JPH10307408A

JPH10307408A - シャドウマスク用バックコート剤及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法

Info

Publication number: JPH10307408A
Application number: JP13441697A
Authority: JP
Inventors: Yasuhisa Otake; 康久大竹; Masaru Nikaido; 勝二階堂; Sachiko Hirahara; 祥子平原; Shigeaki Kurabayashi; 成明倉林; Nobuyuki Suzuki; 信之鈴木
Original assignee: Toshiba Corp; Taiyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp; Taiyo Holdings Co Ltd
Priority date: 1997-05-08
Filing date: 1997-05-08
Publication date: 1998-11-17

Abstract

(57)【要約】【課題】塗工時に塗工機によって発生する剪断速度に
よる粘度変化がなく、塗工性に優れると共に、耐エッチ
ング性及びエッチング後のアルカリ剥離性に優れたバッ
クコート層を形成できるシャドウマスク用バックコート
剤、及びそれを用いた充填性の優れたバックコート層塗
工方法を含むシャドウマスクの製造方法を提供する。【解決手段】２段エッチング法によるシャドウマスク
の製造方法のバックコート層形成工程において、剪断速
度を印加しながら測定した粘度が一定であるシャドウマ
スク用バックコート剤を用い、紫外線照射により硬化さ
せてバックコート層を形成する。好適には、バックコー
ト剤は、（ａ）分子中に１個のカルボキシル基及び１個
のアクリロイル基又はメタクリロイル基を持つ化合物、
（ｂ）分子中に１個以上のアクリロイル基又はメタクリ
ロイル基を持つ化合物、（ｃ）レベリング剤、及び
（ｄ）光開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物から
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー受像管用の
シャドウマスクの製造に用いて最適なシャドウマスク用
バックコート剤及びそれを用いたシャドウマスクの製造
方法に関し、特に高精細のカラー受像管用のシャドウマ
スクの製造に用いられる２段エッチング法と呼ばれる方
法において、シャドウマスクのバックコート層形成に用
いて最適な紫外線硬化性樹脂組成物からなるバックコー
ト剤及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】シャドウマスク型カラー受像管は、図８
に示すように、外囲器を構成する透明なバネル６１の内
面に設けられた赤、緑、青に発光する蛍光体層からなる
蛍光スクリーン６２から所定間隔離れて、その全面に多
数の開孔が所定の大きさとピッチで配列された色選別機
能を有するシャドウマスク６３が配置されており、この
シャドウマスク６３により、電子銃６４から放出された
電子ビーム６５は、シャドウマスク６３の開孔と幾何学
的に一対一の関係にある所定の蛍光体層のみに正しく衝
突するよう選別されている。このシャドウマスク６３に
は、図９（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、大別して開孔
形状が円形状のもの６３ａと、矩形状のもの６３ｂとが
有り、一般的には、文字や図形などを表示するカラーデ
ィスプレイ管には開孔形状が円形状のシャドウマスク６
３ａが、一般家庭で使用される動画像を表示するカラー
受像管には開孔形状が矩形状のシャドウマスク６３ｂが
用いられている。

【０００３】ところで、近年、文字や図形などを表示す
るカラーディスプレイ管については、益々の高精細化及
び高品質化が強く要求されている。一方、従来は動画像
のみを表示するカラー受像管についても、マルチメディ
ア管と称して、従来の動画像に加え、文字放送や、パソ
コンの端末として文字や図形などを表示でき、インター
ネットの使用に耐えられるように高精細化及び高品質化
が強く要求されている。シャドウマスクの開孔は、従来
よりフォトリソグラフィを用いたフォトエッチング法に
より形成され、特に、高精細及び高品質が要求される開
孔形状が円形状のカラーディスプレイ管用シャドウマス
ク及びマルチメディア管用の開孔形状が矩形状のシャド
ウマスクは、２段エッチング法と呼ばれる方法により形
成される。

【０００４】以下、２段エッチング法について図１０及
び図１１を参照して詳細に説明する。カラーディスプレ
イ管用シャドウマスクやマルチメディア管用のシャドウ
マスクは、アンバー材（Ｆｅ−３６ｗｔ％Ｎｉ合金）や
アルミキルド鋼などの金属薄板７１を基材とし、圧延油
や防錆油などの脱脂の目的でアルカリ系溶液を用いて脱
脂洗浄、水洗を行った後、図１１（Ａ）に示すように、
金属薄板７１の両面にカゼインや変性ＰＶＡ（ポリビニ
ルアルコール）と重クロム酸塩からなる感光剤を、所定
の厚さになるようにディピング法やキスコータなどを用
いて塗布し、乾燥し、感光膜７２を形成する（感光膜形
成工程）。次に、図１１（Ｂ）に示すように、この両面
の感光膜７２に、シャドウマスクの開孔の電子銃側の小
孔に対応するパターンが形成されたフォトマスク７３ａ
とシャドウマスクの開孔の蛍光スクリーン側の大孔に対
応するパターンが形成されたフォトマスク７３ｂからな
る一対のフォトマスクを密着して、紫外光により露光
し、これらフォトマスク７３ａ及び７３ｂのパターン通
りに硬化させる（露光工程）。

【０００５】この後、このパターン通りに硬化された両
面の感光膜７２を、水や水とアルコールからなる現像液
を用いて現像し、未感光部を除去し、乾燥、硬膜の為の
ベーキング（焼付け）を行ない、図１１（Ｃ）に示すよ
うに、上記一対のフォトマスク７３ａ，７３ｂのパター
ンに対応するエッチングレジストパターン７４ａ、７４
ｂを形成する（現像・焼付け工程）。その後、図１１
（Ｄ）に示すように、シャドウマスクの開孔の蛍光スク
リーン側の大孔に対応するエッチングレジストパターン
７４ｂが形成された面側に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレ
フタレート）、ＣＰＰ（キャスティングポリプロピレ
ン）などの耐エッチング性の樹脂フィルムに粘着剤を塗
工した保護フィルム７５ｂを貼着し、シャドウマスクの
開孔の電子銃側の小孔に対応するエッチングレジストパ
ターン７４ａの形成された面側を、塩化第二鉄溶液をエ
ッチング液に用いてエッチングし、水洗し、このエッチ
ングレジストパターン７４ａの形成された面側に、シャ
ドウマスクの電子銃側の小凹孔７６ａを形成する（第一
エッチング工程）。

