 포토마스트(23a)와, 섀도우 마스크의 열린 구멍의 형광 스크린측의 대구멍에 대응하는 패턴이 형성된 포토마스크(23b)로 이루어진 한 쌍의 포토마스크를 각각 밀착하여 자외광에 의해 노광하고, 이들 포토마스크(23a) 및 (23b)의 패턴대로 경화시킨다(노광 공정).
이 후, 소정의 패턴대로 경화된 양면의 감광막(22)을, 현상액, 예를 들어 물을 이용하여 현상하고, 미감광부를 제거하여, 건조, 경막 형성을 위한 베이킹을 행하고, 도 3C에 나타낸 바와 같이, 상기 한 쌍의 포토마스크(23a, 23b)의 패턴에 대응하는 패턴을 갖는 식각 레지스트 패턴(24a, 24b)을 형성한다 (현상·베이킹 공정).
그 후, 도 3D에 나타낸 바와 같이, 섀도우 마스크의 열린 구멍의 형광 스크린측의 대구멍에 대응하는 식각 레지스트 패턴(24b)이 형성된 면측에, 수지 필름에 점착제를 도공한 보호 필름(25b)을 점착하고, 섀도우 마스크의 열린 구멍의 전자총측의 소구멍에 대응하는 식각 레지스트 패턴(24a)이 형성된 면측을, 식각액, 예를 들어 염화 제2철 용액을 사용하여 스프레이 식각하고, 수세하여, 상기 식각 레지스트 패턴(24a)이 형성된 면측에 섀도우 마스크의 전자총측의 소구멍(26a)을 형성한다 (제1 식각공정).
이어서, 식각이 종료된 소구멍측의 식각 레지스트 패턴(24a)을 알칼리계 용액으로 박리, 수세하고, 식각 레지스트 패턴(24b)상에 점착된 보호 필름(25b)을 제거하고, 도 3E에 나타낸 바와 같이, 소구멍(26a)내에, 상기와 같은 자외선 경화성 수지 조성물로 이루어진 백 코트제를 도포, 충전하고, 노광하여 경화시키고, 백 코 트층(27)을 형성한다 (백 코트층 형성공정).
이 후, 도 3F에 나타낸 바와 같이, 식각 레지스트 패턴(24b)이 형성된 면측을, 염화 제2철 용액등의 식각액을 사용하여 식각하고, 수세하여, 상기 식각 레지스트 패턴(24b)이 형성된 면측에, 섀도우 마스크의 형광 스크린측의 대구멍(26b)을 형성한다(제2 식각공정).
마지막으로, 알칼리계 용액으로 대구멍(26b)이 형성된 면측의 식각 레지스트 패턴(24b) 및 소구멍(26a)이 형성된 측의 백 코트층(27)을 박리 제거하여, 도 3G에 나타낸 바와 같이, 소구멍(26a)과 대구멍(26b)이 연통된 열린 구멍(28)을 형성한다 (마무리 공정).
이상과 같은 2단 식각법으로 고정세, 고품질의 섀도우 마스크가 형성된다.
도 1은 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물을 규정하는 접촉각을 설명하기 위한 도이다.
도 2는 본 발명의 섀도우 마스크의 제조방법에 있어서의 각 공정의 플로우 챠트이다.
도 3A 내지 도 3G는 본 발명의 섀도우 마스크의 제조방법에 있어서의 각 공정에서의 금속 박판의 단면 형상의 변화를 나타낸 부분 단면도이다.
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명에 관해 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명이 이들 실시예에만 한정되는 것이 아님은 물론이다.
실시예 1
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 20부, (d)성분으로서 부타디엔 공중합물 (빅케미·재팬(주)제조: BYK-055)을 0.2부를 60℃로 가열 혼합한 조성물에, (e)성분으로서 벤질디메틸케탈 5부를 용해 혼합하고, 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 2
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시프로필모노테트라히드로프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 1,9-노난디올디아크릴레이트를 20부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 3
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸헥사히드로모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트를 20부 배합한 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 4
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노삭시네이트를 100부, (c)성분으로서 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 EO 부가물(쿄에이샤화학(주)제조: 라이트아크릴레이트 TMP-3EO-A)을 20부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지조성물을 얻었다.