【０００６】次に、エッチングの終了した小凹孔７６ａ
側のエッチングレジストパターン７４ａをアルカリ系溶
液で剥離、水洗し、エッチングレジストパターン７４ｂ
上に形成された保護フィルム７５ｂを取除き、図１１
（Ｅ）に示すように、小凹孔７６ａ内に例えばカゼイン
系の水溶性樹脂からなるバックコート剤を塗布、充填
し、乾燥硬化させ、バックコート層７７を形成し、更に
このバックコート層７７上に保護フィルム７５ａを貼着
する（バックコート層形成工程）。この後、図１１
（Ｆ）に示すように、エッチングレジストパターン７４
ｂの形成された面側を、塩化第二鉄溶液をエッチング液
に用いてエッチングし、水洗し、このエッチングレジス
トパターン７４ｂの形成された面側に、シャドウマスク
の蛍光スクリーン側の大孔７６ｂを形成する（第二エッ
チング工程）。最後に、保護フィルム７５ａを取除き、
アルカリ系溶液にて、大孔７６ｂが形成された面側のエ
ッチングレジストパターン７４ｂ及び小孔７６ａが形成
された側のバックコート層７７を剥離除去して、図１１
（Ｇ）に示すように、小孔７６ａと大孔７６ｂとが連通
した開孔７８を形成する（仕上げ工程）。

【０００７】以上のような２段エッチング法にて、高精
細、高品質のシャドウマスクが形成されるが、得られる
シャドウマスクの開孔径（小孔と大孔とが連通した開孔
の合致点の径）を、小孔側で制御しているということが
出来る。即ち、通常の両面からエッチングする方法で
は、小孔と大孔が合致した以降も小孔の横方向にエッチ
ングが進行するサイドエッチングが避けられず、正確な
開孔寸法のコントロールが難しいが、２段エッチング法
においては、小孔側の凹部にバックコート層を充填し、
第二のエッチング工程においては小孔はバックコート層
により被覆されており、エッチングされないようにし、
第一エッチング工程における正確な小孔パターンを維持
できるようにしているため、正確な開孔寸法のコントロ
ールが可能となる。

【０００８】このようにシャドウマスクの２段エッチン
グ法においては、小孔側の凹部へのバックコート層形成
が重要なプロセスとなるが、従来用いてきたバックコー
ト剤では、益々の高精細及び高品質が要求される開孔形
状が円形状のカラーディスプレイ管用シャドウマスク
や、カラーディスプレイ管用シャドウマスクに比べ板厚
の厚いマルチメディア管用の開孔形状が矩形状のシャド
ウマスクに適用する場合、以下に述べるような多くの問
題が生じる。まず、開孔形状が円形状のカラーディスプ
レイ管用シャドウマスクの場合、対角４１ｃｍのシャド
ウマスクでおよそ１２０万個〜１５０万個の、マルチメ
ディア管用の開孔形状が矩形状のシャドウマスクの場
合、対角６６ｃｍのシャドウマスクでおよそ５０万個〜
７０万個の開孔が存在し、これら全ての小孔側の凹部に
１個残らず正確にしかも気泡の巻き込みなくバックコー
ト剤を充填する必要がある。これらが完全に行われない
と、第二エッチング工程において、小孔側のサイドエッ
チングが進行し、開孔形状が拡大したり、所定の形状に
ならない孔径不良の原因となったり、孔径がばらつき、
ムラや品位を劣化させる原因となる。

【０００９】従来、シャドウマスクの２段エッチングに
用いられるバックコート剤としては、牛乳蛋白より抽出
されたカゼインが、また、カゼインと第二、第三の樹脂
との組合せが、特にコストが安いことから多用されてき
た。しかしながら、これらのバックコート剤は、図１２
の曲線８１に示すように、液に剪断速度が加わると粘度
が変化する特性を有する。また、一旦剪断速度が加わり
粘度が下がった液を再測定すると、曲線８２に示すよう
に一回目と違った挙動を示す。このため、塗工時に必ず
発生する剪断速度によって粘度が変化し、液の管理状態
や、塗工後オーバフローしている液と新液との混合状態
で、液特性が部分的に変るなどの問題が有り、正確な充
填がしずらかった。また、この剪断速度は、金属薄板の
走行速度によっても変化する為、走行速度を変えると充
填性が変化するという問題があった。

【００１０】ところで、開孔形状が円形状のカラーディ
スプレイ管用シャドウマスクの場合、シャドウマスク基
材として用いられる金属薄板の板厚は０．１０ｍｍ〜
０．１５ｍｍであり、これに第一エッチング工程におい
て０．０３ｍｍ〜０．０５ｍｍ程度の深さの微小凹孔が
設けられる。一方、マルチメディア管用の開孔形状が矩
形状のシャドウマスクの場合、音声を出すセットに組み
込まれるために、シャドウマスクが音によって振動し、
画像が乱れるハウリングと呼ばれる現象を避けるため、
通常０．１８ｍｍ〜０．２８ｍｍの板厚の金属薄板が使
用され、これに第一エッチング工程において０．０６ｍ
ｍ〜０．１０ｍｍ程度の深さの深い微小凹孔が設けら
れ、また、矩形状のため縦方向と横方向で充填特性が異
なるという問題も加わり、深い小凹孔に確実にバックコ
ート剤を充填する為には、ますます剪断速度の大きな塗
工装置が必要になってきており、剪断速度によって、粘
度が変化するという問題は益々深刻になってきている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
のカゼイン系のバックコート剤では、近年の益々の高精
細化、高品位の要求を満足するシャドウマスクを得るこ
とが困難になってきている。本発明は、このような状況
に鑑み、従来のバックコート剤が有する問題点を解決
し、シャドウマスク製造工程において使用するに最適な
バックコート剤を提供することと、このバックコート剤
の特性を最大限に発揮し、充填性の優れたバックコート
層を得ることができる塗工方法を含むシャドウマスクの
製造方法を提供することを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明によれば、剪断速度を印加しながら測定した
粘度が一定であることを特徴とするシャドウマスク用バ
ックコート剤が提供される。好適な態様においては、シ
ャドウマスク用バックコート剤は、（ａ）分子中に１個
のカルボキシル基及び１個のアクリロイル基又はメタク
リロイル基を持つ化合物、（ｂ）分子中に１個以上のア
クリロイル基又はメタクリロイル基を持つ化合物、
（ｃ）レベリング剤、及び（ｄ）光開始剤を含有する紫
外線硬化性樹脂組成物からなり、より好適な態様におい
ては、上記（ｂ）成分として、（ｂ−１）分子中に２個
以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を持つ化合
物を含有し、さらに好適な態様においては、上記（ｂ−
１）化合物と共に（ｂ−２）分子中に１個のアクリロイ
ル基又はメタクリロイル基を持つ化合物を併せ含有す
る。本発明のシャドウマスク用バックコート剤はまた、
実質的に無溶剤型の紫外線硬化性樹脂組成物であること
を特徴としている。ここでいう実質的に無溶剤型である
とは、有機溶剤に溶解して紫外線硬化性樹脂組成物に添
加する添加剤に起因する有機溶剤の総和が３％以下であ
ることを指す。

【００１３】さらに本発明によれば、シャドウマスクの
製造工程においてバックコート層形成に上記バックコー
ト剤を用いたシャドウマスクの製造工程も提供される。
本発明の方法は、帯状の金属薄板からなるシャドウマス
ク基材の両面に感光膜を形成する工程と、感光膜が形成
された両面を所定のパターンに従って露光・現像し、所
定のパターン通りに一部金属表面を露出させてエッチン
グレジストを形成する工程と、このエッチングレジスト
を形成し金属表面が一部露出した金属薄板の少なくとも
一方の面をエッチングして、少なくともこの一方の面の
金属表面露出部に凹孔を形成する第一エッチング工程
と、第一エッチング工程において形成された凹孔を有す
る一方の面に、バックコート剤を塗布し、この凹孔内部
にバックコート剤を充填し、バックコート層を形成する
工程と、バックコート層を形成した面と反対の面をエッ
チングして、第一エッチング工程で形成された凹孔に通
じる凹孔を形成する第二エッチング工程と、バックコー
ト層とエッチングレジストを除去する剥離工程とを少な
くとも含むシャドウマスクの製造方法であって、バック
コート層形成工程において、前記のように、剪断速度を
印加しながら測定した粘度が一定である本発明に係るシ
ャドウマスク用バックコート剤を用い、紫外線照射によ
り硬化させてバックコート層を形成することを特徴とし
ている。

【００１４】好適な態様においては、第一エッチング工
程において形成された凹部を有する一方の面にバックコ
ート剤を塗布する工程が、１０² （ｓ^-1）以上の剪断速
度を有する塗工方法からなる。このような１０²
（ｓ^-1）以上の剪断速度を有する塗工方法としては、ダ
イレクトコート法、グラビアコート法、マイクログラビ
アコート法、押し込みコート法、ドクタノズルコート法
などを用いることができるが、この目的が達成できる塗
工方法であれば、これに限定されるものではない。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスク用バック
コート剤は、剪断速度を印加しながら測定した粘度が一
定であることを特徴としている。この様な剪断速度を加
えながらの粘度の測定は、スイス、コントラバス社のレ
オマート（Rheomat ）粘度計、ドイツ、ハーケ（Haake
）社のロートヴィスコ（Rhotovisco）粘度計、ドイ
ツ、レオロジカ・インストルーメンツ（Reologica Inst
ruments ）社のストレス・テック（Stress Tech ）粘度
計を用いて容易に測定することができる。この特性を実
現する為に好適なシャドウマスク用バックコート剤は、
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の各成分を含む
紫外線硬化性組成物である。（ａ）分子中に１個のカル
ボキシル基及び１個のアクリロイル基又はメタクリロイ
ル基を持つ化合物、（ｂ）分子中に１個以上のアクリロ
イル基又はメタクリロイル基を持つ化合物、（ｃ）レベ
リング剤、及び（ｄ）光開始剤。

【００１６】本発明のシャドウマスク用バックコート剤
は、剪断速度を印加しながら測定した粘度が一定である
ため、塗工時に塗工機によって発生する剪断速度による
粘度変化がなく、その為、安定な塗工が可能となる。ま
た、前記（ａ）〜（ｄ）の各成分を含有する紫外線硬化
性樹脂組成物からなる本発明のシャドウマスク用バック
コート剤は、容易に前記した作用を達成でき、塗工性に
優れると共に、シャドウマスク用バックコート層として
必要な耐エッチング性及びエッチング後のアルカリ剥離
性に優れたバックコート層を形成できる。また、カルボ
キシル基を有する光重合性化合物（前記（ａ）成分）を
含み、さらに２種以上の光重合性化合物（前記（ａ）成
分及び（ｂ）又は（ｂ−１）、（ｂ−２）成分）を含む
ため、紫外線硬化性に優れ、凹底部での硬化不良を生ず
ることなく、紫外線の照射により容易に短時間で硬化さ
せることができる。特に、本発明の紫外線硬化性樹脂組
成物が、第二成分として、分子中に２個以上のアクリロ
イル基又はメタクリロイル基を持つ化合物を含む場合、
シャドウマスクの製造工程に用いられるエッチング液中
に０．１〜０．３％程度含まれる遊離塩酸による耐エッ
チング性の低下を完全に防止することができる。

【００１７】また、本発明のシャドウマスク用バックコ
ート剤は、実質的に無溶剤型の紫外線硬化性樹脂組成物
である為、安全性が高く、また、塗工後直接紫外線によ
り硬化することが可能で、大幅な工程省略、設備の簡略
化及び省エネルギーが期待される。更に、実質的に無溶
剤型の樹脂組成物である為、硬化時の体積収縮がなく、
従来の硬化時に凹孔の肩の所（エッジ部）の膜厚が薄く
なるという問題がなく、バックコート層全面にわたって
耐エッチング性が確保できる。

【００１８】一方、本発明のシャドウマスクの製造方法
は、第一エッチング工程において形成された凹部を有す
る一方の面にバックコート剤を塗布する工程において、
前述したような作用、性質を有するシャドウマスク用バ
ックコート剤を用いているため、ダイレクトコート法、
グラビアコート法、マイクログラビアコート法、押し込
みコート法、ドクタノズルコート法のような剪断速度の
大きな塗工方法を用いても、安定な塗工が可能となる。
このため、深い凹孔に対しても容易に充填することが可
能となる。