실시예 5
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(PEG#200의 아크릴레이트화물)를 20부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 6
(a)성분으로서 메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c-1)성분으로서 2-히드록시에틸메타크릴레이트를 15부, (c-2)성분으로서 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 EO 부가물(쿄에이샤화학(주)제조: 라이트아크릴레이트 TMP-3EO-A)을 15부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 7
(a)성분으로서 메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 30부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 8
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 10부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타 크릴레이트를 20부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 9
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 0.7부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 20부 배합한 이외는, 실시예1과 마찬가지로자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 10
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 15부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
실시예 11
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 50부 배합한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
비교예 1
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타 크릴레이트를 20부, (d)성분으로서 불소계 계면 활성제(다이닛폰 잉크 화학 공업(주)제조: 메가파크 F-177)를 0.2부를 60℃로 가열 혼합한 조성물에, (e)성분으로서 벤질디메틸케탈 5부를 용해 혼합하고, 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
비교예 2
(a)성분을 첨가하지 않고, (b)성분으로서 아크릴로일옥시프로필모노테트라히드로프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 EO 부가물(쿄에이샤화학(주)제조: 라이트아크릴레이트 TMP-3EO-A)을 20부 배합한 이외는, 비교예 1과 마찬가지로 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
비교예 3
(a)성분을 첨가하지 않고, (b)성분으로서 아크릴로일옥시프로필모노테트라히드로프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 EO 부가물(쿄에이샤화학(주)제조: 라이트아크릴레이트 TMP-3EO-A)을 20부, (d)성분으로서 부타디엔 공중합물(빅케미·재팬(주)제조: BYK-055)을 0. 2부를 60℃로 가열 혼합한 조성물에, (e)성분으로서 벤질디메틸케탈 5부를 용해 혼합하고, 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
비교예 4
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 2부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 50부, (d)성분으로서 불소계 계면 활성제(다이닛폰 잉크 화학공업(주)제조: 메가파크 F-177)를 0.2부를 60℃로 가열 혼합한 조성물에, (e)성분으로서 벤질디메틸케탈 5부를 용해 혼합하고, 자외선 경화성 수지 조성물을 얻었다.
비교예 5
(a)성분으로서 비스메타크릴로일옥시에틸포스페이트를 150부, (b)성분으로서 아크릴로일옥시에틸모노프탈레이트를 100부, (c)성분으로서 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트를 20부, (d)성분으로서 부타디엔 공중합물(빅케미·재팬(주)제조: BYK-055)을 0.2부를 60℃로 가열 혼합한 조성물에, (e)성분으로서 벤딜디메틸케탈 5부를 용해 혼합하고, 자외선 경화성 수지조성물을 얻었다.
상기 실시예1∼11 및 비교예1∼5의 조성을 표1에 정리하여 나타낸다.
상기 실시예1∼11 및 비교예1∼5에서 얻은 각 자외선 경화성 수지 조성물을, 1차 식각을 종료한 섀도우 마스크에, 바 코터를 사용하여 막 두께 15∼20 마이크론이 되도록 도포한 후, 80 kW/cm의 고압 수은등을 이용하여 자외선을 조사하고, 도포막 표면의 택(tack)이 없는 것으로부터, 조성물 도포막이 경화된 것을 확인했다. 경화 도포막의 특성을 평가한 바 표 2에 나타낸 결과가 얻어졌다.
또한, 실시예 5의 자외선 경화성 수지 조성물을 50℃로 가열한 후, 1차 식각을 종료한 섀도우 마스크에 바 코터로 도포하고, 마찬가지로 고압 수은등을 이용하여 경화시켰다. 경화 도포막의 특성 평가를 한 결과, 표 2에 나타낸 충전성의 △가 ○이 되고, 조성물의 미소 오목부에의 충전성을 향상시킬 수 있었다.
Figure 112002008113548-pct00001
Figure 112002008113548-pct00002
한편, 상기 실시예1∼11 및 비교예1∼5의 각 조성물 및 그 경화물에 있어서의 각종 특정치의 평가는 이하의 방법으로 행했다.
점도:
25℃ 및 50℃ 에서의 각 조성물의 점도를 E형 점도계를 사용하여 측정했다.
표면 장력:
25℃ 및 50℃ 에서의 각 조성물의 표면 장력을 다이노메타(듀누이법)를 이용하여 측정했다.
접촉각:
우선, 평가용의 섀도우 마스크 기재로서 다음 3종류를 준비했다.
즉, 5cm 각의 0.12 mm의 판 두께를 갖는 인바(invar)재를 3장 준비하고, 압연유나 녹 방지유등의 탈지의 목적으로 알칼리계 용액을 사용하여 탈지 세정, 수선 후, 한쪽 면에 카제인과 중크롬산 암모늄으로 이루어진 감광제를 도포, 건조하여 감광층을 형성했다. 이 후, 2장은 전면을 자외광에 의해 노출했다. 이 후, 현상액의 물로 수세하고, 건조하고, 베이킹했다. 이 후, 비중 1.500, 액온 70℃의 염화 제2철 용액에 15분 침지하고, 수세하고, 에어 나이프로 건조하고, 2장 중 1장은 여기서 제1 샘플로 했다. 이 후, 1장은 액온 90℃의 8% NaOH 수용액으로 감광층을 박리하고, 수세하고, 에어 나이프로 건조하고, 제2 샘플로 했다. 감광층을 형성한 나머지 1장은노출 없이 현상하여 감광층을 제거하고, 염화 제2철 용액(비중 1.500, 액온 70℃, 유리 염산 농도 0.2%)에 15분 침지하고, 수세하고, 에어 나이프로 건조하여 제3 샘플을 얻었다. 이들 3종류의 섀도우 마스크 기재상에 쿄와 계면 과학( 주)제조 접촉각계 CA-X를 사용하여 각 조성물을 적하하고, 접촉각을 측정했다.