【００１９】以下、本発明のシャドウマスク用バックコ
ート剤として用いられる紫外線硬化性樹脂組成物を構成
する各成分について説明する。まず、前記（ａ）成分
は、本発明のバックコート剤に主として耐エッチング性
及びアルカリ剥離性を付与する成分であり、分子中に１
個のカルボキシル基及び１個のアクリロイル基又はメタ
クリロイル基（以下（メタ）アクリロイル基と総称す
る）を持つ化合物であって、例えば二塩基酸無水物と分
子中に少なくとも１個のヒドロキシル基及び１個の（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体とのモノエステル化
合物がある。二塩基酸無水物としては、フタル酸無水
物、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロ
フタル酸無水物、エチルテトラヒドロフタル酸無水物、
プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、ブチルテトラヒ
ドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物、エチルヘキサヒドロ
フタル酸無水物、プロピルヘキサヒドロフタル酸無水
物、イソプロピルヘキサヒドロフタル酸無水物、ブチル
ヘキサヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物、コハ
ク酸無水物等が挙げられ、また、分子中に少なくとも１
個のヒドロキシル基及び１個の（メタ）アクリロイル基
を有する単量体としては、例えば、ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ
カプロラクタムモノ（メタ）アクリレートなどが挙げら
れる。なお、本明細書中において（メタ）アクリレート
とは、アクリレート及びメタクリレートを総称する用語
として用いられている。

【００２０】上記モノエステル化合物の合成は、酸無水
物と単量体との開環付加反応により行われるのが好まし
いが、通常のエステル化反応により合成することもでき
る。これらモノエステル化合物を合成する場合、酸無水
物1 モルに対して単量体１モルを使用するのが好ましい
が、一方を過剰に使用しても構わない。上記開環付加反
応における反応温度は、通常５０〜１５０℃、好ましく
は８０〜１１０℃の範囲である。上記開環付加反応を行
う場合、促進剤としてトリエチルアミン、モルホリン、
トリエタノールアミンなどの第３級アミン類、又はその
第４級アンモニウム塩などを使用することができる。ま
た、反応中に重合が生起するのを防ぐために、ヒドロキ
ノン、ブチルヒドロキノン、ブチルカテコール、フェノ
チアジンなどの重合禁止剤を使用することもできる。上
記開環付加反応の反応の進行は酸無水物の赤外吸収スペ
クトルにより容易に知る事ができ、酸無水物の赤外吸収
スペクトルピークの消失により反応が完了したとみなせ
る。

【００２１】上記モノエステル化合物の具体例として
は、例えば（メタ）アクリロイルオキシエチルモノフタ
レート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルモノフタ
レート、（メタ）アクリロイルオキシブチルモノフタレ
ート、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノテトラヒ
ドロフタレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピル
モノテトラヒドロフタレート、（メタ）アクリロイルオ
キシブチルモノテトラヒドロフタレート、（メタ）アク
リロイルオキシエチルモノヘキサヒドロフタレート、
（メタ）アクリロイルオキシプロピルモノヘキサヒドロ
フタレート、（メタ）アクリロイルオキシブチルモノヘ
キサヒドロフタレート、（メタ）アクリロイルオキシエ
チルモノサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシプ
ロピルモノサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシ
ブチルサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシエチ
ルマレート等が挙げられ、上記化合物の１種又は２種以
上を任意の割合で混合して使用することができる。

【００２２】前記（ａ）成分の好ましい配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計量を１００重量部（以
下、部とあるものは重量部とする）として、５０〜９０
部、より好ましくは６０〜８５部である。（ａ）成分の
配合量が５０部より少ない場合、硬化塗膜のアルカリ溶
解性、剥離性が充分ではなく、一方、配合量が９０部よ
り多い場合、凹孔への充填性、表面平滑性が低下し易
く、また、得られるバックコート層も脆くなり、割れが
生じ易くなる。

【００２３】前記（ｂ）成分は、本発明のバックコート
剤に主として耐エッチング性及び硬化性を付与する成分
であり、分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を
持つ化合物であって、例えば多価アルコールと（メタ）
アクリル酸との反応物（ここで、（メタ）アクリル酸と
は、アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの混合物を意
味する。）、多塩基酸又はその無水物と（メタ）アクリ
ル酸との反応物、分子中に１個以上のエポキシ基を有す
るエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物、分
子中に１個以上のイソシアネート基を有するイソシアネ
ート化合物と水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応
物等が挙げられる。このような（ｂ）成分の具体例とし
ては、以下に例示するような（ｂ−１）分子中に２個以
上の（メタ）アクリロイル基を持つ化合物や、（ｂ−
２）分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を持つ化合
物が挙げられ、これらのいずれかを用いることができる
が、好ましくは（ｂ−１）の化合物、特に好ましくは、
（ｂ−１）の化合物と（ｂ−２）の化合物を併用するこ
とが、樹脂組成物の紫外線硬化性や粘度調整のし易さ、
硬化塗膜の特性等の点から好ましい。

【００２４】上記（ｂ）成分のうち、分子中に２個以上
の（メタ）アクリロイル基を持つ化合物（ｂ−１）は硬
化塗膜の硬化特性の調整に有効であり、その具体例とし
ては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートな
どのアルキルジオールのジ（メタ）アクリレート、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
−ジ、−トリ又は−テトラ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトール−ジ、−トリ、−テトラ、−ペンタ
又は−ヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
−ジ又は−トリ（メタ）アクリレート、昭和高分子
（株）製：リポキシＳＰ−４０１０等のフェノールノボ
ラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノ
ボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、共栄社化学
（株）製：エポキシエステル３０００Ａ等のビスフェノ
ールＡ型エポキシ−ジ（メタ）アクリレート、トリグリ
シジルイソシアヌレート−ジ又は−トリ（メタ）アクリ
レート、テトラフェニルメタン型エポキシ−ジ、−トリ
又は−テトラ（メタ）アクリレート、トリスフェニルメ
タン型エポキシ−ジ又は−トリ（メタ）アクリレート、
グリセリンジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレー
ト、イソシアヌル酸−ジ又は−トリ（メタ）アクリレー
ト、メラミン−ジ又は−トリ（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート類、アミノアルキル（メ
タ）アクリレート類、及び上記化合物のエチレンオキシ
ド付加物、プロピレンオキシド付加物等の多官能化合物
が挙げられ、上記化合物の１種又は２種以上を任意の割
合で混合して使用することができる。

【００２５】また、前記分子中に１個の（メタ）アクリ
ロイル基を持つ化合物（ｂ−２）は組成物の粘度や硬化
塗膜の特性の調整に有効であり、その具体例としては、
プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）
アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−
ブチル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アク
リレート類、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキ
シアルキル（メタ）アクリレート類、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ベンゾイルオキシエチル（メタ）アクリレート、フ
ェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエ
チレングリコール（メタ）アクリレート、ヒドロキシフ
ェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）
アクリレート、ジシクロペンチルオキシエチル（メタ）
アクリレート等の環状（メタ）アクリレート類、ジアル
キルアミノエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル
（メタ）アクリレート等のアミノアルキル（メタ）アク
リレート類、エトキシエチル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリロキシエチルフォスフェート、フロロア
ルキル（メタ）アクリレート、スルホプロピル（メタ）
アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート類、ウ
レタン（メタ）アクリレート類、ジエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモ
ノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メ
タ）アクリレート、ジメチロールプロパンモノ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）ア
クリレート、トリグリシジルイソシアヌレートモノ（メ
タ）アクリレート、テトラフェニルメタン型エポキシ−
モノ（メタ）アクリレート、トリスフェニルメタン型エ
ポキシ−モノ（メタ）アクリレート、グリセリンジグリ
シジルエーテルモノ（メタ）アクリレート、イソシアヌ
ル酸モノ（メタ）アクリレート、メラミンモノ（メタ）
アクリレート、及び上記化合物のエチレンオキシド付加
物、プロピレンオキシド付加物等の単官能化合物が挙げ
られ、上記化合物の１種又は２種以上を任意の割合で混
合して使用することができる。

【００２６】前記（ｂ）成分の好ましい配合量は、前記
（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計量を１００部として、
１０〜５０部、より好ましくは１５〜４０部である。
（ｂ）成分の配合量が１０部より少ない場合、また得ら
れるバックコート層も脆くなり、割れが生じ易くなる。
また耐エッチング性も低下し易くなる。一方、配合量が
５０部より多い場合、バックコート層のアルカリ溶解
性、剥離性が著しく損なわれ易くなる。

【００２７】前記（ｃ）成分のレベリング剤としては、
低級アルコール類、有機極性化合物類、鉱物油類、シリ
コーン樹脂類等があり、具体的な化合物としては、ポリ
オキシアルキレン誘導体、アクリル共重合体、脂肪酸誘
導体、シリコーンオイルなどが挙げられ、上記化合物の
１種又は２種以上を任意の割合で混合して使用すること
ができる。（ｃ）成分の好ましい配合量は、前記（ａ）
成分及び（ｂ）成分の合計量を１００部として、０．０
５〜５部、より好ましくは０．１〜２部である。（ｃ）
成分の配合量が０．０５部より少ない場合、充分なレベ
リング性が得られず、また発生した泡が消え難くなるな
ど組成物の消泡性に問題があり、一方、配合量が５部よ
り多い場合、塗工膜のはじきが発生し易くなり、また、
組成物に泡が発生し易くなる。尚、一般的な消泡剤、表
面平滑剤、湿潤分散剤等でも、本目的を達成できるもの
であれば使用することが出来る。

【００２８】前記（ｄ）成分の光開始剤は、本発明のバ
ックコート剤の光硬化性を充分に発揮させるための成分
である。本発明に使用される光重合開始剤としては、公
知のどのような光重合開始剤でも使用できるが、配合後
の組成物の熱安定性、貯蔵安定性に優れた化合物が望ま
しい。このような光重合開始剤としては、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル
類、ジエチルアセトフェノン等のアセトフェノン類、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン等のプロピオフェノン類、２−エチルアントラキ
ノン等のアントラキノン類、イソプロピルチオキサント
ン等のチオキサントン類、及びベンジルジメチルケター
ル等のケタール類などが挙げられ、上記化合物の１種又
は２種以上を任意の割合で混合して使用することができ
る。その好ましい配合量は、前記（ａ）成分及び（ｂ）
成分の合計量を１００部として、1 〜１０部、より好ま
しくは２〜８部である。光開始剤の配合量が１部より少
ない場合、組成物の硬化不良を招いたり、耐エッチング
性が低下し易くなる。一方、配合量が１０部より多い場
合、重合度が上がらず、やはり耐エッチング性が低下し
易くなる。（ｄ）成分としては、光重合開始剤に加えて
光増感剤を添加してもよい。

【００２９】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面等を参照
しながら詳細に説明する。シャドウマスク用バックコート剤の準備：本発明のシャ
ドウマスク用バックコート剤として、下記の４種の紫外
線硬化性樹脂組成物を準備した。

【００３０】組成物１（ａ）成分としてアクリロイルオキシエチルモノフタレ
ートを１００部、（ｂ）成分として２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレートを５部、ポリエチレングリコールジア
クリレート（ＰＥＧ＃２００のアクリレート化物）を２
０部、（ｃ）成分としてブタジエン共重合体系レベリン
グ剤（ビックケミー・ジャパン社製：ＢＹＫ−０５５）
を０．２部を６０℃に加熱混合した組成物に、（ｄ）成
分としてベンジルジメチルケタノール５部を溶解混合
し、冷却し、最終５μｍのフィルタリングを実施し、第
１の紫外線硬化型のシャドウマスク用バックコート剤を
調製した。

【００３１】組成物２（ａ）成分としてアクリロイルオキシエチルモノフタレ
ートを１００部、（ｂ）成分として２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレートを２０部配合した以外は、組成物１と
同様にして第２の紫外線硬化型のシャドウマスク用バッ
クコート剤を調製した。

【００３２】組成物３（ａ）成分としてアクリロイルオキシエチルモノフタレ
ートを１００部、（ｂ）成分としてトリエチレングリコ
ールジアクリレートを２０部配合した以外は、組成物１
と同様にして第３の紫外線硬化型のシャドウマスク用バ
ックコート剤を調製した。

【００３３】組成物４（ａ）成分としてアクリロイルオキシエチルモノフタレ
ートを１００部、（ｂ）成分としてトリメチロールプロ
パントリアクリレートＥＯ付加物（共栄社化学（株）
製：ライトアクリレートＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ）を２０部
配合した以外は、組成物１と同様にして第３の紫外線硬
化型のシャドウマスク用バックコート剤を調製した。