충전성:
1차 식각을 종료한 섀도우 마스크에 각 자외선 경화성 수지 조성물을 도포했을 때의 미소 오목부에의 충전성을 눈으로 판정했다.
○:기포 없음.
△:약간의 기포 있음.
×:기포 있음
표면 평활성:
섀도우 마스크상에 도포한 각 조성물을 자외선의 조사에 의해 경화시킨 후, 경화물의 표면 상태를 눈으로 판정했다.
○:결함 없음.
×:피시 아이 또는 클리에이터 발생.
내식각성:
각 조성물에 의해 경화 도포막을 형성시킨 섀도우 마스크를 50% FeC13 수용액(유리 염산 농도 0.2%, 액온 75℃)에 15분간 침지시킨 후, 경화 도포막의 표면 상태를 눈으로 판정했다.
○:변화 없음.
×:벗겨짐, 변색 발생.
알칼리 용해·박리성:
각 조성물에 의해 경화 도포막을 형성시킨 섀도우 마스크를, 8% NaOH 수용액(액온 90℃)에 1분간 침지시킨 후, 경화 도포막의 용해·박리성을 눈으로 판정했다.
○:완전히 용해·박리했다.
×:용해·박리하지 않는다.
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은, 미세한 요철을 갖는 재료 표면에 기포의 생성 없이 도포되며, 자외선의 조사에 의해 용이하게 단시간에 경화시킬 수 있고, 경화후의 수지막이 산처리에 대해 내식성을 나타내며, 알칼리 처리에 대해서는 용해·박리성을 나타낸다고 하는 특성을 갖기 때문에, 식각 보호재, 특히 섀도우 마스크의 백 코트제로서 유용하다. 이러한 용도 외에도, 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물은 각종 산업에 있어서, 주형재료, 도료, 성형 재료등으로서 이용할 수 있다.

Claims (9)

  1. (a) 1분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖고, 또한 인원자를 갖는 화합물, (b) 1분자중에 적어도 1개의 카르복실기와 1개의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물, 및 (c) 1분자중에 1개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물을 함유하고, 상기 화합물 (a)의 배합량이, 상기 화합물 (b) 및 (c)의 합계량 100 중량부 당 0.5∼10 중량부이며, 25℃에 있어서의 표면 장력이 30∼50 mN/m인 자외선 경화성 수지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    더욱이 (d) 레벨링제 및 (e) 광 개시제를 함유하는 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 레벨링제 (d)가 부타디엔 공중합체인 조성물.
  4. 상기 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 자외선 경화성 수지 조성물로 이루어진 섀도우 마스크 제조에 사용하는 백 코트제.
  5. 제 4 항에 있어서,
    섀도우 마스크 기재에 대해 25도 이하의 접촉각을 나타내는 백 코트제.
  6. 띠 형상의 금속 박판으로 이루어진 섀도우 마스크 기재의 양면에 감광막을 형성하는 공정과, 감광막이 형성된 양면을 소정의 패턴을 따라 노광·현상하고, 소정의 패턴대로 일부 금속 표면을 노출시켜 식각 레지스트를 형성하는 공정과, 상기 식각 레지스트를 형성하여 금속 표면이 일부 노출된 금속 박판의 적어도 한쪽면을 식각하여, 적어도 상기 한쪽면의 금속 표면 노출부에 오목 구멍을 형성하는 제 1 식각 공정과, 상기 제 1 식각 공정에 있어서 형성된 오목 구멍을 갖는 한쪽면에 백 코트제를 도포하고, 상기 오목 구멍 내부에 백 코트제를 충전하고, 백 코트층을 형성하는 공정과, 백 코트층을 형성한 면과 반대의 면을 식각하여, 제 1 식각 공정에서 형성된 오목 구멍을 통과하는 오목 구멍을 형성하는 제 2 식각 공정과, 백 코트층과 식각 레지스트를 제거하는 박리 공정을 적어도 포함하는 섀도우 마스크의 제조 방법으로서, 백 코트층을 형성하는 공정에 있어서, 상기 제 4 항에 기재된 백 코트제를 이용하여, 자외선 조사에 의해 경화시키는 섀도우 마스크의 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    백 코트제를 도포하는 방법으로서, 다이렉트 코트법, 그라비아 코트법, 마이크로 그라비아 코트법, 밀어넣기 코트법, 및 닥터 노즐 코트법으로 이루어진 군에서 선택된 방법을 이용하는 방법.
  8. 제 6 항에 기재된 방법에 의해 제작된 섀도우 마스크.
  9. 제 7 항에 기재된 방법에 의해 제작된 섀도우 마스크.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6951623B2 (en) * 2001-11-02 2005-10-04 The Boeing Company Radiation curable maskant and line sealer for protecting metal substrates
JP4691877B2 (ja) * 2002-08-08 2011-06-01 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP2004264327A (ja) * 2003-01-22 2004-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
KR100692872B1 (ko) * 2004-02-04 2007-03-12 엘지전자 주식회사 마스크 및 그 제조방법과 그를 이용한 유기 전계 발광소자의 제조방법
JP4517229B2 (ja) * 2004-08-03 2010-08-04 ナガセケムテックス株式会社 シルセスキオキサン含有化合物及びその製造方法
WO2009118976A1 (ja) * 2008-03-27 2009-10-01 日新製鋼株式会社 エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物
JP5518311B2 (ja) * 2008-08-26 2014-06-11 日新製鋼株式会社 エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物
US20090286003A1 (en) * 2008-05-13 2009-11-19 Reynolds George H method of coating a turbine engine component using a light curable mask
US20110236959A1 (en) * 2010-03-23 2011-09-29 Wei Tuan Method of manufacturing planar bio-test strip and product thereof
JP6031938B2 (ja) * 2012-10-16 2016-11-24 東亞合成株式会社 活性エネルギー線硬化型液状パターン形成用組成物
JP6191221B2 (ja) * 2013-04-25 2017-09-06 凸版印刷株式会社 水系コーティング剤およびガスバリア性フィルム
CN104650281A (zh) * 2014-12-26 2015-05-27 北京鼎材科技有限公司 一种彩色滤光片用碱溶性树脂聚合物及光敏性树脂组合物

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3679500A (en) * 1970-08-07 1972-07-25 Dainippon Screen Mfg Method for forming perforations in metal sheets by etching
US3992477A (en) * 1974-12-31 1976-11-16 Ford Motor Company Protective coating composition
JPS54123160A (en) * 1978-03-17 1979-09-25 Ube Ind Ltd Photo-setting composition
JPS6051511B2 (ja) * 1978-12-22 1985-11-14 三菱レイヨン株式会社 機能性の優れた塗料組成物
JPS5590516A (en) * 1978-12-28 1980-07-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd Coating composition with excellent functionality
NL194278C (nl) * 1991-10-04 2001-11-05 Toa Gosei Chem Ind Hardbare samenstelling en werkwijze ter vervaardiging van een schaduwmasker onder toepassing daarvan.
JP3299371B2 (ja) * 1993-07-14 2002-07-08 三菱レイヨン株式会社 硬化性被覆材組成物
JP3134037B2 (ja) * 1995-01-13 2001-02-13 太陽インキ製造株式会社 メラミンの有機酸塩を用いた熱硬化性もしくは光硬化性・熱硬化性コーティング組成物
JP3603362B2 (ja) * 1995-01-18 2004-12-22 東亞合成株式会社 シャドウマスク製造用裏止め材用樹脂組成物
KR100530727B1 (ko) * 1996-10-02 2005-11-23 산요가세이고교 가부시키가이샤 감광성 조성물 및 그의 용도
JP3618195B2 (ja) * 1997-05-08 2005-02-09 株式会社東芝 紫外線硬化性樹脂組成物を用いたシャドウマスクの製造方法
JPH10307408A (ja) * 1997-05-08 1998-11-17 Toshiba Corp シャドウマスク用バックコート剤及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法
JP3677372B2 (ja) * 1997-05-08 2005-07-27 株式会社東芝 紫外線硬化性樹脂組成物
JPH10307390A (ja) * 1997-05-08 1998-11-17 Toshiba Corp 紫外線硬化性樹脂組成物及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法
JPH1192964A (ja) * 1997-09-16 1999-04-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd シャドーマスク用活性エネルギー線硬化性エッチングレジスト
JPH1192512A (ja) * 1997-09-17 1999-04-06 Toagosei Co Ltd シャドウマスク製造時の裏止め材用光硬化型組成物
JP3491532B2 (ja) * 1998-07-01 2004-01-26 東亞合成株式会社 シャドウマスク製造時の裏止め材用硬化型組成物

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Publication number Publication date
KR20020053813A (ko) 2002-07-05
US20020146629A1 (en) 2002-10-10
EP1219680A4 (en) 2005-03-30
JP2001092129A (ja) 2001-04-06
US6602643B2 (en) 2003-08-05
WO2001021708A1 (fr) 2001-03-29
CN1247689C (zh) 2006-03-29
EP1219680A1 (en) 2002-07-03
CN1376178A (zh) 2002-10-23

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