【００３４】また、比較例として、従来の熱乾燥型の水
溶性カゼイン樹脂を用意した。比較組成物アンモニウムカゼネート１０部と４硼酸２ナトリウム・
１０水和物１部をプレミキシング後、少量ずつ、４０℃
に加熱した０．１５％水酸化ナトリウム水溶液７５部に
高速のホモジナイザーで攪拌、分散させる工程を繰り返
し、全量を分散させた。その後、７０℃に加熱、１時間
保持し、完全に溶解させた後、この温度に保持したま
ま、最終５μｍのフィルタリングを行なった。冷却後、
更に１４部の純水を加え、熱乾燥型の水溶性カゼイン樹
脂からなるバックコート剤を得た。得られた組成物の固
形分は１２％であった。

【００３５】以上のようにして得られた各バックコート
剤組成物の剪断速度を変えた時の粘度変化について、ド
イツ Reologica Instruments 社の Stress Tech 粘度
計Ｃ４０４を用い、２５℃の液温にて測定した。その結
果を図１に示す。図１において曲線１１、１２、１３及
び１４はそれぞれ本発明の組成物１、組成物２、組成物
３及び組成物４の粘度変化を、曲線１５は、従来の水溶
性カゼイン樹脂の粘度変化を示す。従来の水溶性カゼイ
ン樹脂が剪断速度が加わると大きく粘度が低下するのに
対し、本発明のバックコート剤は、剪断速度が加わって
もいずれも一定の値を示すことが判る。

【００３６】シャドウマスク製造工程への適用例：適用例１本発明のシャドウマスクの製造方法の第一の実施例とし
て、ピッチ０．２０ｍｍ、径１００μｍ、深さ５０μｍ
の小孔を有するシャドウマスクを、０．１２ｍｍの板厚
をもつアンバー材で形成する場合を示す。図２及び図３
は、本実施例の工程の流れと金属薄板の断面形状の変化
を示す図である。０．１２ｍｍの板厚をもつアンバー材
からなる金属薄板２1 を基材とし、圧延油や防錆油など
の脱脂の目的でアルカリ系溶液を用いて脱脂、洗浄、水
洗を行い、図３（Ａ）に示すように、金属薄板２1 の両
面にカゼインと重クロム酸アンモニウムからなる感光剤
を所定の厚さになるようにディピング法により塗布し、
乾燥し、厚さ数μｍの感光膜２２を形成する（感光膜形
成工程）。

【００３７】次に図３（Ｂ）に示すように、この両面の
感光膜２２に、シャドウマスクの開孔の電子銃側の小孔
に対応するパターンが形成されたフォトマスク２３ａ
と、シャドウマスクの開孔の蛍光スクリーン側の大孔に
対応するパターンが形成されたフォトマスク２３ｂから
なる一対のフォトマスクを密着して、紫外光により露光
し、これらフォトマスク２３ａ及び２３ｂのパターン通
りに硬化させる（露光工程）。露光光源としては、高圧
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプなど従
来公知の種々の光源を採用できる。この後、所定のパタ
ーン通りに硬化された両面の感光膜２２を、水を現像液
として用いて現像し、未感光部を除去し、乾燥、硬膜の
為のベーキング（焼付け）を行ない、図３（Ｃ）に示す
ように、上記一対のフォトマスク２３ａ，２３ｂのパタ
ーンに対応するパターンを有するエッチングレジストパ
ターン２４ａ、２４ｂを形成する（現像・焼付け工
程）。

【００３８】その後、図３（Ｄ）に示すように、シャド
ウマスクの開孔の蛍光スクリーン側の大孔に対応するエ
ッチングレジストパターン２４ｂが形成された面側に、
ＣＰＰからなる樹脂フィルムに粘着剤を塗工した保護フ
ィルム２５ｂを貼着し、シャドウマスクの開孔の電子銃
側の小孔に対応するエッチングレジストパターン２４ａ
の形成された面側を、塩化第二鉄溶液（比重１．５０
０、液温７０℃、遊離塩酸濃度０．２％）をエッチング
液に用いてスプレーエッチングし、水洗し、このエッチ
ングレジストパターン２４ａの形成された面側に、シャ
ドウマスクの電子銃側の小凹孔２６ａを形成する（第一
エッチング工程）。

【００３９】次に、エッチングの終了した小孔側のエッ
チングレジストパターン２４ａをアルカリ系溶液で剥
離、水洗し、エッチングレジストパターン２４ｂ上に貼
着された保護フィルム２５ｂを取除き、図３（Ｅ）に示
すように、小凹孔２６ａ内に、前記のように調製した組
成物１〜３、比較組成物をそれぞれバックコート剤とし
て用い、図４に示すような塗布装置を用いて塗布、充填
し、紫外線硬化性樹脂組成物については高圧水銀灯を用
いて積算光量１，０００ｍＪ／ｃｍ² の条件で硬化さ
せ、熱硬化型の組成物については赤外線乾燥炉と熱風乾
燥炉の組合せで最高温度１５０℃の条件で硬化し、バッ
クコート層２７を形成した（バックコート層形成工
程）。この時の小凹孔２６ａ内への樹脂組成物の充填の
様子を光学顕微鏡で観察した。本発明のバックコート剤
を用いたものは、全く気泡やはじきがなく全面の小凹孔
２６ａ内に充填されていたが、比較例の従来のカゼイン
をバックコート剤として用いたものは、一部に気泡やは
じきが認められた。本実施例においては、このバックコ
ート層２７上に、樹脂フィルムに粘着剤を塗工した保護
フィルムを貼着せずに、この後の工程へ流した。

【００４０】ここで、図４に示す塗工装置及び塗工原理
について詳細に説明する。図４において、符号３１は小
孔側のエッチングが終了したシャドウマスク基材であ
り、３１ａが小孔側、３１ｂが大孔側である。金属ロー
ルからなるバックロール３３の回転に伴ってその周面に
沿って移動しているシャドウマスク基材３１にはゴムロ
ールからなる押込みロール３２が押圧されており、バッ
クコート剤３４はシャドウマスク基材３１の小孔側３１
ａと押込みロール３２の間にここには図示していない供
給ノズルにより供給される。この時、図５（Ａ）に示す
ように、ゴムロールからなる押込みロール３２のもつ弾
性によりゴムの表層部が小凹孔３５内に食い込むように
変形し、バックコート剤３４を、小凹孔３５の側壁３５
ａに押し付け供給する。このため、ゴムロール３２のゴ
ム硬度はＪＩＳ−Ａで７０度以下、特に４５度以下であ
ることが望ましい。符号３６はパイプドクターノズルと
呼ばれる塗工部分で、本実施例においては、押込みロー
ル３２により図５（Ｂ）に示すように小凹孔３５の側壁
３５ａ全面に１〜３μｍ程度のバックコート剤３４の層
を形成した後、小凹孔３５内にバックコート剤３４を充
填すると共に基材表面に１０〜１５μｍ程度の必要な膜
厚を形成するために使用される。この部分で塗工時に発
生する剪断速度はおよそ１０³ 〜１０⁴ ｓ^-1である。

【００４１】この後、図３（Ｆ）に示すように、エッチ
ングレジストパターン２４ｂの形成された面側を、塩化
第二鉄溶液（比重１．５００、液温７０℃、遊離塩酸濃
度０．２％）をエッチング液に用いてスプレーエッチン
グし、水洗し、このエッチングレジストパターン２４ｂ
の形成された面側に、シャドウマスクの蛍光スクリーン
側の大孔２６ｂを形成する（第二エッチング工程）。最
後に、８％、９０℃の水酸化ナトリウム水溶液にて、大
孔２６ｂが形成された面側のエッチングレジストパター
ン２４ｂ及び小孔２６ａが形成された側のバックコート
層２７を剥離除去して、図３（Ｇ）に示すように、小孔
２６ａと大孔２６ｂとが連通した開孔２８を形成する
（仕上げ工程）。この時の仕上がり状態を目視で観察し
た。本発明に係るバックコート剤を使用したものは、い
ずれも欠陥のない良好なシャドウマスクが得られたが、
従来のカゼインをバックコート剤として使用したもの
は、小凹孔内への充填不良により生じた孔大（小孔側の
エッチングが進み開孔径が大きくなる欠陥）が散発し
た。

【００４２】適用例２本発明のシャドウマスクの製造方法の第二の実施例とし
て、縦ピッチ０．５０ｍｍ、横ピッチ０．５５ｍｍ、縦
寸法３５０μｍ、横寸法１５０μｍ、深さ１００μｍの
矩形の小孔を有するシャドウマスクを、０．２５ｍｍの
板厚をもつアンバー材で形成する場合を示す。本実施例
の工程の流れ及び使用した組成物は適用例１と同様であ
る。

【００４３】本実施例のバックコート層形成工程に用い
た塗工装置を図６に示す。図６において、符号４１は小
孔側のエッチングが終了したシャドウマスク基材であ
り、４１ａが小孔側、４１ｂが大孔側である。シャドウ
マスク基材４１は、図において右方向から左方向に、塗
工部において略水平に走行している。符号４２は所定間
隔を置いて対向して配設された上下方向に移動可能な一
対の展張ロールを示し、シャドウマスク基材４１は、小
孔側４１ａの下方の面が２個の展張ロール４２の中間部
分に該展張ロールと平行に横架されたマイクログラビア
ロール４３の周面上を摺接しながら走行する。マイクロ
グラビアロール４３は、約２０〜５０ｍｍの直径を有
し、その外周面にバックコート剤４４を充填する彫刻部
４３ａが刻設されている。塗工時、展張ロール４２の下
面は、マイクログラビアロール４３上のシャドウマスク
基材４１の大孔側表面４１ｂより下方に位置し、マイク
ログラビアロール４３とシャドウマスク基材４１のなす
角度、接触面積を規制している。

【００４４】マイクログラビアロール４３は、ここには
図示していない駆動モータにより、直接又は間接にシャ
ドウマスク基材４１の走行方向とは逆方向に回転できる
ようになっている。このマイクログラビアロール４３の
下方には、図示していない基台上に載置されたバックコ
ート剤４４のオーバーフロー受け容器４５が固定されて
おり、このオーバーフロー受け容器４５上には、マイク
ログラビアロール４３にバックコート剤４４を供給する
塗工液供給ノズル４６が設置されている。また、マイク
ログラビアロール４３の近傍にはその彫刻部４３ａが塗
工液供給ノズル４６より供給されたバックコート剤４４
をシャドウマスク基材４１に塗工する直前に、その彫刻
部４３ａに充填されている余剰のバックコート剤４４を
掻き取るドクターブレード４７が設けられている。

【００４５】本実施例の塗工装置は、直径を約２０〜５
０ｍｍとした小径のマイクログラビアロール４３を用い
ているため、シャドウマスク基材４１との接触面積が小
さく、また接触角も小さいため、シャドウマスク基材４
１とマイクログラビアロール４３が接触する部分に出来
るマイクログラビアロール４３のバックコート剤溜りが
１〜２ｍｍと極めて狭く、かつ液溜りの泳ぎと呼ばれる
不安定な現象がなくなり極めて安定したものとなる。ま
た、マイクログラビアロール４３をシャドウマスク基材
４１の走行方向とは逆方向に回転させているため、塗工
部で発生する剪断速度は１０⁵ 〜１０⁶ ｓ^-1と大きく、
深い凹孔でも容易に塗工が出来る。本実施例において
は、従来のカゼインをバックコート剤として用いた場
合、気泡やはじきがかなりの頻度で認められ、第二エッ
チング後に孔大が多発したのに対し、本発明に係るバッ
クコート剤を用いたものでは、充填時の気泡やはじきの
発生もなく、結果として第二エッチング後も孔大は全く
認められなかった。本適用例においては、塗工方法とし
て直径を約２０〜５０ｍｍとした小径のマイクログラビ
アロールを用いたマイクログラビアコート法について述
べたが、これ以上の大きな径を有する通常のグラビアコ
ート法でも、剪断速度はやや小さくなるが、グラビアの
表面に刻設された彫刻部の形状、深さ、シャドウマスク
基材とのなす角度、バックロールの材質等を適切に選択
すれば、本発明の塗工方法として用いることができる。

【００４６】次に、図７に、本発明に適用可能な別の塗
工方法を示す。図７において、符号５１は小孔側のエッ
チングが終了したシャドウマスク基材であり、５１ａが
小孔側、５１ｂが大孔側である。５２は金属ロールから
なるバックロール、５３はゴムロールからなる塗工ロー
ルで、ゴム硬度はＪＩＳ−Ａで７０度以下、特に４５度
以下であることが望ましい。符号５４はバックコート剤
５５を液浴５６からゴムロール５３に供給するための持
上げロールである。本塗工方法によるシャドウマスク基
材５１の微小凹孔への充填は、前記図５に示されるよう
に、ゴムロールからなる塗工ロール５３のもつ弾性によ
りゴムの表層部が変形し、バックコート剤５５を、微小
凹孔の側壁に押し付け供給することによる。図７の塗工
装置の場合、塗工部で発生する剪断速度は、およそ１０
³ 〜１０⁴ ｓ^-1である。

【００４７】

【発明の効果】以上のように、本発明のシャドウマスク
用バックコート剤は、剪断速度を印加しながら測定した
粘度が一定であるため、塗工時に塗工機によって発生す
る剪断速度による粘度変化がなく、その為、気泡やはじ
きの発生のない安定な塗工が可能となる。また、本発明
のシャドウマスク用バックコート剤は、上述の作用を達
成する為、分子中に１個のカルボキシル基及び１個の
（メタ）アクリロイル基を持つ化合物、分子中に１個以
上の（メタ）アクリロイル基を持つ化合物、レベリング
剤及び光開始剤からなる為、シャドウマスク用バックコ
ート層として必要な十分な耐エッチング性、及びエッチ
ング後のアルカリ剥離性を確保できる。

【００４８】さらに、本発明のシャドウマスク用バック
コート剤は、実質的に無溶剤型の紫外線硬化性組成物で
ある為、溶剤の揮発による粘度変化がなく安定な塗工が
出来るとともに、安全性が高く、また、塗工後、直接紫
外線により硬化することが可能で、大幅な工程省略、設
備の簡略化及び省エネルギーが期待される。また、本発
明のシャドウマスク用バックコート剤は、実質的に無溶
剤型の紫外線硬化性組成物である為、硬化時の体積収縮
がなく、従来の硬化時に肩の所の膜厚が薄くなるという
問題がなく、バックコート層全面にわたって耐エッチン
グ性が確保できる。また、本発明のシャドウマスクの製
造方法は、第一エッチング工程において形成された凹部
を有する一方の面にバックコート剤を塗布する工程にお
いて、前述のシャドウマスク用バックコート剤を用いて
いるため、ダイレクトコート法、グラビアコート法、マ
イクログラビアコート法、押し込みコート法、ドクタノ
ズルコート法のような剪断速度の大きな塗工方法を用い
ても、安定な塗工が可能となる。このため、深い凹孔に
対しても容易に塗工が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のシャドウマスク用バックコート剤の剪
断速度による粘度変化を示すグラフである。

【図２】本発明のシャドウマスクの製造方法における各
工程の流れ図である。

【図３】本発明のシャドウマスクの製造方法における各
工程での金属薄板の断面形状の変化を示す部分断面図で
ある。

【図４】本発明の適用例１に用いられる塗工装置の概略
図である。

【図５】図４に示す塗工装置の原理を説明するための図
である。

【図６】本発明の適用例２に用いられる塗工装置の概略
図である。

【図７】本発明に適用可能な別の塗工装置を説明するた
めの概略図である。

【図８】シャドウマスク型カラー受像管の構造を示す概
略断面図である。

【図９】シャドウマスクの２種の小孔形状を示す部分平
面図である。

【図１０】従来のシャドウマスクの製造方法における各
工程の流れ図である。

【図１１】従来のシャドウマスクの製造方法における各
工程での金属薄板の断面形状の変化を示す部分断面図で
ある。

【図１２】従来のバックコート剤の剪断速度による粘度
変化を示すグラフである。

【符号の説明】

２１，３１，４１，５１，７１シャドウマスク基材
（金属薄板）２２，７２感光膜２３ａ，２３ｂ，７３ａ，７３ｂフォトマスク２４ａ，２４ｂ，７４ａ，７４ｂエッチングレジスト
パターン２５ｂ，７５ｂ保護フィルム２６ａ，３５，７６ａ小凹孔２６ｂ，７６ｂ大凹孔２７，７７バックコート層２８，７８開孔３４，４４，５５バックコート剤３５ａ小凹孔の側壁６１パネル６２蛍光スクリーン６３，６３ａ，６３ｂシャドウマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平原祥子埼玉県深谷市幡羅町１−９−２株式会社東芝深谷工場映像管事業部内 (72)発明者倉林成明埼玉県比企郡嵐山町大字大蔵388番地太陽インキ製造株式会社嵐山事業所内 (72)発明者鈴木信之埼玉県比企郡嵐山町大字大蔵388番地太陽インキ製造株式会社嵐山事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】剪断速度を印加しながら測定した粘度が
一定であることを特徴とするシャドウマスク用バックコ
ート剤。
【請求項２】（ａ）分子中に１個のカルボキシル基及
び１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を持つ化
合物、（ｂ）分子中に１個以上のアクリロイル基又はメ
タクリロイル基を持つ化合物、（ｃ）レベリング剤、及
び（ｄ）光開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂組成物で
あることを特徴とする請求項１に記載のシャドウマスク
用バックコート剤。
【請求項３】実質的に無溶剤型の紫外線硬化性樹脂組
成物であることを特徴とする請求項１又は２に記載のシ
ャドウマスク用バックコート剤。
【請求項４】帯状の金属薄板からなるシャドウマスク
基材の両面に感光膜を形成する工程と、感光膜が形成さ
れた両面を所定のパターンに従って露光・現像し、所定
のパターン通りに一部金属表面を露出させてエッチング
レジストを形成する工程と、このエッチングレジストを
形成し金属表面が一部露出した金属薄板の少なくとも一
方の面をエッチングして、少なくともこの一方の面の金
属表面露出部に凹部を形成する第一エッチング工程と、
第一エッチング工程において形成された凹部を有する一
方の面に、バックコート剤を塗布し、この凹部内部にバ
ックコート剤を充填し、バックコート層を形成する工程
と、バックコート層を形成した面と反対の面をエッチン
グして、第一エッチング工程で形成された凹部に通じる
凹孔を形成する第二エッチング工程と、バックコート層
とエッチングレジストを除去する剥離工程とを少なくと
も含むシャドウマスクの製造方法であって、上記バック
コート層形成工程において、請求項１乃至３のいずれか
一項に記載のシャドウマスク用バックコート剤を用い、
紫外線照射により硬化させてバックコート層を形成する
ことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
【請求項５】第一エッチング工程において形成された
凹部を有する一方の面にバックコート剤を塗布する工程
が、１０² （ｓ^-1）以上の剪断速度を有する塗工方法か
らなることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】１０² （ｓ^-1）以上の剪断速度を有する
塗工方法が、ダイレクトコート法、グラビアコート法、
マイクログラビアコート法、押し込みコート法、ドクタ
ノズルコート法のいずれかを少なくとも用いることを特
徴とする請求項４又は５に記載の方法。